JPS63239631A - Optical recording medium - Google Patents
Optical recording mediumInfo
- Publication number
- JPS63239631A JPS63239631A JP62072887A JP7288787A JPS63239631A JP S63239631 A JPS63239631 A JP S63239631A JP 62072887 A JP62072887 A JP 62072887A JP 7288787 A JP7288787 A JP 7288787A JP S63239631 A JPS63239631 A JP S63239631A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- radiation
- substrates
- curing
- adhesive agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 126
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 29
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims abstract description 17
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 47
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 33
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 32
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 claims description 23
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 20
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 10
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 9
- -1 methyl benzoyl Chemical group 0.000 description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 3
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 3
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- GVPWHKZIJBODOX-UHFFFAOYSA-N dibenzyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1CSSCC1=CC=CC=C1 GVPWHKZIJBODOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004214 1-pyrrolidinyl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001462 1-pyrrolyl group Chemical group [*]N1C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- QFGLGXAWPPBRHQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCC(C)(C)C QFGLGXAWPPBRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCO OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXDYOLRABMJTEF-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 RXDYOLRABMJTEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002518 CoFe2O4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 101100481408 Danio rerio tie2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 1
- WLLGXSLBOPFWQV-UHFFFAOYSA-N MGK 264 Chemical compound C1=CC2CC1C1C2C(=O)N(CC(CC)CCCC)C1=O WLLGXSLBOPFWQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016964 MnSb Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100481410 Mus musculus Tek gene Proteins 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002837 PtCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005091 Si3N Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 229920000402 bisphenol A polycarbonate polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical group OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004312 morpholin-2-yl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])OC([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- VSXGXPNADZQTGQ-UHFFFAOYSA-N oxirane;phenol Chemical class C1CO1.OC1=CC=CC=C1 VSXGXPNADZQTGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004482 piperidin-4-yl group Chemical group N1CCC(CC1)* 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910000982 rare earth metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、レーザー光等の熱および光を用いて情報の記
録、再生を行う光磁気記録媒体等の光記録媒体に関する
。Detailed Description of the Invention (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to an optical recording medium such as a magneto-optical recording medium in which information is recorded and reproduced using heat and light such as a laser beam.
先行技術とその問題点 光記録媒体の一つとして、光磁気メモリ媒体がある。Prior art and its problems One type of optical recording medium is a magneto-optical memory medium.
光磁気メモリの記録媒体としては、 MnB1.MnAJ!Ge、MnSb。As a recording medium for magneto-optical memory, MnB1. MnAJ! Ge, MnSb.
MnCuB1.GdFe%TbFe。MnCuB1. GdFe%TbFe.
GdCo、PtCo、TbCo、
TbFeCo、GdFeCo、
TbFeO3,Gd1G、GdTbFe、GdTbFe
Co81%CoFe2O4等の材料が知られている。
これらは、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法で、
プラスチックやガラス等の透明基板上に薄膜として形成
される。 これらの光磁気記録媒体に共通している特性
としては、磁化容易軸が膜面に垂直方向にあり、さらに
、カー効果やファラデー効果が大きいという点をあげる
ことができる。GdCo, PtCo, TbCo, TbFeCo, GdFeCo, TbFeO3, Gd1G, GdTbFe, GdTbFe
Materials such as Co81%CoFe2O4 are known.
These methods include vacuum evaporation, sputtering, etc.
It is formed as a thin film on a transparent substrate such as plastic or glass. Common characteristics of these magneto-optical recording media include the fact that the axis of easy magnetization is perpendicular to the film surface, and that the Kerr effect and Faraday effect are large.
この性質を利用して、光磁気記録媒体の記録方法として
は、例えば次の方法がある。As a recording method for a magneto-optical recording medium that takes advantage of this property, there are, for example, the following methods.
まず、最初に膜全体を“0”すなわち一様に磁化してお
く(これを消去という)。 つ ぎに、“1”を記録し
たい部分にレーザービームを照射する。 レーザービー
ムが照射されたところは温度が上昇し、キューリ一点に
近づいた時、そしてさらにキューリ一点をこえた時には
、保持力Hcに近づく。 そして、レーザービームを消
し室温にもどせば、反磁場のエネルギーにより磁化は反
転し、さにらは、レーザービームの照射の際、外部磁場
を初期と反対の方向に与えて室温にもどすと、磁化反転
し、“1”なる信号が記録される。First, the entire film is magnetized to "0", that is, uniformly (this is called erasing). Next, a laser beam is irradiated onto the part where you want to record "1". The temperature of the area irradiated with the laser beam rises, and when it approaches the Curie point and further exceeds the Curie point, it approaches the coercive force Hc. Then, when the laser beam is turned off and the temperature is returned to room temperature, the magnetization is reversed due to the energy of the demagnetizing field. This is inverted and a signal of "1" is recorded.
また、記録は初期状態が“0”であるから、レーザービ
ームを照射しない部分に“0”のまま残る。Furthermore, since the initial state of recording is "0", "0" remains in the area where the laser beam is not irradiated.
記録された光磁気メモリの読み取りは、同じようにレー
ザービームを用いて、このレーザービーム照射光の磁化
の方向による反射光の偏光面の回転、すなわち磁気光効
果を利用して行ね ・れる。Reading of a recorded magneto-optical memory can be performed in the same way using a laser beam, by rotating the plane of polarization of the reflected light due to the direction of magnetization of the laser beam irradiation light, that is, by utilizing the magneto-optical effect.
このような媒体に要求されることは、第1に、キューリ
一点が100〜200℃程度で補償点が室温付近である
こと。First, such a medium is required to have a Curi point of about 100 to 200° C. and a compensation point of around room temperature.
第2に、ノイズとなる結晶粒界などの欠陥が比較的少な
いこと。Second, there are relatively few defects such as grain boundaries that cause noise.
第3に高温成膜や長時間成膜等の方法をとらずに、比較
的大面積にわたって磁気的、機械的に均一な膜が得られ
ることがあげられる。Thirdly, a magnetically and mechanically uniform film can be obtained over a relatively large area without using methods such as high-temperature film formation or long-time film formation.
このような要求にこたえ、上記材料のなかで、近年、希
土類−遷移金属の非晶質垂直磁性薄膜が大きな注目を集
めている。In response to such demands, among the above-mentioned materials, amorphous perpendicular magnetic thin films of rare earth-transition metals have recently attracted much attention.
しかし、このような希土類−遷移金属非晶質薄膜からな
る光磁気記録媒体は、大気に接したままで保存すると、
基板をとおして侵入する大気中の酸素や水により希土類
が選択的に腐食あるいは酸化されてしまい、情報の記録
、再生が不可能となる。However, when magneto-optical recording media made of such rare earth-transition metal amorphous thin films are stored in contact with the atmosphere,
The rare earth elements are selectively corroded or oxidized by oxygen or water in the atmosphere that enters through the substrate, making it impossible to record or reproduce information.
そこで、一般には、前記磁性薄膜層と基板との間および
/または磁性薄膜層上に保護層を設けた構成を有するも
のが多く研究されている。Therefore, many studies have generally been conducted on devices having a structure in which a protective layer is provided between the magnetic thin film layer and the substrate and/or on the magnetic thin film layer.
従来、このような防湿性の保護層としては、−酸化ケイ
素、二酸化ケイ素等の無機系の真空蒸着膜等を設ける試
み(特開昭58−80142号等)が開示されている。Conventionally, as such a moisture-proof protective layer, an attempt has been made to provide a vacuum-deposited film of an inorganic material such as -silicon oxide or silicon dioxide (Japanese Patent Application Laid-Open No. 80142/1983).
これらの保護層のうち、例えば5iO1などの無機系
の保護層は、スパッタ法および蒸着法等により形成され
る。Among these protective layers, an inorganic protective layer such as 5iO1 is formed by sputtering, vapor deposition, or the like.
しかし、これらの方法によっては、均一・かつ緻密で一
様におおわれた成膜が難しく、防湿性が部分な保護層は
えられない。 そのため、光磁気記録媒体の磁性薄膜層
の経時劣化が改善されない。However, depending on these methods, it is difficult to form a uniform, dense, and uniformly covered film, and a protective layer with partial moisture resistance cannot be obtained. Therefore, aging deterioration of the magnetic thin film layer of the magneto-optical recording medium cannot be improved.
また、常温硬化性の樹脂の塗布保護層でも、十分な防湿
性は得られず、保存中に、水分、酸素の透過等の影晋が
あり、これが劣化をうながす。Furthermore, even a protective layer coated with a resin that hardens at room temperature does not provide sufficient moisture resistance, and during storage, moisture and oxygen permeate, which promotes deterioration.
また、放射線硬化型化合物の塗膜を紫外線などにより硬
化させた有機保護コート層が提案されており(特開昭6
1−133067号)、その中でオリゴエステルアクリ
レートと光増感剤としてメチルベンゾイル、フォーメー
ト(ストーファージャパン社製バイキュア55)とを含
む塗膜を硬化させたものが開示されている。In addition, an organic protective coating layer has been proposed in which a coating film of a radiation-curable compound is cured by ultraviolet rays (Japanese Unexamined Patent Publication No. 6
No. 1-133067) discloses a cured coating film containing oligoester acrylate and methyl benzoyl and formate (Bicure 55, manufactured by Stouffer Japan) as a photosensitizer.
しかし、これらでは保護層機能および硬化性の点で末だ
十分でない。However, these are insufficient in terms of protective layer function and curability.
具体的には、硬化速度が小さいこと、薄膜にした際の硬
化膜の強度が十分に得られないこと、膜厚を大きくする
必要性があること、などの問題が挙げられる。 これら
の問題は主に光重合開始剤ないし光増感剤の光吸収性が
十分でなくラジカル開裂が進行しにくいことに起因する
。Specifically, problems include a slow curing speed, insufficient strength of the cured film when formed into a thin film, and the need to increase the film thickness. These problems are mainly caused by the fact that the photoinitiator or photosensitizer does not have sufficient light absorption, making it difficult for radical cleavage to proceed.
また、硬化が十分でないと、架橋密度が低くなり、未硬
化のモノマーやオリゴマーが記録層の方に浸透して記録
層に悪E’ffを及ぼす。 このような現象は特に高温
高湿の保存によって顕著となる。Furthermore, if curing is insufficient, the crosslinking density will be low, and uncured monomers and oligomers will permeate into the recording layer, causing adverse E'ff effects on the recording layer. This phenomenon becomes especially noticeable when stored at high temperature and high humidity.
このため、このような硬化膜を用いた光記録媒体では信
頼性が十分とはいえない。Therefore, optical recording media using such a cured film cannot be said to have sufficient reliability.
ところで、光記録媒体は、通常、片面記録型の場合には
保護板と、両面記録型の場合には基板同士が接着剤層を
介して一体化される。By the way, optical recording media are usually integrated with a protective plate in the case of a single-sided recording type, and substrates in the case of a double-sided recording type through an adhesive layer.
これらの場合に用いられる接着剤としては、ホットメル
ト型接着剤あるいは熱硬化型接着剤が一般的である。The adhesive used in these cases is generally a hot melt adhesive or a thermosetting adhesive.
しかし、ホットメルト型接着剤は、接着時に100℃以
上の高温になるため記録層や基板に悪影響を与える他、
接着後に媒体にソリが生じる等の欠点がある。However, hot-melt adhesives reach high temperatures of over 100°C during bonding, which not only adversely affects the recording layer and substrate, but also
There are drawbacks such as warping of the medium after adhesion.
また、熱硬化型接着剤では、迅速な接着を行なう場合に
はやはり100℃以上の高温を必要とし、上記のホット
メルト型接着剤と同様な欠点を存している。Furthermore, thermosetting adhesives still require a high temperature of 100° C. or higher for rapid bonding, and have the same drawbacks as the hot melt adhesives described above.
このような欠点を解消するため、基板の内周部および外
周部に記録層のない透明部分を設けるとともに、このよ
うな基板同士を紫外線硬化機能と嫌気性硬化機能との両
機能を有する接着剤で接合して構成した情報記録ディス
クが提案されている(特開昭61−217944号公報
)。In order to eliminate these drawbacks, transparent areas without recording layers are provided on the inner and outer peripheries of the substrates, and such substrates are bonded together using an adhesive that has both ultraviolet curing and anaerobic curing functions. An information recording disk has been proposed in which the two are joined together (Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-217944).
このものは、基板同士を重ねあわせ、まず紫外線を照射
して内周部および外周部を接着させ、その後は自然放置
しておいて嫌気性硬化させて残りの部分を接着させるた
め、記録層や基板に熱が加わることがなく、嫌気性硬化
中に基板同士のズレが生じないというものである。In this method, the substrates are stacked on top of each other, first irradiated with ultraviolet rays to bond the inner and outer circumferential portions, and then left to naturally harden anaerobically to bond the remaining portions. No heat is applied to the substrates, and no displacement occurs between the substrates during anaerobic curing.
しかし、このような接着剤によって基板同士を接着する
際に、記録層上に前述したような有機保護コート層が設
層されている場合、すなわち接着剤層と有機保護コート
層が接している場合は、接着後の媒体が高温・高湿等あ
るいは温湿度変化の条件下で保存されると接着剤層と有
機保護コート層との間に剥離等を生じ、耐久性の高い媒
体は得られない。However, when bonding substrates together using such an adhesive, if an organic protective coating layer as described above is provided on the recording layer, that is, if the adhesive layer and the organic protective coating layer are in contact with each other. If the media after adhesion is stored under conditions of high temperature, high humidity, or changes in temperature and humidity, peeling occurs between the adhesive layer and the organic protective coating layer, making it impossible to obtain a highly durable media. .
なお、このような問題は、いわゆる相転移タイプの記録
層を有する光記録媒体においても同様である。Incidentally, such a problem also occurs in an optical recording medium having a so-called phase transition type recording layer.
■ 発明の目的
本発明の目的は、一対の基板を有し、少なくとも一方の
基板上に記録層を有し、この記録層上に有機保護コート
層を有し、これら一対の基板が、記録層が内側になるよ
うに接着剤層を介して一体化されている光記録媒体にお
いて、内基板の接着時に熱による媒体への悪影響がなく
、接着が迅速で接着時に基板同士のズレがなく接着後の
基板のソリがなく、しかも高温・高湿あるいは温湿度変
化の条件下の保存においても有機保護コート層と接着剤
層との剥離がなく、耐久性および耐湿性に優れた光記録
媒体を提供することにある。■Object of the Invention The object of the present invention is to have a pair of substrates, a recording layer on at least one of the substrates, and an organic protective coating layer on the recording layer. In optical recording media that are integrated via an adhesive layer so that the inner substrate is on the inside, there is no adverse effect on the medium due to heat when adhering the inner substrate, and the adhesion is quick and there is no displacement between the substrates after adhesion. Provides an optical recording medium with excellent durability and moisture resistance, with no warping of the substrate, and no peeling of the organic protective coating layer and adhesive layer even when stored under conditions of high temperature, high humidity, or changes in temperature and humidity. It's about doing.
■ 発明の開示 このような目的は、以下の本発明によって達成される。■Disclosure of invention Such objects are achieved by the present invention as described below.
すなわち本発明は、一対の基板を有し、少なくとも一方
の基板上に基板の内周部および外周部を除いて記録層を
有し、この記録層上に有機保護コート層を有し、これら
一対の基板が、記録層が内側になるように接着剤層を介
して一体化されている光記録媒体において、
有機保護コート層が、放射線硬化型化合物を含有する塗
膜を放射線硬化したものであり、接着剤層が、アクリル
またはメタクリル基を有する化合物を含有する接着剤の
塗膜を放射線硬化および嫌気性硬化したものであって、
有機保護コート層の硬度が接着剤層の硬度よりも大きい
ことを特徴とする光記録媒体である。That is, the present invention has a pair of substrates, has a recording layer on at least one of the substrates except for the inner and outer peripheral portions of the substrate, has an organic protective coating layer on the recording layer, and In an optical recording medium in which two substrates are integrated via an adhesive layer so that the recording layer is on the inside, the organic protective coating layer is made by radiation-curing a coating film containing a radiation-curable compound. , the adhesive layer is obtained by radiation curing and anaerobic curing of an adhesive coating containing a compound having an acrylic or methacrylic group,
The optical recording medium is characterized in that the hardness of the organic protective coating layer is greater than the hardness of the adhesive layer.
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成を、詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.
本発明の光記録媒体は、一対の基板を存し、少なくとも
一方の基板上に基板の内周部および外周部を除いて記録
層を有し、この記録層上に有機保護コート層を有し、こ
れら一対の基板が、記録層が内側になるように接着剤層
を介して一体化されて構成される。The optical recording medium of the present invention includes a pair of substrates, has a recording layer on at least one of the substrates except for the inner and outer peripheral portions of the substrate, and has an organic protective coating layer on the recording layer. , these pair of substrates are integrated via an adhesive layer so that the recording layer is on the inside.
有機保護コート層は、放射線硬化型化合物を含有する塗
膜を放射線硬化したものであり、接着剤層はアクリルま
たはメタクリル基を有する化合物を含有する接着剤の塗
膜を、放射線硬化および嫌気性硬化したものである。The organic protective coating layer is obtained by radiation curing a coating film containing a radiation-curable compound, and the adhesive layer is a coating film of an adhesive containing a compound having an acrylic or methacrylic group, which is cured by radiation curing and anaerobic curing. This is what I did.
そして、有機保護コート層の硬度が接着剤層の硬度より
も犬きくなるように構成される。Further, the hardness of the organic protective coat layer is configured to be higher than the hardness of the adhesive layer.
このように構成することにより、高温・高湿あるいは温
湿度変化条件下の保存においても、有機保護コート層と
接着剤層との剥離が生じない。With this structure, the organic protective coating layer and the adhesive layer do not peel off even when stored under high temperature, high humidity, or changing conditions of temperature and humidity.
このような有機保護コート層の硬度は、25℃における
鉛筆硬度(JIS K−5400)で、H〜3H程度
が好ましい。 Hより軟らかいと耐久性が不十分であり
、3Hより硬くなると塗膜がもろくなり、膜形成能が低
下する他、基板および記録層等のスパッタ膜との接着力
が低下する。The hardness of such an organic protective coating layer is preferably about H to 3H in terms of pencil hardness (JIS K-5400) at 25°C. If it is softer than 3H, the durability will be insufficient, and if it is harder than 3H, the coating film will become brittle and the film forming ability will decrease, as well as the adhesion to the substrate and the sputtered film such as the recording layer will decrease.
また、接着剤層の硬度は、鉛筆硬度で28〜H程度が好
ましい。 2Bより軟らかいと耐久性が不十分であり、
Hより硬くなると基板の反り等のディスクの歪の緩和力
が低下する。Further, the hardness of the adhesive layer is preferably about 28 to H in terms of pencil hardness. If it is softer than 2B, the durability will be insufficient.
When the hardness is higher than H, the ability to alleviate disk distortion such as substrate warpage decreases.
有機保護コート層および接着剤層の硬度は、このような
範囲内で、上記のような関係とされる。The hardness of the organic protective coat layer and the adhesive layer is within such ranges and has the above-mentioned relationship.
なお、有機保護コート層および接着剤層を例えばスピン
コードにより塗設した場合、これらは内周部および外周
部で膜厚差をもつことがあり、この膜厚差により硬度の
ちがいが生じることもある。 このような場合にも、本
発明では両層とも全領域において上記の硬度をもつこと
が必要である。Note that when the organic protective coating layer and the adhesive layer are applied using, for example, a spin cord, there may be a difference in film thickness between the inner and outer peripheral parts, and this difference in film thickness may cause a difference in hardness. be. Even in such a case, it is necessary in the present invention that both layers have the above-mentioned hardness in the entire area.
このような有機保護コート層形成に用いる放射線硬化型
化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれるこ
とが好ましい。The radiation-curable compound used to form such an organic protective coat layer preferably contains oligoester acrylate.
オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基または
メタクリレート基を複数存するオリゴエステル化合物で
ある。 そして好ましいオリゴステルアクリレートとし
ては、分子量1000〜10000、好ましくは200
0〜7000であって、重合度2〜10、好ましくは、
3〜5のものが挙げられる。 また、これらのうちアク
リレート基またはメタクリレート基を2〜6個、好まし
くは3〜6個有する多官能オリゴエステルアクリレート
が好ましい。Oligoester acrylate is an oligoester compound having multiple acrylate groups or methacrylate groups. The preferred oligoster acrylate has a molecular weight of 1,000 to 10,000, preferably 200
0 to 7000, and the degree of polymerization is 2 to 10, preferably
3 to 5 are listed. Among these, polyfunctional oligoester acrylates having 2 to 6, preferably 3 to 6 acrylate groups or methacrylate groups are preferred.
多官能オリゴエステルアクリレートとしては7 口:−
tクスM−7100,M−5400,M−5500、M
−5700、M−6250,M−6500、M−803
0、M−8060,M−8100等(東亜合成化学社製
)として市販されているものを用いることができ、これ
らは下記式(A)、(B)で示されるものである。7 as polyfunctional oligoester acrylate: -
tx M-7100, M-5400, M-5500, M
-5700, M-6250, M-6500, M-803
0, M-8060, M-8100, etc. (manufactured by Toagosei Kagaku Co., Ltd.) can be used, and these are represented by the following formulas (A) and (B).
(A)
(B)
A−%M−N+、−M−A
Aニアクリレート基またはメタクリレート基、
M:2価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、1,6−ヘキサングリコール、ビ
スフェノールA等)残基、
N:2塩基酸(例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、
アジピン酸、コハク酸等)残基、
n:1〜10、好ましくは2〜5
これらのうちでは(A)で示されるものが好ましい。(A) (B) A-%M-N+, -M-A A near acrylate group or methacrylate group, M: dihydric alcohol (e.g., ethylene glycol, diethylene glycol, 1,6-hexane glycol, bisphenol A, etc.) residue group, N: dibasic acid (e.g. terephthalic acid, isophthalic acid,
adipic acid, succinic acid, etc.) residue, n: 1 to 10, preferably 2 to 5. Among these, those represented by (A) are preferred.
このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用し
てもよい。Such oligoester acrylates may be used alone.
また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい。 そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中20Wし%以上存在することが好ましい
。Further, other radiation-curable compounds may be used in combination. In such a case, it is preferable that the oligoester acrylate is present in the radiation curable compound in an amount of 20% or more.
上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線硬
化型化合物を併用することができ、このようなものとし
ては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を
示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合
等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子中
に含有または導入した千ツマ−、オリゴマーおよびポリ
マー等を挙げることができる。 これらは多官能、特に
3官能以上であることが好ましい。The above oligoester acrylate can be used in combination with other radiation-curable compounds, such as acrylic acid, methacrylic acid, which has an unsaturated double bond that is sensitive to ionization energy and exhibits radical polymerizability. Acrylic double bonds such as acids or their ester compounds, allylic double bonds such as diallyl phthalate, unsaturated double bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives, and groups that can be crosslinked or polymerized by radiation irradiation. Examples include polymers, oligomers, and polymers containing or introducing into the molecule. These are preferably polyfunctional, particularly trifunctional or more functional.
放射線硬化型モノマーとしては、分子量2000未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子12000〜100
00のものが用いられる。As a radiation-curable monomer, a compound with a molecular weight of less than 2,000 is used, and as an oligomer, a compound with a molecular weight of 12,000 to 100 is used.
00 is used.
これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールメタクリレート、1.6−ヘキサングリ
コールジアクリレート、1.6−ヘキサングリコールジ
アクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタ
クリレート)、ペンタエリスリトールアクリレート(メ
タクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(メタクリレート)、トリメチロールプロパンジア
クリレート(メタクリレート)、ウレタンエラストマー
にツボラン4040)のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにC0OH等の官能基が導入されたもの、フェ
ノールエチレンオキシド付加物のアクリレート(メタク
リレート)、下記一般式で示されるペンタエリスリトー
ル縮金環にアクリル基(メタクリル基)またはε−カプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物、
1) (CH2=C)ICOOCH2)3−CCH2
0)1(特殊アクリレートA)
2) (CH2=CHCOOCH2)3−CC82
0H3(特殊アクリレートB)
3) (CH2=CH0C(OC3H6)n −0
CH2)3−CCH2C)13(特殊アクリレートC)
(特殊アクリレートD)
(特殊アクリレートE)
CH2CH2C00CH=CH2
(特殊アクリレートF)
式中、m=1、a=2、b=4の化合物(以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Aという)、
m=1、a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、m=1.a=6、b=
oの化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物C
という)、m=2、a=6、b=oの化合物(以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、および下記
一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる。These include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, etc., but particularly preferred ones are Examples include pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate), pentaerythritol acrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), acrylic modified products of urethane elastomer and tuberane 4040), or these. Products into which functional groups such as C0OH have been introduced, acrylates (methacrylates) of phenol ethylene oxide adducts, and pentaerythritol condensed ring represented by the following general formula with an acrylic group (methacrylic group) or ε-caprolactone-acrylic group attached. Compound, 1) (CH2=C)ICOOCH2)3-CCH2
0) 1 (Special acrylate A) 2) (CH2=CHCOOCH2) 3-CC82
0H3 (special acrylate B) 3) (CH2=CH0C(OC3H6)n -0
CH2)3-CCH2C)13 (Special acrylate C) (Special acrylate D) (Special acrylate E) CH2CH2C00CH=CH2 (Special acrylate F) In the formula, a compound where m=1, a=2, b=4 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate A), m=1, a=3, b=3 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate B), m=1. a=6, b=
o compound (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate C
), m = 2, a = 6, b = o (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate), and special acrylates represented by the following general formula.
8) CH2=CHCOO−(CH2CH20)4−
COCH=CH2(特殊アクリレートH)
CH,2CH2C00CH=CH2
(特殊アクリレート■)
(特殊アクリレートJ)
また、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエラ
ストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものにC
0OH等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。8) CH2=CHCOO-(CH2CH20)4-
COCH=CH2 (special acrylate H) CH,2CH2C00CH=CH2 (special acrylate ■) (special acrylate J) In addition, radiation-curable oligomers include acrylic modified products of urethane elastomers, or C
Examples include those into which a functional group such as 0OH is introduced.
また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて熱
可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られる
放射線硬化型化合物を用いてもよい。Further, in addition to or in place of the above-mentioned compounds, a radiation-curable compound obtained by radiation-sensitizing a thermoplastic resin may be used.
このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカ
ル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メ
タクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のような
アクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリ
ル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽
和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基
を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂で
ある。Specific examples of such radiation-curable resins include acrylic acid, methacrylic acid, or acrylic double bonds such as ester compounds thereof, which have unsaturated double bonds exhibiting radical polymerizability, and diallylphthalate. It is a thermoplastic resin in which groups that can be crosslinked or polymerized by radiation irradiation, such as allylic double bonds and unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives, are contained or introduced into the molecule of the thermoplastic resin.
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリニスルチル樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ
キシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。Examples of thermoplastic resins that can be modified into radiation-curable resins include vinyl chloride copolymers, saturated polyvinyl sulfate resins,
Examples include polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, phenoxy resins, cellulose derivatives, and the like.
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロッドン樹脂および誘導体(pvp
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。Other resins that can be used for radiation sensitivity modification include polyfunctional polyester resins, polyether ester resins, polyvinyl pyrodone resins, and derivatives (pvp
Also effective are acrylic resins containing at least one of olefin copolymers), polyamide resins, polyimide resins, phenol resins, spiroacetal resins, hydroxyl group-containing acrylic esters, and methacrylic esters as polymerization components.
このような放射線硬化型化合物の有機保護コート層の膜
厚は0.1〜30μm、より好ましくは1〜10μmで
ある。The thickness of the organic protective coating layer of such a radiation-curable compound is 0.1 to 30 μm, more preferably 1 to 10 μm.
この膜厚が0.1μm未満になると、一様な膜を形成で
きず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でなく、
記録層の耐久性が向上しない。 また、30μmをこえ
ると、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反
りや保護膜中のクラックが生じ、実用に耐えない。If the film thickness is less than 0.1 μm, it will not be possible to form a uniform film, and the moisture-proofing effect will not be sufficient in a humid atmosphere.
The durability of the recording layer does not improve. If the thickness exceeds 30 μm, the recording medium may warp or cracks may occur in the protective film due to shrinkage during curing of the resin film, making it unsuitable for practical use.
このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知の
方法を組み合わせて設層すればよい。 この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。Such a coating film may usually be formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping. The conditions for forming the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of coating film composition, the intended coating thickness, etc.
本発明において塗膜に照射する放射線として6士、紫外
線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。In the present invention, examples of the radiation irradiated onto the coating film include ultraviolet rays, electron beams, etc., but ultraviolet rays are preferred.
紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化型
化合物の中には、通常、光重合増感剤が加えられる。When ultraviolet rays are used, a photopolymerizable sensitizer is usually added to the radiation-curable compound as described above.
本発明に用いる光重合増感剤としては、下記一般式(1
)で表わされる化合物が好ましい。The photopolymerization sensitizer used in the present invention has the following general formula (1
) are preferred.
このものを多官能オリゴエステルアクリレートと用いる
ことにより前記の硬度が容易に得られ、膜物性も良好と
なる。 そして接着剤層との剥離も少なくなり、耐久性
、耐湿性も良好となる。By using this material with polyfunctional oligoester acrylate, the above-mentioned hardness can be easily obtained and the film properties can also be improved. Peeling from the adhesive layer is also reduced, and durability and moisture resistance are also improved.
一般式(I)
上記一般式(I)において、Rは炭素数1〜4の置換も
しくは非置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等を表わし、なかでもメチル基
、エチル基等が好ましい。General Formula (I) In the above general formula (I), R represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc., especially a methyl group, Ethyl group etc. are preferred.
Lは炭素数1〜3の置換もしくは非置換のアルキレン基
、例えば−CH2+。L is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, such as -CH2+.
CH3 等を表わし、なかでも CH3 ■ C− 魯 CH3 が好ましい。CH3 etc., especially CH3 ■ C- Lu CH3 is preferred.
Yは、複素環基、例えばモルホリノ基、2−モルホリニ
ル基1、ピペリジノ基、4−ピペリジニル基、2−ピリ
ジル基、2−キノリル基、1−ピロリジニル基、1−ピ
ロリル基、2−チェニル基、2−フリル基等を表わし、
なかでもモルホリノ基が好ましい。Y is a heterocyclic group, such as a morpholino group, a 2-morpholinyl group, a piperidino group, a 4-piperidinyl group, a 2-pyridyl group, a 2-quinolyl group, a 1-pyrrolidinyl group, a 1-pyrrolyl group, a 2-chenyl group, 2-furyl group, etc.
Among these, a morpholino group is preferred.
RS−は、一般式(I)中のベンゼン環の置換可能ない
ずれの位置でベンゼン環と結合してもよいが、
C−L−Y
の2位であることが好ましい。RS- may be bonded to the benzene ring at any substitutable position of the benzene ring in general formula (I), but is preferably the 2-position of C-L-Y.
本発明において、一般式(I)で表わされる化合物のう
ちで、最も好ましいものは以下のものである。In the present invention, among the compounds represented by general formula (I), the following are most preferred.
化合物A
この化合物Aは、IRGACURE907(日本チバガ
イギー社製)として市販されているものである。Compound A This compound A is commercially available as IRGACURE907 (manufactured by Ciba Geigy, Japan).
一般式(I)で表わされる化合物は、放射線硬化の際光
重合開始剤ないし光重合増感剤として作用するものであ
る。The compound represented by the general formula (I) acts as a photopolymerization initiator or photopolymerization sensitizer during radiation curing.
このような化合物の有機保護コート層における含有量は
、0.1〜20wt%、好ましくは1〜10wt%とす
るのがよい。The content of such a compound in the organic protective coating layer is preferably 0.1 to 20 wt%, preferably 1 to 10 wt%.
0、Lwt、%未満では光重合開始剤ないし光重合増感
剤としての作用が十分ではないからであり、20wt%
をこえると残存する光重合開始剤ないし光重合増感剤が
記録層に浸透し、記録層に悪影習を与えるからである。This is because the effect as a photopolymerization initiator or photopolymerization sensitizer is insufficient if the amount is less than 0.0%, and 20% by weight.
This is because if the temperature is exceeded, the remaining photopolymerization initiator or photopolymerization sensitizer will penetrate into the recording layer and give an adverse effect on the recording layer.
また、光重合増感剤としては、必要に応じ前記の一般式
(I)で表わされる化合物の他に、次のような公知のも
のが併用できる。Further, as the photopolymerization sensitizer, in addition to the compound represented by the above-mentioned general formula (I), the following known ones can be used in combination, if necessary.
例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベ
ンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケト
ン類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィド等のスルフィド類等を挙げることができる。For example, benzoin series such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, and α-chlordeoxybenzoin, ketones such as benzophenone, acetophenone, and bisdialkylaminobenzophenone, quinones such as acedraquinone and phenanthraquinone, and benzyl disulfide. and sulfides such as tetramethylthiuram monosulfide.
そして、このような光重合増感剤と放射線硬化型化合物
を含有する塗膜を紫外線によって硬化させるには、公知
の種々の方法に従えばよい。In order to cure a coating film containing such a photopolymerizable sensitizer and a radiation-curable compound using ultraviolet rays, various known methods may be used.
たとえば、キセノン放電管、水素放電管などの紫外線電
球等を用いればよい。For example, an ultraviolet light bulb such as a xenon discharge tube or a hydrogen discharge tube may be used.
また、場合によっては電子線を用いることもできる。Moreover, an electron beam can also be used depending on the case.
次に、接着剤層について説明する。Next, the adhesive layer will be explained.
本発明の接着剤層は、l前述のように、アクリルまたは
メタクリル基を有する化合物を含有する接着剤の塗1摸
を放射線硬化および嫌気性硬化したものである。The adhesive layer of the present invention is obtained by radiation curing and anaerobic curing of a coating of an adhesive containing a compound having an acrylic or methacrylic group, as described above.
(メタ)アクリル基を存する化合物としては、オリゴエ
ステルアクリレートが好ましい。As the compound containing a (meth)acrylic group, oligoester acrylate is preferred.
オリゴエステルアクリレートとしては、有機保護コート
層の説明にて前述したものと同様なものが好ましい。As the oligoester acrylate, those similar to those mentioned above in the explanation of the organic protective coat layer are preferred.
オリゴエステルアクリレートは、単独で用いてもよく、
(メタ)アクリル基を有する他の放射線硬化型化合物あ
るいはアクリル基を有さない放射線硬化型化合物と併用
してもよい。 他の放線硬化型化合物と併用する場合、
オリゴエステルアクリレートは、放射線硬化型化合物中
50I%以上、好ましくは70wt%以上存在すること
が好ましい。Oligoester acrylate may be used alone,
It may be used in combination with another radiation-curable compound having a (meth)acrylic group or a radiation-curable compound not having an acrylic group. When used in combination with other actiniocurable compounds,
It is preferable that the oligoester acrylate is present in the radiation curable compound in an amount of 50 I% or more, preferably 70 I% or more.
他の放射線硬化型化合物としては、有機保護コート層の
説明にて前述したものと同様なものを用いることができ
る。As other radiation-curable compounds, the same compounds as those mentioned above in the description of the organic protective coat layer can be used.
ただし、前述のモノマーは未硬化のまま残存しやすく、
これが記録層等に悪影・響を及ぼす可能性があるので、
添加量をできるだけ歩なくすることが好ましい。However, the monomers mentioned above tend to remain uncured;
This may have an adverse effect on the recording layer, etc., so
It is preferable to keep the amount added as low as possible.
このような放射線硬化型化合物を硬化させるために用い
る放射線としては、紫外線;電子線等が挙げられるが、
紫外線を用いることが好ましい。Examples of radiation used to cure such radiation-curable compounds include ultraviolet rays; electron beams, etc.
Preferably, ultraviolet light is used.
紫外線源としては、例えばキセノン放電管、水素放電管
等の紫外線電球等を用いればよい。As the ultraviolet light source, for example, an ultraviolet light bulb such as a xenon discharge tube or a hydrogen discharge tube may be used.
紫外線を用いる場合、接着剤には、通常、光重合増感剤
が加えられる。 光重合増感剤としては、有機保護コー
ト層の説明にて前述したような化合物が好ましい。When using ultraviolet light, a photopolymerizable sensitizer is usually added to the adhesive. As the photopolymerization sensitizer, compounds such as those mentioned above in the explanation of the organic protective coating layer are preferred.
接着剤には、上記の放射線硬化型化合物および光重合増
感剤の他、酸化剤を含有する成分と還元剤を含有する成
分とが含まれることが好ましく、これらの反応により開
始種が発生して上記の(メタ)アクリル基を有する化合
物が嫌気性硬化するように構成することが好ましい。In addition to the above-mentioned radiation-curable compound and photopolymerization sensitizer, the adhesive preferably contains a component containing an oxidizing agent and a component containing a reducing agent, and the reaction of these components generates initiating species. It is preferable that the above compound having a (meth)acrylic group be anaerobically cured.
本発明に用いる接着剤は、通常、いわゆる2液型の嫌気
性硬化型接着剤、すなわち酸化剤を含有する成分と還元
剤を含有する成分とが分離されており、これらのうち少
なくとも一方に(メタ)アクリル基を有する化合物が含
有され、接着剤塗布時にこれら2成分を混合して用いる
ものが好ましい。The adhesive used in the present invention is usually a so-called two-component anaerobic curing adhesive, that is, a component containing an oxidizing agent and a component containing a reducing agent are separated, and at least one of them has ( Preferably, the adhesive contains a compound having a meth)acrylic group, and these two components are mixed and used when applying the adhesive.
用いる酸化剤としては、ジアシル過酸化物やジアルキル
過酸化物などが有用であり、これらの具体例としては例
えば、過酸化ベンゾイルなどが挙げられる。As the oxidizing agent used, diacyl peroxides and dialkyl peroxides are useful, and specific examples thereof include benzoyl peroxide.
また、還元剤としては、3級アミンやメルカプタン化合
物などが有用であり、その具体例としては例えば、N、
N−ジメチルアニリンなどが挙げられる。In addition, as reducing agents, tertiary amines and mercaptan compounds are useful, and specific examples thereof include N,
Examples include N-dimethylaniline.
これら酸化剤および還元剤と上記の放射線硬化型化合物
との量比は、放射線硬化型化合物に対し酸化剤および還
元剤は0.1〜10mo1%程度が好ましい。The ratio of the oxidizing agent and reducing agent to the above-mentioned radiation-curable compound is preferably about 0.1 to 10 mol% of the oxidizing agent and reducing agent to the radiation-curable compound.
この値が0.1mofi%未満であると酸化還元反応が
おこりにくく、開始種が発生しにくくなり、10mo1
%を越えると未反応試薬が記録層に悪影習を与えたり、
ポットライフが短くなる。If this value is less than 0.1 mofi%, the redox reaction will be difficult to occur, the starting species will be difficult to generate, and 10 mofi% will be less likely to occur.
%, unreacted reagents may cause adverse effects on the recording layer,
Pot life becomes shorter.
このような接着剤は、有機保護コート層の説明にて前述
したような種々の公知の方法で設層すればよい。Such an adhesive may be applied by various known methods as described above in the description of the organic protective coating layer.
また、このような接着剤を放射線硬化および嫌気性硬化
させた接着剤層の厚さは、5〜50μmである′ことが
好ましい。 厚さが5μm未満であると接着性が悪くな
り、50μmを越えると耐久性が低下する。Further, the thickness of the adhesive layer obtained by radiation-curing and anaerobically-curing such an adhesive is preferably 5 to 50 μm. If the thickness is less than 5 μm, adhesiveness will be poor, and if it exceeds 50 μm, durability will be reduced.
本発明の光記録媒体に用いられる基板は、樹脂や各種ガ
ラス等によって形成される。The substrate used in the optical recording medium of the present invention is made of resin, various types of glass, or the like.
好ましい樹脂として、は、アクリル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、エポキシ樹脂、ポリメチルペンテン樹脂等が
あげられる。Preferred resins include acrylic resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polymethylpentene resin, and the like.
なお、記録は基板をとおして行うので、書き込み光ない
し読み出し光に対する透過率は86%以上とする。Note that since recording is performed through the substrate, the transmittance for writing light or reading light is set to 86% or more.
また、基板は、通常ディスク状とし、1.2〜1.5m
m程度の厚さとする。In addition, the board is usually disk-shaped and has a length of 1.2 to 1.5 m.
The thickness should be about m.
このようなディ・スフ状基板の記録層形成面には、トラ
ッキング用の溝ないしピットが形成されてもよい。Tracking grooves or pits may be formed on the recording layer forming surface of such a disc-shaped substrate.
溝の深さは、λ/ 8 n程度、特にλ/ 6 n〜λ
/ 12 n (ここに、nは基板の屈折率である)と
される。 また、溝の巾は、トラック巾程度とされる。The depth of the groove is about λ/8n, especially λ/6n~λ
/ 12 n (where n is the refractive index of the substrate). Further, the width of the groove is approximately the width of a track.
そして、通常、この溝の四部に位置する記録層を記録ト
ラック部として、書き込み光および読み出し光を基板裏
面側から照射することが好ましい。In general, it is preferable to use the recording layer located in the four parts of the groove as a recording track part, and to irradiate the writing light and the reading light from the back side of the substrate.
このように構成することにより、書き込み感度と読み出
しのC/N比が向上し、しかもトラッキングの制御信号
は大きくなる。With this configuration, the writing sensitivity and the reading C/N ratio are improved, and the tracking control signal is also increased.
また、その他の基板の形状として、テープ、ドラム等と
してもよい。In addition, other shapes of the substrate may be used, such as a tape or a drum.
本発明に用いる記録層としては磁性薄膜層が挙げられる
。The recording layer used in the present invention includes a magnetic thin film layer.
磁性薄膜層は、変調された熱ビームあるいは変調された
磁界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記
録情報は磁気−光変換して再生するものである。Information is magnetically recorded in the magnetic thin film layer using a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.
このような磁性薄膜層の材質としては、Gd、Tb等の
希土類金属とFe、Co等の遷移金属の合金をスパッタ
、蒸着法等により、非晶質膜として形成したものであり
、しかもFeとCoを必須含有成分とするものである。The material for such a magnetic thin film layer is an amorphous film formed by sputtering, vapor deposition, etc. of an alloy of rare earth metals such as Gd and Tb and transition metals such as Fe and Co. It contains Co as an essential component.
この場合、FeとCoの総含存量は、65〜85at%
であることが好ましい。In this case, the total content of Fe and Co is 65 to 85 at%
It is preferable that
そして、残部は実質的に希土類金属、特にGdおよび/
またはTbである。The remainder is substantially rare earth metals, especially Gd and/or
Or Tb.
そして、その好適例としては、TbFeCo、GdFe
Co、GdTbFeCo等がある。Suitable examples include TbFeCo, GdFe
Co, GdTbFeCo, etc.
なお、これら磁性薄膜層中には10at%以下の範囲で
Cr、A!L、Ti、Pt、Si、Mo、Mn、■、N
i%Cu% Zn、Ge、Au等が含有されてもよい。Note that these magnetic thin film layers contain Cr, A!, in a range of 10 at% or less. L, Ti, Pt, Si, Mo, Mn, ■, N
i%Cu% Zn, Ge, Au, etc. may be contained.
また、希F類元素として10aL%以下の範囲でSc%
Y、La、Ce%Pr、Nd%Pm。In addition, as a rare F-class element, Sc% within a range of 10aL% or less
Y, La, Ce%Pr, Nd%Pm.
Sm、Eu、Dy%Ho、Er、Tm、Yb。Sm, Eu, Dy%Ho, Er, Tm, Yb.
Lu等を含有してもよい。It may also contain Lu or the like.
このような磁性ff膜層の膜厚は、0.01〜1−が好
ましい。The thickness of such a magnetic FF film layer is preferably 0.01 to 1-.
この他記録層の材質としては、いわゆる相転移タイプの
ものとして、例えば、
Te−5s%Te−3e−Sn、
Te−Ge、Te−I n%Te−5n。Other materials for the recording layer include so-called phase transition type materials, such as Te-5s%Te-3e-Sn, Te-Ge, and Te-In%Te-5n.
Te−Ge−5b−3、
Te−Ge−As−5n%Te−5i、Te−Ge−5
1−3b。Te-Ge-5b-3, Te-Ge-As-5n%Te-5i, Te-Ge-5
1-3b.
Te−Ge−B1、 Te−Ge −I n−Ga。Te-Ge-B1, Te-Ge-In-Ga.
Te−5i−B 1−Tll、 Te−Ge−B1−In−5、 T e −A s −G’e −S b 。Te-5i-B 1-Tll, Te-Ge-B1-In-5, T e - A s - G'e - S b.
Te−Ge−5s−S。Te-Ge-5s-S.
Te−Ge−3e。Te-Ge-3e.
Te−As−Ge−Ga 、 Te−Ge−3−I n。Te-As-Ge-Ga, Te-Ge-3-I n.
S e −G e −T 11 、5e−Te−
As 、5e−Ge−T JZ−Sb 、
5e−Ge−Bi、5e−5(以上、特公昭54−41
902号、特許第1004835号など)
Tea、(特開昭58−54338号、特許第9742
57号記載のTe酸化物中に分散されたTe)、
Teo、l+Pb0X (特許第974258号)、
Tea、+VOX (特許第974257号)、その他
、Te−TJZ、Te−T(1−5i、5e−Zn−5
b、Te−5e−Ga、T e N 、等のTe、Se
を主体とするカルコゲン系
Ge−5n、5i−3n等の非晶質−結晶質転移を生じ
る合金
A g−Zn、 A g−An−Cu、 Cu
−Aft等の結晶構造変化によって色変化を生じる合金
、In−3b等の結晶粒径の変化を生じる合金などがあ
る。S e -G e -T 11 , 5e-Te-
As, 5e-Ge-T JZ-Sb, 5e-Ge-Bi, 5e-5 (all of the above, Special Publication No. 54-41
902, Patent No. 1004835, etc.) Tea, (Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-54338, Patent No. 9742)
Teo, l + Pb0 -Zn-5
b, Te-5e-Ga, Te, Se, etc.
Alloys that cause an amorphous-crystalline transition such as chalcogen-based Ge-5n, 5i-3n, etc. mainly composed of A g-Zn, A g-An-Cu, Cu
There are alloys that cause a color change due to a change in crystal structure, such as -Aft, and alloys that cause a change in crystal grain size, such as In-3b.
本発明において、このような記録層および必要に応じ設
けられる保護層、中間層等は、基板の内周部および外周
部を除いて設層される。In the present invention, such a recording layer and the protective layer, intermediate layer, etc. provided as necessary are provided on the substrate except for the inner and outer peripheral portions.
このように設層することにより、基板同上を接着する際
、前述の接着剤層の放射線硬化が容易かつ確実に行える
ものである。By forming the layers in this way, the radiation curing of the adhesive layer described above can be carried out easily and reliably when bonding the same substrates.
本発明においては基板と記i11層との間に中間層を設
けてもよい。In the present invention, an intermediate layer may be provided between the substrate and the i11 layer.
中間層の材質としては、酸素、炭素、窒素、硫黄等を含
む化合物、例えば、5in2、S io、AJIN、A
1203 、S i3 N、、ZnS、BN%Tie2
、TiN等ないしこれらの混合物などの各種誘導体物質
ニガラス、例えばホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ
酸ガラス、アルミニウムホウケイ酸ガラス等あるいはこ
のものにSi3N、等を含むものなどを用いればよい。The material of the intermediate layer may be a compound containing oxygen, carbon, nitrogen, sulfur, etc., such as 5in2, Sio, AJIN, A
1203, S i3 N,, ZnS, BN%Tie2
, TiN, etc., or mixtures thereof, such as borosilicate glass, barium borosilicate glass, aluminum borosilicate glass, etc., or those containing Si3N, etc. may be used.
なかでも、5in240〜80wt%のホウケイ酸ガ
ラス、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミニウムホウケ
イ酸ガラスや、これらのS i O2の一部をSt、N
4等で置換したものが好ましい。Among them, borosilicate glass of 5in240-80wt%, barium borosilicate glass, aluminum borosilicate glass, and some of these SiO2 are converted into St, N
Those substituted with 4 or the like are preferred.
これらのうちで特に好ましいものとしては、下記のもの
が挙げられる。Among these, the following are particularly preferred.
(1)酸化ケイ素40〜60wL%と、Bad、Cab
、SrO,MgO,ZnO。(1) Silicon oxide 40-60 wL%, Bad, Cab
, SrO, MgO, ZnO.
pbo等の2価金属酸化物50wL%以下および/また
はアルカリ金属酸化物10wt%以下と、酸化ホウ素お
よび/または酸化アルミニウムとを含有するもの。Contains 50 wL% or less of a divalent metal oxide such as pbo and/or 10 wt% or less of an alkali metal oxide, and boron oxide and/or aluminum oxide.
(2)Siと他の金属または半金属元素としてBa、C
a、Sr、Mg、Zn、Pb等の1種以上、AiL、H
の1種以上およびアルカリ金属元素の1種以上のうちの
少なくとも1つとを含み、全金属ないし半金属中のSi
原子比が0.3〜0.9であり、ざらにOおよびNを含
み、O/(0+N)が0.4〜0.8であるもの。(2) Si and other metal or metalloid elements such as Ba and C
one or more of a, Sr, Mg, Zn, Pb, etc., AiL, H
and at least one of one or more alkali metal elements, and Si in all metals or metalloids
Those whose atomic ratio is 0.3 to 0.9, roughly contain O and N, and whose O/(0+N) is 0.4 to 0.8.
このような中間層は、500〜3000人、好ましくは
800〜2500人の厚さとするのがよい。Such an intermediate layer may have a thickness of 500 to 3000 people, preferably 800 to 2500 people.
500λ未満となると、耐候性が十分でないからであり
、1500人をこえると、厚すぎて媒体とした場合感度
が低下してしまうからである。If it is less than 500λ, the weather resistance will not be sufficient, and if it exceeds 1,500 people, it will be too thick and the sensitivity will decrease when used as a medium.
なお、これら中間層としては、上記のガラス層を中間層
下地として300〜1000人程度に設層し、この上に
SiO,,5iO1S i3 N 4 、 A JZ
N 、 A J’、 203、Z n S等、あるいは
これらの混合物などを誘電体物質を誘電体層として50
0〜1500人程度に設層したものが好ましい。In addition, as for these intermediate layers, about 300 to 1000 layers are formed using the above-mentioned glass layer as the intermediate layer base, and on top of this, SiO,,5iO1S i3 N 4 , A JZ
N, AJ', 203, ZnS, etc., or a mixture thereof, etc., are used as a dielectric layer.
It is preferable that the number of layers is 0 to 1,500.
この場合、誘電体層は800nmにおける屈折率1.8
〜3.0のものが好ましく、Siと希土類金属および/
またはA1とを含み、0およびNを含むものが好適であ
る。In this case, the dielectric layer has a refractive index of 1.8 at 800 nm.
~3.0 is preferable, and Si and rare earth metals and/or
or A1, and preferably contains 0 and N.
このような中間層と同材質の層は、記録層と前記した保
護層との間に保護中間層として設層してもよい。 厚さ
も同程度とすればよい。A layer made of the same material as such an intermediate layer may be provided as a protective intermediate layer between the recording layer and the above-mentioned protective layer. The thickness may also be about the same.
本発明の光記録媒体は、以上のような記録層、有機保護
コート層等を有する基板をさらに1セツト用いて、画記
録層を内側にして対向させて、前記の接着剤層を用いて
貼り合せて、両基板の裏面側から書き込みを行なう、い
わゆる両面記録タイプとすることができる。The optical recording medium of the present invention further comprises one set of substrates having a recording layer, an organic protective coating layer, etc. as described above, which are placed facing each other with the image recording layer inside, and bonded together using the adhesive layer described above. In addition, it is possible to use a so-called double-sided recording type in which writing is performed from the back sides of both substrates.
また、記録層を一方の基板のみに設けたいわゆる片面記
録タイプの場合にも、本発明は適用できる。The present invention is also applicable to a so-called single-sided recording type in which a recording layer is provided only on one substrate.
記録層を設けない方の基板の樹脂材質は特別に透明性等
を要求されることはなく、種々の樹脂、例えば、ポリエ
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニルアルコール、メタクリル樹脂、ポリアミ
ド、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリアセ
タール、ふっ素樹脂等の各種熱可塑性樹脂、フェノール
樹脂、エリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレ
タン、アルキド樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ケ
イ素樹脂等の各線熱可塑性樹脂等が使用可能である。The resin material of the substrate on which the recording layer is not provided is not particularly required to be transparent, and various resins such as polyethylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polypropylene, polyvinyl alcohol, methacrylic resin, polyamide, and polyester are used. Various thermoplastic resins such as vinylidene chloride, polycarbonate, polyacetal, and fluorine resins, as well as various thermoplastic resins such as phenolic resins, area resins, unsaturated polyester resins, polyurethane, alkyd resins, melamine resins, epoxy resins, and silicone resins, etc. can be used. It is.
なお、ガラス、セラミック等の各種無機材質を用いても
よい。Note that various inorganic materials such as glass and ceramics may be used.
このものの形状、寸法等は記録層を設けた基板のそれと
ほぼ同様とされる。The shape, dimensions, etc. of this material are approximately the same as those of the substrate provided with the recording layer.
さらに、これらの基板の裏面(記録層を設けていない側
の面)には各種保護膜としてのハードコート層を設ける
ことが好ましい。Furthermore, it is preferable to provide a hard coat layer as various protective films on the back surface of these substrates (the surface on which the recording layer is not provided).
ハードコート層の材質としては、前述した有機保護コー
ト層の材質と同様なものとしてよい。The material for the hard coat layer may be the same as the material for the organic protective coat layer described above.
■ 発明の具体的作用効果
本発明の光記録媒体は、一対の基板を有し、少なくとも
一方の基板上に基板の内周部および外周部を除いて記録
層を有し、この記録層上に有機保護コート層を有し、こ
れら一対の基板が記録層が内側になるように接着剤層を
介して一体化されている。■Specific Effects of the Invention The optical recording medium of the present invention has a pair of substrates, and has a recording layer on at least one of the substrates except for the inner and outer peripheries of the substrate, and on this recording layer. It has an organic protective coating layer, and these pair of substrates are integrated via an adhesive layer so that the recording layer is on the inside.
そして、上記の接着剤層は、アクリルまたはメタクリル
基を有する接着剤の塗膜を放射線硬化および嫌気性硬化
させるものであるため、両基板を一体化するに際して、
まず、紫外線等の放射線を照射して基板の内周部および
外周部同士を接着させ、次いで嫌気性硬化により残りの
部分を接着することができる。 このため、接着時に媒
体に熱が加わることがなく、記録層や基板への悪影響が
ない。 また、接着後に基板のソリが生じることもない
。 さらに、接着が迅速で接着時に基板同士のズレが生
じることもなく、しかも、最終的に、基板の全面が強固
に接着される。The adhesive layer described above is a coating film of an adhesive having an acrylic or methacrylic group that is cured by radiation and anaerobically, so when integrating both substrates,
First, the inner and outer peripheral portions of the substrate can be bonded together by irradiation with radiation such as ultraviolet rays, and then the remaining portions can be bonded by anaerobic curing. Therefore, no heat is applied to the medium during adhesion, and there is no adverse effect on the recording layer or substrate. Further, warpage of the substrate does not occur after bonding. Furthermore, the bonding is quick and there is no misalignment of the substrates during bonding, and in the end, the entire surface of the substrates is firmly bonded.
また、上記の有機保護コート層が、放射線硬化型化合物
を含有する塗膜を放射線硬化させたものであり、この有
機保護コート層の硬度が上記の接着剤層の硬度よりも大
きくなるように構成しているため、高温・高湿あるいは
温湿度変化の条件下の保存においても有機保護コート層
と接着剤層との剥離や特性・外観の変化がなく、耐久性
および耐湿性に優れた光記録媒体が実現する。Further, the organic protective coat layer is formed by radiation-curing a coating film containing a radiation-curable compound, and is configured such that the hardness of the organic protective coat layer is greater than the hardness of the adhesive layer. Therefore, even when stored under conditions of high temperature, high humidity, or changes in temperature and humidity, there is no peeling between the organic protective coating layer and the adhesive layer, and there is no change in characteristics or appearance, resulting in optical recording with excellent durability and moisture resistance. The medium makes it happen.
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.
[実施例1コ
直径13cm、厚さ1.2mmのビスフェノールA系の
ポリカーボネート樹脂(分tm15000)からなる基
板上にガラス
(SiO□ 48wL%、Al12031 5wL%
、B2O314wL%、Na2O3wj%、に202w
t%、Ba05wt% 。[Example 1] Glass (SiO□ 48wL%, Al12031 5wL%) was placed on a substrate made of bisphenol A polycarbonate resin (minute tm 15000) with a diameter of 13cm and a thickness of 1.2mm.
, B2O314wL%, Na2O3wj%, 202w
t%, Ba05wt%.
Ca0 9wj%、Mg0 4wj%)の中間層を高周
波マグネトロンスパッタによりてg!厚900人に設層
した。G! A total of 900 people were set up.
この中間層の上に21aL%Tb、68at%Fe、7
at%Co、4at%Cr合金薄膜をスパッタリングに
よって、厚さ800人に設層し、磁性薄膜層とした。
なお、磁性薄膜層は、基板の内周部および外周部を除い
て設層した。 また、ターゲットは、Feターゲットに
Tb、 co、Crチップをのせたものを用いた。On this intermediate layer, 21aL%Tb, 68at%Fe, 7
A thin film of at% Co and 4 at% Cr alloy was deposited to a thickness of 800 mm by sputtering to form a magnetic thin film layer.
Note that the magnetic thin film layer was formed on the substrate except for the inner and outer peripheral portions. The target used was an Fe target with Tb, Co, and Cr chips mounted on it.
この磁性薄膜層上にガラス(中間層の場合と同じ)の保
護中間層を膜厚1000人にスパッタリングで設層し、
この保護中間層の上に下記の放射線硬化型化合物および
光重合増感剤を含む塗布組成物を有機保護コート層とし
てスピンナーコートで設層した。On this magnetic thin film layer, a protective intermediate layer of glass (same as the intermediate layer) was formed by sputtering to a thickness of 1000 mm.
On this protective intermediate layer, a coating composition containing the following radiation-curable compound and photopolymerizable sensitizer was applied as an organic protective coating layer by spinner coating.
(塗布組成物)
多官能オリゴエステルアクリレート[オリゴエステルア
クリレート(3官能以上)30重量%、トリメチルプロ
パンアクリレート70重量% 商品名アロニックスM−
8030,東亜合成社製]
100重量部
光重合増感剤(前記化合物A:商品名
IRGACURE907;日本チバガイギー社製)
5重量部このような塗布組
成物を設層後、12017cmの紫外線を15sec照
射し架橋硬化させ、硬化膜とした。(Coating composition) Multifunctional oligoester acrylate [oligoester acrylate (trifunctional or higher) 30% by weight, trimethylpropane acrylate 70% by weight, trade name Aronix M-
8030, manufactured by Toagosei Co., Ltd.] 100 parts by weight of photopolymerization sensitizer (Compound A: trade name IRGACURE907; manufactured by Ciba Geigy, Japan)
After applying 5 parts by weight of such a coating composition, it was irradiated with ultraviolet rays of 12,017 cm for 15 seconds to crosslink and cure to form a cured film.
この時の膜厚は5μmであった。The film thickness at this time was 5 μm.
この有機保護コート層上に、アクリル基を仔する化合物
と光重合増感剤とを含有し、それに加λ、一方は酸化剤
を、他方は還元剤を含有する下記の2種の接着剤を等量
混合した後スピンナーコートで塗布し、この上に上記の
基板と同材質、同サイズの保護板を貼りあわせた。 そ
して、下記の条件にて、放射線硬化および嫌気性硬化を
行なった。On this organic protective coating layer, the following two types of adhesives containing an acrylic group-containing compound and a photopolymerization sensitizer are added, one containing an oxidizing agent and the other containing a reducing agent. After mixing equal amounts, they were applied using a spinner coat, and a protective plate made of the same material and size as the above substrate was laminated thereon. Then, radiation curing and anaerobic curing were performed under the following conditions.
接着剤(オリゴエステルアクリレート系)アロンタイト
LA−7
アロンタイトLB−8
(いずれも東亜合成型)
硬化条件
放射線硬化:120W/amの紫外線を15sec照射
嫌気性硬化:室温にて10分間放置
このようにして形成された接着剤層の厚さは、30μm
であった。Adhesive (oligoester acrylate type) Arontite LA-7 Arontite LB-8 (both Toagosei type) Curing conditions Radiation curing: Irradiation of 120 W/am ultraviolet rays for 15 seconds Anaerobic curing: Leave at room temperature for 10 minutes. The thickness of the formed adhesive layer is 30 μm
Met.
以上のようにして片面記録型の光記録媒体を得、これを
サンプルNo、1とした。A single-sided recording type optical recording medium was obtained in the above manner, and this was designated as sample No. 1.
サンプルNo、1の有機保護コート層に用いた多官能オ
リゴエステルアクリレートを、アロエックスM−400
(6官能以上のモノマー)50重量部とアロエックスM
−309(3官能のモノマー)50重量部との混合物と
し、その他はサンプルN001と同様にしてサンプルN
002を作製した。The polyfunctional oligoester acrylate used for the organic protective coating layer of sample No. 1 was mixed with Aroex M-400.
(6 functional or higher functional monomer) 50 parts by weight and Aloex M
Sample N
002 was produced.
また、多官能オリゴエステルアクリレートを、アロエッ
クスM−6100(2官能オリゴエステルアクリレート
)50重量部とアロエックスM−111(単官能子ツマ
−)50重量部とに替え、その他はサンプルNo、1と
同様にして、サンプルNo、3を作製した。In addition, the polyfunctional oligoester acrylate was replaced with 50 parts by weight of Aloex M-6100 (bifunctional oligoester acrylate) and 50 parts by weight of Aloex M-111 (monofunctional oligoester acrylate), and the others were Sample No. 1. Sample No. 3 was prepared in the same manner as above.
さらに、1液型のエポキシ樹脂系のアラシダー1’トA
T−1(日本チバガイギー社製)をスピンナーコートで
層厚5μmに設層して有機保護コート層とした他はサン
プルNo、1と同様にしてサンプルN014を作製した
。In addition, a one-component epoxy resin-based Arashidar 1'T A
Sample No. 014 was prepared in the same manner as Sample No. 1, except that T-1 (manufactured by Nippon Ciba Geigy) was spinner coated to a thickness of 5 μm to form an organic protective coating layer.
さらにまた、サンプルNo、1のオリゴエステルアクリ
レートをウレタンアクリレート(アロエックス M−1
100)100重量部に替え、その他はサンプルNo、
lと同様にしてサンプルNo、5を作製した。Furthermore, sample No. 1 oligoester acrylate was replaced with urethane acrylate (Aloex M-1
100) Change to 100 parts by weight, and the rest are sample No.
Sample No. 5 was prepared in the same manner as in Example 1.
また、サンプルNo、1において、光重合増感剤をBI
QURE−55(ストーファージャパン製)5重量部に
替えた他はサンプルNo。In addition, in sample No. 1, the photopolymerization sensitizer was added to BI
Sample No. except that 5 parts by weight of QURE-55 (manufactured by Stouffer Japan) was used.
1と同様にして、サンプルNo、6を作製した。Sample No. 6 was prepared in the same manner as in Example 1.
これらのサンプルについて、下記の試験を行なった。The following tests were conducted on these samples.
保存試験
高温・高湿(80℃ 80%RH)で保存し、媒体の特
性(C/N比およびピットエラーレート)および外観変
化を観察した。Storage Test The medium was stored at high temperature and high humidity (80° C., 80% RH), and the characteristics of the medium (C/N ratio and pit error rate) and changes in appearance were observed.
結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
なお、各サンプルの有機保護コート層および接着剤層の
25℃での鉛筆硬度は、表1に示されるものであった。The pencil hardness at 25° C. of the organic protective coat layer and adhesive layer of each sample was as shown in Table 1.
また、サンプルNo、6の有機保護コート層の鉛筆硬
度は、有機保護コート層の内周部でHB、外周部でHで
あった。Further, the pencil hardness of the organic protective coat layer of sample No. 6 was HB at the inner circumference of the organic protective coat layer and H at the outer circumference.
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。From the above results, the effects of the present invention are clear.
なお、このような効果は、いわゆる相転移型のTe−G
e、Teax、Te−5e等の記録層でも同様に実現し
た。Note that such an effect is caused by the so-called phase transition type Te-G.
This was similarly achieved with recording layers such as e, Teax, and Te-5e.
出願人 ティーディーケイ株式会社 講Applicant TDC Co., Ltd. Lecture
Claims (4)
板の内周部および外周部を除いて記録層を有し、この記
録層上に有機保護コート層を有し、これら一対の基板が
、記録層が内側になるように接着剤層を介して一体化さ
れている光記録媒体において、 有機保護コート層が、放射線硬化型化合物を含有する塗
膜を放射線硬化したものであり、接着剤層が、アクリル
またはメタクリル基を有する化合物を含有する接着剤の
塗膜を放射線硬化および嫌気性硬化したものであって、
有機保護コート層の硬度が接着剤層の硬度よりも大きい
ことを特徴とする光記録媒体。(1) A pair of substrates, a recording layer on at least one of the substrates except for the inner and outer peripheries of the substrate, an organic protective coating layer on the recording layer, and However, in optical recording media that are integrated with the recording layer on the inside via an adhesive layer, the organic protective coating layer is made by radiation-curing a coating film containing a radiation-curable compound, and the adhesive layer is The adhesive layer is obtained by radiation curing and anaerobic curing of an adhesive coating containing a compound having an acrylic or methacrylic group,
An optical recording medium characterized in that the hardness of the organic protective coating layer is greater than the hardness of the adhesive layer.
℃における鉛筆硬度(JISK−5400)でそれぞれ
H〜3Hおよび2B〜Hである特許請求の範囲第1項に
記載の光記録媒体。(2) The hardness of the organic protective coat layer and adhesive layer is 25
The optical recording medium according to claim 1, which has a pencil hardness (JISK-5400) of H to 3H and 2B to H, respectively.
ートを含有する特許請求の範囲第1項または第2項に記
載の光記録媒体。(3) The optical recording medium according to claim 1 or 2, wherein the radiation-curable compound contains an oligoester acrylate.
る成分とを有し、これらの反応により開始種が発生して
アクリル基またはメタクリル基を有する化合物が嫌気性
硬化するものである特許請求の範囲第1項ないし第3項
のいずれかに記載の光記録媒体。(4) The adhesive has a component containing an oxidizing agent and a component containing a reducing agent, and the reaction between these generates an initiating species, and the compound having an acrylic group or a methacrylic group is anaerobically cured. An optical recording medium according to any one of claims 1 to 3.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62072887A JPH0827989B2 (en) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62072887A JPH0827989B2 (en) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | Optical recording medium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63239631A true JPS63239631A (en) | 1988-10-05 |
JPH0827989B2 JPH0827989B2 (en) | 1996-03-21 |
Family
ID=13502300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62072887A Expired - Fee Related JPH0827989B2 (en) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | Optical recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0827989B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02156448A (en) * | 1988-12-08 | 1990-06-15 | Daicel Chem Ind Ltd | Magneto-optical recording medium |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61151853A (en) * | 1984-12-26 | 1986-07-10 | Toshiba Corp | Optical disk |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP62072887A patent/JPH0827989B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61151853A (en) * | 1984-12-26 | 1986-07-10 | Toshiba Corp | Optical disk |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02156448A (en) * | 1988-12-08 | 1990-06-15 | Daicel Chem Ind Ltd | Magneto-optical recording medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0827989B2 (en) | 1996-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01165050A (en) | Optical recording medium | |
JPS61133067A (en) | Optomagnetic recording medium | |
JPS63239631A (en) | Optical recording medium | |
JPS63200335A (en) | Optical recording medium | |
JP2594422B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPS63197041A (en) | Optical recording medium and its production | |
JP2523291B2 (en) | Optical recording medium | |
JP2630399B2 (en) | Optical recording medium | |
JP2536819B2 (en) | Optical recording medium | |
JP2523301B2 (en) | Optical recording medium | |
JPS61139961A (en) | Photomagnetic recording medium | |
JP2554482B2 (en) | Optical recording medium | |
JPH079715B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP2630400B2 (en) | Optical recording medium | |
JPS62234254A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPS63161550A (en) | Optical recording medium | |
JPS63164040A (en) | Optical recording medium | |
JPS6363155A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPH079716B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPS61139960A (en) | Photo magnetic recording medium | |
JPS6240651A (en) | Photomagnetic recording medium | |
JPS63153741A (en) | Optical recording medium | |
JPS62281141A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPS62252548A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPS62281142A (en) | Magneto-optical recording medium |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |