JPS63228054A - 炭酸濃度測定用イオン選択電極 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は水性液体試料中の炭酸濃度測定用イオン選択電
極及び炭酸濃度測定用イオン選択電極対に関するもので
、詳しくは水性液体試料、特に血液。

リンパ液、唾液、尿等の生物体液を水性液体試料として
用いる臨床検査に有用な炭酸濃度測定用イオン選択電極
炭酸濃度測定用イオン選択電極対に間するものである。

［従来の技術］ 血液に代表される諸種の生物体液のｐＨを常に一定に保
つため、生体内には物理化学的な緩衝系と肺や腎による
生理学的な緩衝系が存在しており。

なかでも血漿の重炭酸緩衝系は最も重要なものである。

全炭Ｗｔｉ（炭酸イオン）濃度をボテンシオメトリカル
に測定するためのイオン選択ｉｆ極として。

特開昭５６−９２４４２に導電性金属層の上に金属ハロ
ゲン化物層を積層した参照電極の上に順に電解質層、イ
オン泳動体含有隔膜層及び緩衝剤含有層を積層した液体
中炭酸濃度分析用イオン選択電極が記載されている。

この炭酸濃度分析用イオン選択電極はサリチレート、ｐ
−アミノサリチレート、ゲンチセードのような妨害物に
よる妨害が少なく測定誤差が小さいすぐれたイオン選択
電極である。しかし、この炭酸濃度分析用イオン選択電
極には全属ハロゲン化物層とイオン隔膜層くイオン選択
層）との間に、親水性ポリマーバインダーを含む電解質
層が存在するため、親水性ポリマーバインダーを含む電
解質層と疎水性有機物質からなるイオン選択層とは接着
力が不充分のため剥がれやすいこと、被覆膜の強度も充
分に上げることができないことが明らかになった。また
、当然のことであるが、親水性ポリマーバインダーを含
む電解質層は親水性であるため水分を吸収しやすく電極
自体の経時安定性も悪くなることが明らかになった。

［発明が解決しようとする間ｕ点］ 本発明の目的は、　ＩＪＩ水性ポリマーバインダーを含
む電解質層がなく、水分の吸収による電解質層の劣化の
可能性のきわめて少ない経時安定性のよいボテンシオメ
トリカル（電位）法による炭酸濃度測定用イオン選択電
極を提供することである。

本発明の他の目的は、金属ハロゲン化物層の上に直接疎
水性有機物質からなるイオン選択層が積層されていて、
金属ハロゲン化物層とイオン選択膜層との接着力が充分
で疎水性有機物質からなるイオン選択層の被覆強度も充
分大きい、安定な炭酸濃度測定用イオン選択電極を提供
することである。

本発明の他の目的は、水性液体試料のｐ）ｌ値の事前測
定又は試料へのｐＨ緩衝液によるｐＨ値の固定のいずれ
の操作も不要な炭酸濃度測定用イオン選択電極を提供す
ることである。

本発明の他の目的は、水性液体試料に含有されている可
能性のあるサリチレート、ｐ−アミノサリチレート、ゲ
ンチゼートのような妨害物による測定誤差が実質的に排
除された炭酸濃度測定用イオン選択電極を提供すること
である。

Ｃ発明の構成］ これらの諸口的は。

（１）絶縁性支持体の上に導電性金属層、前記導電性金
属のハロゲン化物層、イオン担体を含む炭酸イオン選択
層、及び親水性バインダと緩衝剤を含む緩衝層をこの順
に積層してなる炭酸濃度測定用イオン選択電極、及び （２）絶縁性支持体の上の導電性金属層が前記支持体に
達する溝により電気的に絶縁されており、前記溝に対向
して１対の前記導電性金属のハロゲン化物層、前記溝を
埋めかつ前記ハロゲン化物層の゛表面を覆って共通に設
けろているイオン担体を含む炭酸イオン選択層、及び前
記イオン選択層の上に共通に設けろているｐＨ緩衝剤組
成物を含む親水性ポリマーバインダからなる緩衝層をこ
の順に積層してなる実質的に電気的に絶縁された炭酸濃
度測定用イオン選択電極対。

により達成された。

［発明の構成の詳細な説明］ 電気絶縁性支持体は実質的に電気絶縁性の公知の有機ポ
リマー又はガラス支持体から適宜選択して用いることが
できる。好ましい電気絶縁性支持体の例として、シート
状のビスフェノールへのポリカルボネート、ポリエチレ
ンテレフタレート。

セルロースエステル（例、セルローストリアセテート、
セルロースアセテートプロピオネート）等がある。シー
ト状支持体の厚さは約８０−〜約２ｍｍ　。

好ましくは約１００１ｆｉ〜約１ｍｍの範囲である。

導電性金属層に用いることができる金属の例として、銀
、ニッケル、金、白金等があり、これらのうちで好まし
い金属は銀である。導電性金属層は１例えば無電解メッ
キ、真空蒸着等の公知の方法により支持体の表面上に被
覆された層を用いることができる。導電性金属層は、厚
さで約４００ｎｍ以上、好ましくは約６００ｎｎ＋〜約
ｔｏｏｕｒｒ＋の範囲、又は被覆量で約１００ｍｇ／ｍ
２〜約２．０ｇ／ｌ１１２の範囲である。

導電性金属のハロゲン化物Ｎ（以下、金属ハロゲン化物
層という）は、特開昭５２−１４２５８４　、特開昭５
６−３３５３７　、特開昭５７−１７８５１等に記載の
公知の方法により設けることができる。すなわち、被覆
された金属層をハロゲン化物含有酸化剤で酸化−ハロゲ
ン化処理する方法、金属ハロゲン化物を真空蒸着又は化
学蒸着する方法等により形成することができる。金属ハ
ロゲン化物層の被覆量は約１００ｍ３／■２〜約２．０
ｇ／ｍ２の範囲である。導電性金属層、金属ハロゲン化
物層の最も好ましい組み合わせは銀層−塩化銀層である
。以下において、（支持体を含めて）導電性金属層とそ
の上に積層された導電性金属のハロゲン化物の層からな
る半電池（又は単極）を参照電極ということがある。

イオン選択層はポリマーバインダ、イオン担体及びイオ
ン担体溶媒が含まれる公知のイオン選択層から適宜に選
択して用いることができる。イオン選択層に用いること
ができるポリマーバインダとしては、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー、塩化ビニ
ル−酢酸ビニルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール３元コポリマー、塩化ビニリデン−ア
クリロニトリルコポリマー、カルボキシル化ポリ塩化ビ
ニル、ビスフェノールへのポリカルボネート等がある。

イオン担体としては一般構造式 ％式％ （ｐ−Ｐｈｎはｐ−フェニレン基を表す）Ｒはブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の
直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。

で表される　４−アルキル−α、α、α−トリフルオロ
アセトフェノン化合物が用いられる。

イオン担体溶媒としては、ジデシルフタレート。

ジイソデシルフタレート、ジオクチルフタレート。

ジオクチルセバケート、ジオクチルアジペート、トリオ
クチルトリメリテート、トリス（２−エチルヘキシル）
ホスフェート、ジオクチルグルタレート等の常温で液体
の種々のポリマー可塑剤を用いることができる。イオン
選択層にはさらにイオン交換体が含まれていてもよい。

イオン交換体は炭酸イオンと選択的に交換し得る第４級
アンモニウム塩のような物質が好ましい。第４級アンモ
ニウム塩の例とし゛Ｃ，トリオクチルメチルアンモニウ
ムクａリド、トリオクチルプロピルアンモニウムクロリ
ド、トリオクチルメチルアンモニウムプロミド。

トリオクチルメチルアンモニウムヨーシト等がある。

イオン選択層にはこの他にサリチレート、ρ−７ミノサ
リチレート、ゲンチゼート等の妨害物質の影響を排除又
は軽減させるために、デシルベンゼン、ジフェニルエー
テル等を含有させることができる。

イオン選択層にはこの他に界面活性剤を含有させること
ができる。界面活性剤としては、オクチルフェノキシポ
リエトキシエタノール、ｐ−ノニルフェノキシポリグリ
シドール等のノニオン界面活性剤、ポリ（ジオクチルー
ヨーメチルフェニルシロキサン）等のポリシロキサン構
造を有するシリコーン系界面活性剤等を用いることがで
きる。

イオン選択層の成分被覆量は次のとおり。

ポリマーバインダー：約５．０ｇ／ｌ１１２〜約３０ｇ
／ｍ”イオン担体：約１．０ｇ／ｎ＋２〜約２５３／ｍ
”イオン担体溶媒：約１．０ｇ／Ｉ＋２〜約２５３／ｍ
２イオン交換体：約１００ｍｇ／ｗ＋２〜約１０ｇ／ｎ
＋”妨害物質排除成分二〇〜約５．０ｇ／ｍ２界面活性
剤：約１０ｍｇ／１２〜約２．５ｇ／鹸（被覆ｆ！ｋＯ
はその成分を含まないことを表す）イオン選択層は特開
昭５２−１４２５８４　、特開昭５６−９２４４２等に
記載の公知の方法に従って設けることができる。イオン
担体をイオン担体用溶媒に溶解させたものをポリマーバ
インダの溶液中に溶解或いは分散させたものを参照電極
の金属ハロゲン化物層の上に塗布し乾燥させてポリマー
バインダの溶液の溶媒を除去することにより形成するこ
とができる。ポリマーバインダの溶液に用いろる溶媒と
して、２−ブタノン、テトラヒドロフランをはじめ種々
の公知の有Ｉ！溶媒がある。

緩衝層は水性液体試料がその層に浸透した時にｐＨ値を
約７．５〜約９．５に維持するのに充分な量のｐＨ緩衝
剤成分が親水性ポリマーバインダ中に分散又は溶解含有
されている層である。緩衝層の充分な緩衝能力により号
すチレート、ｐ−アミノサリチレート、ゲンチゼート等
の妨害物質の影響を排除又は軽減させることができる。

用いつる緩衝剤としては２日本化学会編「化学便覧　基
礎編」（東京、丸善■、１９６６年発行）　１３１２−
１３２０頁＋　Ｒ，Ｍ、Ｃ，Ｄａｗｓｏｎ　ｅｔ　ａｔ
編ｒＤａｔａ　ｆｏｒＢ　ｉｏｃｈｅｍ＋１ｃａｌ　Ｒ
ｅ５ｅａｒｃｈＪ第５ｅａｒｃｈＪｒｄ　ａｔ　ｔｈｅ
ＣＩａｒｅｎｄｏｎ　Ｐ　ｒｅｓｓ、　１９６９年発行
）　４７６−５０８頁。

ｒ　Ｂ　ｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙＪ　５．４６７頁以降
（１９６６年）、　ｒＡｎａ−Ｉｙｔｉｅａｌ　Ｂｉｏ
ｃｈｅｍｉｓｔｒｙＪ　■１．３００−３１０頁（１９
８０年）等に記載のｐＨ緩衝剤系のうちで解離定数（ρ
Ｋａ）約８．０〜約９．０の範囲の公知の塩基物質の塩
を用いることができる。ｐＨ緩衝剤成分中の塩基として
はトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、ジェタノ
ールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパ
ンジオール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパ
ンジオール等、塩を形成するための酸としては、　ＨＸ
で表される酸（Ｈはプロトン、ＸはＣＯｇ−に対する応
答を著しく妨害しないＣドＪｒ−２Ｆ−＋ｌ−のような
アニオン）。

アクリル酸、ポリマースルホン酸等を用いることができ
る。Ｎ、Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン、
トリスくヒドロキシメチル）メチルアミノプロパンスル
ホン酸等の酸とＬ　ｉ　Ｏｉｌ　、　ＮａＯＨ等のアル
カリとの塩も用いることができる。

親水性ポリマーバインダとしては、ゼラチン。

アガａ−ス、セルロースエステル及びポリアクリレート
ーコーアクリルアミドーコーメタクリルアルコールなど
の合成ビニルポリマー等を用いることができる。緩衝層
には一般に、親水性ポリマーバインダ、　ｐＨ緩衝剤成
分の他に、界面活性剤及び可塑剤が含まれる。この他に
例えば親水性バインダとしてゼラチンを用いた場合等、
さらに増粘剤及び架橋剤（硬化剤又は硬膜剤；好ましい
例、ビス（ビニルスルホニルメチル）エーテル、ビス［
（ビニルスルボニルメチルカルボニル）アミノコメタン
等）を加えることができる。

緩衝層の成分被服量は次のとおり。

親水性ポリマーバインダ：約２．５ｇ／ｍ２〜約３０ｇ
／１ｌＩ２ｐＨ緩衝剤成分：約２０１１ＩＭｏ１／ｆｆ
１２〜約５００ｍＭｏ　ｌ　／ｍ２界面活性剤：約１１
０１１Ｉ／ｌｌ＋２〜約５．０ｇ／ｍ２可塑剤：０〜約
３．Ｏｙ、１ｍ２ 増粘剤：０〜約１．０ｇ／ｍ２ 架橋剤：０〜約１．０ｇ／ｍ２ （被覆ｆｆ１Ｏはその成分を含まないことを表す）本発
明の炭酸濃度測定用イオン選択電極及び炭酸濃度測定用
イオン選択電極対の構造及び層構成を図面を用いて説明
する。第１図は９本発明の炭酸濃度測定用イオン選択電
極対の１実施態様例である。導電性金属層２の中央部に
電気絶縁性支持体ｌに達する浅い切削溝６を設けて電気
的に絶縁した１組の炭酸濃度測定用イオン選択電極対１
０の切削溝に直交する向きからの切断面模式図である。

本発明の別の１実施態様例である炭酸濃度測定用イオン
選択電極の基本構造は第１図の切削溝６で切断した右側
（又は左側）半分で示される電極である。

金属層から緩衝層の間は水性液体試料が緩衝層に点着さ
れ湿潤した時に電気化学的接触が達成されるように接触
していればよいが、電極の製造工程中に裁断加工する際
に各層の間で剥離が起こらない強さでｔ！着されている
必要がある。電極は特開昭５２−１４２５８４．特開昭
５６＝９２４４２．特開昭５７−１７８５１゜特開昭５
８−１５６８４８．特開昭６０−２４３５５５等に記載
の製造方法に従って製造することができる。これらの方
法のうちで、特開昭６０−２４３５５５に記載の方法が
好ましい。すなわち、電気絶縁製支持体１の上に設けら
れた金属層２を縦にバイト等で切削して満６を設は金属
層を各々電気的に独立させ、その後金属層の表面に金属
ハロゲン化物層３を設け。

ついて共通の炭酸イオン選択層４を順次設けるイオン選
択電極の製造法である。この方法により。

電気化学的特性のよくそろった炭酸濃度測定用イオン選
択電極対１０を形成することができる。

電極を構成する各層の厚さは次の範囲である。

電気絶縁性支持体：約５註 金属ハロゲン化物層：約２０ＯｎＩＩＩ〜約１　、　０
　ｕｍ　。

炭酸イオン選択層：約５ｕｎ１〜約３０１．ＩｒＩ＋。

緩衝層：約５ｕｍ〜約３ＯＬ！Ｉ１１ 好ましいｌ態様例として，緩衝層の上に疎水性又は親水
性の弱い薄い保護被覆層を施し緩衝層表面の親水性を減
少させて緩衝層の緩衝能力を増大させることができる。

この態様に用いうる被覆層にはグリセロール等のポリオ
ール化合物を保湿剤として含むセルロースエステルやヒ
ドロキシプロピルセルロース等の合成セルロース等の疎
水性又は親水性の弱い有機ポリマーがあり，これらは有
機溶媒（エタノール、イソプロピルアルコール等）溶液
から被覆することができる。

保護被覆層の被覆量は次のとおりである。

ボイマー：約１００ｍｇ／ｍ２〜約５．０ｇ／ｍ２界面
活性剤：約１０ｍｇ／ｍ２〜約１．０ｇ／ｍ２保湿剤：
Ｏ〜約ＬＯｇ／ｍ２ 本発明の炭酸濃度測定用イオン選択電極（対）は特開昭
５８−２１１６４８，特開昭６１−１４５４５０，特開
昭６２−３９７５７等に記載の１本の多孔性ブリッジく
好ましい具体例：ポリエチレンテレフタレート繊維紡績
糸）と複数対（各層は異種）のイオン選択電極を配置固
定し，参照液と検体液の各１回の点着操作で１本の多孔
性ブリッジと複数対のイオン選択電極間を電気的に導通
させることができるように構成した多数種イオン同時測
定用ワンチップ型イオン活量測定器具に組み込むことが
できる。好ましい組み合わせとしては９例えばｔｐＨ電
極と炭酸電極のツインタイプやｐＨ電極とＣａ電極と炭
酸電極のトリブレットタイプ等がある。また、特開昭５
２−１４２５８４　。

米国特許４　０５３　３８１等に記載の１種イオン測定
用イオン活量測定器具に組み込むこともできる。

炭酸濃度の測定は特開昭５８−２１１６４８，特開昭６
０−　２４３５５５等に記載の方法で実施できる。測定
電極（一方の電極）に水性液体試料の約ｓｕ＋、〜約１
００μＬの範囲の液滴，参照電極（他方の電極）に既知
炭酸イオン濃度の参照液の約５μＬ〜約１００吐の範囲
の液滴をそれぞれ点着し付着させ，測定電極と参照電極
を直接又は多孔性液分配部材（目の粗い布等）を介して
結ぶ多孔性ブリッジ（図示せず）中に両液を浸透させ、
そこで両液の界面を接触させて電気的導通させ、電極対
の各金属層２の露出領域に、電位差測定装置のプローブ
（図示せず）を電気的に接触させ閉回路を形成して電位
差を測定し、測定された電位差から検量線により炭酸イ
オン濃度（又はイオン活量）に換算する。この測定操作
は特開昭６０−１５５９６３等に記載の分析装置を用い
るで容易な操作で高精度の測定を実施することができる
。

［発明の効果］ 本発明の水性液体試料中の炭酸濃度をボテンシオメトリ
カルに測定するための炭酸濃度測定用イオン選択電極（
対）は次のような特徴を有する。

■充分な緩衝能力のある緩衝層を有するので測定前に水
性液体試料を予め緩衝し調整しておくことも緩衝剤を添
加して、ｐＩ値を固定しておくことも不要なばかりでな
く、サリチレート、ｐ−７ミノサリチレート、ゲンチゼ
ート等の妨害物質による悪影響（測定誤差）が排除又は
著しく減じられる。

■特開昭５６−９２４４２等に記載のような親水性ポリ
マーバインダー中に電解質が含有されている電解質層を
有するイオン選択電極に比べ経時安定性が極めてよい。

■ＣＯ弓−又は）ＩＣＯ３−イオン濃度を再現性良く正
確に定量できるので、高い精度が要求される臨床検査分
野等の定量分析に使用できる。

■特開昭５６−９２４４２等に記載の炭酸濃度測定用イ
オン選択の電極に比べて、電解質層がないことに特徴が
あるが、！！遣方法は電解質層がある電極と同様であり
、従って、電解質層の設置工程が省略できるだけに製造
工程が簡単で製造コストも低減でき経済的にも有利であ
る。

■工歪亘 実施例１ 表面に厚さ約８００ｎｍの銀層が蒸着された厚さ＋８０
−９幅３２ｍｒａの平滑表面のポリエチレンテレフタレ
−）　（ＰＥＴ）シート（支持体）を用意した。１対の
電極として働くように蒸着銀層の中央部をバイトにより
幅約０．５ｍｍでＰＥＴシートの表面から約１０ｕｍの
深さの浅いＵ字型溝を切削して電気的に絶縁した。

ついで前記蒸着銀層の両端部各約５ｆｆｌＩ１１をポリ
塩化ビニルを主固形成分とする液状高分子レジスト膜て
被覆し乾燥してレジスト被膜を設けた。ついて銀層の表
面を塩酸１６ｍＭｏｌ／Ｌ、重クロム酸カリウム３６ｍ
Ｍｏ　Ｉル含有水溶液（酸化−ハロゲン化処理液）で約
６０秒処理し水洗乾燥して、蒸着銀層の表面部分に塩化
銀層を形成させてフィルム状の銀−塩化銀内部参照電極
を作成した。次に塩化銀層の上に直接下記の成分被覆量
の炭酸イオン選択層をメチルエチルケトン溶液から塗布
し乾燥させて形成した。

次にイオン選択層の上に下記の成分被覆量の緩衝層を水
溶液から塗布し乾燥して第１図に示す断面模式図の本発
明の炭酸濃度測定用イオン選択電極フィルム対（Ｂ）を
作成した。別に緩衝層を設けない炭酸イオン選択電極フ
ィルム対（Ａ）を作成し、これをコントロールとした。

・・　　　　　　　　　　□２ 塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー （化学組成比９０：１０）　　　　　　　　８．０ｇ塩
化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール３元コポリマ
ー（化学組成比９１：３：６）　　　ｓ、ｏｇ４−ドデ
シルトリフルオロアセトフェノン８．０ｇ ジオクチルフタレート　　　　　　　８．０８トリオク
チルメチルアンモニウムクロリド３．２ｇ ポリシロキサン系界面活性剤　　　２０ｍ８１１１辺滅
上玉１１ｎ１」」〕 アクリレート−アクリルアミド−メタクリル−アルコー
ル３元コポリマー く化学組成比１０：８７：３）　　　　　　　１５．０
ｇ２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−】、３−プロパ
ンジオール　　　（８４ｍＭｏｌ）ＩＯ，２ｇ２−アミ
ノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール
−ＨＣｌ塩（８４ｍＭｏｌ）１３．３ｇノニルフエノキ
シボリグリシトール （平均ｌＯグリシドール単位含有）　　　２．０ｇ前記
電極対（Ａ）及び（Ｂ）を用い示差法で、第１表に示す
３水準の検体（人血清）について点着量１５μＬ、測定
時間１０分で発現電位差測定比較試験を行った。

その結果２両電極ともＮｅｒｎｓｔの理論値（−２９ｍ
Ｖ／ｄｅｃ　）に極めて近い電位勾配（−２６ｍＶ／ｄ
ｅｃ）が得られた。

第　　１　　表 検体番号　　　　　　１１　　　１２　　　　１３炭酸
含有量（蛯ｏｆ）　　９．５　　２０．５　　　３５．
８ｐｌ（７，２９７，４０７，６５ 測定電位（ｍＶ） 電極対（Ａ）　　　　　２５．２　　１５．８　　　３
．４電極対（Ｂ）　　　　　　４．１　　−４．２　　
−１０．５比較例１ 実施例１の電極フィルム対（Ａ）作成過程において塩化
銀層とイオン選択層との間に下記の成分被覆量の電解質
層を水溶液から塗布し乾燥して設けたほかは実施例１と
同様にして比較電極フィルム対（Ｃ）を作成した。

＋　　　　　　ｍ２と 脱イオン化ゼラチン　　　　　　　　　５．０ｇＮａＣ
ｌ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．９ｇＫ
Ｃｌ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．６
ｇノニルフエノキシボリグリシドール （平均１０グリシド一ル単位含有）　　　３０ｍｇ電極
対（Ａ）及び（Ｃ）を約２３℃相対湿度約５０％の室内
に露出状態で１時間放置した後、電極からイオン選択層
を剥ぎとったところ、電極（Ｃ）ではＴ、極（Ａ）より
容易にかつ乱れなしにイオン選択層を剥ぎとることがで
きた。この実験から電極（Ｃ）の電解質層とイオン選択
層との接着性はあまり良くなく弱いことが明らかになっ
た。

比較例２ 実施例１の電極フィルム対（Ａ）作成過程で下記の成分
被覆量の緩衝層を水溶液から塗布し乾燥して設けたほか
は実施例１と同様にして比較電極対（Ｄ）を作成した。

′−１Ωｉ］已Ｕ 脱イオン化ゼラチン　　　　　　　　１５．０ｇ２−ア
ミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオー
ル　　　（８４ｍＭｏ　！　）　１０．２ｇ２−アミノ
−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール−
）１ｃＩ塩（８４非ｏｆ）１３．３ｇノニルフエノキシ
ボリグリシドール （平均１０グリシド一ル単位含有）　　　２．０ｇ電極
対（Ｄ）を用い、第２表に示す炭酸濃度の異なる４水準
の管理血清について、実施例１と同様にして発現電位差
測定試験を行ったところ、第２表に示すとおり理論値に
近い電位勾配が得られた。

第２表　　　電極対（Ｄ）の発現電位差検体番号　　　
　２１　　２２　　　２３　　　２４炭酸含有ｍ（ｍＭ
）　　９．３　１５．５　　２４．６　　４０．２電位
（ｍＶ）　　　　−０，８−６，７−１２，２−１８，
０別に電極対（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）を用い、ｉ！！ｉ
度４ｍＭｏ　ｌのナトリウムサリチレート、又は濃度４
ｍＭｏｌのナトリウムサリチレートを加えて調製された
妨害成分含有人血清を用いて、未添加のものとの電位差
（ΔｍＶ）を測定し妨害物の影響を調へたところ第３表
に示す結果かえられた。第３表のデータから緩衝層を有
する電極対（Ａ）及び（Ｄ）は緩衝層を有しないコント
ロールの電極対（Ｂ）に比へ妨害物の影響が減じている
ことが明らかである。

第３表 電極対（Ｄ）電極対（Ａ）　　電極対（Ｂ）妨害物　　
　　　（ΔｍＶ）　　　（ΔｍＶ）　　　（ΔｍＶ）サ
リチレート　　　−７，６−１１，５−５６，０ゲンチ
ゼート　　　−６，２−８，４−１３，８

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の炭酸濃度測定用イオン選択電極の１実
施態様例である。導電性金属層の中央部に電気絶縁性支
持体に達する浅い切削溝を設けて電気的に絶縁した１組
の炭酸濃度測定用イオン選択電極対の切削溝に直交する
向きからの切断面模式図である。０内は実施例１に記載
の態様例における層を表わす。 ｌ　電気絶縁性支持体（ＰＥＴシート）２　導電性金属
Ｎ（蒸着銀層） ３　導電性金属のハロゲン化物Ｎ（塩化銀層）４　炭酸
イオン選択層 ５　緩衝層 ６　切削溝 １０　　炭Ｍ濃度測定用イオン選択電極対特許出願人　
富士写真フィルム株式会社第１図 手続補正書 １．７′。 ・、” 昭和６３年　１月２２日

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）絶縁性支持体の上に導電性金属層、前記導電性金
   属のハロゲン化物層、イオン担体を含む炭酸イオン選択
   層、及びｐＨ緩衝剤組成物を含む親水性ポリマーバイン
   ダからなる緩衝層をこの順に積層してなる炭酸濃度測定
   用イオン選択電極。
2. （２）絶縁性支持体の上の導電性金属層が前記支持体に
   達する溝により電気的に絶縁されており、前記溝に対向
   して１対の前記導電性金属のハロゲン化物層、前記溝を
   埋めかつ前記ハロゲン化物層の表面を覆って共通に設け
   らているイオン担体を含む炭酸イオン選択層、及び前記
   イオン選択層の上に共通に設けらているｐＨ緩衝剤組成
   物を含む親水性ポリマーバインダからなる緩衝層をこの
   順に積層してなる実質的に電気的に絶縁された炭酸濃度
   測定用イオン選択電極対。