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JPS63217821A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

Info

Publication number
JPS63217821A
JPS63217821A JP62051362A JP5136287A JPS63217821A JP S63217821 A JPS63217821 A JP S63217821A JP 62051362 A JP62051362 A JP 62051362A JP 5136287 A JP5136287 A JP 5136287A JP S63217821 A JPS63217821 A JP S63217821A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
block
switch
semiconductor integrated
integrated circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62051362A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidetake Fujii
藤井 秀壮
Shozo Saito
斎藤 昇三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP62051362A priority Critical patent/JPS63217821A/ja
Priority to US07/164,407 priority patent/US4896055A/en
Priority to KR1019880002308A priority patent/KR910003147B1/ko
Priority to DE3851847T priority patent/DE3851847T2/de
Priority to EP88301976A priority patent/EP0283186B1/en
Publication of JPS63217821A publication Critical patent/JPS63217821A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体集積回路(IC)に係り、特に機能上
回等な回路ブロックが複数個設けられている集積回路チ
ップあるいは半導体ウェハ上に形成され、電源電流異常
を起した回路ブロックを非活性化すること罠よって残シ
の回路ブロックを使用可能圧してチップを救済するため
のチップ救済回路に関する。
(従来の技術) 半導体メモリにおいては、予備のメモリセルあるいはメ
モリセルアレイの予備行、予備列を設けておき、不良セ
ルあるいは不良行、不良列に代えて使用する冗長技術が
採用されている。ところで、論理型ICなどでは、機能
上回等であって互いにほほ独立に使用される回路ブロッ
ク(たとえばシフトレジスタ)が複数個設けられること
が多く、通常は各ブロックに電源線、接地線および複数
の入出力信号線が接続される。このようなICにおいて
は、あるブロックが単に機能不良であれば、そのブロッ
クを使わない、あるいは使用に際して選択しなければよ
い。しかし、第9図に示す集積回路のように、各回路ブ
ロック81〜8nの少なくとも電源線、接地線がチップ
上の共通の電源用主配線8ノ、接地用主配線82からそ
れぞれ分岐して接続されている場合であって、しかもあ
る回路ブロックが電源電流異常を起している場合、チッ
プ全体の電流も異常になシ、他の回路ブロックは正常で
あっても使用不能となる。この場合の対策としては、電
流異常ブロックを前記主配線81または82から切9離
せばよいが、このとき問題になるのは、一般に配線幅が
広い電源線をどのようにして切断するかである。たとえ
ば第10図に示すように、金属配線からなる電源主配線
91と回路ブロック内の金属配線からなる電源配線92
とが〜10μm程度の間隔で並んでおシ、上記雨上線9
1。
92相互間を接続するためにポリシリコン膜93が形成
されているものとする。ここで、上記ポリシリコン膜9
3は雨上1g91.92相互間の接続抵抗を数Ω程度以
下に下げるために大きな幅(〜100μm程度)に設定
される。このような大きな幅のポリシリコン膜93を切
断するには、レーザービームを直接に照射しながら走査
することが考えられるが、長時間を賛するので量産性が
悪く、相当量の熱が発生することで半導体基板や前記型
原生配線91の損傷が起こり易く、信頼性の低下あるい
は切断工程での致命的な不良をまねいてしまうという問
題がある。
また、前記したような電流異常ブロックを同定すること
は非常に困難である。即ち、ある回路ブロックを選択し
て特定の動作モードとしたことで初めて電流異常が起る
場合には、電流異常ブロックの同定が容易であるが、ど
のような動作モードにおいても電流異常が生じる場合に
は、上記同定が不可能であシ、結果としてチップの救済
が不可能である。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、上記したように複数の回路ブロックの電源線
および接地線がチップ上の共通の電源主配線および接地
主配線から分岐接続されている場合に、電流異常ブロッ
クに分岐接続されている電源配線をレーザービームによ
9切断することに伴う多くの問題点、および上記電流異
常ブロックの同定が困難であるという問題点を解決すべ
くなされたもので、電流異常ブロックを容易に同定でき
、チップ上あるいはウェハ上の電流異常ブロックを電源
主配線あるいは接地主配線から簡便に且つ高い量産性お
よび信頼性の下に電気的にオフ状態に設定でき、チップ
あるいはウェハの使用可能歩留シを大幅に向上し得る半
導体集積回路を提供することを目的とする。
[発明の構成コ (問題点を解決するだめの手段) 本発明の半導体集積回路は、ICチツfあるいは半導体
ウェハ上の共通の電源主配線あるいは接地主配線にそれ
ぞれ同等な機能を有する複数の回路ブロックの電源線あ
るいは接地線がそれぞれスイッチ回路を介して接続され
、上記電源主配線の電源電位および上記接地主配線の接
地電位が供給され、前記各回路ブロック毎にスイッチ回
路をオン/オフ制御可能なスイッチ制御回路を有するこ
とを特徴とする。
(作用) 各ブロック毎に電源主配線あるいは接地主配線との接続
をオン/オフ制御できるので、電流異常ブロックを容易
に同定することができる。また、上記オン/オフ制御を
行うためのスイッチ回路を用いるので、電源配線を直接
にレーザービーム照射により切断する場合に比べて簡便
に且つ高い量産性および信頼性の下で切断でき、チップ
あるいはウェハの使用可能歩留シを大幅に向上させるこ
とができる。
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
第1図はLSIチップ1の一部を示しておシ、21〜2
nは機能上回等であって互いにほぼ独立に使用される複
数の回路ブロック、3および4はLSIチップ1上の共
通の電源主配線および接地主配線、5は入出力用主配線
であって、図面の簡略化のために1本のみ示している。
上記各ブロック21〜2nは、入出力線が上記入出力用
主配線5に接続されており、電源線および接地線は各対
応して前記共通の電源主配線3および接地主配線4に接
続されている。この場合、上記電源線および接地線のう
ち少なくとも一方(たとえば電源線)に対応して接続さ
れる電源主配線3の分岐接続部にはスイッチ回路61〜
6nが直列に挿入されている。さらに、上記スイッチ回
路61〜6nをそれぞれ制御するためのスイッチ制御回
路71〜7nと、各ブロック毎の電流異常の有無をテス
トするためのテスト回路8とが設けられている。
次に、上記ブロック21〜j n sスイッチ回路61
〜6nおよびスイッチ制御回路71〜7nのうちの1組
を代表的に取シ出し、第2図(、)を参照して詳細に説
明する。即ち、回路ブロック21は、たとえばシフトレ
ジスタ21と、このシフトレジスタ2ノにシフトA?ル
スを供給するシフト制御回路22とからなり、このシフ
ト制御回路22は選択信号入力によシ選択されたときく
クロック入力に基いてシフトノ譬ルスを出力するもので
ある。また、スイッチ回路61は、電源主配線3と上記
回路ブロック21の電源線との間に直列に接続されたス
イッチ用トランジスタ(たとえばPチャネルMO8)ラ
ンジスタ)からなる。また、スイッチ制御回路71は、
前記テスト回路8からブロック毎に与えられるテスト制
御信号TESTiが入力するインバータ23と、電源主
配線3から電源電位が与えられる電源ノードと接地端と
の間に直列に接続された抵抗24、グロダラム可能な素
子(たとえばレーザービームの照射による切断が可能な
フユーズ25)およびNチャネルトランジスタ26とか
らなり、このNチャネルトランジスタ26のダートに前
記インバータ23の出力端が接続されており、上記抵抗
24、フユーズ25の接続点(制御出力端27)が前記
スイッチ用トランジスタ6五のダートに接続されている
。従って、7ユーズ25が切断されていない(プログラ
ムが行われていない)場合には、テスト制御信号TES
Tiが低レベルのとき(ブロック選択時)にインバータ
23の出力(高レベル)によりNチャネルトランジスタ
26がオンになり、制御出力端27が低レベルになシ、
スイッチ用トランジスタ61がオンになシ、回路ブロッ
ク2iは電源が供給されて動作可能状態になる。また、
上記場合にテスト制御信号TESTiが高レベルのとき
には、Nチャネルトランジスタ26がオフになり、制御
出力端27は高レベルになシ、スイッチ用トランジスタ
61はオフになり、回路ブロック21は電源が供給され
ないので動作不能状態になる。これに対して、フューズ
25が切断されている(プログラムが行われている)場
合には、テスト制御信号TEST lの論理レベルに無
関係に制御出力端22が高レベルになり、回路ブロック
21は動作不可能状態になる。なお、上記スイッチ制御
回路71のインバータ23は、テスト制御信号入力の論
理レベルを予め反転して与えればそれを省略することが
できる・また、スイッチ制御回路71の抵抗24は、通
常オン型のMOS )ランジスタで代用することができ
る。
上記LSIチッflK、あっては、その製造過程におけ
るダイソート時に各ブロック21〜2n毎に各種のテス
トを行い、このとき電流異常として判定されたブロック
に対しては対応するスイッチ回路61がオフ状態になる
ように対応するスイッチ制御回路月のフェーズ25をレ
ーザービーム照射により切断しておくことによって、他
の正常な回路ブロック2iを使用可能なチップとして救
済することが可能になる。上記テストは、ある1つのブ
ロックに対応するテスト制御信号TEST iを低レベ
ルとし、残シのブロックにそれぞれ対応するテスト制御
信号TEST iを全て高レベルとするようにテスト回
路80機能を設計しておけばよい。
従って、上記LSIチップによれば、各ブロック毎に電
源主配線との接続をオン/オフ制御できるので、電流異
常ブロックを容易に同定することができる。また、電流
異常ブロックと電源主配線との接続をオフにするために
は、スイッチ制御回路71のフユーズ25を切断すれば
よく、7.−ズおよびその切断技術は半導体メモリの冗
長度救済等の分野で確立しているので、これを利用すれ
ば高い量産性および信頼性の下で実現できる。即ち、た
とえば第2図(b)に示すように金属配線28と29と
の間に接続されているたとえば〜10μmの長さおよび
約2μmの幅を有するポリシリコンフユーズ30を用い
た場合、レーザービームを短時間照射して切断すること
ができる。
なお、本発明は上記実施例に限らず、種々の変形実施が
可能である。即ち、スイッチ回路61をブロック21の
接地線と接地主配線4との間に挿入するようにしてもよ
く、たとえば、第3図に示すよに、スイッチ回路として
Nチャネルトランジスタ31を用い、前記したようなス
イッチ制御回路71の出力端と上記トランジスタ31の
ダートとの間にインバータ32を挿入するようにしても
よい。
また、ブロック21と電源主配線3、接地主配線4との
間にそれぞれスイッチ回路を挿入するようにしてもよい
が、一般にチップの半導体基板電位が接地電位なら第2
図(、)に示したように電源主配線3との間にスイッチ
回路を挿入し、上記基板電位が電源電位なら第3図に示
したように接地主配線4との間にスイッチ回路を挿入す
ることが好ましい。
また、スイッチ制御回路71としては、第4図(、)に
示すように各ブロックに共通のテスト制御信号TEST
とブロック選択信号8LCTとのノア論理をとって制御
出力端22の出力を制御するようにしてもよい。即ち、
上記第4図(、)の制御回路は第2図(a)に示したよ
うなスイッチ制御回路71のNチャネルトランジスタ2
6に並列にブロック選択信号5LCTがダートに与えら
れるNチャネルトランジスタ41を接続したものであり
、負荷抵抗24をダートが接地された通常オン型のPチ
ャネルトランジスタで代用しておシ、ブロック毎のテス
ト制御信号TENT iに代えて各ブロックに共通のテ
スト制御信号TESTを用いている。上記制御回路にお
いては、テスト制御信号TE8 Tが低レベルであると
トランジスタ26がオンになるが、上記テスト制御信号
TESTが高レベルのときであってもブロック選択信号
5LCTとして高レベルが与えられるとトランジスタ4
1がオンになる。従って、フユーズ25が切断されてい
ない場合には、上記トランジスタ26゜41のいずれか
一方がオンになると、制御出力端27が低レベルになる
ので、対応するブロックの電源接続がオン状態に制御さ
れるようになる。なお、上記ブロック選択信号5LCT
は、対応するプロツクを選択するときに上記したように
高レベルになり、非選択時には低レベルになるものであ
り、対応するブロックから取シ出してもよく、あるいは
入出力主配線(第1図5)からブロック指定アドレス信
号等が与えられることによってスイッチ制御回路内で生
成するようにしてもよい。
また、第4図(b)はスイッチ制御回路のさらに他の例
を示しておシ、各ブロックに共通のテスト制御信号TE
STの逆相信号とブロック選択信号とのノア論理をとり
、このノア出力とフューズ回路の出力とのナンド論理を
とることによって制御出力端42の出力の立ち上シ速度
を速めている。即ち、電源主配線3と接地端との間にP
チャネルトランジスタ42.43およびNチャネルトラ
ンジスタ44.45が直列に接続されてお)、上記トラ
ンジスタ43.44の接続点(制御出力端42)と電源
主配線3との間にPチャネルトランジスタ46が接続さ
れ、前記トランジスタ45に並列にNチャネルトランジ
スタ47が接続されている。48はテスト制御信号TE
ST入力を反転するインバータであり、その出力端は上
記トランジスタ42.45のゲートに接続されている。
49はブロック選択信号5LCT入力をラッチするラッ
チ回路であり、その出力端は前記トランジスタ43.4
7のダートに接続されている。さらK、電源主配線3と
接地端との間にフユーズ50および抵抗51が直列に接
続されており、このフューズ50と抵抗51との接続点
は前記トランジスタ44.46のダートに接続されてい
る。なお、上記ラッチ回路49は、ブロック選択信号5
LCTが当該信号により選択指定されるブロックからの
出力である場合、前記制御出力端42が高レベルになっ
てそのブロックに電源が供給されなくなると、上記ブロ
ック選択信号S LCTの状態が不定になってしまうの
で、そうなる前にテスト制御信号TESTによってラッ
チしておくためのものである。
ここで、上記したようにブロック選択信号5LCTとし
て当該信号によシ選択指定されるブロックからの出力を
用いる場合における各ブロックのテスト方法の一例を第
5図のフローチャートを参照して説明する。先ず、1つ
のブロックを選択し、次にテスト制御信号TESTを高
レベルにする。このとき、ラッチ回路49の出力によ#
)Nチャネルトランジスタ47がオンになシ、制御出力
端42は低レベルになり、上記1つのブロックのみ電源
が供給されている。なお、テスト時にはフューズ5゜は
オン状態のままであシ、Nチャネルトランジスタ44お
よびPチャネルトランジスタ46はゲートにフューズ5
0を介して電源電圧vDD(高し勺)が与えられている
ので各対応してオン、オフ状態になっている。上記選択
された1つのブロックについて各種のテストを行い、電
流異常の有無を判定し、判定データを記憶する。次に、
テスト制御信号TENTを低レベルにし、各スイッチ制
御回路におけるNチャネルトランジスタ45をオンにし
て制御出力端42を低レベルにし、各ブロックとも電源
が供給された初期状態に戻す。次に、再び上記と同様に
別の1つのブロックを選択してテストを行うという操作
を繰シ返し、全ブロックのテストを終了する。そして、
判定データに基いて電流異常ブロックの電源供給スイッ
チ用トランジスタをオフにするために対応するスイッチ
制御回路におけるフューズ50を切断し、Pチャネルト
ランジスタ46のダートに接地電位(低レベル)が加わ
るようにし、その制御出力端42が高レベルになるよう
にする。
なお、前記第2図(a) K示した実施例においては、
スイッチ用トランジスタ61がオフになったときにブロ
ック21の電源電位が不定になるが、これを避けるため
にはたとえば第6図に示すようにブロック21の電源ノ
ードと接地端との間にNチャネルトランジスタ6ノを接
続し、そのダートにスイッチ制御回路71の出力5OF
Fを与えるようにすれはよい。
これによって、スイッチ用トランジスタ6iがオフにな
ると同時に上記トランジスタ61がオンになシ、ブロッ
ク21の電源ノードが接地電位に固定されるので好まし
い。また、上記スイッチ用トランジスタ61がオフにな
ったときにブロック21の出力信号線の電位も不定にな
シ、この出力信号線が複数個のブロックに共通に接続さ
れている場合には好ましくない。これを避けるためには
、たとえば第7図(、)に示すように出力信号線に直列
にCMOSスイッチ(Pチャネルトランジスタ71とN
チャネルトランジスタ72との並列接続からなる)70
を挿入してスイッチ制御回路からの相補的な出力5OF
F 、 5OFFによシ制御するようにしてもよい。
あるいは、第7図(b)に示すように、ブロック21内
のたとえばNチャネルの出力トランジスタ73゜74の
ダートと接地端との間に制御用トランジスタ75.76
を接続し、このトランジスタ75゜76のf−)にスイ
ッチ制御回路の出力5OFFを与えることによって、出
力オフ時に上記トランジスタ75.76をオンにして出
力トランジスタ73゜74のダート電位を接地電位に固
定して出力オフ状態を保持するようにしてもよい。
さらに、本発明は上記したようなLSIチップに限らず
、半導体ウェハ上に同等な機能を有する複数の回路ブロ
ックが形成されると共にウェハ上の共通の電源主配線あ
るいは接地主配線が形成されている所謂フルウェハ(F
ULL WAFER)集積回路にも適用可能であシ、そ
の−例として第8図にフルウェハメモリ(FULL W
AFERMEMORY )のウェハ1oを示している。
ここで、11・・・はそれぞれ同等なメモリ機能を有す
るメモリブロック(回路ブロック)であり、12は上記
メモリブロック11・・・に共通の電源主配線および接
地主配線が形成された主配線領域である。
[発明の効果コ 上述したように本発明の半導体集積回路によれば、IC
チップあるいは半導体ウェハ上の電流異常ブロックを容
易に同定でき、電流異常ブロックを電源主配線あるいは
接地主配線から簡便に且つ高い量産性および信頼性の下
に電気的にオフ状態に設定できるので、チップあるいは
ウェハの使用可能歩留シを大幅に向上させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体集積回路の一実施例を示す構成
説明図、第2図(、)は第1図中のブロック、スイッチ
回路およびスイッチ制御回路の1組を代表的に取シ出し
てその一具体例を示す回路図、第2図(b)は同図(、
)中のフューズの一興体例を示す平面パターン図、第3
図は本発明の他の実施例におけるブロック、スイッチ回
路およびスイッチ制御回路の1組を代表的に取シ出して
示す回路図、第4図(、) (b)はそれぞれ第2図中
のスイッチ制御回路の変形例を示す回路図、第5図は第
4図(b)のスイッチ制御回路を用いた第1図の集積回
路のテスト方法の一例を示すフローチャート、第6図は
本発明のさらに他の実施例におけるブロック、スイッチ
回路およびスイッチ制御回路の1組を代表的に示す回路
図、第7図(、) (b)はそれぞれ第2図、第3図、
第6図中のブロックの変形例を示す回路図、第8図は本
発明の他の実施例を示す構成説明図、第9図は従来の半
導体集積回路を示す構成説明図、第10図は第9図中の
回路ブロックと電源主配線または接地主配線との間にレ
ーザービームによる切断が可能なポリシリコン膜を設け
た場合の平面ツクターンを示す図である。 1・・・チップ、2t・・・回路ブロック、3・・・電
源主配線、4・・・接地主配線、61・・・スイッチ回
路、7i・・・スイッチ制御回路、25.30・・・フ
ューズ、61゜71.12.75.76・・・MOS 
)ランジスタ。 出願人代理人  弁理士  鈴 江 武 彦(a) 第5図 第4図 第8図 第9図 第10図

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体集積回路チップあるいは半導体ウェハ上の
    共通の電源主配線あるいは接地主配線にそれぞれ同等な
    機能を有する複数の回路ブロックの電源線あるいは接地
    線がそれぞれスイッチ回路を介して接続され、上記電源
    主配線の電源電位および上記接地主配線の接地電位が供
    給され、前記各回路ブロック毎にスイッチ回路をオン/
    オフ制御可能なスイッチ制御回路を有することを特徴と
    する半導体集積回路。
  2. (2)前記スイッチ回路はスイッチ用MOSトランジス
    タであることを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記
    載の半導体集積回路。
  3. (3)前記スイッチ制御回路はプログラム可能な素子を
    有し、このプログラム可能な素子がプログラムされてい
    ない状態では対応する回路ブロックを選択するための信
    号の論理レベルに応じて対応するスイッチ回路をオン/
    オフ制御し、上記プログラム可能な素子がプログラムさ
    れている状態では対応するスイッチ回路をオフ状態に制
    御する制御出力を発生するように構成されていることを
    特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載の半導体集積
    回路。
  4. (4)前記プログラム可能な素子はレーザービームの照
    射により切断可能なフューズであることを特徴とする前
    記特許請求の範囲第3項記載の半導体集積回路。
  5. (5)前記スイッチ制御回路は、前記回路ブロックを選
    択するための信号によって制御出力が定まるほか、各回
    路ブロックを同時に選択するための共通テスト制御信号
    が活性レベルのとき対応するスイッチ回路をオン状態に
    制御する制御出力を発生するように構成されていること
    を特徴とする前記特許請求の範囲第3項記載の半導体集
    積回路。
  6. (6)前記スイッチ回路がオフ状態に制御されたときに
    、上記スイッチ回路に接続されている回路ブロックの電
    源線あるいは接地線を一定電位に固定するための手段を
    さらに有することを特徴とする前記特許請求の範囲第1
    項記載の半導体集積回路。
  7. (7)前記スイッチ回路がオフ状態に制御されたときに
    上記スイッチ回路に接続されている回路ブロックの出力
    用MOSトランジスタのゲート電位を一定電位に固定し
    、出力オフ状態を保持する手段をさらに具備することを
    特徴とする前記特許請求の範囲第1項または第6項記載
    の半導体集積回路。
  8. (8)前記複数の回路ブロックはそれぞれメモリ機能を
    有するメモリブロックであつて前記半導体ウェハ上に形
    成されており、前記集積回路はフルウェハメモリである
    ことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載の半導
    体集積回路。
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