JPS63188891A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS63188891A JPS63188891A JP62020703A JP2070387A JPS63188891A JP S63188891 A JPS63188891 A JP S63188891A JP 62020703 A JP62020703 A JP 62020703A JP 2070387 A JP2070387 A JP 2070387A JP S63188891 A JPS63188891 A JP S63188891A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
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- cell array
- memory cell
- bit line
- blocks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高速な続出し/書込みサイクルが可能な半導
体記憶装置に関するものである。
体記憶装置に関するものである。
従来のダイナミック型MO3半導体記憶装置のメモリセ
ルアレイの構成例を第3図、第4図に示す。ダイナミッ
ク型MO3−RAMでは、その総消費電流のうちビット
線の充放電が占める割合が大きい。そこで、各アクティ
ブサイクルで、入力アドレスに関係するメモリセルアレ
イブロックのみ動作させ、他は動作させない(ビット線
をプリチャージ状態に保つ)こと(以下「メモリセルア
レイの部分動作」という)により、ビット線充放電電流
を半分に低減するなどのことが行なわれている。
ルアレイの構成例を第3図、第4図に示す。ダイナミッ
ク型MO3−RAMでは、その総消費電流のうちビット
線の充放電が占める割合が大きい。そこで、各アクティ
ブサイクルで、入力アドレスに関係するメモリセルアレ
イブロックのみ動作させ、他は動作させない(ビット線
をプリチャージ状態に保つ)こと(以下「メモリセルア
レイの部分動作」という)により、ビット線充放電電流
を半分に低減するなどのことが行なわれている。
第3図は、例えばIMビットダイナミックMO3−RA
Mの場合を示す。第3図において、1はコラムデコーダ
、2はロウデコーダ、3〜6はメモリセルアレイブロッ
クである。同図において、メモリセルアレイは外部ロウ
アドレス人力RA=rOJ、rlJにより分割されるて
いる。すなわち外部ロウアドレス人力RA= rOJは
メモリセルアレイブロック3.5に対応し、外部ロウア
ドレス人力RA=「1」はメモリセルアレイブロック4
,6に対応している。例えば、外部ロウアドレス人力R
A= rOJの場合、RA−rlJに対応するメモリセ
ルアレイブロック4.6は動作が不要であり、これらに
対しては、センスアンプは非活性状態を保ち、ビット線
はプリチャージ状態に保たれる。
Mの場合を示す。第3図において、1はコラムデコーダ
、2はロウデコーダ、3〜6はメモリセルアレイブロッ
クである。同図において、メモリセルアレイは外部ロウ
アドレス人力RA=rOJ、rlJにより分割されるて
いる。すなわち外部ロウアドレス人力RA= rOJは
メモリセルアレイブロック3.5に対応し、外部ロウア
ドレス人力RA=「1」はメモリセルアレイブロック4
,6に対応している。例えば、外部ロウアドレス人力R
A= rOJの場合、RA−rlJに対応するメモリセ
ルアレイブロック4.6は動作が不要であり、これらに
対しては、センスアンプは非活性状態を保ち、ビット線
はプリチャージ状態に保たれる。
メモリセルアレイブロック内のメモリセルアレイの様子
を第4図に示す。第4図において、BLO1丁LO,B
LI、BLIはビット線対、l/O0、l/O0.l/
O1.r7万ゴはデータ線対、SAO,SAIはビット
線対毎に配置され。
を第4図に示す。第4図において、BLO1丁LO,B
LI、BLIはビット線対、l/O0、l/O0.l/
O1.r7万ゴはデータ線対、SAO,SAIはビット
線対毎に配置され。
ビット線電位を検知・増幅するセンスアンプ、CGO,
σGO,CG1. σ百ゴはコラムアドレスに従って選
択されるコラム選択信号aをコラム選択線C8を介して
受はビット線対をデータ線対に接続するためのコラム選
択ゲートである。図示されていないが、上記ビット線対
と交差して複数のワード線が配置され、またビット線対
とワード線との交点にはメモリセルが配置されている。
σGO,CG1. σ百ゴはコラムアドレスに従って選
択されるコラム選択信号aをコラム選択線C8を介して
受はビット線対をデータ線対に接続するためのコラム選
択ゲートである。図示されていないが、上記ビット線対
と交差して複数のワード線が配置され、またビット線対
とワード線との交点にはメモリセルが配置されている。
例えば外部ロウアドレス人力RA= rOJの場合、メ
モリセルアレイブロック3中のワード線が1本選択状態
となり、メモリセルアレイブロック3中のビット線対例
えばBLO,BLOに信号電位が読み出された後、セン
スアンプ活性化信号φ、。
モリセルアレイブロック3中のワード線が1本選択状態
となり、メモリセルアレイブロック3中のビット線対例
えばBLO,BLOに信号電位が読み出された後、セン
スアンプ活性化信号φ、。
が立ち上がってセンスアンプSAOが活性化され、ビッ
ト線電位の検知・増幅が行なわれる。この後、外部コラ
ムアドレス入力CAに対応するコラムデコーダが選択さ
れ、上記ビット線対に対応するコラム選択線C8のうち
1本がrHJレベルとなる。
ト線電位の検知・増幅が行なわれる。この後、外部コラ
ムアドレス入力CAに対応するコラムデコーダが選択さ
れ、上記ビット線対に対応するコラム選択線C8のうち
1本がrHJレベルとなる。
これにより、ビット線対BLO,BLOがデータ線対l
/O0.1)00に接続され、ビット線対に対してデー
タ線対を通して外部からデータの入出力が行なわれる。
/O0.1)00に接続され、ビット線対に対してデー
タ線対を通して外部からデータの入出力が行なわれる。
メモリセルアレイプロ・7り4に対してはワード線はす
べて非選択状態であり、センスアンプ活性化信号φ、も
発生しない。
べて非選択状態であり、センスアンプ活性化信号φ、も
発生しない。
このような動作をメモリセルアレイブロック5に対して
も全く同様に行なう。この場合、メモリセルアレイブロ
ック6はメモリセルアレイブロック4と同様の動作とな
る。
も全く同様に行なう。この場合、メモリセルアレイブロ
ック6はメモリセルアレイブロック4と同様の動作とな
る。
従来の半導体記憶装置は、上述したように、ビット線対
へのデータ入出力線は、データ読出し時と書込み時とで
同一線を共用しており、従って、同一コラムアドレスに
対するデータ読出し/書込みのサイクルの時間が長くな
っていた。また、従来、メモリセルアレイの部分動作を
行なう場合には、非動作ブロック内のビット線、データ
I/O線およびコラム選択ゲートは休止状態を保ち、全
く利用されていなかった。
へのデータ入出力線は、データ読出し時と書込み時とで
同一線を共用しており、従って、同一コラムアドレスに
対するデータ読出し/書込みのサイクルの時間が長くな
っていた。また、従来、メモリセルアレイの部分動作を
行なう場合には、非動作ブロック内のビット線、データ
I/O線およびコラム選択ゲートは休止状態を保ち、全
く利用されていなかった。
従来のダイナミック型半導体記憶装置は以上のように構
成されているので、非動作ブロックのビット線、データ
線およびコラム選択ゲートは全く利用されないことにな
る。
成されているので、非動作ブロックのビット線、データ
線およびコラム選択ゲートは全く利用されないことにな
る。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的とするところは、非動作ブロックのコラム選択ゲ
ート、データ線およびビット線を利用して、高速な読出
し/書込みサイクルを実現するものである。
の目的とするところは、非動作ブロックのコラム選択ゲ
ート、データ線およびビット線を利用して、高速な読出
し/書込みサイクルを実現するものである。
このような目的を達成するために本発明は、複数のワー
ド線およびビット線と、これらの交点に位置するメモリ
セルから成るメモリセルアレイを有し、このメモリセル
アレイは複数のブロックに分割され、あるアクティブサ
イクル中には複数のブロックのうちの一部のみが動作す
る構成の半導体記憶装置において、動作する一部のブロ
ックのビット線対を隣り合う非動作ブロックのビット線
対とトランスファゲートを介して接続し、メモリセルへ
のデータ書込みは隣り合う非動作ブロックのビット線対
を介して行なうようにしたものである。
ド線およびビット線と、これらの交点に位置するメモリ
セルから成るメモリセルアレイを有し、このメモリセル
アレイは複数のブロックに分割され、あるアクティブサ
イクル中には複数のブロックのうちの一部のみが動作す
る構成の半導体記憶装置において、動作する一部のブロ
ックのビット線対を隣り合う非動作ブロックのビット線
対とトランスファゲートを介して接続し、メモリセルへ
のデータ書込みは隣り合う非動作ブロックのビット線対
を介して行なうようにしたものである。
本発明に係わる半導体記憶装置においては、非動作ブロ
ックのビット線、データI/O&?Iおよびコラム選択
ゲートは、隣接する動作ブロックのビット線にデータを
書き込むための書込み系とじて作用する。
ックのビット線、データI/O&?Iおよびコラム選択
ゲートは、隣接する動作ブロックのビット線にデータを
書き込むための書込み系とじて作用する。
本発明に係わる半導体記憶装置におけるメモリセルブロ
ックとコラムデコーダの一実施例を第1図に示す。第1
図において、TG、下ではトランスファゲートであり、
同図において第4図と同一部分又は相当部分には同一符
号が付しである。各ビット線BLO,BLOは、トラン
スファゲートTG、〒万を介して隣接メモリセルアレイ
ブロック4のビット線BLI、BLIと接続されており
、トランスフアゲ−)TO,TGのゲートにはコラム選
択線CSを介してコラム選択信号aが入力されている。
ックとコラムデコーダの一実施例を第1図に示す。第1
図において、TG、下ではトランスファゲートであり、
同図において第4図と同一部分又は相当部分には同一符
号が付しである。各ビット線BLO,BLOは、トラン
スファゲートTG、〒万を介して隣接メモリセルアレイ
ブロック4のビット線BLI、BLIと接続されており
、トランスフアゲ−)TO,TGのゲートにはコラム選
択線CSを介してコラム選択信号aが入力されている。
外部ロウアドレス人力RA= rOJの場合、メモリセ
ルアレイブロック3中のワード線が1本選択状態となり
、センスアンプ活性化信号φ、。が立ち上がってセンス
アンプSAOが活性化し、メモリセルアレイブロック3
内のビット線対BLO。
ルアレイブロック3中のワード線が1本選択状態となり
、センスアンプ活性化信号φ、。が立ち上がってセンス
アンプSAOが活性化し、メモリセルアレイブロック3
内のビット線対BLO。
BLO上の信号が検知・増幅される。この後、外部コラ
ムアドレス人力CAに対応するコラム選択線例えばC8
がrHJレベルとなる。このときデータ線対l/O0.
l/O0にはデータ続出し系、データ線対1)01.l
/O1にはデータ書込み系が接続される。これにより、
ビット線対BLO、BLOには、l/O0.l/O0を
介したデータ読出し系と、l/O1.l/O1.BLI
、BrゴおよびTG、下方を介したデータ書込み系とが
接続される。このように、同一ビット線対に対するデー
タ読出し系とデータ書込み系とが別系統で構成されるこ
とにより次のような利点が生じる。
ムアドレス人力CAに対応するコラム選択線例えばC8
がrHJレベルとなる。このときデータ線対l/O0.
l/O0にはデータ続出し系、データ線対1)01.l
/O1にはデータ書込み系が接続される。これにより、
ビット線対BLO、BLOには、l/O0.l/O0を
介したデータ読出し系と、l/O1.l/O1.BLI
、BrゴおよびTG、下方を介したデータ書込み系とが
接続される。このように、同一ビット線対に対するデー
タ読出し系とデータ書込み系とが別系統で構成されるこ
とにより次のような利点が生じる。
通常、ダイナミック型MO3−RAMでは、第2図に示
すような読出し/書込みサイクルが行なわれている。R
AS、CAS (第2図(a) 、 (b) )各々の
降下エツジでラッチされたロウアドレスRA、コラムア
ドレスCA(第2図(C))に対してデータ読出しが行
なわれた後に、ライトエネイブル信号WEを降下させ(
第2図(d))、同一アドレスにデータ書込みを行なう
。信号WEはrHJレベルで読出し、rLJレベルで書
込み動作である。
すような読出し/書込みサイクルが行なわれている。R
AS、CAS (第2図(a) 、 (b) )各々の
降下エツジでラッチされたロウアドレスRA、コラムア
ドレスCA(第2図(C))に対してデータ読出しが行
なわれた後に、ライトエネイブル信号WEを降下させ(
第2図(d))、同一アドレスにデータ書込みを行なう
。信号WEはrHJレベルで読出し、rLJレベルで書
込み動作である。
このような場合、従来例のようにデータ線が読出し/書
込み共用方式であると、完全にデータを読み出して後に
書込み系を活性化させる必要があるが、本実施例では、
両者の間にかなりの重なり期間を持たせることができ、
このようなデータ続出し/書込みサイクルを短くするこ
とができる。第2図(e)は読出しデータD。Uい第2
図(f)は書込みデータD!、を示し、第2図(e)の
TZはハイ・インピーダンス(Hi−Z)の期間、TA
はアクセス時間を示す。
込み共用方式であると、完全にデータを読み出して後に
書込み系を活性化させる必要があるが、本実施例では、
両者の間にかなりの重なり期間を持たせることができ、
このようなデータ続出し/書込みサイクルを短くするこ
とができる。第2図(e)は読出しデータD。Uい第2
図(f)は書込みデータD!、を示し、第2図(e)の
TZはハイ・インピーダンス(Hi−Z)の期間、TA
はアクセス時間を示す。
外部ロウアドレス人力RA=rlJの場合には、上記と
は逆に、データ線対l/O0.l/O0を書込み系、l
/O1.l/Ofを読出し系として使用すると、外部ロ
ウアドレス人力RA= rOJの場合と全く同様の動作
を行なうことができる。
は逆に、データ線対l/O0.l/O0を書込み系、l
/O1.l/Ofを読出し系として使用すると、外部ロ
ウアドレス人力RA= rOJの場合と全く同様の動作
を行なうことができる。
以上は、メモリセルアレイブロック3.4を例にとって
示したが、メモリセルアレイブロック5.6についても
全く同様の動作となる。
示したが、メモリセルアレイブロック5.6についても
全く同様の動作となる。
このように、本実施例では、非動作ブロックに属するビ
ット線、コラム選択ゲートおよびデータI/O線を有効
に利用することにより、回路積成を複雑化せずに、デー
タ読出し系と書込み系とを分離して、高速な読出し/書
込みサイクルが実現できる。
ット線、コラム選択ゲートおよびデータI/O線を有効
に利用することにより、回路積成を複雑化せずに、デー
タ読出し系と書込み系とを分離して、高速な読出し/書
込みサイクルが実現できる。
以上説明したように本発明は、動作する一部のブロック
のビット線対を隣り合う非動作ブロックのビット線対と
トランスファゲートを介して接続し、メモリセルへのデ
ータ書込みは隣り合う非動作ブロックのビット線対を介
して行なうことにより、非動作ブロックのデータ線、ビ
ット線およびコラム選択ゲートを有効に利用することが
できるので、高速な読出し/書込みサイクルが可能で且
つ構成の簡単な半導体記憶装置を得ることができる効果
がある。
のビット線対を隣り合う非動作ブロックのビット線対と
トランスファゲートを介して接続し、メモリセルへのデ
ータ書込みは隣り合う非動作ブロックのビット線対を介
して行なうことにより、非動作ブロックのデータ線、ビ
ット線およびコラム選択ゲートを有効に利用することが
できるので、高速な読出し/書込みサイクルが可能で且
つ構成の簡単な半導体記憶装置を得ることができる効果
がある。
第1図は本発明に係わる半導体記憶装置におけるメモリ
セルアレイブロックとコラムデコーダの一実施例を示す
回路図、第2図はその動作を説明するためのタイムチャ
ート、第3図は従来の半導体記憶装置におけるメモリセ
ルアレイ構成を示す構成図、第4図はメモリセルアレイ
ブロックとコラムデコーダを示す回路図である。 1・・・コラムデコーダ、3,4・・・メモリセルアし
てゴ・・・データ線、CS・・・コラム選択線、SAO
。 SAI・・・センスアンプ、CGO,すてτ、CGI、
σGl・・・コラム選択ゲート、TO,下で・・・トラ
ンスファゲート。
セルアレイブロックとコラムデコーダの一実施例を示す
回路図、第2図はその動作を説明するためのタイムチャ
ート、第3図は従来の半導体記憶装置におけるメモリセ
ルアレイ構成を示す構成図、第4図はメモリセルアレイ
ブロックとコラムデコーダを示す回路図である。 1・・・コラムデコーダ、3,4・・・メモリセルアし
てゴ・・・データ線、CS・・・コラム選択線、SAO
。 SAI・・・センスアンプ、CGO,すてτ、CGI、
σGl・・・コラム選択ゲート、TO,下で・・・トラ
ンスファゲート。
Claims (2)
- (1)複数のワード線およびビット線と、これらの交点
に位置するメモリセルから成るメモリセルアレイを有し
、このメモリセルアレイは複数のブロックに分割され、
あるアクティブサイクル中には複数のブロックのうちの
一部のみが動作する構成の半導体記憶装置において、前
記動作する一部のブロックのビット線対を隣り合う非動
作ブロツクのビット線対とトランスファゲートを介して
接続し、メモリセルへのデータ書込みは前記隣り合う非
動作ブロックのビット線対を介して行なうことを特徴と
する半導体記憶装置。 - (2)メモリセルへのデータ書込みは、非動作ブロック
のコラム選択ゲートおよびデータI/O線を用いて行な
われることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62020703A JPS63188891A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62020703A JPS63188891A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63188891A true JPS63188891A (ja) | 1988-08-04 |
Family
ID=12034506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62020703A Pending JPS63188891A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63188891A (ja) |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP62020703A patent/JPS63188891A/ja active Pending
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