JPS63162594A - 単結晶育成方法 - Google Patents
単結晶育成方法Info
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- JPS63162594A JPS63162594A JP31037686A JP31037686A JPS63162594A JP S63162594 A JPS63162594 A JP S63162594A JP 31037686 A JP31037686 A JP 31037686A JP 31037686 A JP31037686 A JP 31037686A JP S63162594 A JPS63162594 A JP S63162594A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、カイロポーラス法のように融液の温度を下げ
ることにより融液の液面下で単結晶を育成する単結晶育
成方法に関する。
ることにより融液の液面下で単結晶を育成する単結晶育
成方法に関する。
(従来の技術)
バルク単結晶育成法としてはチョクラルスキー法が良く
知られている。
知られている。
この育成方法で製造できる結晶は、合致熔融する物質、
すなわち融液組成と同じ組成を以て結晶化する物質に限
られる。
すなわち融液組成と同じ組成を以て結晶化する物質に限
られる。
第5図は合致熔融物質の相状態図である。
融液組成に変化がないため、融点の変動もな(、富に同
じ温度にて結晶化が行われる。
じ温度にて結晶化が行われる。
このような材料をルツボに充瞑し、その結晶原料融液に
回転した種子結晶をン畏した後、種子結晶を鉛直上方向
に引き上げて単結晶を育成するのがチョクラルスキー法
である。
回転した種子結晶をン畏した後、種子結晶を鉛直上方向
に引き上げて単結晶を育成するのがチョクラルスキー法
である。
一方、高温で他の組成の固相と液相に分解熔融するよう
な包晶反応物質すなわち融液組成と育成結晶とが異なる
組成を以て得られるという物質の結晶育成には、カイロ
ポーラス法が用いられる。
な包晶反応物質すなわち融液組成と育成結晶とが異なる
組成を以て得られるという物質の結晶育成には、カイロ
ポーラス法が用いられる。
第6図に包晶反応物質の相状態図を示す。
このような物質では、結晶の析出にともなって、融液組
成が変化し、融点も変動する。
成が変化し、融点も変動する。
カイロポーラス法で使用する装置は、チョクラルスキー
法で用いられる装置とほとんど同じで操作も共通する部
分が多い。
法で用いられる装置とほとんど同じで操作も共通する部
分が多い。
チョクラルスキー法では結晶を引き上げていくがカイロ
ポーラス法では引き上げ速度が零、すなわち結晶を析出
させていく。
ポーラス法では引き上げ速度が零、すなわち結晶を析出
させていく。
チョクラルスキー法では融液の結晶化が融液面上の結晶
と融液の界面で行われるのに対してカイロポーラス法で
は、融液中の界面で行われる。
と融液の界面で行われるのに対してカイロポーラス法で
は、融液中の界面で行われる。
結晶長をし、結晶径をDとした時、チョクラルスキー法
では、LとDの比率L/Dの大きい結晶が得られ、カイ
ロポーラス法ではL/Dの値は小さくなるのが特長であ
る。
では、LとDの比率L/Dの大きい結晶が得られ、カイ
ロポーラス法ではL/Dの値は小さくなるのが特長であ
る。
第7図にカイロポーラス法、チョクラルスキー法におけ
る、結晶成長の様子を示す。
る、結晶成長の様子を示す。
このカイロポーラス法においては、長時間、種子結晶が
融液に浸った状態が続くため、融液の温度変化による種
子結晶の融解や、急激な結晶化が起こり易い。
融液に浸った状態が続くため、融液の温度変化による種
子結晶の融解や、急激な結晶化が起こり易い。
これらの現象を防ぐためには、熱的に安定かつ均一な結
晶育成炉による精度の良いルツボ内原料融液の温度コン
トロールが必要である。
晶育成炉による精度の良いルツボ内原料融液の温度コン
トロールが必要である。
カイロポーラス法において結晶が成長する場合、結晶化
は回転しながら融液に浸っている種子結晶の周囲にまと
わりつくように始まり、徐々に(ヱを増大していく。
は回転しながら融液に浸っている種子結晶の周囲にまと
わりつくように始まり、徐々に(ヱを増大していく。
したがって、種子結晶に存在する、特に結晶表面に存在
する転移、および欠陥が成長していく結晶に伝搬されや
すく、品質の低下を引き起こしたり雑品が生じ、多結品
化してしまうことがある。
する転移、および欠陥が成長していく結晶に伝搬されや
すく、品質の低下を引き起こしたり雑品が生じ、多結品
化してしまうことがある。
チョクラルスキー法(引き上げ法)においても、前述し
た単結晶を製造する場合と同様の現象が発生する。しか
しチョクラルスキー法では、転移、欠陥等の少ない高品
質単結晶を得るための方法としてネッキングダウン操作
が行われている。
た単結晶を製造する場合と同様の現象が発生する。しか
しチョクラルスキー法では、転移、欠陥等の少ない高品
質単結晶を得るための方法としてネッキングダウン操作
が行われている。
ネッキングダウン操作は、種子結晶を原料融液に種子漬
けし、しばら(融液によくなじませた後、垂直上方向に
種子結晶を引き上げる工程において、最初は、種子結晶
の直径から少しずつ細らせ、細長い頸部をつくる。
けし、しばら(融液によくなじませた後、垂直上方向に
種子結晶を引き上げる工程において、最初は、種子結晶
の直径から少しずつ細らせ、細長い頸部をつくる。
これにより、種子結晶に含まれる種々の欠陥、転移を除
去し、その後、温度を降下させ、再び径を太らせ、所望
のサイズの良質結晶を得る方法であり、チョクラルスキ
ー法による殆どの結晶育成において用いられている。
去し、その後、温度を降下させ、再び径を太らせ、所望
のサイズの良質結晶を得る方法であり、チョクラルスキ
ー法による殆どの結晶育成において用いられている。
第8図にチョクラルスキー法にチネソキングダウン工程
を導入して製造した結晶では欠陥が除去されている状態
を原理的に図示しである。
を導入して製造した結晶では欠陥が除去されている状態
を原理的に図示しである。
結晶の品質向上を目的とするこのネッキングダウンは、
チョクラルスキー法においては、種子結晶を垂直上方向
に引き上げる操作があるため、容易に行うこができる。
チョクラルスキー法においては、種子結晶を垂直上方向
に引き上げる操作があるため、容易に行うこができる。
(発明が解決しようとする問題点)
カイロポーラス法による結晶育成にあたっても前記ネッ
キングダウンによる欠陥の除去ができれば、カイロポー
ラス法により、チョクラルスキー法による結晶製造に適
当でない結晶を製造することができる。
キングダウンによる欠陥の除去ができれば、カイロポー
ラス法により、チョクラルスキー法による結晶製造に適
当でない結晶を製造することができる。
しかし、これまで、引き上げ操作が伴わないか、または
極めて引き上げ速度が遅いカイロポーラス法においては
、ネッキングダウン操作の実行は困難であり、カイロポ
ーラス法においては、ネッキングダウンを行った例はな
い。
極めて引き上げ速度が遅いカイロポーラス法においては
、ネッキングダウン操作の実行は困難であり、カイロポ
ーラス法においては、ネッキングダウンを行った例はな
い。
KN b O,単結晶は、非常に優れた非線形光学効果
を呈し、また強いレーザ光に対する光損傷も少ない。
を呈し、また強いレーザ光に対する光損傷も少ない。
したがって、SHO(2次高調波発生)バラメトリンク
発振等をはじめ、各種光変調、光偏向用材料として有望
な結晶である。
発振等をはじめ、各種光変調、光偏向用材料として有望
な結晶である。
結晶の大形化、高品質化の試みがなされ、多くの報告が
なされているが、KNbO,結晶特有の複雑な性質より
、大形良質結晶育成に成功したという報告はない。
なされているが、KNbO,結晶特有の複雑な性質より
、大形良質結晶育成に成功したという報告はない。
KNbO3結晶は融点1034 ’Cで立方晶に結晶化
、その後、室温相に敗るまでに、434°Cで立方晶か
ら正方品に、さらに232℃で正方品から斜方晶に構造
相転移する。
、その後、室温相に敗るまでに、434°Cで立方晶か
ら正方品に、さらに232℃で正方品から斜方晶に構造
相転移する。
434℃の立方晶から正方品への構造相転移点は常誘電
体から強誘電体へ変化するキュリ一点でもある。
体から強誘電体へ変化するキュリ一点でもある。
このように構造相転移するKNbO3結晶は転移点通過
にあたって多くの双晶が発生する。また、多(の双晶の
発生に伴い、強誘電体結晶に特有な分域構造も様々な種
類が混在することになる。
にあたって多くの双晶が発生する。また、多(の双晶の
発生に伴い、強誘電体結晶に特有な分域構造も様々な種
類が混在することになる。
また、チョクラルスキー法で広く育成されているSi、
GaAs等の半導体結晶、およびLiNbO2、L i
T a 03等の誘電体結晶の殆どは通宝円柱形に成
長するが、KNbO,結晶は、育成時の立方晶系に起因
した(001)で囲まれた非常に特徴的な正四角柱形に
成長する。
GaAs等の半導体結晶、およびLiNbO2、L i
T a 03等の誘電体結晶の殆どは通宝円柱形に成
長するが、KNbO,結晶は、育成時の立方晶系に起因
した(001)で囲まれた非常に特徴的な正四角柱形に
成長する。
このため、室温での斜方晶を便宜上、偽立方晶系と名付
ける。
ける。
このような複雑な性質を有するために、育成された結晶
は冷却中に上記双晶の他に多くの微視的欠陥を発生する
。さらに、クラック等の巨視的欠陥も生じ易く、良質結
晶育成の歩留りを悪くしている。
は冷却中に上記双晶の他に多くの微視的欠陥を発生する
。さらに、クラック等の巨視的欠陥も生じ易く、良質結
晶育成の歩留りを悪くしている。
本発明の主たる目的は、カイロポーラス法のように融液
の温度を下げることにより融液の液面下で単結晶を育成
する単結晶育成方法による結晶育成にあたって、チョク
ラルスキー法において広く用いられているネッキングダ
ウン工程を実行し、高品質単結晶を製造することができ
る単結晶育成方法を提供することにある。
の温度を下げることにより融液の液面下で単結晶を育成
する単結晶育成方法による結晶育成にあたって、チョク
ラルスキー法において広く用いられているネッキングダ
ウン工程を実行し、高品質単結晶を製造することができ
る単結晶育成方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、良質なKNbO3単結晶を
歩留りよく育成するKNbO,単結晶育成方法を提供す
ることにある。
歩留りよく育成するKNbO,単結晶育成方法を提供す
ることにある。
(問題点を解決するための手段)
前記目的を達成するために、本発明による単結晶育成方
法は、融液の温度を下げることにより単結晶を育成する
単結晶育成方法において、種子結晶をルツボ内原料融液
に漬ける種子漬は工程後、一旦種子結晶より、細長い頸
部をつくるネッキングダウン操作を行いその後その頸部
を成長させて単結晶を育成するように構成されている。
法は、融液の温度を下げることにより単結晶を育成する
単結晶育成方法において、種子結晶をルツボ内原料融液
に漬ける種子漬は工程後、一旦種子結晶より、細長い頸
部をつくるネッキングダウン操作を行いその後その頸部
を成長させて単結晶を育成するように構成されている。
前記ルツボ内原料融液は分解熔融し包晶反応を示す融液
とすることができる。
とすることができる。
前記単結晶は、単結晶成長熔融液と異なる組成を持つも
のとすることができる。
のとすることができる。
前記方法によりKTa xNbl −xO3結晶を育成
することができる。
することができる。
本発明によるKNbO3単結晶の育成方法は、Nb2O
5とに2CO3を混合して融解し融点よりわずかに高い
温度に保持する融液製造工程と、前記融液に種子結晶を
回転して種子漬けする種子漬は工程と、前記種子結晶を
引き上げることなくネンキングダウンを行い種子結晶よ
り細い頸部を形成するネソキングダウン工程と、融液の
温度を小さい降温速度で降温しながら連続または段階的
に小さい引き上げ速度で引き上げて結晶を成長させる結
晶成長工程と、前記結晶を融液より切り離し室温まで冷
却する結晶冷却工程から構成されている。
5とに2CO3を混合して融解し融点よりわずかに高い
温度に保持する融液製造工程と、前記融液に種子結晶を
回転して種子漬けする種子漬は工程と、前記種子結晶を
引き上げることなくネンキングダウンを行い種子結晶よ
り細い頸部を形成するネソキングダウン工程と、融液の
温度を小さい降温速度で降温しながら連続または段階的
に小さい引き上げ速度で引き上げて結晶を成長させる結
晶成長工程と、前記結晶を融液より切り離し室温まで冷
却する結晶冷却工程から構成されている。
前記KNbO3単結晶の育成方法において、前記Nb2
O5とK2CO3の混合比はモル比でNb205 :
K2 C03=1 : 1〜t:1.Sが好ましい。
O5とK2CO3の混合比はモル比でNb205 :
K2 C03=1 : 1〜t:1.Sが好ましい。
前記KNbO3単結晶の育成方法において、前記Nb2
O5とに2CO3の混合物体は酸素雰囲気または大気中
で融点より20℃以上高い温度で融解されることが好ま
しい。
O5とに2CO3の混合物体は酸素雰囲気または大気中
で融点より20℃以上高い温度で融解されることが好ま
しい。
前記KNbO3単結晶の育成方法の融液製造工程におい
て一旦融解された融液は種子付は前に、融点より数度高
い温度まで冷却されることが好ましい。
て一旦融解された融液は種子付は前に、融点より数度高
い温度まで冷却されることが好ましい。
前記種子結晶は両立方品系<001>方向の種子結晶が
好ましい。
好ましい。
前記種子漬は工程における種子結晶の回転速度は30〜
60回毎分であることが好ましい。
60回毎分であることが好ましい。
前記結晶成長工程における降温速度は1.0℃毎時以下
であることが好ましい。
であることが好ましい。
前記結晶冷却工程における構造転移点付近450〜40
0℃、250〜200℃域での冷却速度は、2℃毎時以
下であることが好ましい。
0℃、250〜200℃域での冷却速度は、2℃毎時以
下であることが好ましい。
(実施例)
以下、図面等を参照して本発明による結晶製造方法をさ
らに詳しく説明する。
らに詳しく説明する。
第4図に、K20 (K2 CO3)−Nb205系相
状態図を示す。
状態図を示す。
この相図より考察すると、Nb2O5含有率50〜60
mo1%の原料融液では、温度を低下させると、K4N
b6017組成の結晶を析出しながら融液は液相線AB
に沿って、AからBに組成を変化させていく。したがっ
て、この組成範囲の原料融液では、KNbO3結晶は析
出しない。
mo1%の原料融液では、温度を低下させると、K4N
b6017組成の結晶を析出しながら融液は液相線AB
に沿って、AからBに組成を変化させていく。したがっ
て、この組成範囲の原料融液では、KNbO3結晶は析
出しない。
一方、Nb2O5含有率35〜50mo1%の原料融液
では、温度の低下に伴いKNbOs組成の結晶を析出し
ながら、融液は液相線BCに沿ってBからCに組成が変
化していく。
では、温度の低下に伴いKNbOs組成の結晶を析出し
ながら、融液は液相線BCに沿ってBからCに組成が変
化していく。
以上より、KNbO3結晶を成長させるためには、K2
0:Nb20s =1 : 1の組成よりに20リツヂ
側でカイロポーラス法による結晶育成を行なう必要があ
る。
0:Nb20s =1 : 1の組成よりに20リツヂ
側でカイロポーラス法による結晶育成を行なう必要があ
る。
この方法では、融液に種子漬は後、種子結晶を引き上げ
ることなく融液温度の降下をもって結晶を成長させるた
めに、種子結晶が長い時間融液に浸った状態が形成され
る。そこで、結晶育成炉の高性能温度管理が重要となる
。
ることなく融液温度の降下をもって結晶を成長させるた
めに、種子結晶が長い時間融液に浸った状態が形成され
る。そこで、結晶育成炉の高性能温度管理が重要となる
。
この実施例では、ルツボが設置されている炉心部分の安
定性と均一性を改良し、水平垂直方向ともに十分ゆるや
かな温度勾配しか発生しないようにしである。
定性と均一性を改良し、水平垂直方向ともに十分ゆるや
かな温度勾配しか発生しないようにしである。
また炉心の温度を0.1℃毎時の精度で制御できるよう
にしである。
にしである。
第2図は、本発明方法でKNbo3単結晶を育成する際
に使用するルツボの温度分布を示すグラフである。
に使用するルツボの温度分布を示すグラフである。
同図(a)は、結晶育成炉ルツボ直上垂直方向温度勾配
を示す。
を示す。
同図(b)は、同じく結晶育成炉ルツボ上一定の距離に
おける水平方向の温度分布を示している。
おける水平方向の温度分布を示している。
第2図(b)に示されている曲線P1は融液面より上+
2mmの温度分布を示し、曲線P2は融液面より上+2
5mmの温度分布を示し、曲線P3は同じ<+49mm
での温度分布を示している。
2mmの温度分布を示し、曲線P2は融液面より上+2
5mmの温度分布を示し、曲線P3は同じ<+49mm
での温度分布を示している。
使用した結晶育成炉はルツボが設置されている炉心部分
の温度勾配が水平方向、垂直方向ともに、10℃毎cm
以内であり、温度コントロールも0゜1 ”c毎時の精
度で可能な安定かつ均一なものである。
の温度勾配が水平方向、垂直方向ともに、10℃毎cm
以内であり、温度コントロールも0゜1 ”c毎時の精
度で可能な安定かつ均一なものである。
出発原料の5酸化ニオブと炭酸カリウムを、Nb2o5
: K2Co、=1 : 1〜1:1.5の割合に混
合する。
: K2Co、=1 : 1〜1:1.5の割合に混
合する。
不純物の混入を避けるため、仮焼工程をせずに、そのま
ま白金(PL)ルツボへ充硯する。
ま白金(PL)ルツボへ充硯する。
酸素雰囲気および大気中にて融点より、20℃以上高い
温度で加熱融解させる。
温度で加熱融解させる。
ルツボ内融液を対流による攪拌によって充分に均一にさ
せるため、この状態を数時間保持した後、融点(103
4℃)より3〜10℃程高い温度まで降温する。
せるため、この状態を数時間保持した後、融点(103
4℃)より3〜10℃程高い温度まで降温する。
温度が安定したところで、結晶を毎分回転数30〜60
で回転させ種子漬けする。
で回転させ種子漬けする。
種子結晶方位は、偽立方晶系での<001> とする。
ニオブ酸カリウム結晶は、室温で斜方晶であるが、育成
時の立方晶系に起因する(001)面に囲まれた特異な
正四角柱形に結晶成長する。
時の立方晶系に起因する(001)面に囲まれた特異な
正四角柱形に結晶成長する。
便宜上、この状態を偽立方晶と名付ける。
通常、種子漬は後、直ちに結晶化が種子結晶の周囲にま
とわりつ(ように始まることもなく、種子結晶が熔ける
こともないような、平衡状態になるように、種子漬は操
作が成される。
とわりつ(ように始まることもなく、種子結晶が熔ける
こともないような、平衡状態になるように、種子漬は操
作が成される。
本発明では、さらにチョクラルスキー法で通常行われる
ネッキングダウン操作を実行する。
ネッキングダウン操作を実行する。
第1図にネッキングダウン操作の2例を示しである。
第1図(a)には、種子漬は後、種子結晶直径dが若干
熔け、熔けた後の結晶の直径(Ws部直径)d9が d ’< (3/4) d になるように種子漬は時の融液温度をコントロールする
例を示している。
熔け、熔けた後の結晶の直径(Ws部直径)d9が d ’< (3/4) d になるように種子漬は時の融液温度をコントロールする
例を示している。
第1図(b)は、種子結晶全体は融解しないが、先端だ
け融解させ、融液の表面張力によって融液が種子結晶に
つながっているような状態にする例を示している。
け融解させ、融液の表面張力によって融液が種子結晶に
つながっているような状態にする例を示している。
このいずれかの状態が維持されていることを確認したと
ころで、非常にゆっくり(例えば1.0℃毎時)降温し
ていけば、細い頸部が形成され、さらに冷却を続ければ
頸部の形成後頸部下部で結晶径の拡大が始まる。
ころで、非常にゆっくり(例えば1.0℃毎時)降温し
ていけば、細い頸部が形成され、さらに冷却を続ければ
頸部の形成後頸部下部で結晶径の拡大が始まる。
融液面上での結晶径の広がりと共に融液中への結晶成長
も進行する。
も進行する。
基本的には引き上げ速度Oで行うが、縦方向への成長を
促進させたい場合は、0〜0.5 m m毎時の速度で
定常的に引き上げるか、一定時間毎に0〜3mmで段階
的に引き上げる。
促進させたい場合は、0〜0.5 m m毎時の速度で
定常的に引き上げるか、一定時間毎に0〜3mmで段階
的に引き上げる。
冷却を続け、所望のサイズに結晶が成長したところで、
融液から切り離し、結晶化工程を終了し、室温までの冷
却に移る。
融液から切り離し、結晶化工程を終了し、室温までの冷
却に移る。
第3図に前記結晶化工程を終了した結晶の室温までの冷
却工程の例を示す。
却工程の例を示す。
図において、T m pは融点、Trは室温、T c
−tは立方晶−正方晶相転移点、T t−o・・・正方
晶−斜方晶相転移点を示す。
−tは立方晶−正方晶相転移点、T t−o・・・正方
晶−斜方晶相転移点を示す。
冷却は、KNbO,結晶の構造相転移点近傍、■立方晶
−正方晶434℃付近、450℃〜400℃と、■正方
晶−斜方晶232℃付近、250℃〜200℃の2温度
域で冷却速度を2℃毎時以下と罹めてゆっくり冷却し、
他の温度域では10℃毎時以下の冷却速度で室温まで冷
却する。
−正方晶434℃付近、450℃〜400℃と、■正方
晶−斜方晶232℃付近、250℃〜200℃の2温度
域で冷却速度を2℃毎時以下と罹めてゆっくり冷却し、
他の温度域では10℃毎時以下の冷却速度で室温まで冷
却する。
クラック、双晶等の種々欠陥は、構造相転移点通過時に
発生し易い。
発生し易い。
したがって、構造相転移点通過時の冷却速度は遅い程良
い。
い。
前記実施例では、単結晶材料としてKN b o3につ
いて詳細な説明を行った。
いて詳細な説明を行った。
カイロポーラス法におけるネッキングダウン操作は、こ
の材料以外の材料にも利用される。
の材料以外の材料にも利用される。
T a fci5加したKTa 1−x Nb xO3
(KTN)等、不純物として他の原子を加えた固溶体や
、別組成の固相と液相に分解熔融する包晶反応物質等、
非合致熔融物質全てについて通用されるものである。
(KTN)等、不純物として他の原子を加えた固溶体や
、別組成の固相と液相に分解熔融する包晶反応物質等、
非合致熔融物質全てについて通用されるものである。
(発明の効果)
以上詳しく説明したように、本発明による単結晶育成方
法は、融液の温度を下げることにより単結晶を育成する
単結晶育成方法において、種子結晶をルツボ内原料融液
に漬ける種漬は工程後、−旦種子結晶より、m長い頸部
をつくるネッキングダウン操作を行いその後その頸部を
成長させて単結晶を育成するように構成されている。
法は、融液の温度を下げることにより単結晶を育成する
単結晶育成方法において、種子結晶をルツボ内原料融液
に漬ける種漬は工程後、−旦種子結晶より、m長い頸部
をつくるネッキングダウン操作を行いその後その頸部を
成長させて単結晶を育成するように構成されている。
したがって、KNbO3やTaを添加したKTas −
x NbxC)+ (KTN)等、不純物として他の
原子を加えた固溶体や、別組成の固相と液相に分解熔融
する包晶反応物質等、非合致熔融物質を材料とする結晶
の育成にネッキングダウン操作を導入することにより、
良質な単結晶の育成が可能となった。
x NbxC)+ (KTN)等、不純物として他の
原子を加えた固溶体や、別組成の固相と液相に分解熔融
する包晶反応物質等、非合致熔融物質を材料とする結晶
の育成にネッキングダウン操作を導入することにより、
良質な単結晶の育成が可能となった。
また本発明によるKNb○3単結晶の育成方法は、Nb
2O5とに2CO3を混合して融解し融点よりわずかに
高い温度まで冷却する融液製造工程と、前記融液に種子
結晶を回転して種子漬けする種子漬は工程と、前記種子
結晶を引き上げることなくネッキングダウンを行い種子
結晶より細い頸部を形成するネッキングダウン工程と、
融液の温度を小さい降温速度で降温しながら連続または
段階的に小さい引き上げ速度で引き上げて結晶を成長さ
せる結晶成長工程と、前記結晶を融液より切り離し室温
まで冷却する結晶冷却工程から構成されている。
2O5とに2CO3を混合して融解し融点よりわずかに
高い温度まで冷却する融液製造工程と、前記融液に種子
結晶を回転して種子漬けする種子漬は工程と、前記種子
結晶を引き上げることなくネッキングダウンを行い種子
結晶より細い頸部を形成するネッキングダウン工程と、
融液の温度を小さい降温速度で降温しながら連続または
段階的に小さい引き上げ速度で引き上げて結晶を成長さ
せる結晶成長工程と、前記結晶を融液より切り離し室温
まで冷却する結晶冷却工程から構成されている。
この方法によれば、従来のカイロポーラス法によるKN
bO3結晶の育成における、雑品が生じたり、一方向へ
の成長が優先的に進み、多結晶化によるクラックの発生
、双晶の発生、分域壁の存在等に原因する結晶品質の劣
化を防止できる。
bO3結晶の育成における、雑品が生じたり、一方向へ
の成長が優先的に進み、多結晶化によるクラックの発生
、双晶の発生、分域壁の存在等に原因する結晶品質の劣
化を防止できる。
本発明方法によればネッキングダウン操作と、炉の温度
および操作速度の制御により雑晶等の発生による多結晶
化は防止することができ、良質なKNbO3結晶を歩習
り良く型造することが可能となった。
および操作速度の制御により雑晶等の発生による多結晶
化は防止することができ、良質なKNbO3結晶を歩習
り良く型造することが可能となった。
第1図は、本発明による方法のネッキングダウンを説明
するための略図であって、同図(a)は種子結晶の一部
が熔けた状態、同図(b)は種子結晶先端が熔けながら
も表面張力と融液の粘性により頸部が形成される状態を
示している。 第2図は、本発明方法で使用するルツボの温度分布を示
すグラフであって、同図(a)は、結晶育成炉ルツボ直
上垂直方向温度勾配を示し、同図(b)は、同じく水平
方向温度分布を示している。 第3図は、育成結晶の融液から離脱後の冷却温度プログ
ラム例を示すグラフである。 第4図は、K20’(K2 CO3)−Nb2 Os系
相伏態図である。 第5図は、2元系合致熔融型相状態図の一般例を示す相
状態図である。 第6図は、2元系分解熔融(包晶反応)型相伏態図の一
般例を示す相状態図である。 第7図は、(a)カイロポーラス法、 (b)チョクラ
ルスキー法による結晶成長の原理図を説明するための略
図である。 第8図は、チョクラルスキー法によるネッキングダウン
による効果を説明するための略図である。 1・・・種子結晶 2・・・育成結晶d・・・
種子結晶直径 d′・・・結晶頸部直径特許出願人
浜松ホトニクス株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 第1図 (a) (b) 第3図 紀a面′A度この春 ル・ツボ中rs’力・うの距、出K (mm)第4図 に20(OrK2C○3)−N b20゜第5図 A MAaα日 第7図 妨 第8図 手続補正書 昭和62年 2月10日 昭和61年特 許 廓第310376号2、発明の名称 単結晶育成方法 3、補正をする者 事件との関係 特許用1願人 4、代理人 住 所 8160東京都新宿区歌舞伎町2丁目45番7
号大喜ビル4F 電話(03) 209−1094ダウ
ン工程」に補正する。 (2)明橿1第7頁第12行目の「行うごができる」を
「行うことができる」に補正する。 (3)明柵書第15頁第6行目の「および」を「または
」に補正する。 (4)明極書第15頁第20行目の「通常、種子漬は後
」を[通常1種子漬けは、種子漬は後」に補正する。
するための略図であって、同図(a)は種子結晶の一部
が熔けた状態、同図(b)は種子結晶先端が熔けながら
も表面張力と融液の粘性により頸部が形成される状態を
示している。 第2図は、本発明方法で使用するルツボの温度分布を示
すグラフであって、同図(a)は、結晶育成炉ルツボ直
上垂直方向温度勾配を示し、同図(b)は、同じく水平
方向温度分布を示している。 第3図は、育成結晶の融液から離脱後の冷却温度プログ
ラム例を示すグラフである。 第4図は、K20’(K2 CO3)−Nb2 Os系
相伏態図である。 第5図は、2元系合致熔融型相状態図の一般例を示す相
状態図である。 第6図は、2元系分解熔融(包晶反応)型相伏態図の一
般例を示す相状態図である。 第7図は、(a)カイロポーラス法、 (b)チョクラ
ルスキー法による結晶成長の原理図を説明するための略
図である。 第8図は、チョクラルスキー法によるネッキングダウン
による効果を説明するための略図である。 1・・・種子結晶 2・・・育成結晶d・・・
種子結晶直径 d′・・・結晶頸部直径特許出願人
浜松ホトニクス株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 第1図 (a) (b) 第3図 紀a面′A度この春 ル・ツボ中rs’力・うの距、出K (mm)第4図 に20(OrK2C○3)−N b20゜第5図 A MAaα日 第7図 妨 第8図 手続補正書 昭和62年 2月10日 昭和61年特 許 廓第310376号2、発明の名称 単結晶育成方法 3、補正をする者 事件との関係 特許用1願人 4、代理人 住 所 8160東京都新宿区歌舞伎町2丁目45番7
号大喜ビル4F 電話(03) 209−1094ダウ
ン工程」に補正する。 (2)明橿1第7頁第12行目の「行うごができる」を
「行うことができる」に補正する。 (3)明柵書第15頁第6行目の「および」を「または
」に補正する。 (4)明極書第15頁第20行目の「通常、種子漬は後
」を[通常1種子漬けは、種子漬は後」に補正する。
Claims (12)
- (1)融液の温度を下げることにより単結晶を育成する
単結晶育成方法において、種子結晶をルツボ内原料融液
に漬ける種子漬け工程後、一旦種子結晶より、細長い頸
部をつくるネッキングダウン操作を行いその後その頸部
を成長させて単結晶を育成するように構成した単結晶育
成方法。 - (2)前記ルツボ内原料融液は非合致熔融する物質で分
解熔融し包晶反応を示す融液である特許請求の範囲第1
項記載の単結晶育成方法。 - (3)前記単結晶は、単結晶が成長用融液と異なる組成
を持つものである特許請求の範囲第1項記載の単結晶育
成方法。 - (4)前記単結晶の組成はKTaxNb_1−xO_3
である特許請求の範囲第1項記載の単結晶育成方法。 - (5)Nb_2O_5とK_2CO_3を混合して融解
し融点よりわずかに高い温度に保持する融液製造工程と
、前記融液に種子結晶を回転して種子漬けする種子漬け
工程と、前記種子結晶を引き上げることなくネッキング
ダウンを行い種子結晶より細い頸部を形成するネッキン
グダウン工程と、融液の温度を小さい降温速度で降温し
ながら連続または段階的に小さい引き上げ速度で引き上
げて結晶を成長させる結晶成長工程と、前記結晶を融液
より切り離し室温まで冷却する結晶冷却工程から構成し
たKNbO_3単結晶の育成方法。 - (6)前記Nb_2O_5とK_2CO_3の混合比は
モル比で Nb_2O_5:K_2CO_3=1:1〜1:1.5
である特許請求の範囲第5項記載の単結晶の育成方法。 - (7)前記Nb_2O_5とK_2CO_3の混合物体
は酸素雰囲気または大気中で融点より20℃以上高い温
度で融解される特許請求の範囲第5項記載の単結晶の育
成方法。 - (8)前記融液製造工程において一旦融解された融液は
種子付け前に、融点より数度高い温度まで冷却される特
許請求の範囲第5項記載の単結晶の育成方法。 - (9)前記種子結晶は偽立方晶系〈001〉方向の種子
結晶である特許請求の範囲第5項記載の単結晶の育成方
法。 - (10)前記種子漬け工程における種子結晶の回転速度
は30〜60回毎分である特許請求の範囲第5項記載の
単結晶の育成方法。 - (11)前記結晶成長工程における降温速度は1.0℃
毎時以下である特許請求の範囲第5項記載の単結晶の育
成方法。 - (12)前記結晶冷却工程における構造転移点付近45
0〜400℃、250〜200℃域での冷却速度は、2
℃毎時以下である特許請求の範囲第5項記載の単結晶の
育成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61310376A JPH0751477B2 (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 単結晶育成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61310376A JPH0751477B2 (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 単結晶育成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63162594A true JPS63162594A (ja) | 1988-07-06 |
JPH0751477B2 JPH0751477B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=18004503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61310376A Expired - Fee Related JPH0751477B2 (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 単結晶育成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0751477B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006143516A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 結晶製造装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55158196A (en) * | 1979-05-29 | 1980-12-09 | Toshiba Corp | Manufacture of single crystal |
JPS6050760A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-20 | Toshiba Corp | ディスクレコ−ド再生装置 |
-
1986
- 1986-12-26 JP JP61310376A patent/JPH0751477B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55158196A (en) * | 1979-05-29 | 1980-12-09 | Toshiba Corp | Manufacture of single crystal |
JPS6050760A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-20 | Toshiba Corp | ディスクレコ−ド再生装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006143516A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 結晶製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0751477B2 (ja) | 1995-06-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |