JPS6312241B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6312241B2 JPS6312241B2 JP10945480A JP10945480A JPS6312241B2 JP S6312241 B2 JPS6312241 B2 JP S6312241B2 JP 10945480 A JP10945480 A JP 10945480A JP 10945480 A JP10945480 A JP 10945480A JP S6312241 B2 JPS6312241 B2 JP S6312241B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- image
- light
- detector
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/952—Inspecting the exterior surface of cylindrical bodies or wires
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は長手方向に同一断面形状を有する物体
例えばホース、ケーブルなどの線条体の形状及び
断面凹凸などの欠陥を検査する装置に関するもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for inspecting objects having the same cross-sectional shape in the longitudinal direction, such as wire bodies such as hoses and cables, for defects such as shape and cross-sectional unevenness.
従来線条体の形状検査方法には、線条体の長手
方向に対し、直角に幅の狭い照明を行い、欠陥部
の乱反射光成分をだ円鏡を用いて検出する方法や
線条体表面に糸やダイスを接触させ、その変位を
検出することにより欠陥を検査する方法(特開昭
53−33064)などがある。 Conventional methods for inspecting the shape of the striatum include a method in which narrow illumination is performed perpendicularly to the longitudinal direction of the striatum, and an elliptical mirror is used to detect the diffusely reflected light component at the defective part; A method of inspecting defects by bringing a thread or die into contact with the surface and detecting its displacement (Japanese Patent Application Laid-open No.
53-33064).
乱反射光を検出する方法においては、ゆるやか
な凹凸の乱反射光成分の変化が小さいため検出が
困難である。また線条体表面にその表面より高い
乱反射率を有する印刷マーク等がある場合、印刷
マークを欠陥と誤検出してしまう欠点がある。 In the method of detecting diffusely reflected light, it is difficult to detect because the change in the diffusely reflected light component due to gentle unevenness is small. Furthermore, if there is a printed mark or the like on the surface of the striatal body that has a higher diffuse reflectance than the surface, there is a drawback that the printed mark may be erroneously detected as a defect.
一方、糸やダイズを接触させる方法において
は、接触により表面にキズをつける可能性が大き
く、また線条体の移動速度が高速になると、追従
が困難である。 On the other hand, in the method of bringing yarn or soybeans into contact, there is a high possibility that the surface will be damaged by contact, and if the moving speed of the filament becomes high, it is difficult to follow.
更に、以上の2つの方法においては、線条体の
断面形状そのものを検査するのではなく、そこか
らの乱反射光を検出したり、糸やダイスの引張力
を検出したりするものであり、そのため正確な形
状検査が実現できないという欠点がある。 Furthermore, in the above two methods, the cross-sectional shape of the filament itself is not inspected, but the diffusely reflected light from it is detected, or the tensile force of the thread or die is detected. The disadvantage is that accurate shape inspection cannot be achieved.
一方、光切断法というのがあり、この方法の従
来技術には、軌道自動検測への応用(特開昭51−
143358)があり、この場合軌道検測車を走らせな
がらレールの状態を自動計測している。 On the other hand, there is the optical cutting method, and the conventional technology of this method includes its application to automatic orbit inspection (Japanese Patent Application Laid-Open No.
143358), in which the condition of the rails is automatically measured while the track inspection vehicle is running.
これは光切断像を2次元撮像素子で検出、処理
する事により、一定時間間隔で、対象物を検査す
るものである。 In this method, an object is inspected at regular time intervals by detecting and processing an optically sectioned image using a two-dimensional image sensor.
しかし、線条体の種類によつては、線条体の断
面形状の変化と共に、表面の微小な凹凸をも検査
する必要があり、そのためには、一定時間間隔の
サンプリングによる検査は使用できない。 However, depending on the type of filament, it is necessary to inspect minute irregularities on the surface as well as changes in the cross-sectional shape of the filament, and for this purpose, inspection by sampling at fixed time intervals cannot be used.
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を解
決し、線条体の形状及び欠陥を、高速、高精度に
検査できる装置を提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide an apparatus that can inspect the shape and defects of a filament at high speed and with high precision.
本発明の要点は、線条体の断面形状及び欠陥を
検出するため、線条体の中心軸に垂直な平面内に
周囲より、一様強度、同一幅のスリツト状の光を
投光し、その像を斜め方向または線条体中心軸と
平行な方向より検出する光切断法を採用した点に
ある。 The main point of the present invention is to project a slit-shaped light of uniform intensity and width from the periphery in a plane perpendicular to the central axis of the striatum in order to detect the cross-sectional shape and defects of the striatum. The point is that a light cutting method is adopted in which the image is detected from an oblique direction or a direction parallel to the central axis of the striatum.
また、本発明においては高速で異常形状部の有
無を検査するため、上記光切断法において線条体
表面に投光されたスリツト像を検出する光切断検
出器の実像面上に、良品の光切断像の焼込まれた
光学的マスクを設置し、これから漏れる光を集
光、その光量を光電的に検出する方式を採用した
ものである。 In addition, in the present invention, in order to inspect the presence or absence of an abnormally shaped part at high speed, a light beam of a good product is placed on the real image plane of the light cutting detector that detects the slit image projected onto the surface of the striatum in the above light cutting method. This method uses an optical mask with a cut image printed on it, collects the light leaking from it, and detects the amount of light photoelectrically.
さらに、本発明においては検査中に生じる線条
体の位置ずれが上記異常形状部の検出精度に及ぼ
す影響を除去するため、線条体の位置ずれを検出
し、これにもとづいて光学的マスクを自動追従さ
せようにしたものである。 Furthermore, in the present invention, in order to eliminate the influence that the positional deviation of the striatum that occurs during the inspection has on the detection accuracy of the abnormally shaped part, the positional deviation of the striatum is detected and an optical mask is installed based on this. It is designed to automatically follow.
次に添付図面により本発明の実施例を説明す
る。第1図は本発明の一実施例における線条体の
形状及び欠陥検査装置の検出器の配置構成を示す
正面図、第2図はその側面図、第3図は全体構成
図である。本実施例はスリツト投光器として第1
図のように、被測定線条体1の送り方向(紙面に
垂直)に垂直な同一平面(XY平面)上に均一幅
のスリツト状光を周囲から一様に投光するための
3個のスリツト投光器2,2′,2″と線条体に投
光されたスリツト光を第2図のように斜め横から
検出する3個の光切断検出器3,3′,3″及び線
条体のX及びY方向の位置ずれを検出するため、
スリツト像検出位置の直前に置かれた変位検出器
4,4′、及び前記検出器4,4′の検出値を基に
光切断検出器実像面上に設置された光学マスク8
の位置にフイードバツクするための制御回路5、
及び光切断検出器3,3′,3″からの検出信号を
判定評価するための判定回路6からなる。光切断
検出器3,3′,3″はいずれも同一構成で、一例
として第3図の符号3に示すように結像レンズ
7、光切断実像面上の光学マスク8、該マスク8
を実像面上で移動させるための送りモーク9,
9′と送り機構10、光学マスク8を透過した光
を集光するための集光レンズ11及び光電変換器
12からなる。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a front view showing the shape of a filament and the arrangement of a detector of a defect inspection device in an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view thereof, and FIG. 3 is a diagram showing the overall configuration. This example is the first slit floodlight.
As shown in the figure, three slit-shaped lights of uniform width are uniformly projected from the surroundings onto the same plane (XY plane) perpendicular to the feeding direction (perpendicular to the plane of the paper) of the filament 1 to be measured. Slit projectors 2, 2', 2'', three light cutting detectors 3, 3', 3'' that detect the slit light projected onto the slit body from the diagonal side as shown in Fig. 2, and the slit body. In order to detect the positional deviation in the X and Y directions,
Displacement detectors 4, 4' placed just before the slit image detection position, and an optical mask 8 placed on the real image plane of the light cutting detector based on the detected values of the detectors 4, 4'.
a control circuit 5 for feedback to the position of
and a determination circuit 6 for determining and evaluating the detection signals from the optical cutting detectors 3, 3', 3''.The optical cutting detectors 3, 3', 3'' all have the same configuration; As shown by reference numeral 3 in the figure, an imaging lens 7, an optical mask 8 on the light cutting real image surface, and the mask 8
a feed mode 9 for moving on the real image plane,
9', a feeding mechanism 10, a condensing lens 11 for condensing the light transmitted through the optical mask 8, and a photoelectric converter 12.
なお、実施例の第1図、第2図において各部の
保持機構は省略した。また線条体1もその前後で
例えばガイドプーリにより保持されているが図面
からは省略した。 In addition, the holding mechanism of each part is omitted in FIGS. 1 and 2 of the embodiment. Further, the filament body 1 is also held by guide pulleys, for example, at the front and rear thereof, but this is omitted from the drawing.
以下本実施例の動作を説明する。線条体1が例
えば円形断面を持つ場合検出器3,3′,3″の実
像、即ち光切断像は滑らかな円弧状となる。 The operation of this embodiment will be explained below. When the filament 1 has, for example, a circular cross section, the real image of the detectors 3, 3', 3'', that is, the optically sectioned image, has a smooth arc shape.
この状態を第4図aに例示する。一方、例えば
表面に凸状欠陥が存在すれば第4図bに例示する
ように一部に突起を有する円弧状の光切断像14
となる。光切断検出器3の実像面上にはマスク8
が設置されているが、そのマスクのパターン形状
を第4図cに例示する。ここで斜線部に示すマス
クのパターン15は不透明部、その他は透明部で
ある。従つて、今、線条体1が、X、Y方向に正
しく位置決めされていれば、第4図aのような正
常表面の部分では、光切断像13は不透明なマス
クのパターン15の上に重なり、マスクから光は
透過しない。この状態を第4図dに示す。一方第
4図bの突起を有する場合、同図eに示すよう
に、突起部の光切断像がマスクのパターン15か
らはみ出し、マスクから光が漏れる。 This state is illustrated in FIG. 4a. On the other hand, if a convex defect exists on the surface, for example, as illustrated in FIG.
becomes. A mask 8 is placed on the real image plane of the light cutting detector 3.
The pattern shape of the mask is illustrated in FIG. 4c. Here, the mask pattern 15 shown in the shaded area is an opaque area, and the other areas are transparent areas. Therefore, if the striatum 1 is now correctly positioned in the X and Y directions, the light sectioned image 13 will be on the opaque mask pattern 15 in the normal surface area as shown in FIG. 4a. They overlap, and no light passes through the mask. This state is shown in FIG. 4d. On the other hand, in the case of having the protrusions shown in FIG. 4B, as shown in FIG.
これを光電変換器12で検出する。即ち、形状
変化を光切断像の許容形状からのはみ出し光量と
して検出し、これを電気信号に変換する。 This is detected by the photoelectric converter 12. That is, the shape change is detected as the amount of light protruding from the allowable shape of the optically sectioned image, and this is converted into an electrical signal.
マスク8が実像面上で固定されていると線条体
1がX、Y方向にずれた場合、第5図に例示する
ように正常部の検出においても光切断像がマスク
のパターン15からはみ出し、第4図eと誤検出
する危険性がある。このように線条体の位置ずれ
による誤検出を防ぐため、変位検出器4,4′の
出力を制御回路5を介して、マスクの位置にフイ
ードバツクする。 If the mask 8 is fixed on the real image plane and the striatum 1 shifts in the X and Y directions, the optically sectioned image will protrude from the pattern 15 of the mask even when detecting a normal area, as illustrated in FIG. , there is a risk of erroneous detection as shown in Fig. 4e. In order to prevent erroneous detection due to misalignment of the filament, the outputs of the displacement detectors 4, 4' are fed back to the mask position via the control circuit 5.
第6図は前記制御回路5の一例として、変位検
出器4,4′の出力信号を入力とし、これに基づ
いて光切断検出器3の送りモータ9,9′に移動
量を出力するためのブロツク構成を示すものであ
る。本回路は基準位置設定回路17,17′加算
器18,18増幅器19,19′,19″,19
、加算器20,20′モータ駆動回路21,2
1′で構成される1つの光切断検出器用制御回路
16からなる。 FIG. 6 shows an example of the control circuit 5, which inputs the output signals of the displacement detectors 4, 4' and outputs the amount of movement to the feed motors 9, 9' of the optical cutting detector 3 based on the input signals. This shows the block configuration. This circuit includes reference position setting circuits 17, 17' adders 18, 18 amplifiers 19, 19', 19'', 19
, adder 20, 20' motor drive circuit 21, 2
It consists of one optical cutting detector control circuit 16 consisting of 1'.
前記制御回路16を各検出器用に合計3個配置
して上記制御回路5が構成される。変位検出器4
は差動トランスであり、送りモータ9はステツプ
モータである。尚、前者、空気マイクロメータ、
電気容量式変位検出器、光触針式検出器等いかな
る変位計であつても良い。また後者はDCモータ
とロータリーエンコーダの組合せ、DCモータと
ポテンシヨメータの組合せ、リニヤーモータなど
であつても良い。変位検出器4の出力、すなわち
各瞬間におけるX方向の線条体の座標Xとあらか
じめ設定した基準位置X0との差を加算器18で
とり、基準位置からのずれ△Xを求める。 The control circuit 5 is configured by arranging a total of three control circuits 16 for each detector. displacement detector 4
is a differential transformer, and the feed motor 9 is a step motor. In addition, the former, air micrometer,
Any displacement meter such as a capacitive displacement detector or an optical stylus detector may be used. The latter may also be a combination of a DC motor and a rotary encoder, a combination of a DC motor and a potentiometer, a linear motor, etc. An adder 18 takes the difference between the output of the displacement detector 4, that is, the coordinate X of the striatum in the X direction at each moment, and a preset reference position X0 , and calculates the deviation ΔX from the reference position.
同様に加算器18′から△Yを求める。増幅器
19〜19加算器20,20′により、
△X=△Xksinθ+△Ykcosθ
△Y=−△Xkcosθ+△Yksinθ
なる座標変換を受ける。ここでθは変位検出器の
X、Y座標とマスク送り機構の移動軸X,Yとの
なす角であり、3つの検出ヘツドにより異なる定
数である。またkは検出器の倍率補正係数であ
る。△X、△Yはこのような移動軸X,Y方向の
成分△X、△Yに変換され、モータ駆動回路2
1,21′を介して、マスクが△X、△Yだけ移
動するようモータ9,9′により駆動される。 Similarly, ΔY is obtained from the adder 18'. The amplifiers 19 to 19 and the adders 20 and 20' undergo coordinate transformation as follows: ΔX=ΔXksinθ+ΔYkcosθ ΔY=−ΔXkcosθ+ΔYksinθ. Here, θ is the angle formed between the X and Y coordinates of the displacement detector and the movement axes X and Y of the mask feeding mechanism, and is a constant that differs depending on the three detection heads. Further, k is a magnification correction coefficient of the detector. △X, △Y are converted into such components △X, △Y in the direction of the movement axis X, Y, and the motor drive circuit 2
1 and 21', the mask is driven by motors 9 and 9' to move by ΔX and ΔY.
このようにして、検査中の線条体の位置ずれや
振動はマスクの位置にフイードバツクされ、位置
のずれた分だけマスクを移動させるため、マスク
のパターンは常に線条体正常部からの光切断像を
隠す事ができる。 In this way, the misalignment or vibration of the striatum during the examination is fed back to the mask position, and the mask is moved by the amount of misalignment, so the mask pattern always reflects the light cut from the normal part of the striatum. Images can be hidden.
第7図は判定回路6の一例を示す。この判定回
路6は閾値設定回路22、比較回路23、ワンシ
ヨツト24、カウンタ25で構成され、光電変換
器12の出力は、閾値設定回路22の設定値と比
較回路23で比較され、設定値以上の信号が検出
された時カウンタ25を増加させる事により、1
つの線条体中の欠陥数を知る事ができる。 FIG. 7 shows an example of the determination circuit 6. This judgment circuit 6 is composed of a threshold value setting circuit 22, a comparator circuit 23, a one shot 24, and a counter 25. The output of the photoelectric converter 12 is compared with the set value of the threshold value setting circuit 22 by the comparator circuit 23. 1 by incrementing the counter 25 when a signal is detected.
The number of defects in each striatum can be determined.
また、第8図は本発明の一実施例における光切
断検出器3のより詳細な構成を示している。同図
はこれまで説明した7,8,9,10,11,1
2の他シヤツタ26、マスク保持板27、押えバ
ネ28、位置決めピン29で構成されている。マ
スク8は位置決めピン29と押えバネ28によ
り、マスク保持板27に再現性良く位置決めされ
る。まずシヤツタ26を閉じた状態で未感光のフ
イルムないし乾板をマスク位置にセツトし、線条
体もセツトする。この状態でシヤツタ26を一定
時間開き露出し、このフイルムないし乾板を現像
し、光切断像のネガパターンを得る。 Further, FIG. 8 shows a more detailed configuration of the optical cutting detector 3 in one embodiment of the present invention. The figure shows 7, 8, 9, 10, 11, 1 as explained so far.
2, a shutter 26, a mask holding plate 27, a presser spring 28, and a positioning pin 29. The mask 8 is positioned on the mask holding plate 27 with good reproducibility by the positioning pins 29 and the presser springs 28. First, with the shutter 26 closed, an unexposed film or dry plate is set at the mask position, and the filament is also set. In this state, the shutter 26 is opened for a certain period of time for exposure, and the film or dry plate is developed to obtain a negative pattern of a light cut image.
これを再度マスク位置にセツトし、マスク8と
して使用する。 This is set again at the mask position and used as the mask 8.
第9図は本発明を、表面に印刷マークが施され
ているゴムホース検査に適用した他の実施例の全
体構成を示す説明図である。 FIG. 9 is an explanatory diagram showing the overall configuration of another embodiment in which the present invention is applied to inspection of a rubber hose whose surface has printed marks.
第9図の構成を符号から簡単に説明すると、検
査すべきゴムホース31、位置決め用ガイドプー
リ32、照明ランプ33、スリツト34、照明用
レンズ35、結像レンズ36、マスク37、集光
レンズ38、ハーフミラー39、光電変換器4
0、判定回路41、差動ドランス42、制御回路
43マスク制御部44からなる。 To briefly explain the configuration of FIG. 9 from the symbols, the rubber hose 31 to be inspected, the positioning guide pulley 32, the illumination lamp 33, the slit 34, the illumination lens 35, the imaging lens 36, the mask 37, the condensing lens 38, Half mirror 39, photoelectric converter 4
0, a determination circuit 41, a differential transformer 42, a control circuit 43, and a mask control section 44.
すなわち、本実施例は、スリツト投光部33,
34,35、光切断像検出部36,37,38判
定回路41、差動トランス(位置ずれ検出器)4
2と制御回路43、マスク制御部44からなる。 That is, in this embodiment, the slit light projecting section 33,
34, 35, optical section image detection section 36, 37, 38 judgment circuit 41, differential transformer (positional deviation detector) 4
2, a control circuit 43, and a mask control section 44.
以下本実施例の動作を述べる。 The operation of this embodiment will be described below.
検査すべきゴムホース31はゴムホース断面と
同じ曲率の溝を有するガイドプーリ32に保持さ
れており、検査位置におけるゴムホース中心軸に
対し、直角な方向からランプ33よりスリツト3
4及び照明用レンズ35を通して一定幅のスリツ
ト光を投光し、これを斜め横方向から検出し、結
像レンズ36を通して光切断像実像面において良
品サンプルより作成したマスク37と重ね合わせ
による光学的比較判定を行い、マスク後方にもれ
た光を集光レンズ38及びハーフミラー39を通
して光電変換器40で検出し得られた信号を判定
回路41で判定する。 The rubber hose 31 to be inspected is held by a guide pulley 32 having a groove with the same curvature as the cross section of the rubber hose.
4 and an illumination lens 35, the slit light of a certain width is detected from an oblique lateral direction, and the light is cut through an imaging lens 36. The image is then optically cut by superimposing it on a mask 37 made from a good sample on the real image plane. Comparison and judgment are performed, and the light leaking behind the mask is detected by the photoelectric converter 40 through the condensing lens 38 and the half mirror 39, and the obtained signal is judged by the judgment circuit 41.
第10図に判定回路41のブロツク図を示す。
判定回路41において検出した信号のノイズ成分
周波数をフイルター回路45で除去し、増幅器4
6で増幅された後に比較回路47で基準値設定回
路48で得られたレベルと比較することにより欠
陥が判定されたとき、ワンシヨツト49および検
出表示カウンタ50を動作させる。検査すべきゴ
ムホースの位置変動は差動トランス42で測定し
ており、得られた測定値は、制御回路43に入り
制御部44を駆動させマスク位置が常に光切断像
の中心になるよう制御されている。 FIG. 10 shows a block diagram of the determination circuit 41.
A filter circuit 45 removes the noise component frequency of the signal detected by the determination circuit 41, and the amplifier 4
6 and then compared with the level obtained by the reference value setting circuit 48 in the comparator circuit 47, and when a defect is determined, the one shot 49 and the detection display counter 50 are operated. Variations in the position of the rubber hose to be inspected are measured by a differential transformer 42, and the obtained measurement value is input to a control circuit 43 and drives a control section 44 to control the mask position so that it is always at the center of the optically sectioned image. ing.
第11図と第12図に、制御部と制御回路の詳
細を示した。モータ51に減速ギア52を接続さ
せ、出力軸とポテンシヨメータ54の回転軸をカ
ツプリング53で連結し、もう1方のポテンシヨ
メータ回転軸には回転用ボルト55が固定されて
おり、一方移動用ナツト56は、マスク57に固
定されているためモータの駆動によりマスク移動
ステージ58上をマスク57が移動する。 FIG. 11 and FIG. 12 show details of the control section and the control circuit. A reduction gear 52 is connected to the motor 51, and the output shaft and the rotating shaft of the potentiometer 54 are connected by a coupling 53. A rotation bolt 55 is fixed to the other rotating shaft of the potentiometer, and one side is moved. Since the nut 56 is fixed to the mask 57, the mask 57 is moved on the mask moving stage 58 by driving the motor.
本実施例のマスク制御においてはDCモータと
ポテンシヨメータの組み合わせによる位置制御を
行つているため第12図に示すように検査すべき
ゴムホースの位置ずれを加算器61で検出し、サ
ーボアンプ63でDCモータ51を駆動させ、モ
ータ回転軸に接続したポテンシヨンメータ回転角
64を、負のフイードバツク量として加算器62
に入力するのでモータは位置ずれに比例して回転
し位置ずれを打ち消すまで駆動したところで、制
御を終了する。 In the mask control of this embodiment, position control is performed using a combination of a DC motor and a potentiometer, so as shown in FIG. The adder 62 drives the DC motor 51 and uses the potentiometer rotation angle 64 connected to the motor rotation shaft as a negative feedback amount.
Since the motor rotates in proportion to the positional deviation, the control ends when the motor rotates until the positional deviation is canceled out.
実際のゴムホースの位置ずれ量と、マスク制御
量の比率は、加算器62のゲインを調整すること
により、検出器の検出倍率と同じにすることがで
き、又、サーボアンプのゲイン調整で最適な応答
性が実現できる。 The ratio between the actual positional deviation amount of the rubber hose and the mask control amount can be made the same as the detection magnification of the detector by adjusting the gain of the adder 62, and the ratio can be made the same as the detection magnification of the detector by adjusting the gain of the servo amplifier. Responsiveness can be achieved.
尚、59はゴムホース位置検出値、60は基準
位置設定値を示す。 Note that 59 indicates a rubber hose position detection value, and 60 indicates a reference position setting value.
ゴムホース検査に適用した実施例では、検出器
が1個の場合について述べたが、複数個の検出器
を適用しても良い。 In the embodiment applied to rubber hose inspection, a case was described in which one detector was used, but a plurality of detectors may be applied.
また検査すべきゴムホースの位置変動を差動ト
ランスを用いて測定したが電気マイクロ、エアー
マイクロ又は光学的測定方法を用いて測定しても
良い。 Although the positional fluctuation of the rubber hose to be inspected was measured using a differential transformer, it may also be measured using an electric micro, air micro, or optical measurement method.
この実施例では、ゴムホースの中心軸に対し、
直角方向から照明したが斜め横方向から照明を行
つても差し障えない。 In this example, with respect to the central axis of the rubber hose,
Although the illumination was performed from a right angle direction, there is no problem if the illumination is performed from an oblique side direction.
更に、一定幅のスリツト光で照明を行つたが幅
の広い照明で、照明の明瞭な明暗境界部を一定幅
スリツト光に代えて用いても検出は可能である。 Furthermore, although illumination was performed using a slit light beam with a constant width, detection can also be performed by using wide illumination with a clear bright-dark boundary in place of the constant width slit light beam.
以上の説明から明らかなように、本発明は光切
断法を利用して線条体の形状を捉え、その形状変
化を良品の場合と比較して検査しているため、従
来の方法では検出困難であつたゆるやかな凹凸、
表面に印刷マークがある場合などの形状欠陥や高
速で移動する線条体の検査に極めて有効である。
又、検査すべき線条体の位置変動を検出して、マ
スク位置を自動追従させることにより、誤検出の
防止と、検出精度の向上を実現することができ、
高速、高精度を要求される生産工程に適した検査
装置を得ることができる。 As is clear from the above explanation, the present invention utilizes a photosection method to capture the shape of the striatum and examines changes in shape by comparing it with that of a non-defective product, which is difficult to detect using conventional methods. Warm and gentle unevenness,
It is extremely effective for inspecting shape defects such as those with printed marks on the surface and striatal bodies that move at high speed.
In addition, by detecting changes in the position of the striatum to be inspected and automatically following the mask position, it is possible to prevent false detection and improve detection accuracy.
It is possible to obtain an inspection device suitable for production processes that require high speed and high precision.
更に本発明は、形状の良否判定の基準となるマ
スクがフイルムネガあるいは乾板等により容易に
作成、着脱できるので、各種の形状検査に適用可
能であり、極めて応用範囲が広く経済的な装置を
得ることができる。 Furthermore, the present invention can be applied to various shape inspections because the mask that serves as a standard for determining whether the shape is good or bad can be easily created using a film negative or a dry plate, and can be attached and removed. be able to.
第1図は、本発明の一実施例を示す線条体形状
及び欠陥検査装置の正面図、第2図は、その側面
図、第3図は、全体構成図、第4図は、光切断検
出器における比較判定の原理を示した図であり、
第5図は、その場合の誤検出を示した図、第6図
は、マスク位置の制御回路を示したブロツク図、
第7図は、処理回路図、第8図は、光切断検出器
の詳細図、第9図は、本発明をゴムホース検査に
適用した他の実施例説明図、第10図は、その処
理回路を示すブロツク図、第11図は、マスク制
御の詳細説明図、第12図は、制御回路のブロツ
ク図を示すものである。
1:線条体、2,2′,2″、:スリツト投光器、
3,3′,3″:光切断検出器、4,4′:変位検
出器。
Fig. 1 is a front view of a filament shape and defect inspection device showing one embodiment of the present invention, Fig. 2 is a side view thereof, Fig. 3 is an overall configuration diagram, and Fig. 4 is an optical cutting device. It is a diagram showing the principle of comparative judgment in the detector,
FIG. 5 is a diagram showing erroneous detection in that case, and FIG. 6 is a block diagram showing a mask position control circuit.
Fig. 7 is a processing circuit diagram, Fig. 8 is a detailed diagram of the optical cutting detector, Fig. 9 is an explanatory diagram of another embodiment in which the present invention is applied to rubber hose inspection, and Fig. 10 is its processing circuit. FIG. 11 is a detailed explanatory diagram of mask control, and FIG. 12 is a block diagram of the control circuit. 1: striatum, 2, 2', 2'',: slit floodlight,
3, 3', 3'': optical cutting detector, 4, 4': displacement detector.
Claims (1)
ら被検査物体である線条体に投光されたスリツト
光の像を検出すると共に検出されたスリツト光の
像(光切断像)を光電変換して電気信号を得る光
電変換器を有してなる光切断検出器と、前記電気
信号に基いて線条体の断面形状の変化及び欠陥を
検出する判定回路とからなる線条体の形状及び欠
陥検査装置であつて、前記光切断検出器は、線条
体の光切断像面上に配置されて線条体の正常部に
対応する光切断像を遮光しかつその前記正常部か
ら外れた部に対応する光切断像を透過する光学マ
スクと、線条体の移動方向と垂直な平面内におけ
る線条体の位置ずれを上記スリツト光の投光位置
の直前において検出する変位検出器と、該変位検
出器の出力を前記光学マスクの位置移動機構にフ
イードバツクすることにより前記光切断像面上に
配置された光学マスクを前記線条体の位置ずれに
追従して移動できるようにする制御回路とを有
し、更に、前記光切断検出器は、線条体の正常部
の光切断像を焼込んだネガフイルム又は写真乾板
又はこれらにより作成された光学マスクを着脱可
能に固定する位置決め機構と、上記スリツト光の
光路上に配置された(スリツト光に対する)シヤ
ツタ機構とを有してなることを特徴とする線条体
の形状及び欠陥検査装置。1. A slit light projector, which detects the image of the slit light projected from the slit light projector onto the slit body, which is the object to be inspected, and photoelectrically converts the detected slit light image (photocutting image) to generate electricity. A device for inspecting the shape and defect of a filamentous body, comprising a photo-cutting detector having a photoelectric converter for obtaining a signal, and a determination circuit that detects a change in the cross-sectional shape of the filament and a defect based on the electrical signal. The photosection detector is disposed on a photosection image plane of the striatum to block a photosection image corresponding to a normal portion of the striatum and correspond to a portion outside of the normal portion. an optical mask that transmits a light-cut image of the slit, a displacement detector that detects a positional shift of the slit in a plane perpendicular to the direction of movement of the slit, immediately before the projection position of the slit light; and a control circuit that feeds back the output of the device to the optical mask position movement mechanism so that the optical mask placed on the light cutting image plane can be moved in accordance with the positional shift of the filament. Further, the photocutting detector includes a positioning mechanism for removably fixing a negative film or a photographic plate on which a photocutting image of the normal part of the striatum is burned, or an optical mask made from these, and the slit. 1. A shape and defect inspection device for a filament body, comprising a shutter mechanism (for slit light) placed on an optical path of light.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10945480A JPS5734403A (en) | 1980-08-09 | 1980-08-09 | Inspecting device for shape and defect of linear object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10945480A JPS5734403A (en) | 1980-08-09 | 1980-08-09 | Inspecting device for shape and defect of linear object |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5734403A JPS5734403A (en) | 1982-02-24 |
JPS6312241B2 true JPS6312241B2 (en) | 1988-03-18 |
Family
ID=14510639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10945480A Granted JPS5734403A (en) | 1980-08-09 | 1980-08-09 | Inspecting device for shape and defect of linear object |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5734403A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010169404A (en) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Method for measuring long body with projection |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0518416Y2 (en) * | 1984-12-26 | 1993-05-17 | ||
JPS62249005A (en) * | 1986-04-22 | 1987-10-30 | Bridgestone Corp | Inspecting deice for abnormality of shape of object |
WO1988007190A1 (en) * | 1987-03-09 | 1988-09-22 | Battelle Memorial Institute | Optical inspection system for cylindrical objects |
CN105445285A (en) * | 2014-09-26 | 2016-03-30 | 宝山钢铁股份有限公司 | Visual detection device and method for wire rods without tension constraint |
CN104297439B (en) * | 2014-10-21 | 2019-09-13 | 南京农业大学 | A method for automatic recognition and detection of double-yellow duck eggs based on computer vision |
-
1980
- 1980-08-09 JP JP10945480A patent/JPS5734403A/en active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010169404A (en) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Method for measuring long body with projection |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5734403A (en) | 1982-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7499156B2 (en) | Closed region defect detection system | |
JPS58153327A (en) | Inspecting device for pattern | |
JP3101290B2 (en) | Surface condition inspection device, exposure apparatus, and surface condition inspection method | |
JPH03267745A (en) | Surface property detecting method | |
US4498776A (en) | Electro-optical method and apparatus for measuring the fit of adjacent surfaces | |
JP3494762B2 (en) | Surface defect inspection equipment | |
JPS6312241B2 (en) | ||
KR100805076B1 (en) | Wafer Inspection Equipment | |
JP2693791B2 (en) | Defect inspection equipment | |
JPH11248643A (en) | Detection device for foreign matter in transparent film | |
JP4288086B2 (en) | Exposure equipment | |
JP3469714B2 (en) | Photoconductor surface inspection method and photoconductor surface inspection device | |
JP2006194626A (en) | Eccentricity measuring device | |
JPS62249005A (en) | Inspecting deice for abnormality of shape of object | |
JPH11183151A (en) | Transparent sheet inspecting equipment | |
JPH0351747A (en) | pattern inspection equipment | |
JP2947916B2 (en) | Surface condition inspection device | |
KR19980048011A (en) | Mask inspection device | |
JP2988594B2 (en) | Wafer center detection device | |
JPH03160450A (en) | Mask defect inspection method | |
JP5476069B2 (en) | Film formation unevenness inspection device | |
JPH02138669A (en) | pattern inspection equipment | |
JPS63193041A (en) | Apparatus for inspecting foreign matter | |
JPH0672775B2 (en) | Inspection device for mounted printed circuit boards | |
JP2002507330A (en) | Method and apparatus for measuring height position of target edge of component element |