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JPS62283940A - 新規な芳香族ナフチル化合物、その製造法及びそれを含む製薬又は化粧料組成物 - Google Patents

新規な芳香族ナフチル化合物、その製造法及びそれを含む製薬又は化粧料組成物

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JPS62283940A
JPS62283940A JP62125043A JP12504387A JPS62283940A JP S62283940 A JPS62283940 A JP S62283940A JP 62125043 A JP62125043 A JP 62125043A JP 12504387 A JP12504387 A JP 12504387A JP S62283940 A JPS62283940 A JP S62283940A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
不発明は新規な芳香族ナフチル化合物、それらの製造法
及び人間及び動物用医薬及び化粧料におけるそれらの応
用に関する。 これら新規な化合物は角質化（分化−増殖）異常に関連
する皮膚病また炎症性及び／又は免疫アレルギー性の皮
膚病又は他の疾病の組織的及び局所的処置においてまた
結合組織ならびに抗腫瘍活性の変質症において適用され
る。そのほかこれらの化合物は皮膚系又は呼吸器系のア
トピー及びリューマチ様の乾ツの処置に利用できる。 これらの化合ｖＪはまた座街に含まれる細菌に対しても
良好な活性を示す。 また眼科の分野においてもとく九角膜症処置に適用され
る。 不発明の芳香族す７チル［ヒ合物は次の一般式（１）〔
式中ｎはθ又はｌであり、Ｒ’は水素原子、ＯＲ基、ア
シルオキシ基、低級アルコキシ基又はＮＨ。 基を表わし、Ｒ′は水素原子又は低級アルコキシ基を表
わし、あるいはＲ′及びＲ′は一緒になってオキソ基（
＝Ｏ）、メチレン基（−ＣＨ２）又はヒＰロキシーイξ
ノ基（−Ｎ−ＯＨ）を形成し、Ｒは−ＣＨ２０Ｈ又は−
ＣＯＲ８基を表わし、但しＲ８Ｆｉ水素原ｒ′ 子、ＯＲ９基又は−Ｎ＜、を表わし、得は水素原子、炭
３！原千数ｌ乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基、
モノ−又はポリヒｔロキシアルキル基、置換又は非置換
のアリール又はアラルキル基、又／ｒ′ は糖残基あるいはまた−（ＣＨ２）ｐ−Ｎ１ｒ、基を表
わし、ｐは／、！又は３であυ　ｒｌ及びｒ′は同じで
も異なっても良く、水素原子、低級アルキル基、異原子
を介在させても良いモノヒｔロキシアルキル基又はポリ
と一ロキシアルキル基、置換又は非置換のアリール又は
ベンジル基、アミノ酸残基又はアミン化膿の残基を表わ
し又は−緒になって複素環を形成し、Ｒ，、Ｒ２、Ｒ，
及びＲ４は同じでも異なっても良く水素原子、低級アル
キル基、炭素原子数ｌ乃至μ個のアルコキシ基、低級フ
ルオルアルコキシ基、−ＣＦ、基、ＯＨ官能基、置換又
は非置換のアミノ官能基、低級アシルアミノ基又は低級
アルコキシカルゼニル基を表わし、置換基Ｒ１乃至Ｒ４
は同時に二つのベンゼン核の一方に又は間該に配分され
ていてもよ＜　、Ｒ５＊　Ｒ６及びＲアは水素原子又は
メチル基を表わし又は亀＝ｌのときＲ５及びＲ７はとも
にベンゼン核と一緒になってナフタレン核（Ｒ５−Ｒ，
は−ＯＨ暑ＣＨ−）を形成できる〕により表わすことが
でき、式（１，）の該化合物の塩ならびにそれらの幾何
学的及び光学的異性体を包含する。 低級アルキル基とは炭素原子数７乃至６個のアルキル基
とくにメチル、エチル、イソプロピル、ブチル及びｔ−
ブチル基と解するものどする。 モノヒρロキシアルキル基とは炭素原子数コ乃至６個の
基トくに２−ヒを口中シーエチル、コーヒーロキシーデ
ロビル又はコーヒｔロキシエトキシエチル基と解するも
のとする。 ボリヒｔロキシアルキル基とは炭素原子数３乃至６個、
とρロキシル基数２乃至５個の基例えば／、Ｊ−、）ヒ
ｐロキシープロビル、コ、３−ジヒｒロキシプロビル又
はペンタエリトリット残基と解するものとする。 了り−ル基とは場合によってはハロゲン原子、ヒＶロキ
シ又はニトロ官能基で置換されている７エ二ル基と解す
るものとする。 アミノ酸残基とはたとえばメチオニン又はα−又はβ−
アラニンから由来するアミノ酸残基と屏するものとする
。 糖残基とはたとえばグルコース、マンノース、エリトロ
ース又はガラクトースから由来する糖残基と解するもの
とする。 アミン化糖残基とはグルコサミン、ガラクトサミン又は
マンノ−サミンから由来する残基と解するものとする。 ビ及びｒ１基が一緒になって複素４を作るときはこの複
３！環はピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、ピロリ
ジノ又は弘−（２−ヒｒロキシーエチル）ピペラジノ基
であるのが好ましい。 シクロアルキル基とは炭素原子数よ乃至ｌλ侭の基とく
にシクロペンチル、シクロヘキシル又はアダマンチル基
と解するものとする。 低級アルコキシ基は炭！！！原子数！乃至μ個の基好ま
しくはメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ又Ｈｔ−ブ
トキシ基である。 低級アシル基は好ましくはアセチル基又はプロピオニル
基である。 ハロゲン原子は塩素、臭素又は弗素である。 本発明の化合物が塩の形をしているときそれらに遊離の
酸官能基が少なくとも一つあるならアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の塩あるいはまた亜鉛又は有機アミンの
塩にするかそれらにアミン官能基の少なくとも一つがあ
るなら無機酸又は有機の酸の塩とくに塩酸塩、臭化水素
酸塩又はくえん酸塩にすることができる。 好ましい実施形式に従うと本発明による化合物は次式（
ＩＩＩ　： 〔式中ｎはＯ又はｌであり、Ｒ’１．　Ｒ’２及びＲ′
４は水素原子又は低級アルキル基を表わし、Ｒ′５　は
低級アルキル基又は低級アルコキシ基を表わし、Ｒ′は
水嵩原子又はＯＨ基を表わしＲ′は水素原子を表わしあ
るいはＲ′とＲ′とが一緒になってオキソ基（！Ｏ）を
形匠し、Ｒは−ＣＨ２０Ｈ又ＦｉＣＯＲ′８ｒ′ を表わし但しＲ′８は一〇Ｒ′、又は−Ｎ−′、を表わ
し、＼ｒ Ｒ１，は水素原子又は低級アルキル基でろりビは水素原
子で６９ｒ′は低級アルキル基である〕及び次式ＩＤ： ８′４ 〔式中Ｒ、Ｒ’　、　Ｒ’　、　Ｒ’１．　Ｒ’２．　
Ｒ′５及びＲ′４は上記式（ｎ）について示した意味と
同じ意味を有する〕のうちの１つに相当する。 前記式（Ｉ）の化合物のうちとくに下記の化合物をあげ
ることができる： ／）　Ａ　−（ル、７−シメチルー２−す７チル）カル
ゼニルナ７タレンー！−カルゼン酸メチル、２）ぶ−（
ル、７−シメチルー２−す７チル）カルボニルナフタレ
ン・コーカルゼン酸、Ｊ）＆−（！、ｒ−ジメチル−６
−メドギシーコーナフチル）カルボニルナフタレン・コ
ーカルゼン酸メチル、 ４ｃ）　ａ−（ｔ　、　ｒ−ジメチル−６−メドキシー
２−ナフチル）カルボニルナフタレン・コーカルゼン酸 ｔ）　Ｎ−エチル−ルー（！、ｒ−ジメチルーＡ−メト
キシーコ−ナフチル）カルボニルナフタレン・コーカル
ゼキサミｔ１ ４）　４−　（４−メトキシーコーナフチル）カルボ二
ｋ　−ｆフタレン−２−カルゼン酸メチル、７）Ａ−（
４−メトキシ−λ−ナフチル）カル２ニル−ナフタレン
・コーカルゼン酸 ｒ）　Ａ　−（ｊ　、！−クジメチル−６−メドキシー
ーーナフチルヒｔロキシメチルーナフタレン・コーカル
ゼン酸、 り）Ｎ−エチル−ｔ−（ｊ、ｒ−ジメチルールーメトキ
シーコーナフチル）−ヒＰロキシメチルーナフタレン・
コーカルゲキサミＰ。 １０）　Ａ　−（Ｊ　、！−ジメチルー６−メドキシー
λ−ナフチル）上２０キシメチルーナフタレン・コーカ
ルピノール、 ／／）　）ランス−ａ（ｚ、ｒ−ジメチル−４−メトキ
シ−２−す７チル）カルゼニルｅα−メチル桂皮酸エチ
ル、 ノコ）トランス−μ−（よ、Ｉｒ−ジメチル−６−メド
キシーコーナフチル）カルボニル・α−メチル桂皮酸、 ／Ｊ）　Ｎ−エチル−トランス−≠−（ｊ、ｒ−ジノチ
ル−６−メドキシーλ−ナフチル）カルボニル・α−メ
チル桂皮酸アミ？、 １４ｃ）　）ランス−μｍ（ｚ、ｒ−ジメチル−ｔ−メ
トキシーコーナフチルンヒｔロキシメチル・α−メチル
桂皮酸、 ｌｒ＞　ａ−（ｔ　、　ｒ−ジメチル−６−メドキシー
２−す７チル）カルゼニル・安息香酸メチル、ｉｔ）弘
−（よ、ｒ−ジメチル−乙−メトキシーコーナフチル）
カルゼニル・安息香酸、 ／７）　４４−（！、　！−ジｆｉｆｋ−６−メドキシ
ー２−す７チル）上２０キシメチル・安息香酸、Ｊｒ）
≠−（ｒ、ｒ−ジメチル−ルーメトキシ−コーナ７チル
）ヒＰロキシメチルーフェニルカルビノール、 ｌり）φ−（、ｔ、ｒ−ジメチル−６−メドキシー１−
ｆメチル）カルゼニル・ペンズアルデヒＰ。 ２０）　Ｎ−エチル−弘−（ｊ、ｒ−ジメチル−ルーメ
トキシ−２−す７チル）カルゼニル・ベンズアミρ、 ２／）／−（！、！−ジメチル−６−メドキシーコーナ
フチル）−／−（Ａ−カルゼキシλ−ナフチル）１１メ
タン、 ２２）　／　−（ｊ　、　Ｊｒ−ジメチル−６−ノドキ
シ−２コーナフチル）−／−（ルーＮ−エチルカルゼキ
サミ？２−ナフチル）・メタン。 本発明はまた前述した如き式（１）の化合物の製造法に
も関する。 Ｒ′及びＲ′が一緒になってオキソ基を作りｎがＯであ
る式（１）のｆヒ合物は下記の反応式に従って得られる
： ロ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
＋ミ ミ１ 引　　　　　　　　　　　　　　到 原料の≠−アルコキシカルゼニル安息香酸（１）は≠−
ホルミル安息香酸アルキル好ましくは市販品であるμｍ
ホルミル安息香酸メチルの酸化によって作られる。 対応の醒りロリＰは在来の酸クロリｔの製造法に従って
塩ｆヒチオニルの作用により作られる。 ｇ−フルコキシカルゼニル安息香酸りロリＰ（２）のナ
フタレン誘導体（３）への縮合反りはフリーデル・クラ
フト反応の条件下すなわち温度Ｏ乃至コ！℃の１．コー
ジクロルエタンの如き有機溶媒中無水塩化マグネシウム
の存在、下に攪拌しながら行なわれる。 エステル（４）からケン化によシ対ろの酸（５）に達し
これを引続いてＮ　、　Ｎ’−カルボニルジイミダゾー
用により式（６）のアミｔに転化できる。 式（１）のＲ７の若干の意味についてはとくにＲ２がモ
ノヒｔロキシー又はポリヒＰロキシアルキル基を表わす
ときｌ！２（５）をメチルｘ　ステル（４）　（Ｒ９−
ＣＨ３）から作り引続いてとうして得られた酸を公知の
方法に従って選ばれたアルコールのエステルにエステル
化するのが望ましい。 式（Ｉ）の化合物でＨｚ／のときこれらは下記の反応式
に従って作られる： ケトｌ！ＩＩ（５）　＋１水素ｆヒリチウムアルミニウ
ムの存在下に還元されて対応のりオール（７）となシこ
れを次にクロルクロム酸ピリジニウム（ＦＣＣ）の存在
下に酸化してケトーアルデヒ？（８）とする。後者は置
換基のある又はないホスホノ酢酸アルキルとのウィツテ
イヒ・ホルネル灰石により水素化ナトリウムの存在下Ｔ
ＨＦの如き有機溶媒中において式（９）の不飽和エステ
ルとなる。 式（９）のエステルは引続いて前記と同様に対応のって
アミ２に転化できる。 Ｒ’−ＯＨ，Ｒ’＝Ｈの式（１）の化合物はケトン誘導
体からＴＨＦ中で硼水素化ナトリウムによる還元によシ
作られる。 Ｒ’　＝Ｒ’　＝　Ｈの式（１）の１６合物は酢酸中、
塩酸の存在下にケトン誘導体の亜鉛による還元により作
られる。 これらカルセニル基の還元反応はもちろんさまざまなＩ
ｆ置換基　Ｒ１乃至Ｒ，）の種類とならびにＲ基と両立
可能でなくてはならない。それぞれの場合に忘じた保護
を確保することが望ましい。しかしＲ−−ＣＯ２Ｈのと
きはカルぎニルの還元は何ら困難を生じない。 前記式（１）の化合物のアシロキシ誘導体（Ｒ′１Ｃ，
−Ｃ４アシロキシ基及びＲ’＝Ｈ）は酸の無水物又はク
ロリ−の如き活性化された形の酸をＲ’　５ｍＯＨ、Ｒ
’＝Ｈの式（１）の化合物に反応させて作られる。 式（１）の化合物のアルコキシ誘導体（７１’　−〇、
　−Ｃ４アルコキシ基、及びＲ’−Ｈ）は同様にＲ’−
ＯＨ。 Ｒ’　−Ｈの式（１１の
【ヒ合物から公知の方法に従っ
て作られる。 アシルオキシ及びアルコキシ誘導体の裏造にはＲ基がエ
ステル、酸又はアミｔの官能基であることが好ましい。 Ｒ′及びＲ’が一緒になってオキソ基を形成する式りの
化合ｖＪは下記の反応式に従って作られる：原料のｔ−
アルコキシカルダニルーナフタレン−２−カルゼン酸α
Ｏはす７タレンー２．６−ジカルボン酸アルキル好まし
くは市販品であるす７タレンー２．４−ジカルゼン酸メ
チルのモノケン化反応によシ作られる。対応の酸クロリ
ρ０は在来の酸クロリを製造法によって塩化チオニルの
作用によって調製される。 ６−アルコキジカルゼニル・ｆ−７１’レンーλ−カル
ゼン酸りロリｙｏ１）の縮合反応はフリーデル−クラフ
ト反応条件下にナフタレン誘導体四になり、ハロゲノナ
フタレン誘導体マグネシウム化合物（至）になるように
行なうことができる。 フリーデル−クラフト灰石条件は式（４）の化合物の調
製について上記したものと同じである。ハロゲノナフタ
レン誘導体マグネシウム化合物口の調製は無水Ｔ）（Ｆ
中において還流を行ないながら実施され、酸クロリ−の
縮合は同じ溶媒中温度約Ｏ℃において実施される。 前記式（ＩＩの化合物について上述した方法と同じ方法
に従って式［相］の他の化合物すなわち式（至）及び（
７）の化合物ならびにＲ′及びＲ′が一緒になってオキ
ソ基とは異なる基となっている式［相］の化合物に達す
ることができる。 本発明はまた医薬としての上記に定義したとおｐの式（
１１の化合物も対象とする。 これらの化合物は裸のラットにおける”テープ剥離”に
よる誘発後のオルニチンデカルＩキシラーゼ阻止試験に
おいて活性である（　Ｍ、Ｂｏｕｃｌｉ＠ｒ及び共同研
究者Ｄａｒｍａｔｏｌｏｇｉｃａ　／　Ａ　？　、　Ａ
　１４（ｉｙｒｕ））。この試験は抗増殖作用の尺度と
して容認されている。 これらの化合物はとくに角質［ヒ（公比−増殖）の異常
に関連している皮膚病ならびに炎症性及び／又は免疫ア
レルギー性の皮膚病その他とくに通常の、上部黒色の又
は多形の座癒、老年性、日焼けによる座癒及び医薬によ
る又は職業性座癒、広がった及び／又は重度な形の乾癖
及び他の角質化の疾病及びとくに魚鱗癖及び魚鱗１様状
態、ダリエー氏（Ｄ鮭ｉ’＊ｒ）病、 手掌足底角層炎、 白板症及び白板従機状態、扁平苔督、 あらゆる良性又は悪性の重度な又は広がった皮膚病性増
殖 の処置によく適している。 これらの化合物はまた腫瘍、リューマチ様乾癖、皮膚系
又は呼吸器系アトピーならびに角膜症関連の眼科の諸症
の処置において活性である。 従って不発明はまた上記に定義したとおりの式（１）の
化合物、それらの塩及び／又はそれらの異性体のうちの
少なくとも７種を含んでいる製薬組成物も対象とする、 従って本発明はまた、とくに上記の諸疾患処置用の製薬
組成物であって許容し得る賦形剤中に式（Ｔ）の化合物
及び／又はそれらの塩及び／又はそれらの異性体のうち
少なくともｌｉａを含んでいる製薬組成物も対象とする
。 本発明による式（Ｉ）の化合物であってｎｘａ　Ｑのも
のならびに弐りのｆヒ合物は光及び酸素に対して安定性
良好である。 本発明によるｒヒ合物は一般に体重／ｋｐめたり日用量
約２μ？乃至２■で投与される。 前記組成物の賦形剤としては任意の慣用の賦形剤が使用
でき、活性「ヒ合物は賦形剤中に溶解した又は分散した
状態で存在している。 投薬ＩＩｉ腸管・腸管外（非経口）・局所又は眼を経由
して実施できる。腸管経由のためには医薬を錠剤、カプ
セル、糖衣錠、シロップ、懸濁液、溶液、粉末、顆粒、
乳濁液の形とすることができる。 腸管外経由のためには組立物は潅注用又は注射用の溶液
又は懸濁液の形とすることができる。 局所経由のためには本発明による化合物を基剤とする製
薬組成物は軟膏、チンキ、クリーム、ボマーｔ１粉末、
貼布、含浸綿栓、１＠液、ローション、ゲル、スプレー
又は懸濁液の形をしている。 これら局所経由用の組成物は臨床症候に応じて無水の形
にも水性の形にもすることができる。 眼経由の丸めには主として点眼薬である。 本発明による局所又は眼経由用組底物は好ましくは組成
物全重量に対し上記に定義したとおりの式（１１のｆヒ
合物の少なくとも／ｆｉをｏ、ｏｏｒ乃至ｊ重量傷含ん
でいる。 本発明による式（１）の化合物はまたｆヒ粧料の分野と
くに身体及び毛髪の衛生においてとくに座癒の傾向のあ
る皮膚の処置のため、毛髪再生φ脱毛防止のため、皮膚
及び毛髪の脂肪性外観に対処するため、太陽の有害な影
響からの保護に又は生理学的に乾燥している皮膚の処置
に適用される。 従って本発明はまた許容し得る化粧料担体中に式（１）
の１Ｌ合物又はそれらの塩及び／又はそれらの異性体の
少なくとも１種を含んでいる化粧料組成物も目指し、こ
の組成物はとくにローション、ゲル、石ケン又はシャン
プーの形をしている。 化粧料組成物中の式＋１）の１Ｌ合物の濃度は組成物全
重量に対してｏ、ｏｏｒ乃至２重量冬好ましくはｏ、ｏ
ｉ乃至１重量鴫である。 本発明による製薬及び化粧料担体中は不活性の添加剤又
は薬理学的に又は美容上活性の添加剤さえ含有でき、と
くに、チアモルホリノン及びその誘導体又は尿素の如き
吸湿剤：Ｓ−カルゼキシメチルシステイン、Ｓ−ベンジ
ル−システアミン、ソれらの塩及び誘導体、チオキンロ
ン又は過酸化ベンゾイルの如き抗脂漏剤又は抗座債剤：
エリスロマイシン及びそのエステル、ネオマイシン、テ
トラサ゛イクリン及びφ、！−ホリメチレンー３−イン
チアゾリノンの如き抗生物質：ミノキシジル（”Ｍｉｎ
ｏｘＬｄＨ″＝コ、≠−ジアミノー６−ビペリジノービ
リミジンー３−オキシρ）及びその誘導ｌ−ジオキシ？
）及びフエニ上イン（Ｐｈ１ｎｙｔｏｉｎ−！、！−ジ
フエエルーイミ！シリジン−２，μ−ジオン）の如き毛
髪再生剤：ステロイ２系及び非ステロイｒ系抗炎症剤；
カロテノイＰとくにβ−カロチン：アントラリン及びそ
の誘導体、ｊ。 ｒ、／／、／ＩＬ−エイコサテトラエン酸及びｊ。 ｔ、ｔｉ−エイコサトリエン酸ならびにそれらのエステ
ル及びアミＰの如きの抗乾癖剤を含むことができる。 本発明による組成物はまた風味改良剤、防腐剤、安定剤
、調湿剤、ｐＨ調節剤、浸逍圧改変剤、乳化ｉ！ｒｌｌ
、紫外ｉＡ及びＢフィルター、α−トコフェロール、ブ
チルビロキシアニソール又はプチルヒ？ロキシトルエン
の如き酸比防止剤も含むことができる。 以下説明のため本発明を限定することなく、本発明によ
る式（１１の活性化合物の製造の数例ならびにそれらを
含有している組成物の例を示す。 実施例１ Ｒ’！ｈＦｉ−ＯＣＨ，Ｒｔ′１−ｃｏ２ｃＨ，である
式［相］のｆ？、金物）無水／、２−ジクロルエタン４
０（−ｄ中の１１μｍジメチル・ユーメトキシナフタレ
ンノＪ　Ａ　？（１０ｒｎｍｏｌ）及び６−メドキシカ
ルゼニル、ナフタレン・２カルＲン酸クロリ？−０≠り
ｔ（ｉ。 ｍｍｏｌ）の懸濁液に、無水塩化アルミニウム１．１ｒ
’）？（／μｍｍｏｌ　）を少量ずつ添加した。この混
合物を常温で３時間攪拌し、次に酸性としである氷水１
００ｙｄに注いだ、有機相を傾瀉する。水相をジクロル
エタンｒＯｄで２回抽出した。ジクロルエタン相を合せ
炭酸水素ナトリウムで洗い硫酸ナトリウム上で乾燥させ
次に減圧下で濃縮した。得られた固体をシリカゲル１０
でのクロマトグラフィーにより棺製しジクロルメタン／
トルエン７０／３０混合物で溶出し、次にアセトニトリ
ルから再結晶させた。乾燥後Ａ−（ｊ、ｒ−ジメチル６
−メトキシλ−す７チル）カルゼニルナフタレン・２−
カルゼン酸メチルの黄色結晶へ３ｆが得られた。 融点／７？Ｃ ’ＨＮＭＲ（６０ＭＨｚ）スペクトルは所期の構造に合
致した。 元素分析二Ｃ２６Ｈ２５０ 計算値：　Ｃ７Ｌ、３７　　Ｈｊ、！７　０／ん０６幅
実測値：　　７７．７！　　　４．２Ａ　　　°ｌ丸Ａ
ｒ４ｂ実施例λ （ル′及びＲ′はオキソ、Ｒ’、　、　Ｒ’４はＨＸＲ
’２．Ｒ’。 は−ＣＨ６及びＲは−ｃｏ２ｃｕ３である弐■の化合物
）゛無水１．コージクロルエタンルＯ−中の２．３−ジ
メ′トルナフタレン’−”（／２ｍｍｏｌ）及び６−メ
ドキシカルゼニルナフタレンー２＝カルゴンークロリｙ
３ｔ　（ｉコｍｍｏｌ　）の懸濁液に、無水塩化アルミ
ニラＪｈＪ、２　ｆ　（Ｊｇｍｍｏｌ　）を少量ずつ添
加した。混合物を常温において３時間攪拌し次に酸性に
しである氷水１００にｄに注いだ。有機相を傾瀉する。 水相をジクロルエタン６０ｃＩｉによりコ回抽出し念、
ジクロルエタン相を集め炭酸水素ナトリウムで洗い硫酸
ナトリウム上で乾燥させ次に減圧下で濃縮した。得られ
た固体をシリカゲル６０でのクロマトグラフィーによシ
精製しジクロルメタン／トルエン４０７μＯ混合物で溶
出し次にメタノールから再結晶させ念、乾燥後に黄色結
晶の４−（Ａ、フージメチルコーナフチル）カルボニル
ナフタンンー２−カルゼン酸メチル１．３９が得られた
。融点二１７６℃ ’ＨＮＭＲ（４ｏ　ＭＨｚ）スペクトルは所期の構造に
一致した。 元素分析：　Ｃ：ｚｓＨｚｏＯｓ 計算値：　Ｃｒ／、ｊＯＨｊ、１１７　０／ＡＯＪ鳴実
測値：　　ｌｒｔ、ａｒ　　　Ｊ、４ｃａ　　　／ｉ、
２ｒ４実施例３ （Ｒ／及びＲ１はオキソ、Ｒ’１．　Ｒ′２．　Ｒ’４
はＨ１Ｒ２は一〇ＣＩ（、、Ｒは−ＣＯ２ＣＨ３である
式［相］の化合物）無水／、２−．）クロルエタンｒｏ
ｃｄ中のλ−メトキシーナフタレンＱＱＡ９（／Ｊｍｍ
ｏｌ）及び６−メドキシカルボニルナフタレン・コーカ
ル／ｙ酸りロリｆＪ、、ＬＪ　９　（／　Ｊ　ｍｍｏｌ
　）の懸濁液に、無水塩化アルミニラＪｈに２３　？　
（２ｊｍｍｏｌ）を少量ずつ添加した。混合物を常温に
おいて１時間攪拌し次に酸性にしである氷水／ｊ０６ｄ
に注いだ。有機相を傾瀉する。水相をジクロルエタン６
０（ｙｌにより２回抽出する。ジクロルエタン相を集め
炭酸水素ナトリウムで洗い硫酸ナトリウム上で乾燥させ
次に減圧下で濃縮した。得られた固体をメタノールから
連続コ回再結晶させて第１製した。 乾燥後に黄色結晶のＡ−（６−メトキシλ−ナフチル）
カルボニルナフタレン−２−カルボン酸メチル１．りｒ
ｅが得られた。融点：　／　Ａ　Ｏ℃’ＨＮＭＲ（＆　
ＯＭＨｚ）スペクトルは所期の構造に一致した。 元素分析：Ｃ２４Ｈ１８０４ 計ＪＥ１直：　　Ｃ，７７Ｊ２　　　Ｈ４４，９００／
７．２１ｒ４実測値ニア７、りｊ　　　　　４Ａ、り／
　　　　　／７．／ｊ’ｌｓ実施例仏 の製造 （Ｒ’及びＨ４，’ｌｒｉオｄＦ７、Ｒ／１．　Ｒ−は
−ＣＨ５，ＰＩ’２ＨＨ、Ｒ’５　ｆｌ−ＯＣＨ５、Ｒ
ｕ　−Ｃｏ２Ｈテアル式佃）ノ化合？！ｌ） 実施例１において得られたｔ−（ｚ、ｒ−ジメチル−ｔ
−メトキシλ−す７チル）カルゼニル゛ナフタレンーコ
ーカルゼン酸メチル１．１１？（２３ｂ　ｍｍｏｌ　）
の懸濁物をアルコ−Ａ／　Ｊ　Ｏ（３７とＡＮ水酸化カ
リウム水゛溶液ＪＯｄｌとの混合物中で攪拌しながら３
時間加熱還流した。水１００ｃｄを加えた後にアルコー
ルを真空下で蒸発させて除いた。こうして得られた水相
を１００ｄに希釈しＱ乃至１℃に冷し次に／２Ｎ塩酸Ｊ
Ｏｃ１１により酸性とした。得られた沈澱ｔ−戸別し水
で洗い水酸ｆヒカリウム上ｒＯ℃で乾燥させた。少量の
酢酸を含んでいるメチルエチルケトンから再結晶させた
後にベージュ色結晶のｔ−（ｚ、ｒジメチル−６−メド
キシコーナフチル）カルゼニルナフタレンーλ−カルボ
ンｒｊＩＩＯ０７７９が得られる。融点二２７３℃。 ＩＨＮＭＲ（ｊ　ｊ　ＯＭＨｚ）スペクトルは所期の構
造に一致した。 元素分析”　０２５Ｈ２０°４ 計算値：　Ｃ７１ｒ、ｌ　ＯＨｊ、λｒ　　Ｏｃｔ、、
４ｇ４実測領：　　７７．１２　　　！Ｊｒ　　　／Ｇ
６ｇｊ４実施例！ （Ｒ’及びＲ１はオキソ、Ｒ’１．　Ｒ’４は■、Ｒ′
２゜Ｒ１５は−ＣＨ５Ｒは−ＣＯ□Ｈである弐曲）の（
ヒ合物）実施例２において得られたＡ−（４，７−ジメ
チル２−す７チル）カルゼニルナフタレン・２−カルボ
ン醪メチル１．１ｇ（２，２℃ｍｍｏｌ）の懸濁物をア
ルコール２０ｄ及び６Ｎ水酸化カリウム水溶液λＯｄｌ
の混合物中において攪拌しながら２時間加熱還流した。 水１００ｄの添加後に真空下で蒸発させてアルコールを
除く、得られた水相を２００ｄに希釈しＯ乃至１℃に冷
却し次に／ＪＮ塩酸コＯｃｄで酸性とした。得られた沈
澱を戸別し水で洗い水ａ（ヒカリウム、上ｒｏ℃で乾燥
させた。 イソプロ・ぐノールから再結晶後黄色結晶の６−（４，
７−、）メチルλ−ナフチル）カルゼニルナフタレン・
コーカルゼン＃０．Ａ７□が得られた。 融点：２７７℃ ’ＨＮＭＲ（２ｊ　ＯＭＨｚ　）　ｈ所期の構造に一致
した。 元素分析二Ｃ２４Ｈ１８０５ 計算喧：　Ｃｒｌ、Ｊ（ｔ　　Ｈｄ、／λ　Ｏ／　Ｊ、
おＩ実測値：　　ｔｏ３デ　　ｊ、／Ｊ　　　／３．り
６４実施例６ （Ｒ’及びＲ′はオキソ、Ｒ’　　、　Ｒ’　　、Ｒ’
４は水素、ｎｌ、は０Ｃ）ｉ、　、　ＲはＣ０２Ｈの式
（師の化合物）実施例３において得られた６−（６−メ
トキシ２−ｆメチル）カルゼニルナ７タレン・２−カル
ボン酸メチルへよ？（μｍｍｏｌ）の懸濁物をア゛ルコ
ールＪＯｄｌと６Ｎ水酸比カリウム水溶ＱＪＯｄとの混
合物中で還流しながら３時間攪拌加熱する。水／３０に
ｄを加えた後にアルコールを真空下で蒸発させて除く、
得られた水相をオ００ｃｄに希釈しＯ乃至１℃に冷却し
次にｌコＮ塩酸３０ｃ１１１で酸性とした。得られた沈
澱を戸別し、水で洗い水酸化カリウム上１０℃で乾燥さ
せた。少量の酢酸を含んでいるイソプロノぞノール／メ
チルケトン混合物から再結晶させて黄色結晶の６−（６
−メトキシλ−す７チル）カルゼニルナフタレン・−一
カルボンｆ９０．７１９が得られる。融点：１７μ℃。 １ＨＮＭＲ（２−ｔ　ＯＭＨｚ　）スペクトルは所期の
構造に一致した。 元素分析”　”’ＡＨＩ６０４ 計に１直　：　　Ｃ７７、ｊ／　　　　Ｈ２Ｃ，！Ｊ　
　　　Ｏ／乙り６４実施例７ （Ｒ’及びＲ〃けオキソ、”１　＊　Ｒ’４は−ＣＨ３
，Ｒ’２はＨ９＋ｔ／、は−０ＣＨ３，Ｒは−ＣＯＮＨ
Ｃ２）Ｉ５である式［相］の化合物」無水ジクロルメタ
ンター中の実施例コにおいて得られｆｔｔ−（ｊ、！−
ジメチルｔ−メトキシ・２−ナフチルＪカルゲニル　ナ
フタレン・コーカルゼン酸２４０　Ｒ９（０，７ｍｍｏ
ｔＪ及びＮ　、　Ｎ’−カルセニルジイミダゾール／　
ｊ　ｊ　１ｑ（０，ｌｒ　ＩＩ　ｍｍｏｔＪの懸濁液を
、常温において７時間攪拌し比。次に得られｆｃｇ液に
無水エチルアミンｏ、ｏｔｃｔａ＜θ、ｒ＜ｔｍｍｏＬ
Ｊを゛添加した。７時間攪拌後に反応媒体を約／３０−
に希釈して沈澱したアミドを溶かす工うにする。得られ
た溶液を水ｌ１０ｃｄ、０．３Ｎ塩酸ｐｏ−水ｕｏｃｒ
ｔで順に洗浄し念。ジクロルメタン相を硫酸す）　ＩＪ
ウム上で乾燥させ次に蒸発乾個させた。粗アミドを痕跡
の酢酸を含んでいるインプロノゼノールから再結晶させ
た。乾燥後に黄色結晶のＮ−エチルＪ−Ｃｊ、ｒ−ジメ
チル・ｔ−メトキシコーナフチル）カルゼニルナ７タレ
ン・２−カルゼキナミド２６０ｑが得られた。融点−２
３６で６ ’ＨＮＭＲ（コｊｄＭＨｚ）スペクトルは所期の構造に
一致した。 元素分析：　Ｃ２７Ｒ２５０ｓ 計算値：　Ｃ７１ｒＪ／　　Ｉ（ｔ、／２　　ＮＪ、Ｉ
Ｉｏ　　０１／、ｔ７％実測値：　　７Ｌ７／　　　ｔ
、／ｌ　　３ＪＯ／／、？３％実施例♂ （ｎ＝０．Ｒ’及びＲ〃はオキソ、Ｒ’１　、　Ｒ”４
は−ＣＨ３。 ｆ（′２はＨ，Ｒイは−ＱＣ）１３．Ｒは−ｃｏ２ｃａ
３の式（Ｉｔ）の化合物】 アセトン１ｚｏｅｔａ中のび一ホルミル安息香酸メチル
ｊＯＦの溶液に水１ｒｏｃｔｔｉ及び濃硫酸２７洲中の
重クロム酸カリウム３０９を含んでいる溶液を一滴ずつ
加えた。常温において攪拌を２時間維持したう減圧下で
アセトンを蒸発させた後に反応混合物を酢酸エチルで抽
出した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ次に濃
縮した。 粗製のψ−メトキシカルゼニル安息香酸ｌｅｔが得られ
これを酢酸エチルから再結晶させた。結晶１＆：戸別し
乾燥させた。融点２２２℃。’ＨＮＭＲスペクトルは所
期の構造に一致した１、ｂＪ　ｌ−メトキシカルゼニル
・安息香醗りロリ塩化チオニル！０−中の前項の酸ｊ２
の懸濁液ｔ−３時間≠Ｏ℃に加熱し念。反応の終りには
媒体は均質であり、次に晦液を減圧下で濃縮した。期待
の酸クロリドはノ々う色の薄片の形に結晶し念。 収率は定量的である。固体は直接に縮合反応に用いられ
る。 ｃＪ　　無水ｌ、λ−ジクロルエタン２００ｃ１１１中
の／、＜４−ジメチル２−メトキシナフタレン！？（０
，０２＆　ｒ　ｍｏｔ）及び上記ｂＪにおいて得られ次
ダーメトキシカルゼニル安息香酸りロリＦ’　＜４Ｊ　
ｊ　ｆ（０，０２参ｊ　ｍｏＬＪの溶液を温度ｓ℃にお
いて攪拌しこれに塩化アルミニウム１．ｊ？（０，０１
１０２ｍａｔ　）を夕景ずつ添加した。添加後攪拌？、
３０分間維持した０反応媒体′ｊｋ／夜常温に放置し、
次に氷上に注いだ。両相に不溶の沈澱が生じこれはμｍ
メトキシカルｙｇニル・安息香酸に相当する。有機相は
傾瀉し、水相はジクロルメタンで抽出した。 有機相を集め炭酸水素ナトリウム浴液で洗い硫酸マグネ
シウム上で乾燥させた。 有機相の減圧下での濃縮により所期の生成物が結晶し穴
。ヘキサン／トルエン混合物から再結晶させて黄色結晶
２．／　ｆが得られた。融点：ｌμｊ℃。 実施例り （ｎ＝４７．Ｒ’及びＲ１はオキソ、Ｒ／、　、　Ｒ／
４は。 −ＣＨ３、ｆイ、′２はＩ（、Ｒ’３は一０ＣＨ３Ｒは
−ｃｏ２　Ｈの式１）】 エタノール１０−中の実施例♂において得られたエステ
ル１．り２及び１１％水酸化カリウム０３ｊ９小推心物
ル）開部・加執居瘍す入−組纏いで電空下蒸発に□より
エタノールを除く。残渣を水１ｏｏｄにとり濃塩駿の添
加により酸性とする６期待の酸が沈澱する。これを戸別
し乾燥させ次にジイソプロピルエーテル／メチルエチル
ケトン混合物から再結晶させ比。グー＜ｊ、ｒ−ジメチ
ル　２−メトキシ２−ナフチル）カルゼニル安息香酸／
、／　ｆが単離された。融点＝２４ｔＯ℃。 １ＨＮＭＲ（２ｊ　ＯＭｌ（ｚ　Ｊスペクトルは所期の
構造に一致し穴。 元素分析”　２１　Ｒ１８ｏ４ 計算値：Ｃ７ｊ、ダ３　Ｈ！、弘ｊ　　Ｏ／り、／Ａチ
実測値：　　７！Ｊ乙　！、弘ｔ　／り、３グチ実施例
１０ （ｎ＝Ｏ，Ｒ’及びＲ１はオキソ、Ｒ／　１．　Ｒ／４
は−ＣＨ３、Ｒ’２は１（、Ｒ’３は一０ＣＨ３，Ｒは
−ＣＯＮＩ（Ｃ２Ｈ５である式（Ｕ）の化合物Ｊ 無水ジクロルメタンＪＯｃＩｄ中の実施例りにおいて得
られた酸！　００　Ｗ！（／、ｊ　ｍｍｏｔＪの懸濁液
に、カル寸？ニルジイミダゾールｊ　００　ｑ　（／、
ｒｍｍｏｔｌを加えた。攪拌を３時間維持し次に無水エ
チルアミン／ｉを加えた。反応媒体を７夜放置した。ジ
クロルメタンを真空下蒸発により除き残渣をメチルエチ
ルケトンにとる。有機相を水で洗い乾燥させ減圧下で濃
縮する。所期の生成物をシリカゲル上のクロマトグラフ
ィー（醇出液：トルエン／ＣＨ２Ｃｔ２／酢酸エチル（
，２／λ／ｌ目によし精製した。透明黄色結晶７３０η
が得られた。融点：２１０℃。 ’ＨＮＭＲ、ｚ、ベクトルはＮ−！チル＃　−（ｊ　、
　ｌｒ−ジメチル６−メドキシコーナフチル］力ルゼニ
ルベンズアミドに一致した。 実施例１／ （ｎ　＝＝　Ｑ　、　Ｒ’１　、Ｒ’４は−ＣＨ３Ｒ’
はＯＨ，Ｒ”、Ｒ’２はＨ，Ｒ’３は一０ＣＨ３Ｒは−
ＣＯ２Ｉ（である弐〇）の化合物Ｊメタノール！Ｏ−中
、の実施例りにおいて得られたμｍｆｊ、？−ジメチル
乙−メトキシーメトキシ２】カルボニル安息香酸Ｏ１！
２の溶液に常温において攪拌しながら硼水素化ナトリウ
ム０．２　Ｊ　ｆを少量ずつ加え念。攪拌ｉ／時間原料
が完全に消滅するまで維持した。反応媒体は水！Ｏｄで
加水分解し次に濃塩酸で酸性とする。減圧下でメタノー
ルを蒸発させた後水相を水！Ｏｄで希釈し酢酸エチルで
抽出する。有機相を水で洗い硫酸マグネシウム上で乾燥
させ減圧下で濃縮し次。 ヘキサン／アセトン混合物から再結晶させてグーＣｊ、
ｒ−ジメチル６−メドキシコーナフチル」ヒドロキシメ
チル・安息香酸２！ＯＨＩが得られた。 融点：／りＡ−／　Ｐ７℃。’ＨＮＭＲ（ｒ　ＯＭＨｚ
　）スペクトルは所期の構造に一致した。 の製造 （口＝　Ｏｌ　、　Ｒ’１　、　Ｒ’４は−ＣＨ３，Ｒ
’はＯＨ、Ｒ１、Ｒ’２は１（、Ｒ’３は一０ＣＨ５Ｒ
は−ＣＨ２０Ｈである式（Ｉｔ）の化合物ｉ無水ＴＨＦ
ｊ　００−中の水素化リチウム・アルミニウム３．３？
の懸濁液を一２０℃に保ちこれＫＴＨＦ／！０−中の実
施例りにおいて得られたグー（ｊ、ｒ−ジメチルｔ−メ
トキシノーナフチル）カルボニル安息香酸ｊ、３　Ｏｆ
の溶液を一滴ずつ加えた。添加の終りに常温において反
応媒体の攪拌を原料及び還元中間生成物の完全に消滅す
るまで維持した。過剰の水素化物の分解のために酢酸エ
チルｊＯａｄｆ添加した後にＧ液を酸性としである水２
００ｔ：ｒ／Ｉに注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機相を
洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥させ減圧下で濃縮した
。４（−（ｊ　、　ｒ、−ジメチルｔ−メトキシコーナ
フチルｊヒドロキシメチルフェニルカルビノール弘２が
回収された。試料をトルエン／ヘキサン混合物から再結
晶させて白色粉末が得られその融点１ｐｏ−ｉＩＩｔ℃
ま７’ｃ　　ＨＮＭＲ（ｒ　ＯＭＨｚ　）スペクトルは
所期の構造に一致し念。 実施例１３ チル】カルゼニルベンズアルデヒドの製造ｎ　＝−０、
Ｒ’及びＲ＃はオキソ、ｇｌ　１．　Ｒ１４はＣＨ３。 Ｒ’３は一０ＣＨ３、Ｒ’２はＨ，Ｒは−ＣＨ０である
式叩の化合物） 無水ジクロルメタン２００−中の実施例／２において得
られた＜ｃ−＜ｚ、ｒ−ジメチル６−メト　　゛キシコ
ーナフチルＪヒドロキシメチルフェニルカルビノール３
．１　ｆの懸濁液にクロルクロム酸ピリジニウムｒ、ｚ
　ｔを加え次。 攪拌は約弘時間原料の完全消滅まで維持し次にシリカ約
２ｏｆ及びジクロルメタン３００−の添加後浴液を濾過
し塩化アンモニウム溶液でまた水で洗って硫酸マグネシ
ウム上で乾燥させ減圧下で濃縮し念。油状物が回収され
これをジイソプロピルΦオキシドから結晶させ穴。 白色粉末が得られ次融点：／３？−／ｌＩＯ℃。 その　ＨＮＭＲ（１０ＭＨｚ　Ｊスペクトルは所期のグ
ー（ｊ、ｒ−ジメチル−６−メドキシーーナフチルＪカ
ルゼニルペンズアルデヒドの構造に一致した。 実施例／ｌ チルの製造 Ｉ　ｎ　＝　／　、　Ｒ’及びＲ〃はオキソ、Ｒ／、　
、　Ｒ１４，Ｒ／７は−ＣＨ３，Ｒ’３は一０ＣＨ３、
Ｒ’２はＨ，Ｒは−ＣＯ２Ｃ２Ｈ５である式叩の化合物
】 無水ＴＨＦ１００ａｄ中の２−トリエチル・ホスホノプ
ロピオナト八ｔｙの容赦に水素化ナトリウムｏ、ｐ　ｙ
を少量ずつ加えた。ガス発生が観察される。攪拌を約７
時間維持し次に一光を遮断して数滴のクラウンエーテル
及び無水ＴＨＦｔＯｄに爵かし次実施例／３において得
られたｐ−（ｔ、？−ジメチル６−メトキシλ−ナフチ
ル］カルゼニルベンズアルデヒド八ｌｉｔの浴液を加え
た。添加の終りに攪拌全２時間維持し次に反応媒体を塩
化アンモニウム飽和的液に注ぎ酢酸エチルで抽出し念。 有機相を洗い、乾燥させ減圧下で濃縮したつ所期の生成
物をへキサン／ジイソプロピルオキシド混合物から結晶
させた。融点：　／／２−／／弘℃。 ’　ＨＮＭＲ（ｒ　ＯＭＨｒ　）スペクトルはトランス
グー（ｒ、ｒ−−）メチル６−メドキシコーナフチル１
カルボニル・αメチル桂皮酸エチルの構造に一致し次。 実施例／！ 製造 （ｎ＝／、Ｒ’及びＲ１はオキソ、Ｒ／１．　Ｒ／４．
　Ｒ／７は−ＣＨ３，Ｒ’３は一０ＣＨ３，Ｒ’２はＨ
，Ｒは−ＣＯ２Ｈである式■の化合物Ｊ 実施例１μにおいて得られたトランス＃　−（ｊ。 ｔ−ジメチル６−メトキシ２−ナフチルＪカルボニルα
−メチル桂皮酸エチルへ／？ヲエタノール１００−と６
Ｎ水酸化カリウム水容液２ｊｃｒｔｌとの混合物中温度
ｔｉｏ乃至！Ｏ℃において２時間攪拌した。減圧下でエ
タノールを蒸発させた後に残留物を水ｊ００ｅｔｆｔに
とり３Ｎ塩酸で酸性とする。得られた沈澱ｔｌ−戸別し
、十分な水で洗い乾燥させ次。 酸ｌ？が回収され、トルエンから再結晶させた酸の融点
は／り０−１２１℃である。 元素分析：Ｃ２４Ｈ２２０４ ′計算値：　　Ｃ７Ａ、！Ｐｒ　　ｌ−１６，９２０／
７．０Ｗ％実測値：　　７７．０７　　ｊ、？ｒ　　／
７．０９％実施例１６ （Ｒ’はＯＨ，Ｒ＃はＨ、Ｒ’１　、　ｌ（’４　ｒｔ
″ｔ−ＣＨ３、Ｒ’２はＨ１Ｒ′３は一０ＣＨ３Ｒは−
ＣＯＮＨＣ２Ｈ５である式亜の化合物Ｊ 無水ＴＨＦ２ｊｃｍ中の実施例７において得られｆｒ−
Ｎ−エチｋｔ−（ｊ、ｒ−ジメチルｔ−メトキシλ−ナ
フチル）カルゼニルナフタレン２−力ル２キサミド０．
７　ＩＩ　ｔ　（／Ｊ　ｍｍｏｔＪの岩液に、常温にお
いて攪拌しながら、硼水素ナトリウム０．３　ｆ（ｒ　
ｍｍｏｔｌを加えた。常温において／夜攪拌した後に３
時間加熱還流するっそのとき還元は完了しており反応媒
体ｔ−Ｏ乃至！℃に冷却し次に０．Ｉ　Ｎ塩酸を徐々に
加えて酸性としエチルエーテルで抽出した。有機相を水
で洗い硫酸ナトリウムで乾燥させ蒸発乾個させる。得ら
れ念固体をインプロピルアルコールから再結晶させ食。 乾燥後に白色結晶のＮ−エチルｔ−Ｃｊ、ｒ−ジメチル
６−メトキシ２−ナフチル）ヒドロキシメチルナフタレ
ン２−カルゼオキサミド０．３−　ｊ　ｆが得られた。 融点：／９１’Ｃつ １ＨＮＭＲ（２ｊ　ＯＭＨｚンスペクトルは所期の構造
に一致した。 元素分析：　Ｃ２７Ｒ２７ＮＯ３ 計算値：　０７ＬｌｔＡ　　ＨＡ、！ｒ　Ｎ５Ｊ９　０
／／、ｔ／９＆実測値二　７Ｌλ４　　Ａ、ｌ、２　３
．．３．２／１．ｌＩｒ％Ｉｒ側／７ Ａ−（ｊ、ｒ−ジメチル６−メトキシ２−ナフン酸の製
造 （Ｒ’は０１（、Ｒ＃はＨ、Ｒ’１．　Ｒ’４はＣＨ３
，Ｒ’２はＨ９Ｂ１５ｄ　−０ＣＩ（３、Ｒは−ＣＯ２
Ｈである式（ト）の化合物）無水ＴＨＦＪｊｄ中の実施
例グにおいて得られｆｃＡ−（ｊ、ｒ−ジメチル・６−
メトキシ・λ−ナフチルＪカルゼニルナフタレンーーカ
ルゼンー０．７７９　（２ｍｍｏｔ）の岩液に、常温に
おいて攪牝゛しながら、硼水素化ナトリウム０．３　ｆ
　（ｒ　ｍｍｏｔＪを添加した。３０時間攪拌後に反応
媒体をＯ乃至３℃に冷却し次にθ、／　Ｎ塩酸を徐々に
加えて酸性としエチルエーテルで抽出した。有機相を水
で洗い硫酸マグネシウム上で乾燥させ蒸発乾個させた。 得られた粗製固体をメチルエチルケトン少量を含んでい
るイソプロピルアルコールから再結晶させる。乾燥後に
白色結晶のｔ−（ｊ、ｒ−ジメチルｔ−メトキシコーナ
フチル］ヒドロキシメチルナフタレンーーカルゼン酸０
．ｊ　ｒ　ｆが得られた。融点：２コ３−２λ！℃。 ’ＨＮＭＲ（２ｊ　ＯＭＨｚ　Ｊスペクトルは所期の構
造に一致した。 元素分析：　Ｃ２５）１２２０４ 計算値：　Ｃ７７，７０Ｈｊ、７Ｑ　　Ｏ／６Ｊｔチ実
測値ニア７、Ｊ／　　！Ｊｊ　　／ｌａ、、１２’Ａ実
施例／ｒ −ルの製造　　゛ （Ｒ’はＯＲ，ＲＩはＨ＊　”１　’ｓ　”４は−ＣＨ
３，ｌｌＬ’２はＨ９ｇ／、は−０ＣＨ５Ｒは−ｃｍ；
ａｍである式■の化合物］−ｊ℃に冷却してらる無水Ｔ
ＨＦｕ　ｊｄ中の水素化リチウムアルミニウム２ＪＯ１
ｑＣ４ｒｎｍｏＬ）の懸濁液に実施例参において得られ
た＋−（ｔ、ｒ−ジメチル６−メドキシコーナフチル）
カルゼニルナフタレンコーカルゼン酸０．４　！　？　
（／、７ｍｍｏＬ）を加え次、６時間攪拌しながら常温
に戻らせ次後に反応媒体を０℃に冷却し、０．ＩＮ塩酸
を徐々に加えて酸性とし、エチルエーテルで抽出した。 有機相を水で洗い、硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥させ蒸
発乾個させた。得られた粗製固体をシリカゲル６０での
クロマトグラフィーにより溶出液に酢識／ジオキサン／
トルエン（Ｊ　／　ｒ　／　９０　）混合物を用いて次
にヘキサン／アセトン混合物から再結晶させて精製した
。乾燥後に白色結晶のｔ−＜ｊ。 ｒ−ジメチル６−メドキシコーナ７チルフヒドロキシメ
チルナ７タレン２−カルビノール０．ＩＩ　ｊ　ｆが得
られた。融点二／４４Ｌ−／Ａｒｃ。 ’ＨＮＭＲ及びＩＲスペクトルは所期の構造に一致し次
。 実施例／タ メタンの製造 （Ｒ’、　ＲＩ、　Ｒ’２はＨ、ｇｚ、　、　Ｒ’４は
−Ｃ）１３　、　Ｒ’３は一０ＣＨ５，Ｒは−ｃｏ２ｕ
である式（ト）の化合物）氷酢酸２ｊ−中の粉末亜鉛２
．３−ｆ　（ｊ　７ｊｍｍｏＬ）の懸濁液に実施例≠に
おいて得られる４−（ｊ。 ｒ−ジメチル６−メトキシ２−ナフチルＪカルゼニルナ
フタレンλ−カルゼン酸Ｏ１りｔ　ｆ　（２，ｊｍｍｏ
ｌＪを加え還流しながら１時間加熱する。次に／２Ｎ塩
酸コ、ｚａｉｔｔｉ滴ずつ加え還流を７時間維持した。 常温に冷却し６Ｎ塩酸１０−添加した後に反応媒体をジ
クロルメタン（２×１００ｃｙｌｌ）で抽出し念。 有機相を水で洗い硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥させ減圧
下で濃縮した。単離された黄色固体をシリカゲルｔｏで
のクロマトグラフィーによりジクロルメタン／酢酸ｘ　
ｆ　ル（ｒ、　０　／　２０　）混合物によ＃）ｍ出し
て続いてイソプロピルアルコールかう再結晶させて精製
した。乾燥後白色結晶の／−（！、ｒ−ジメチル６−メ
トキシ２−ナフチル）−／　−（を−カルゼキシ２−ナ
フチルＪメタン０．４　Ｊ　ｆメタンの製造 （Ｒ’　、　ＲＩ、　Ｒ’２はＨ＋　Ｒ’１　＋　Ｒ’
４は−Ｃ１’Ｉ５は一０ＣＩ（３。 Ｒは一〇〇ＮＩ（Ｃ２Ｈ５である式（ト）の化合物Ｊ氷
酢酸１ｒｏｄ中の粉末亜鉛コ、ｊ　ｆ　（Ｊ　７ｊ　ｍ
ｍｏｔｌの懸濁液に実施例７において得られたＮ−エチ
ルｔ−Ｃｊ、Ｉ−ジメチル乙−メトキシλ−ナフチルＪ
カルゼニルナフタレンλ−カルゼン酸アミド／２（２，
１１Ｊ　ｍｍｏｊ　）を加え還流しながら１時間加熱し
穴０次にｌλＮ塩酸コ、ｊａｄｆ１滴ずつ加え還流を２
０分間維持した。常温に冷却しＡＮ塩酸１０−添加後に
反応媒体をジクロルメタンで抽出し比。有機相を水で洗
い硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥させ減圧下で濃縮し念。 回収され次黄色固体全速かにシリカゲル６０でのクロマ
トグラフィーによりジクロルメタンで溶出して、次にジ
クロル゛メタン／酢酸エチル（りｊ／！）混合物により
精製した。蒸発後単離され次白色固体をヘキサン／アセ
トン混合物から再結晶させ次、乾燥後に白色結晶の／−
（ｊ、Ｉ−ジメチル６−メドキシコーナフチルＪ−／−
＜ｔ−Ｎ−エチルカルゼン酸アミトコーナフチル）・メ
タン０．４　ｇ　ｆが得られた。融点二／ｌぶ℃。 ＩＨＮＭＲ（コｊＯＭＨｚ）スペクトルは所期の構造に
一致し元。 Ａ　経口組成物 ４−（ｊ、、ｒ−ジメチル６−メトキシ２−ナフチル］
ナフタレン２− カルゼン酸　　　　　　　　　　　　　　ｏ、ｏ　ｏ　
ｚ　を澱粉　　　　　　　　　　　　　　　　Ｏ０／／
ψを燐酸二カルシウム　　　　　　　　　　０．０−〇
ｆシリカ　　　　　　　　　　　　　　０．０２　（、
−ｆ乳糖　　　　　　　　　　　　　　　　０，０　、
？　Ｏｆタルク　　　　　　　　　　　　　　　　０．
０　／　Ｏｆステアリン酸マグネシウム　　　　　　　
　０．００１　ｆトランスａ−ｒｊ、ｒ−−）メチルｔ
−メトキシ２−ナフチルＪカルボニルαメチル桂皮’ｆ
ｌＩ　　Ｏ，００！？グリセリン　　　　　　　　　　
　ＯＪ　００　ｆ７０チソルビトール　　　　　　　　
　ＯＪ　００　ｆサッカリン酸ナトリウム　　　　　　
　　　　０．０７０９ｐヒドロキシ安息香酸メチル　　
　　　　　０．０４（０？香料　　　　　　　　　　　
所要量 純水を加えて全体を　　　　　ｚ、ｏ　ｏ　ｏ−とする
。 ６−（タ、ｒ−ジメチルｔ−メトキシーーナフチル）カ
ルボニルナ７タレンコー カルゼン酸メチル　　　　　　　　　　　　　０．０２
０　ｔミリスチン醪イソプロピル　　　　　　　　ｒｉ
、ｙｏｏｙ液状ワセリン油　　　　　　　　　　　　タ
、／　００　ｆデグツサ社からエーロジル２００の名称
で市販のシリカ　　　　　　　　　　　　　　　タ、／
　Ｉ　ＯＰＮ−エチルトランス≠−＜ｊ、ｒ−ジｌチル
ｔ−メトキシコーナ７チルＪカルゼニルα−メチル桂皮
酸アミド　　　　　　　　　０，１０　Ｏｆドブシタ硫
酸ナトリウム　　　　　　　　　　ｏ、ｒ　ｏ　ｏ　ｔ
グリセロール　　　　　　　　　　　２．０００　ｆス
テアリン酸　　　　　　　　　　　２０．０００　ｆダ
イナマイトノーペル社からミグリオル１／コの名称で市
販のカプリン酸／カプリル酸トリグリセド　　　　　　
　　　　　２０．０００　ｆ防腐剤　　　　　　　　所
要量 脱塩水誉加えて全体ｔ−／　００．００　Ｏｆとするこ
の実施例において活性化合物は同量の弘−（！、？−ジ
メチルｔ−メトキシコーナフチルＪカルゼニルー安息香
酸によシ代替できる。 Ｎ−エチルｔ−ＣＩ、ｒ−ジメチル６−メトキシ２−ナ
フチル）カルゼニルナフタレンーコーカルボン酸アミド
ヘルクレス社からクルセルＥＩＦの名称で市販のヒドロ
キシプロピルセルロース　　　　　　　ｘ、ｏ　ｏ　ｏ
　を水／エタノール（ＪｒＯ／ｊＯ）ｋ加えて全体を／
　ｏ　ｏ、ｏ　ｏ　ｏ　ｔとする この実施例にお、いて活性化合物はＮ−エチル弘−＜ｒ
、ｒ−ジメチル６−メト會シコーナフテル）カルイニル
４ンズアミド０．２　ｆによし代替できる。 アトラス社からミリｊＪの名称で市販のステアリン酸ポ
リオキシエチレン（エチレンオキシド７０モル」μ、０
００　ｆ アトラス社からトウイー７Ｊ　Ｏの名称で市販のエチレ
ンオキシド ２０ｄｎａ・ｌでポリオキシレン化し念ラウリン酸ソル
ビトール及び−ソルビタンエステル混合物／Ｊ　００　
ｆ ガツトフォックス社からゲレオールの名称で市販のモ々
及びジーステアリン酸グリセロール混合物弘、コ００ｆ プロピレングリコール　　　　　　　　　　／　０．０
００　ｆブチルヒドロキシアニソール　　　　　　　０
．０　／　Ｏｆブチルヒドロキシトルエン　　　　　　
　　０１０２０ｆケト・ステアリルアルコール　　　　
　　　Ｊ、Ｊ　００　ｆ防腐剤　　　　　　　　　所要
量 ベルヒドロスフ四り　　　　　　　　　　　／　ｒ、ｏ
　ｏ　ｏ　ｔダイナマイトノーペル社からミグリオルｒ
ｉ−の名称で市販の カプリル酸／カプリン酸トリグリセド混合物１１．０　
／、、１０　ｆＳ−カルブキシメチルシスナイン　　　
　　３．０００　ｆタタチトリエタノールアミン　　　
　　　　　コ、ｚ　００　ｆｔ−＜ｒ、ｒ−ジメチル６
−メドキシコーナフチル】ヒドロキシメチル ナフタレンーーカルゼン酸　　　　　　　　ｏ、ｒ　ｏ
　ｏ　ｙ水を加えて全体？　　　　　　／　６０．００
　Ｏｆとする実施例■　抗ｅ１漏性クリーム アトラス社からミＩＪ　ｊ　ｕの名称で市販のステアリ
ン酸 ポリオキシエチレン（エチレンオキシトタＯ３゜（ｋｌ
）グ、０００タ アトクス社からトウイン２０の名称で市販のエチレンオ
キシト コＯｍｏｌでポリオキシエチレン化したラウリン酸ソル
ビトール及び−ソルビタンエステル混合物／、Ｉ　ＯＯ
Ｆ ガット７オツス社からゲレオルの名称で市販の畳ノー及
びジーステアリン酸グリセロール混合物ダ、２００　ｆ プロピレングリコール　　　　　　　　　　／　０．０
００　ｆブチルヒドロキシアニソール　　　　　　　０
．０　／　Ｏｆブチルヒドロキシトルエン　　　　　　
　　０．ＯＪ　Ｏｔケトステアリルアルコール　　　　
　　　　６．コＯＯｆ防腐剤　　　　　　　　　　所Ｊ
Ｊ！量ベルヒドロスクワレン　　　　　　　　　　／　
１．００　Ｏｆダイナマイトノーベル社からミグリオル
ｔ／λの名称で市販の カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド混合物仏、ｏ　
ｏ　ｏ　ｔ ！−７ミノ！−力ルゲキシ３−チアペンタン酸−一ペン
ジルチオエチルアンモニウム　　　　　　　　　　　３
．ｏ　ｏ　ｏ　ｔＮ−エチルｇ−（タ、！−ジメチル６
−メドキシコーナフチル）カルビニル α−メチル桂皮酸アミＦ’　　　　　　　　　　ｏ、ｒ
　ｏ　□　ｙ水を加えて全体を　　　　　　／　８０．
０００　Ｆとする実施例−１−１毛髪用ローション プロピレングリコール　　　　　　　　　　コｏ、ｏ　
ｏ　ｏ　ｙエタノール　　　　　　　　　　　　　　３
≠、Ｉ７ｆ分子ＭＦ、：ｔＩｏｏのポリエチレングリコ
ール　グ０．０００　を水　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　ダ、ｏ　ｏ　ｏ　ｔブチル
ヒドロキシアニソール　　　　　　　０．０　／　Ｏｆ
ブチルヒドロキシトルエン　　　　　　　　０．ＯＪ　
ＯｆＩＩ−Ｃｊ、ｒ−ジメチル６−メトキシ２−ナフチ
ル）カルゼニルα・メチル 桂皮酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｏ、ｉ　
ｏ　ｏ　ｔミノキシジル（Ｍｌｎｏｘｉｄｉｌ　Ｊ　　
　　　　　　／、０００　を実施例■　抗ｉ倚ゲル グー（ｊ、ｒ−ジメチル６−メドキシーーナフチルＪカ
ルボニルα・メチル 桂皮酸　　　　　　　　　　　　　　　０．／　００　
ｆイソプロピルアルコール　　　　　　　　　Ｇ　Ｏｏ
ｏ　００　ｆグツドリッチケミカル社からカルゼボルタ
タ。 の名称で市販の

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中ｎは０又は１であり、Ｒ′は水素原子、ＯＨ基、
    アシルオキシ基、低級アルコキシ基又はＮＨ＿２基を表
    わし、Ｒ″は水素原子又は低級アルコキシ基を表わし、
    あるいはＲ′及びＲ″は一緒になつてオキソ基（＝Ｏ）
    、メチレン基（＝ＣＨ＿２）又はヒドロキシイミノ基（
    ＝Ｎ−ＯＨ）を形成し、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ又−ＣＯＲ
    ＿８基を表わし但しＲ＿８は水素原子又は−ＯＲ＿９又
    は▲数式、化学式、表等があります▼基を表わし、Ｒ＿
    ９は水素原子、炭素原子数１乃至２０個の直鎖又は分枝
    鎖アルキル基、モノ−又はポリヒドロキシアルキル基、
    １個以上の置換基を有しても良いアリール又はアラルキ
    ル基、又は糖の残基あるいはまた▲数式、化学式、表等
    があります▼基 を表わし、ｐは１、２又は３でありｒ′及びｒ″は同じ
    でも異なつても良く水素原子、低級アルキル基、場合に
    よつては異原子を分圧させたモノヒドロキシアルキル基
    、又はポリ−ヒドロキシアルキル基、場合によつては１
    個以上の置換基を有するアリール又はベンジル基、アミ
    ノ酸残基又はアミン化糖残基を表わし又は一緒になつて
    複素環を形成し、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は
    同じでも異なつても良く、水素原子、低級アルキル基、
    炭素原子数１乃至４個のアルコキシ基、低級フルオルア
    ルコキシ基、−ＣＦ＿３基、シクロアルキル基、低級ア
    シル基、ハロゲン原子、ＯＨ官能基、置換基を有する又
    は有しないアミノ官能基、低級アシルアミノ基又は低級
    アルコキシカルボニル基を表わし、置換基Ｒ＿１乃至Ｒ
    ＿４は同時に二つのベンゼン核の一方に又は両核に配分
    してあつてもよく、Ｒ＿５、Ｒ＿６及びＲ＿７は水素原
    子又はメチル基を表わしあるいはｎ＝１のときＲ＿５及
    びＲ＿７はともにベンゼン核と一緒になつてナフタレン
    環を作ることができる（Ｒ＿５−Ｒ＿７は−ＣＨ＝ＣＨ
    −）〕の芳香族ナフチル化合物及び前記式（ I ）の化
    合物の塩ならびにそれらの幾何学的及び光学的異性体。 ２、前記式（ I ）の化合物が塩の形をしているときは
    アルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩或いはまた亜鉛
    又は有機アミンの塩であるか無機酸又は有機酸の塩であ
    る特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３、低級アルキル基は炭素原子数１乃至６個を有し、メ
    チル、エチル、イソプロピル、ブチル及びｔ−ブチル基
    からなる群から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の化
    合物。 ４、モノヒドロキシアルキル基は炭素原子数２乃至６個
    を有し２−ヒドロキシ−エチル、２−ヒドロキシ−プロ
    ピル及び２−ヒドロキシ−エトキシエチル基からなる群
    から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ５、ポリヒドロキシアルキル基は炭素原子数３乃至６個
    を有し２，３−ジヒドロキシ−プロピル、１，３−ジヒ
    ドロキシ−プロピル及びペンタエリトリット残基からな
    る群から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ６、シクロアルキル基は炭素原子数５乃至１２個の基で
    ありシクロペンチル、シクロヘキシル及びアダマンチル
    基からなる群から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の
    化合物。 ７、ｒ′及びｒ″基は一緒になつてピペリジノ、ピペラ
    ジノ、モルホリノ、ピロリジノ及び４−（２−ヒドロキ
    シ−エチル）−ピペラジノ基からなる群から選ばれる複
    素環基を形成する特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ８、次式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中ｎは０又は１であり、Ｒ′＿１、Ｒ′＿２、及び
    Ｒ′＿４は水素原子又は低級アルキル基を表わしＲ′＿
    ３は低級アルキル基又は低級アルコキシ基を表わし、Ｒ
    ′は水素原子又はＯＨ基を表わし、Ｒ″は水素原子を表
    わしあるいはＲ′及びＲ″は一緒になつてオキソ基（＝
    Ｏ）を形成し、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ又は−ＣＯＲ′＿８
    を表わしＲ′＿８は−ＯＲ′＿９又は▲数式、化学式、
    表等があります▼を表わしＲ′＿９は水素原子又は低級
    アルキル基であり、ｒ′は水素原子でありまたｒ″は低
    級アルキル基である〕に相当する特許請求の範囲第１項
    乃至第７項の何れかに記載の化合物。 ９、次式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中Ｒ、Ｒ′、Ｒ″、Ｒ′＿１、Ｒ′＿２、Ｒ′＿３
    及びＲ′＿４は特許請求の範囲第８項記載の意味と同じ
    意味である〕に相当する特許請求の範囲第１項乃至第７
    項の何れかに記載の化合物。 １０、６−（６，７−ジメチル２−ナフチル）カルボニ
    ルナフタレン・２−カルボン酸メチル、６−（６，７−
    ジメチル−２−ナフチル）カルボニル　ナフタレン・２
    −カルボン酸、６−（５，８−ジメチル６−メトキシ−
    ２−ナフチル）カルボニル　ナフタレン・２−カルボン
    酸メチル、６−（５，８−ジメチル−６−メトキシ−２
    −ナフチル）カルボニルナフタレン・２−カルボン酸、
    Ｎ−エチル６−（５，８−ジメチル−６−メトキシ−２
    −ナフチル）カルボニル−ナフタレン・２−カルボキサ
    ミド、６−（６−メトキシ２−ナフチル）カルボニルナ
    フタレン・２−カルボン酸メチル、６−（６−メトキシ
    ２−ナフチル）カルボニル−ナフタレン・２一カルボン
    酸、６−（５，８−ジメチル−６−メトキシ２−ナフチ
    ル）ヒドロキシメチル−ナフタレン・２−カルボン酸、
    Ｎ−エチル６−（５，８−ジメチル６−メトキシ２−ナ
    フチル）ヒドロキシメチル−ナフタレン・２−カルボキ
    サミド、６−（５，８−ジメチル６−メトキシ２−ナフ
    チル）ヒドロキシメチルナフタレン・２−カルビノール
    、トランス４−（５，８−ジメチル６−メトキシ２−ナ
    フチル）カルボニル・αメチル桂皮酸エチル、トランス
    ４−（５，８−ジメチル６−メトキシ２−ナフチル）カ
    ルボニル・α−メチル桂皮酸、−Ｎ−エチル−トランス
    ４（５，８−ジメチル６−メトキシ２−ナフチル）カル
    ボニル・αメチル桂皮酸アミド、トランス４−（５，８
    −ジメチル−６−メトキシ２−ナフチル）ヒドロキシメ
    チル・αメチル桂皮酸、４−（５，８−ジメチル−６−
    メトキシ−２−ナフチル）カルボニル、安息香酸メチル
    、４−（５，８−ジメチル−６−メトキシ−２−ナフチ
    ル）カルボニル・安息香酸、４−（５，８−ジメチル−
    ６−メトキシ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル・安息
    香酸、４−（５，８−ジメチル−６−メトキシ−２−ナ
    フチル）ヒドロキシメチル・フェニルカルビノ−ル、４
    −（５，８−ジメチル−６−メトキシ−２−ナフチル）
    カルボニル・ベンズアルデヒド、Ｎ−エチル４−（５，
    ８−ジメチル−６メトキシ−２−ナフチル）カルボニル
    ・ベンズアミド、１−（５，８−ジメチル−６−メトキ
    シ−２−ナフチル）−１−（６−カルボキシ−２−ナフ
    チル）メタン及び１−（５，８−ジメチル−６−メトキ
    シ−２−ナフチル）−１−（６−Ｎ−エチル・カルボキ
    サミド−２−ナフチル）メタンからなる群から選ばれる
    特許請求の第１項乃至第９項の何れかに記載の化合物。 １１、有機溶媒媒体中において次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿５は後記の即くであり、Ｒ＿９は炭素原子数
    １乃至２０個のアルキル基を表わす）の一方に相当する
    酸クロリドの如きハロゲン化物を次式▲数式、化学式、
    表等があります▼ （式中Ｒ＿１乃至Ｒ＿４は後記の如くであり、ＸはＢｒ
    又はＣｌである）の一方に相当するナフタレン誘導体と
    反応させ、必要ならば得られたケト−エステルのケン化
    を行なつて対応のケト酸とし、続いて該ケト酸を次式：
    ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中ｒ′及びｒ″は後記の如くである）のアミンの作
    用により対応のアミドへ転化させ又は続いて該ケト酸を
    ヒドロキシ酸又はジオールに転化させ場合によつてはジ
    オールを酸化して対応のケト−アルデヒドとすることを
    特徴とする下記一般式（ I ）：▲数式、化学式、表等
    があります▼（ I ） 〔式中ｎは０又は１であり、Ｒ′は水素原子、ＯＨ基、
    アシルオキシ基、低級アルコキシ基又はＮＨ＿２基を表
    わし、Ｒ″は水素原子又は低級アルコキシ基を表わし、
    あるいはＲ′及びＲ″は一緒になつてオキソ基（＝Ｏ）
    、メチレン基（−ＣＨ＿２）又はヒドロキシ−イミノ基
    （＝Ｎ−Ｏ）を形成し、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＲ又−ＣＯＲ
    ＿８基を表わし但しＲ＿８は水素原子又は−ＯＲ＿９又
    は▲数式、化学式、表等があります▼基を辰わし、Ｒ＿
    ９は水素原子、炭素原子数１乃至２０個の直鎖又は分枝
    鎖アルキル基、モノ−又はポリヒドロキシアルキル基、
    １個以上の置換基を有しても良いアリール又はアラルキ
    ル基、又は糖の残基あるいはまた▲数式、化学式、表等
    があります▼基 を表わし、ｐは１、２又は３でありｒ′及びｒ″は同じ
    でも異なつても良く水素原子、低級アルキル基、場合に
    よつては異原子を介在させたモノヒドロキシアルキル基
    、又はポリ−ヒドロキシアルキル基、場合によつては１
    個以上置換基を有するアリール又はベンジル基、アミノ
    酸残基又はアミン化糖残基を表わし又は一緒になつて複
    素環を形成し、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は同
    じでも異なつても良く、水素原子、低級アルキル基、炭
    素原子数１乃至４個のアルコキシ基、低級フルオルアル
    コキシ基、−ＣＦ＿３基、シクロアルキル基、低級アシ
    ル基、ハロゲン原子、ＯＨ官能基、置換基を有する又は
    有しないアミノ官能基、低級アシルアミノ基又は低級ア
    ルコキシカルボニル基を表わし、置換基Ｒ＿１乃至Ｒ＿
    ４は同時に二つのベンゼン核の一方に又は両核に配分し
    てあつてもよく、Ｒ＿５、Ｒ＿６及びＲ＿７は水素原子
    又はメチル基を表わしあるいはｎ＝１のときＲ＿５及び
    Ｒ＿７はともにベンゼン核と一緒になつてナフタレン環
    を作ることができる（Ｒ＿５−Ｒ＿７は−ＣＨ＝ＣＨ−
    ）〕の芳香族ナフチル化合物の製造法。 １２、縮合反応はフリーデルクラフト反応の条件下に１
    ，２ジクロルエタンに入れた無水塩化アルミニウムの存
    在下で温度０乃至２５℃において攪拌しながら実施する
    特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １３、有機マグネシウム化合物への酸クロリドの縮合反
    応は温度約０℃のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中にお
    いて行なう特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １４、アミドの製造はＮ，Ｎ′−カルボニル−ジイミダ
    ゾールの存在下に行なわれる特許請求の範囲第１１項記
    載の方法。 １５、ケト酸の対応のヒドロキシ酸への還元はＴＨＦ中
    硼水素化ナトリウムの存在下に行なう特許請求の範囲第
    １１項記載の方法。 １６、ケトーアルデヒドはクロルクロム酸ビリジニウム
    によるジオールの酸化によつて得られ、対応の該ジオー
    ルは水素化リチウムアルミニウムの存在下にケト酸の還
    元反応の結果得られる特許請求の範囲第１１項記載の方
    法。 １７、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１乃至Ｒ＿５は前記の如くである）のケトア
    ルデヒドを次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ａ１ｋｙｌ−Ｏ）＿２−Ｐ−ＣＨ−ＣＯ＿２Ｒ＿９（
    式中Ｒ＿７及びＲ＿９は前記の如くであり、Ａｌｋｙｌ
    はアルキル基である）のホスホノ酢酸アルキルと、ＴＨ
    Ｆ中、水素化ナトリウムの存在下に反応させ、得られる
    不飽和ケトエステルに慣用の条件において前記式（ I
    ）のさまざまな意味の基に達し得る反応を施こして次式
    ： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿
    ７及びＲ＿９は後記の如くである）の化合物を製造する
    特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １８、腸管、腸管外、局所又は眼を経由して投与するた
    め適当な賦形剤中に下記一般式（ I ）：▲数式、化学
    式、表等があります▼（ I ） 〔式中ｎは０又は１であり、Ｒ′は水素原子、ＯＨ基、
    アシルオキシ基、低級アルコキシ基又はＮＨ＿２基を表
    わし、Ｒ″は水素原子又は低級アルコキシ基を表わし、
    あるいはＲ′及びＲ″は一緒になつてオキソ基（＝Ｏ）
    、メチレン基（＝ＣＨ＿２）又はヒドロキシ−イミノ基
    （＝Ｎ−ＯＨ）を形成し、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ又−ＣＯ
    Ｒ＿８基を表わし但しＲ＿８は水素原子又は−ＯＲ＿９
    又は▲数式、化学式、表等があります▼基を表わし、Ｒ
    ＿９は水素原子、炭素原子数１乃至２０個の直鎖又は分
    枝鎖アルキル基、モノ−又はポリヒドロキシアルキル基
    、１個以上の置換基を有しても良いアリール又はアラル
    キル基、又は糖の残基あるいはまた▲数式、化学式、表
    等があります▼基 を表わし、ｐは１、２又は３でありｒ′及びｒ″は同じ
    でも異なつても良く水素原子、低級アルキル基、場合に
    よつては異原子を介在させたモノヒドロキシアルキル基
    、又はポリ−ヒドロキシアルキル基、場合によつては１
    個以上の置換基を有するアリール又はベンジル基、アミ
    ノ酸残基又はアミン化糖残基を表わし又は一緒になつて
    複素環を形成し、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は
    同じでも異なつても良く、水素原子、低級アルキル基、
    炭素原子数１乃至４個のアルコキシ基、低級フルオルア
    ルコキシ基、−ＣＦ＿３基、シクロアルキル、基、低級
    アシル基、ハロゲン原子、ＯＨ官能基、置換基を有する
    又は有しないアミノ官能基、低級アシルアミノ基又は低
    級アルコキシカルボニル基を表わし、置換基Ｒ＿１乃至
    Ｒ＿４は同時に二つのベンゼン核の一方に又は両核に配
    分してあつてもよく、Ｒ＿５、Ｒ＿６及びＲ＿７は水素
    原子又はメチル基を表わしあるいはｎ＝１のときＲ＿５
    及びＲ＿７はともにベンゼン核と一緒になつてナフタレ
    ン環を作ることができる（Ｒ＿５−Ｒ＿７は−ＣＨ＝Ｃ
    Ｈ−）〕の芳香族ナフチル化合物少なくとも１種を含ん
    でいる製薬組成物。 １９、局所又は眼に適用するため適切な形をしており前
    記式（ I ）の化合物を０．００５乃至約５重量％含ん
    でいる特許請求の範囲第１８項記載の組成物。 ２０、適当な化粧料担体中に下記一般式（ I ）：▲数
    式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中ｎは０又は１であり、Ｒ′は水素原子、ＯＨ基、
    アシルオキシ基、低級アルコキシ基又はＮＨ＿２基を表
    わし、Ｒ′は水素原子又は低級アルコキシ基を表わし、
    あるいはＲ′及びＲ″は一緒になつてオキソ基（＝Ｏ）
    メチレン基（＝ＣＨ＿２）又はヒドロキシ−イミノ基（
    ＝Ｎ−ＯＨ）を形成し、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ又−ＣＯＲ
    ＿８基を表わし但しＲ＿８は水素原子又は−ＯＲ＿９又
    は▲数式、化学式、表等があります▼基を表わし、Ｒ＿
    ９は水素原子、炭素原子数１乃至２０個の直鎖又は分枝
    鎖アルキル基、モノ−又はポリヒドロキシアルキル基、
    １個以上の置換基を有しても良いアリール又はアラルキ
    ル基、又は糖の残基あるいはまた▲数式、化学式、表等
    があります▼２基を 表わし、ｐは１，２又は３でありｒ′及びｒ″は同じで
    も異なつても良く水素原子、低級アルキル基、場合によ
    つては異原子を介在させたモノヒドロキシアルキル基、
    又はポリ−ヒドロキシアルキル基、場合によつては１個
    以上置換基を有するアリール又はベンジル基、アミノ酸
    残基又はアミン化糖残基を表わし又は一緒になつて複素
    環を形成し、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は同じ
    でも異なつても良く、水素原子、低級アルキル基、炭素
    原子数１乃至４個のアルコキシ基、低級フルオルアルコ
    キシ基、−ＣＦ＿３基、シクロアルキル基、低級アシル
    基、ハロゲン原子、ＯＨ官能基、置換基を有する又は有
    しないアミノ官能基、低級アシルアミノ基又は低級アル
    コキシカルボニル基を表わし、置換基Ｒ＿１乃至Ｒ＿４
    は同時に二つのベンゼン核の一方に又は両核に配分して
    あつてもよく、Ｒ＿５、Ｒ＿６及びＲ＿７は水素原子又
    はメチル基を表わしあるいはｎ＝１のときＲ＿５及びＲ
    ＿７はともにベンゼン核と一緒になつてナフタレン環を
    作ることができる（Ｒ＿５−Ｒ＿７は−ＣＨ＝ＣＨ−）
    〕の芳香族ナフチル化合物少なくとも１種を含んでいる
    化粧料組成物。 ２１、前記式（ I ）の化合物を組成物全重量に対して
    ０．０００５乃至２重量％の濃度で含んでいる特許請求
    の範囲第２０項記載の化粧料組成物。
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