JPS62260150A - パターン転写方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はパターン転写方法及び該方法に使用するハロゲ
ン化銀写真乾板に関する。

〔従来の技術〕

従来より、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤を形成し
て成る写真乾板を用い、これに原画パターンを形成し、
この写真乾板を別の写真乾板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してパターンを複酸することや、あるいはフ
ォトレジスト層を有する基板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してフォトレジストパターンを得ることが行
われている。

ところが従来技術にあっては、密着露光して原画パター
ンを転写する際の密着が必ずしも充分でなく、例えば密
着ムラが発生したり、二１−トンリングの発生等により
、転写しても良好な画質が得られないことがある。また
、充分な密着性を得るため、吸引排気手段を用いて吸引
して乾板とパターン被転写体との間を密着させることも
行われるが、この吸引排気に時間を要し、量産性が向上
しないという問題がある。

アルミニウムなどの被膜が形成された基板上にフォトレ
ジストを形成して、これに写真乾板上の原画パターンを
転写しようとする場合、例えばフォトレジスト上に回路
パターンを焼付は転写してこれを現像し、エツチング加
工することで、所望の回路を形成することが各種電子材
料分野、例えばＩＧ回路の製造において用いられるが、
上記の問題のため解像度が上げられず、信頼性の高い回
路が得られないという問題や、良好な回路を得るため密
着性を上げるべく吸引排気手段を用いると、これに時間
がかかり、生産性を上げられないという問題があるもの
である。また原画パターンについて、該原画のマスター
パターンを別の写真乾板に転写して複製パターン（ワー
キングパターン）を製造することがよく行われるが、こ
の場合にも同様の問題が生じる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のように従来の写真乾板では、原画パターンを密着
転写する際の密着性が充分にはとれないという問題があ
る。

本発明はこのような問題を解決して、密着性が充分にと
れるパターン転写方法を得ることを目的とするものであ
り、またこの転写方法に使用するハロゲン化銀写真乾板
を得ることを目的とする。

本発明によりパターンやフォトレジストパターンを形成
することにより、良好な画質の複写パターンが得られ、
また吸引排気時間などに要する手間を軽減できるもので
ある。

〔問題点を解決するための手段及びその作用〕上記本発
明の目的は、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有
してなる第１の写真乾板に原画パターンを形成し、該原
画パターンを、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を
有して成る第２の写真乾板もしくはフォトレジスト層を
有する基板に密着転写してパターンを形成する方法にお
いて、上記写真乾板は、その乳剤層に含有されるハロゲ
ン化銀乳剤がヨウ化銀含有量が８モル％以下のヨウ臭化
銀乳剤でありその平均粒径が０．１μｍ以下のものであ
るか、または該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が
少なくとも５０モル％以上の塩化銀を含有するものであ
って、かつ上記第１．第２の写真乾板の少なくとも一方
（写真乾板からフォトレジストに転写する場合はその写
真乾板）はその乳剤層の表面粗さが０．３μｍ〜３μｍ
であることを特徴とするパターン転写方法によって、又
前記写真乾板によって、達成される。

本発明において用いられるハロゲン化銀写真乾板は、製
版用等のいわゆる硬調で、高解像力の写真感光材料であ
る。従来このような写真乾板はその目的からしても、乳
剤層表面をできるだけ平滑にすることが望まれていた。

しかしあまり平滑すぎると他の写真乾板やフォトレジス
ト層を有する基板に密着転写する際に、密着性が低下し
てしまうという重大な欠点があったものである。

本発明においては前記のような硬調で高解像力を有する
乳剤層をガラス支持体上に有してなる写真乾板において
乳剤層の表面粗さを一定の範囲としたことにより、密着
性がきわめてすぐれた転写方法及びこれに用いる写真乾
板を得るにいたったものである０本発明においてはパタ
ーン転写に際しての密着性が良好であるので、すぐれた
画像の転写パターンを得ることができ、かつ密着のため
に吸引排気なとの手段をとることが必ずしも必要ではな
くなり、この手段をとるにしても、時間を短縮でき、生
産性を商めることができる。

本発明のハロゲン化銀写真乾板の乳剤層の表面粗さは上
述の如く０．３μｍ〜３μｍとするが、このように乳剤
層を粗面にするには各種の手段によることができる。例
えば、ガラス支持体の表面を粗とする手段を用いること
ができる。ガラス支持体の表面を粗にすることによって
、この上に形成した乳剤層の表面を粗にできるので、該
表面粗さが上記の範囲になるようにガラス支持体を粗に
するとともに、適宜の塗布手段を用いればよいのである
。ガラス支持体として、例えばい；ｂゆるすりガラスな
とを用いて、これを達成できる。また、乳剤層の材質に
よって、該乳剤層の表面を粗にすることができる。これ
は乳剤中に適宜の物質を含有させることで達成でき、例
えば乳剤層にマット剤を入れることにより、乳剤表面粗
さが上記の範囲のものとすることができる。

好適に用いることができるマット剤としては、例えば次
の如きものがある。

即ち、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、二酸化チタン
、炭酸カルシラｌ、等のごとき無機物質や、ポリメチル
メタアクリレ−１・、セルロースアセテートプロピオネ
ートなどの打機物質などを好ましく使用でき、特に粒子
直径が０．３　μから５μまでのものを好適に使用でき
る。

本発明の写真乾板の表面粗さは０．３μｍ〜３ｔｔｍで
あるが、この範囲であれば、所望の目的に応じて適宜の
粗さを選定できる。特に貰解像用として用いる場合、０
．３μｍ−１μｍの表面粗さとするのがよい。

なお、本明細書中において表面粗さとは、「基準長さ０
．８１の１０点平均アラサ」を言い、例えば触針式によ
る表面粗さ測定方法により、試料のスキャン長さ１１０
．８　ｒａｙｂ中の区間における１０ケ所の凹凸平均値
から求める。

また本明細書で言う粒径とは平均粒径Ｔであり、これは
球状のハロゲン化銀粒子の場合はその直径、また立方体
や球状以外の形状の粒子の場合は、その投影像を同面積
の円像に換算した時の直径の平均値であって、個々のそ
の粒径がｒ；であり、その数がｎ；である時、下記の式
によって７が定義されたものである。

Σｎ；　ｒ； 上記の粒子径は上記の目的のために当該技術分野におい
て−１に用いられる各種の方法によってこれを測定する
ことができる。代表的な方法としてはラブランドの「粒
子径分析法ＪＡ、Ｓ、Ｔ。

Ｍ、シンポジウム・オン・ライ゛ト・マイクロスコピー
、１９５５年、９４〜１２２項または「写真プロセスの
論理」ミースおよびジェームズ共著、第３版、マクミラ
ン社発行（１９６６年）の第２章に記載されている。こ
の粒子径は粒子の投影面積か直径近似等の親水性コロイ
ド層に用いられる親水性コロイドとしては、ゼラチン、
アルブミン、ゼイン、カゼイン、アルギン酸、セルロー
ス誘導体く例えばヒドロキシエチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース等）、合成親水性コロイド（例え
ばポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン
ともＩＪｉのハロゲン化銀乳剤層を有するものであり、
該層の他必要に応じて乳剤層の上に保護層、乳剤層の下
に下引層等を設けろことができる。また、光吸収染料を
含有するバッキング層をハロゲン化銀乳剤層と反対側の
面上に設けたり、光吸収染料をハロゲン化銀乳剤層へ含
有させることもできる。

光吸収染料には、オキサノール染料、ヘミオキサノール
染料、メロシアニン染料、シアニン染料、スチリル染料
、アゾ染料が含有される。なかでもオキサノール染料；
ヘミオキサノール染料およびメロシアニン染料が有用で
ある。用い得る染料の具体例は例えば西独特許第６１６
．００７号、英国特許第１．１７７．４２９号、特公昭
５１−３１３１２９号、特開昭５７−１８５０３８号、
米国特許第４．０７１．３１２号、ＰＲレポート７４１
７５号、ＰＨ０ＴＯ，ＡＲ３，１２８（’２１）等に記
載されたものである。

本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
粒子は、粒子を形成する過程及び／又は成長させる過程
で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジ
ウム塩（錯塩を含む）、ロジウム塩（錯塩を含む）およ
び鉄塩（錯塩を含む）から選ばれる少なくとも１種を用
いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び／又は粒子表
面にこれらの金属元素を含有させることができ、また、
適当な還元的雰囲気におくことにより、粒子内部及び／
又は粒子表面に還元層感核を付与できる。

本発明のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀乳剤は、ハ
ロゲン化銀粒子の成長の終了後に不要な可溶性塩類を除
去してもよいし、あるいは含有させたままでもよい。該
塩類を除去する場合には、リサーチ・ディスクロジャー
（Ｒｃｓｃａｒｃｈ　Ｄｉｓｃ−１ｏｓｕｒｅ）　１７
６４３号記載の方法に基づいて行うことができる。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感する
ことができる。即ち、硫黄増悪法、セレン増悪法、還元
増＋ｇ法、金その池の貴金属化合物を用いる貴金属増感
法などを単独で又は組み合わせて用いることができる。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感できる。増感色素は単独で用いてもよいが、
２種以上を組合わせて用いてもよい。増悪色素とともに
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させてもよい。

増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、
複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラ
−シアニン色素、ヘミシアニン色素、ステリル色素およ
びヘミオキサノール色素が用いられる。

特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、
および複合メロシアニン色素である。これらの色素類に
は、塩基性異部環核としてシアニン色素類に通常利用さ
れる核のいずれをも適用できる。すなわち、ピロリン核
、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサ
ゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾー
ル核、テトラゾール核、ピリジン核およびこれらの核に
脂環式炭化水素環が融合した核およびこれらの核に芳香
属炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベ
ンズインドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾー
ル核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナ
フトチアゾール核１．ベンゾセレナゾール核、ベンズイ
ミダゾール核、キノリン核などである。これらの核は炭
素原子上で置換されてもよい。

メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を有する核として、ピラゾルソー５−オン
核、チオヒダントイン核、２−チオオキサゾリジン−２
，４−ジオン核、チアゾリジン−２，４−ジオン核、ロ
ーダニン核、チオバルビッール成核などの５〜６Ｒ異節
環核を適用することができる。

有用な青感光性ハロゲン化銀乳剤層に用いられる増感色
素としては、例えば西独特許９２９．０８０号、米国特
許第４，０４６，５７２号、英国特許１　、２４２．５
８８号、特公昭５２−２．１８４４号等に記載されたも
のを挙げることができる。また緑感光性ハロゲン化銀乳
剤に用いられる有用な増感色素としては、例えば米国特
許２，９４５，７６３号、英国特許５０５．９７９号等
に記載されている如きシアニン色素、メロシアニン色素
または複合シアニン色素をその代表的なものとして挙げ
ることができる。さらに、赤感光性ハロゲン化銀乳剤に
用いられる有用な増感色素とては、例えば米国特許２，
７７６．２８０号等に記載されている如きシアニン色素
、メロシアニン色素または複合シアニン色素をその代表
的なものとして挙げることができる。更にまた米国特許
２，５１９，００１号、西独特許９２９，０８０号等に
記載されている如きシアニン色素、メロシアニン色素ま
たは複合シアニン色素を緑感光性ハロゲン化銀乳剤また
は赤感光性ハロゲン化銀乳剤に有用に用いることができ
る。

これらの増感色素は単独に用いても良いが、それらの組
み合わせを用いても良い。増感色素の組み合わせは特に
、強色増感の目的でしばしば用いられる。その代表例は
、特公昭５５．−１５６９号、特開昭５９−１１６６４
７号、米国特許第３．８３７．８６２号に記載されてい
る。

増感色素とともに用いられる、それ自身分光増感作用を
持たない色素、あるいは可視光を実質的に吸収しない物
質であって強色増感を示すｒり質としては、例えば芳香
属有機酸ホルムアルデヒド縮合物（例えば、米国特許第
３，４３７，５１０号に記載のもの）、カドミウム塩、
アザインデン化合物、含窒素異部環基で置換されたアミ
ノスチルベン化合物（例えば、米国特許第２，９３３．
３９０号、同３．６３５．７２１号に記載のもの）なと
がある。米国特許３，６１５．６１３号、同３．６１５
．６４１号、同３，６１７．２９５号、同３．６３５．
７２１号に記載の組み合わせは特に有用である。

本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止、又は写真
性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、化学熟成
の終了時、及び／又は化学熟成の終了後、ハロゲン化銀
乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカブリ防止剤
又は安定剤として知られている化合物を加えることがで
きる。

カブリ防止剤、安定剤としては、米国特許第２、７１３
．５４１号、同２，７４３．１８０号、同２，７４３．
１８１号に記載されたペンタザインデン類、米国特許第
２．７１６，０６２　号、同２＋４４４＋６０７号、同
２，４４４，６０５号、同２，７５６．Ｌ４７　・号、
同２＋　８Ｌ）５１５Ｂ！　号、同２．１３５２．３７
５号、リサーチ・ディスクロージャー（Ｒｃｓｅｊｒｃ
ｈＤｉｑｃｌｏｓｕｒｅ）　１４８５１号に記載された
テトラザインデン類、米国特許第２．７７２．　！［３
４号に記載されたトリ°ｒｌＪ′インデン類、冶よび特
開昭５７−２１１１４２　号に記載されたポリマー化ア
ザイデン類等のアザインデン類；米国特許第２．１３１
，０３８号、同３，３４２，５９６号、同３，９５４，
４７８号に記載されたチアゾリウム塩、米国特許３，１
４８．０６７号に記載されたビリリウム塩、および特公
昭５０−４０６６５号に記載されたホスホニウム塩等の
４級オニウド塩頻；米国特許第２．４０３．９２７号、
同３．２６６、８９７号、同３．７０８．３０３号、特
開昭５５−１３５８３５号、同５９−７１０４７号に記
載されたメルカプトテトラゾール類、メルカプトトリア
ゾール頚、メルカプｉ・ジ°？ゾール頻、米国特許第２
．８２４．ｆ）０１号に記載されたメルカプトチ°ｒゾ
ール頻、米国特許第３，３９７．９８７号に記載された
メルカプトベンズチアゾール類、メルカプトベンズチア
ゾ−ル類、米国特許第２．８４３．４９１号に記載され
たメルカプトオキサジアゾール類、米国特許第３，３６
４．０２８号に記載されたメルカプトチアジアゾール類
等のメルカプト置換へテロ環化合物類；米国特許第３．
２３６．６５２号、特公昭４０−１０２５６号に記載さ
れたカナロール類、特公昭５６−４４４１３号に記載さ
れたレゾルシン類、および特公昭４３−４１３３号に記
載された没食子酸エステル等のポリヒドロキシベンゼン
頻；西独特許第１，１８９，３８０号に記載されたテト
ラゾール類、米国特許第３，１５７．５０９号に記載さ
れたトリアゾール類、米国特許第２．’７０４，７２１
号に記載されたベンズトリアゾール類、米国特許第３．
２８７．１３５号に記載されたウラゾール類、米国特許
第３．１０６．４６７号に記載されたピラゾール類、米
国特許第２．２７１．２２９号に記載されたインダゾー
ル類、および特開昭５９−９０８４４号に記載されたポ
リマー化ヘンズトリアゾール類等のアゾール類や米国特
許第３，１６１，５１５号に記載されたピリミジン類、
米国特許第２，７５１，２９７号に記載された３−ピラ
ゾリドン類、および米国特許第３，０２１，２１３号に
記載されたポリマー化ピロリドン即ちポリビニルピロリ
ドン類等のへテロ環化合物類；特開昭５４−１３’００
２０号、同５９−１３７９４５号、同１４０４４５号、
英国特許第１．３５６，１４２号、米国特許第３．５７
５．６９９号、同３、６４９．２６７号等に記載された
各種の抑制剤プレカーサー；米国特許第３．０４７，３
９３号に記載されたスルフ、イン酸、スルフォン酸誘轟
体；米国特許第２＋　５５ｂ、　２６３号、同２，８３
９．４０５号、同２．４８８．７０９号、性コロイド層
は、バインダー　（又は保護コロイド）分子を架橋させ
、膜強度を高める硬膜剤を１種又は２７ｉ以上用いるこ
とによりｆｆ！！；ｌすることができる。硬膜剤は、処
理液中に硬膜剤を加える必要がない程度に感光材料を硬
膜できる贋添加する、二とができるが、処理液中にＴｆ
ｉ　ＩＩＩ剤を加えることも可能である。

硬膜剤としては、アルデヒド径、アジリジン系（例えば
、ｌ’Ｂレポート、１９，９２１、米国特許第３．２７
１．１７５号の明細書、特公昭４６−４０８９８号、特
開昭５０−９１３１５号の各公報に記載のもの）、イソ
オキサゾール系（例えば、米国特許第３３１，６０９号
明細書に記載のもの）、エポキシ系（例えば米国特許第
３．０４７．３９４号、西独特許第ｉ、０８５．６６３
号１．英国特許第１．０３３．５１８号の各明細書、特
公昭４８−３５４９５号公報に記載のもの）、ビニール
スルホン系（例えば、ＰＢレポート１９，９２０、西独
特許第２．７４９，２６０号、英国特許第１，２５１．
０９１号、特願昭４８−１１０’３９６号、米国特許第
３．５３９．６４，１号、の各明細書に記載のもの）、
アクリロイル系（例えば、特願昭４８−２７９４９号、
米国特許第３．６４０．７２０号の各明細書に記載のも
の）、カルボジイミド系（例えば、米国特許第４．０６
１．４９９号の明細書、特公昭、１６−３８７１５号公
報、特願昭４９−１５０９５号明細書に記載のもの）、
トリアジン系（例えば、西独特許第２，４１０，９７３
号、２．５５３．９１５号、米国特許第３．３２５．２
８７号の各明細書、特開昭５２−１２７２２号公報に記
載のもの）、高分子型（例えば、英国特許第８２２．０
６１号、米国特許第３，２２６．２３４号の各明細書、
特公昭４７−１８５７８号、同［５７９号、同４７−４
８８９６号の各公報に記載のもの）、その他マレイミド
系、アセチレン系、メタンスルホン酸エステル系、Ｎ−
メチロール系の硬膜剤が単独又は組み合わせて使用でき
る。有用な組み合わせ技術として、例えば西独特許第２
．５１４，２４５号、米国特許第４．０４７，９５７号
の各明細書、特開昭４８−４３３１９号、同５０−６３
０６２号、同５２−１２７３２９号、特公昭４８−３２
３６４号の各公報に記載の組み合わせが挙げられる。

具二ミ 本発明の　　　　　ハロゲン化銀乳剤層及び／又は他の
親水性コロイド層には柔軟性を高める目コロイド層には
寸度安定性の改良などを目的として、水不溶性又は難溶
性合成ポリマーの分散物（ラテックス）を含有させるこ
とができる。

難溶性合成ポリマーとしては、例えば英国特許第１，１
８６，６９９号、特公昭４９−２５４９９号、米国特許
第３．６４５．７４Ｑ号等に記載されているものを好ま
しくコントラスト上昇、又は現像促進の目的でポリアル
キレンオキシド又はそのエーテル、エステル、アミン等
の誘導体、チオエーテル化合物、チオモルフォリン類、
４級アンモニウム化合物、ウレタン誘４体、尿素誘導体
、イミダゾール誘３体等を含んでもよい。

してハイドロキノンを用い、亜硫酸イオン濃度の低いリ
ス現像液（伝染現像液）による現像を含めて公知のいず
れをも用いることができる。

本発明においてパターン形成する場合、本発明のハロゲ
ン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀写真乾板上に
原画パターンを形成し、形成された原画パターンを、ガ
ラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する別の本発明
の写真乾板に密着露光してパターン転写して、パターン
を形成する。

これは、まず本発明の写真乾板上に形成した原画パター
ンをマスターパターンとして、このマスターパターンを
別の本発明の写真乾板に密着露光して焼付は現像し、復
製パターンを作るものである。

本発明においてレジストパターン形成する場合、上記本
発明のハロゲン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀
写真乾板上に原画パターンを形成し、形成された原画パ
ターンを、フォトレジスト層を有する基板に密着露光し
てパターン転写してフォトレジストパターンを形成する
ものである。

このレジストパターン形成方法は、本発明の写真乾板か
らなるマスターパターンを直接フォトレジストを形成し
た基板に密着露光して該基板にレジスタパターンを形成
する場合に適用できる。この方法も、本発明の写真乾板
から転写してレジストパターンを得るので、密着性が充
分にとれる。

前記フォトレジスト層は支持体上に感光性組成物をバイ
ンダーとともに塗布することにより形成される。前記感
光性組成物としては種々のものが使用可能であるが、ア
ルカリ現像可能な感光性組成物を用いることが好ましく
、具体的には、例えば０−キノンジアジドを感光剤とす
る感光性樹脂組成物がある。なおネガティプリーキング
型の感光性組成物としては、例えば２．６−ジ（４′−
アジドベンザル）シクロヘキサンのようなアジド系感光
剤とフェノールノボラック樹脂をブレンドした組成物、
さらにベンジルメタアクリレートとメタクリル酸（例え
ばモル比７：３）の共重合体をバインダーとしてトリメ
チロールプロパントリアクリレートのごとき多官能性モ
ノマーとミヒラーケトンのごとき光重合開始剤をブレン
ドした光重合型感光性組成物がネガティブワーキング型
の感光性組成物として用いられる。また、ポジティブワ
ーキング型としては、例えばＯ−キノンジアジドを感光
剤とする感光性樹脂組成物があり、さらにはｉ）活性光
線の照射により酸を発生し得る化合物、ｉｉ　）酸によ
り分解し得る結合を少なくとも１個有する化合物、およ
び１ｉｉ）２または３種類の異なるフェノール類を含む
ノボラック樹脂を含有する感光性樹脂組成物を用いるこ
ともできる。

ｉ）の化合物としては、多くの公知化合物および混合物
、例えばジアゾニウト塩、ホスホニウム塩、スルホニウ
ム塩およびコードニウムのＢＦ４−１ＰＦ、−、ＳｂＦ
、−１ＳｉＦ、−、ＣｌＯ４−１などの塩、イＴ機ハロ
ゲン化合物、オルトキノンジアジドスルホニルクロリド
、および有機金属／有機ハロゲン化合物も活性光線の照
射の際に故を形成または分離する活性光線悪受性吸分と
して使用することができる。

原理的には遊離基形成性感光開始剤として知られている
すべての有機ハロゲン化合物をハロゲン水素酸を形成し
得る感光性化合物として使用することができる。そのよ
うな化合物の例としては米国特許３，５１５，５５２号
、同３，５３６．４８９号、同３．７７９．７７８号お
よび西ドイツ国特許公開公報第２，２４３．６２１号に
記載されている。

また、例えば西ドイツ国特許公開公報第２、６１０．８
４２号、特開昭５４４４７２８号、同５５−７７７４２
号、同５７−１６３２３号、同６０−３６２６号公報に
記載の光分解により酸を発生させる化合物も使用するこ
とができる。

これらの活性光線の照射により酸を発生し得る化合物の
含有量は、ぞの化学的性質および感光性樹脂層の組成あ
るいけ物性によって広範囲に変えることができるが、感
光性組成物の固形分の全重量に対して約０．１〜・約１
０重量Ｘの範囲が適当であｉｔ）の化合物としては、例
えば−＞Ｃ−０−Ｃ＜結合やｐｓ’、−ｏ−ｃ　　／−
結合を有する化合１カ、あを有する化合物などが挙げら
れる。

−＞Ｃ−０−Ｃ％結合を有する具体的化合物には、例え
ばアセタールまたはケタール基を有する化合物、特開昭
５１−１２０７１４号公報に記載のオルトカルボン酸エ
ステル基および／またはカルボン酸アミドアセタノール
基を有する化合物、特開昭５３−１３３４２９号公報に
記載の主鎖にアセタールまたはケタール基を有するポリ
マー、特開昭５５−１２９９５号公報に記載のエノール
エーテル基を有する化合物、特開昭５５−１２６２３６
号公報に記載の■−アシルイミノ炭酸塩基を有する化合
物、あるいは特開昭５６−１７３４５号公報に記載の主
鎖にオルトカルボン酸エステル基を有するポリマーなど
を挙げることができる。

また、−）Ｓｔ−０−Ｃ←活きを有する具体的化合物に
１よ１１例えば特開昭Ｇｏ−３７５４９号、同６０−５
２８４５号あるいは同６０−１２１４４６号公報に記載
の化合物などを挙げることができる。

また、エステル基を有する具体的化合物には、例えば特
開昭６０−３６２５号あるいは同６０−１０２４７号公
報に記載の化合物などを挙げることができる。

これらの酸により分解し得る結合を有する化合物の中で
は？Ｓｉ　−０−Ｃ−（＝ｇＳ合を有する化合物が好ま
しい。中でも、特開昭６０−１２１４４６号公報に記載
の一３ＰＳｉＯＣ−４結合を少なくとも１個有し、なお
かつ、親水性基を少なくとも１個有する化合物が、特に
好ましい。

これらの酸により分解し得る化合物は、１種類のみを単
独に用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい
。

これらの酸により分解し得る化合物の含有四は、感光性
レジスト形成組成物の全固形分に対し５〜７０ＹＩ１１
％が好ましく、特に好ましくは１０〜５０重世％である
。

ｉｉｉ　）のフェノール類として１ｆＪｔｌのフェノー
ル類のみを含むノボラック樹脂を２擢（各、νのノボラ
ック樹脂のフェノール成分は互いに異なる）混合したも
のでよいが、好ましくは２種類の異なるフェノール類と
活性カルボニル化合物の共重縮合体を用いる。二とがで
きる。

又バ１°ンダーには、例えばアクリル酸やメタクリルな
およびそれらのアルキルエステルまたはスルホアルキル
エステル、フェノール樹脂、ポリビニルブチラール、ポ
リアクリルアミド、エチルセ／ｌ／　Ｄ−ス、酢酸・酪
酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸セ
ルロース、ベンジルセルロース、ブコピオン酸セルロー
スなどのセルロース誘ユ体、その他ポリスチレン、ポリ
塩化ビニル、塩素化ゴム、ポリイソブチレン、ポリブタ
ジエン、ポリ酢酸ビニル、およびそれらのコボ°Ｊマー
、、酢酸セルロース、セルロースプロピオネート、セル
ロースアセテートツクレートなどが挙げられる。

本発明において、本発明の写真乾板は前記の他種々の利
用がでるが、典型的なパターン形成工程は次の通りであ
る。最初、ホトプロッタで所望の原画パターンを乾板に
露光（例えばレーザ光にて乾板に直接溝＜）、現像し、
マスターパターン（以下、ＭＰと称する）を製作する０
次に、別の乾板にＭＰｆ密着焼付し、現像し、ワーキン
グパターン（以下ＷＰと称する）を製作する。なお通例
、１枚のＭＰから複数枚のｗｐを製作する。しかる後レ
ジストを形成した部材の面（エツチング材のレジスト面
）にＷＰを密着焼付して、現像し、エツチングし、所定
のパターンをもった最終製品を得る。

本発明は上記のような工程において、ＭＰまたはｗｐと
して、本発明の写真乾板を用いる方法として、最も好ま
しく具体化できる。

このうち特に、ＭＰ用の写真乾板として、ガラス支持体
上の乳剤層に含有されるハロゲン化銀がヨウ化銀含有量
が８モル％以下のヨウ化銀でその平均粒径が０．１μｍ
以下のもである写真乾板を用い、ＷＰ用の乾板として、
ガラス支持体上の乳剤層に含有されるハロゲン化銀が少
なくとも５０モル％以上の塩化銀を含有するものである
写真乾板を用いるのが最適である。

勿論、上記以外の工程、例えばＭＰから直接フオドレジ
ストに焼き付ける工程や、あるいはその他種々の工程に
本発明を適用することができる。

〔実施例〕

以下本発明の実施例について説明する。但し当然のこと
ではあるが、本発明は以下述べる実施例により限定され
るものではない。

実施例−１ 本実施例では、ハロゲン化銀がヨウ化銀含を螢が８モル
％以下のヨウ化銀で平均粒径が０．１　μｍ以下のもの
を含有する乳剤層の写真乾板であって、かつガラス支持
体表面にスリ加工を施したものを用いることにより乳剤
層の表面を粗にした写真乾板を用いた。このような本発
明の写真乾板に原画パターンを形成し、これを本発明外
の写真乾板と密着露光してパターンを転写する態様で、
本発明を実施した。即ち、本発明の乾板をＭＰとして用
いて具体化したものである。

まず、ＭＰとしての本発明の写真乾板の製造について述
べ、次いでＷＰとして該Ｍ　Ｐを複写する写真乾板の製
造について述べる。

（本例における本発明に係る写真乾板）本例では、まず
リップマン型乳剤を調製し、これをスリ加工を施したガ
ラス支持体に塗布して乳剤層を形成した。

本例に用いる乳剤の処方は次の通りである。

沃化銀３モル％、臭化銀９７モル％から成る平均粒径０
．０５μｍのりツブマン型ハロゲン化銀乳剤にチオ硫酸
ナトリウムを加え化学増感した後、増感色素として下記
構造の化合物（Ｉ）、抑制剤　として下記構造の化合物
（■）、現像促進剤として下記化合物（■）、硬膜剤と
して下記化合物（■）、ガラスとの接着剤として下記構
造の化合物（Ｖ）を加え、塗布液を調製した。（尚、ゼ
ラチン量は６．８ｇ　／ＩＩＺ、Ａｇ量は２．８ｇ／ｍ
”、であった）。

上記乳剤を、表面にスリ加工を施したガラス支持体面上
に塗布した。支持体として用いたスリガラスは、１００
０番のものであり、これは表面粗さが３．２０ｃｒｍで
ある。これに乳剤を塗布して、乳剤層表面の粗さが２．
１１μｍである写真乾板を得た。

尚本実施例では、バッキング層を設けた。即ちバッキン
グ層はメタノールとエタノールのうち混合溶媒にメタア
クリル酸とメタアクリル酸エステルのコーポリマーをバ
インダーとして光吸収染料としては下記構造の化合物（
Ａ）（Ｂ）を添加し、接着剤として、下記構造の化合物
（Ｖｌ）を添加した溶液を塗布した。

乳剤及びバッキング層に用いた化合物は下記のとおりで
ある。

増感色素（Ｉ　）　　　　　　　　　　　　　　ＣＨ，
Ｃ１１２ＣＨｆｆｉＯＨ抑制剤　（Ｈ） 現像促進剤（Ｉｎ） ０Ｍ 硬膜剤　（ＩＶ） Ｃ（ＣＨｇＳＯｌＣＨ−ＣＨｔ）ｔ＞　ｎＮＨｚ（ＣＨ
ｔ）ｔｓ０３Ｋ　　、ｎ＝０．７５ガラスとの接着剤（
Ｖ） ＢＣ染料（Ａ） ＣｇＨｓｌ″　　　　　　　　　　　にｚｔＩｓｃ＋＋
、　ＣＩ　” ＢＣ接着剤（ＶＴ） このように得た写真乾板上にレーザ光により描くことに
よって、原画パターンを形成した。これをＭＰ、！’（
マスターパターン）として、次に述べ寄 る写真乾板に密着露光して現像し、ＷＰ（ワーオングパ
ターン）を得る。

（本例においてＷＰとして用いる写真乾板）ＷＰとして
用いる写真乾板は、次のようなリス乳剤を、１０００番
のスリを施したスリガラスの支持体上に塗布して、形成
した。

この場合のリス乳剤の処決は次のどおりである。

即ち、塩化銀６５モル％、臭化銀３５モル％から成る平
均粒径０．１９μｍの立方晶の塩化ロジウム塩を含有す
るハロゲン化銀乳剤へ、塩化金酸とチオ硫酸ナトリウム
を加え化学増感した後、増感色素として下記化合物■、
安定剤として６−メチル−４−ヒドサ′”イ ワキシー１．３．３ａ、フーテトラ→ンデン、抑制剤と
して下記構造の化合物■、ポリマーラテックスとして下
記構造の化合物■、硬膜剤として前記化合物■、ガラス
支持体との接着剤として前記化合物■を加え、塗布液を
調整した。

（尚ゼラチン付量４．１ｇ／ｍ”　、根付量３．５／ｍ
”であった）。バッキング層はリップマン型と同一のバ
ッキング液を塗布する。

また、現像処理はリス用と同様に行った。

この塗布液を、１０００番のスリ加工を施したガラス支
持体上に塗布して、表面の粗さが２．１１μｍｚの乳剤
層を形成した。

なおこの写真乾板にもバッキング層を設けたが、これは
上記リップマン型乳剤と同一のものを用いた。

ポリマーラテックスＣＩＸ） （界面活性剤　］・ラックスに一４０ Ｃ＋　ｚｆｌｚｓｏ（ＦＯ）　、Ｓｏ３：＋、共存）上
記により得たｗｐ用写真乾板に、前述の如くレーザ光を
用いて原画パターンを形成したＭＰを密着露光して、パ
ターンを転写した。

比較例−１ 上記実施例のＭＰ及びＷＰが１０００番のスリガラスを
支持体として形成した写真乾板を用いたのに対し、比較
として、スリ加工を施していない鏡面ガラスを支持体と
して用いたＭＰを使用した。その他は上記実施例と同様
にした。

実施例、比較例の試料を用いて、吸引排気時間との関係
を調べた結果は、下表の如くである。

時間短縮性については、特に、富着時の吸引排気時間を
、２分、４分、６分、８分、１０分とした所、画質につ
いて、次の結果が得られた。

トレジストを有する基板として、本例では次のものを用
いた。

即ち、板厚０．１５ａ＋ｍ、幅約５００ｍｍのウェーブ
状、冷延鋼板を基板とし、これをトリクレンによって脱
脂した後、さらにアルカリによって脱脂してから、この
鋼板にカゼイン（富士薬品工業＠製の５Ｓ−１６（商品
名）を使用）と重クロム酸アンモニウムとを比重１．０
３０に調合したレジストをロールロートして、これにパ
ターンを転写する。

本例では、上記コーティング処理を終えた鋼板に、板厚
約５１１１１で約５５９１１Ｒ１（２２インチ）×約７
１１１（２８インチ）の寸法の上記写真乾板を密着させ
、４ＫＨのメタルハライドズ］下、距Ｍ　５００　ｍ　
ｍで５０秒間露光焼付を行なった。ここで上記密着作業
における吸引排気時間を、１５秒、２０秒、５０秒、８
０秒、９０秒のそれぞれにて行なう。

上記密着焼付を終えた鋼板に対し、２３℃の水滴水を使
用しスプレー現像処理を施した。

続いて、無水クロム酸溶液に浸漬し、水洗し、２００℃
〜２５０℃にバーニングして硬膜処理を施す。

更に塩化第２鉄溶液をスプレィしエツチング処理をした
後、水洗して、エツチングして所望パターンの回路を有
する製品を得た。

比較例−２ 本例においても、比較としてスリ加工を施していないガ
ラスを支持体として用い、その他は上記と同様の操作を
行ったものを実施した。

上記実施例、比較例について、得られた製品のエツチン
グ状況を、次のようにして調べた。

即ち、２０％の奇性ソーダに数％の界面活性剤を加えた
溶液に浸漬することによりレジスト面を剥離し、水洗し
た後にエツチング状況を確認した。

この結果は、次表に示すとおりである。

上記の如く、本例は吸引時間が２０秒ですでに良好なエ
ツチングが行えるパターン転写が実現できる。

〔発明の効果〕

上述の如く本発明によれば、パターン転写において充分
な密着性をとることができ、よって良好な画質の複写パ
ターンが得られ、吸引排気時間などに要する時間も短縮
できるという効果がある。

例えば上述した実施例においは、パターン転写は生産す
る製品の数に相当する数行うので、例えば上記データに
基づき仮に７０秒時間短縮できて１０００個製造する訃
そ、７０秒Ｘ　１０００−７００００秒、即ち約１９時
間あまりも時間を節約でき、産性を向上できるものであ
る。

特許出願人　小西六写真工業株式会社 同　　　　　大日本スクリーン製造株式会社代理人弁理
士　　高　　月　　　　亨 手続補正書 昭和６１年　７月１４日 特許庁長官　　宇　賀　道　部　殿 １、事件の表示 昭和６１年　特許願　第１０３１２６号２、発明の名称
　　パターン転写方法及び該方法に使用３、補正をする
者 事件との関係　　特許出願人 住所　　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名称　　
（１２７）　　小西六写真工業株式会社（）１゛上ル ４、代理人 ６、補正の対象　願書 手　続　ネｍ　ＬＥ　書 昭和６１年　７月１４日 特許庁長官　　宇　賀　道　部　殿 １、事件の表示 昭和６１年　特許願　第１０３１２６号３、補正をする
者 事件との関係　　特許出願人 住所　　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名称　　
（１２７）　　小西六写真工業株式会社侍（−ｉ、力 ４、代理人 ６゛、補正の対象　　明細書全文 ７、補正の内容　　別紙のとおり 明　　　細　　　書 １０発明の名称 パターン転写方法及び該方法に使用するハロゲン化銀写
真乾板 ２、特許請求の範囲 １、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成る
第１の写真乾板に原画パターンを形成し、該原画パター
ンを、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成
る第２の写真乾板もしくはフォトレジスト層を有する基
板に密着転写するパターン転写方法において、 上記第１及び第２の写真乾板は、その乳剤層に含有され
るハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有量が８モル％以下の
ヨウ臭化銀乳剤でありその平均粒径が０．１μｍ以下の
ものであるか、または該乳剤層に含有−されるハロゲン
化銀乳剤が少なくとも５０モル％以上の塩化銀を含有す
るものである写真乾板であって、 かつ上記第１．第２の写真乾板の少なくとも一方の乳剤
層の表面粗さが０．３μｍ〜３μｍであることを特徴と
するパターン転写方法。

２、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成り
、該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含
有量が８モル％以下のヨウ臭化銀乳剤でその平均粒径が
０．１μｍ以下のものである写真乾板を用い、 該写真乾板上に原画パターンを形成し、該原画パターン
を、 ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成り、該
乳剤層に含有されるハロゲン化銀が少なくとも５０モル
％以上の塩化銀を含有するものである写真乾板に密着転
写することを特徴とし、 かつ上記写真乾板の少なくとも１つはその乳剤層の表面
粗さが０．３μｍ〜３μｍであることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のパターン転写方法。

３、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成り
、該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が少なくとも
５０モル％以上の塩化銀を含有するものであって、かつ
該乳剤層の表面粗さが０．３μｍ〜３μｍである写真乾
板を用い、 該写真乾板にパターンを形成し、 該パターンを、 支持体上にフォトレジスト層を有して成る基板上に密着
転写することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
パターン転写方法。

４、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロ
ゲン化銀写真乾板において、 該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有
量が８モル％以下のヨウ臭化銀乳剤でその平均粒径が０
．１　μｍ以下のものであって、かつ該乳剤層の表面粗
さが０．３μｍ〜３μｍであることを特徴とするハロゲ
ン化銀写真乾板。

５、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロ
ゲン化銀写真乾板において、 該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が少なくとも５
０モル％以上の塩化銀を含有するものであって、 かつ該乳剤層の表面粗さが０．３μｍ〜３μｍであるこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真乾板。

３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明はパターン転写方法及び該方法に使用するハロゲ
ン化銀写真乾板に関する。

〔従来の技術〕

従来より、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤を形成し
て成る写真乾板を用い、これに原画パターンを形成し、
この写真乾板を別の写真乾板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してパターンを複酸することや、あるいはフ
ォトレジスト層を有する基板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してフォトレジストパターンを得ることが行
われている。

ところが従来技術にあっては、密着露光して原画パター
ンを転写する際の密着が必ずしも充分でなく、例えば密
着ムラが発生したり、ニュートンリングの発生等により
、転写しても良好な画質が得られないことがある。また
、充分な密着性を得るため、吸引排気手段を用いて吸引
して乾板とパターン被転写体との間を密着させることも
行われるが、この吸引排気に時間を要し、量産性が向上
しないという問題がある。

アルミニウムなどの被膜が形成された基板上にフォトレ
ジストを形成して、これに写真乾板上の原画パターンを
転写しようとする場合、例えばフォトレジスト上に回路
パターンを焼付は転写してこれを現像し、エツチング加
工することで、所望の回路を形成することが各種電子材
料分野、例えばＩＣ回路の製造において用いられるが、
上記の問題のため解像度が上げられず、信頬性の高い回
路が得られないという問題や、良好な回路を得るため密
着性を上げるべく吸引排気手段を用いると、これに時間
がかかり、生産性を上げられないという問題があるもの
である。また原画パターンについて、該原画のマスター
パターンを別の写真乾板に転写して複製パターン（ワー
キングパターン）を製造することがよく行われるが、こ
の場合にも同様の問題が生じる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のように従来の写真乾板では、原画パターンを密着
転写する際の密着性が充分にはとれないという問題があ
る。

本発明はこのような問題を解決して、密着性が充分にと
れるパターン転写方法を得ることを目的とするものであ
り、またこの転写方法に使用するハロゲン化銀写真乾板
を得ることを目的とする。

本発明によりパターンやフォトレジストパターンを形成
することにより、良好な画質の複写パターンが得られ、
また吸引排気時間などに要する手間を軽減できるもので
ある。

〔問題点を解決するための手段及びその作用〕上記本発
明の目的は、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有
してなる第１の写真乾板に原画パターンを形成し、該原
画パターンを、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を
有して成る第２の写真乾板もしくはフォトレジスト層を
有する基板に密着転写してパターンを形成する方法にお
いて、上記写真乾板は、その乳剤層に含有されるハロゲ
ン化銀乳剤がヨウ化銀含有量が８モル％以下のヨウ臭化
銀乳剤でありその平均粒径が０．１　μｍ以下のもので
あるか、または該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤
が少なくとも５０モル％以上の塩化銀を含有するもので
あって、かつ上記第１．第２の写真乾板の少なくとも一
方（写真乾板からフォトレジストに転写する場合はその
写真乾板）はその乳剤層の表面粗さが０．３μｍ〜３μ
ｍであることを特徴とするパターン転写方法によって、
又前記写真乾板によって、達成される。

本発明において用いられるハロゲン化銀写真乾板は、製
版用等のいわゆる硬調で、高解像力の写真感光材料であ
る、従来このような写真乾板はその目的からしても、乳
剤層表面をできるだけ平滑にすることが望まれていた。

しかしあまり平滑すぎると他の写真乾板やフォトレジス
ト層を有する基板に密着転写する際に、密着性が低下し
てしまうという重大な欠点があったものである。

本発明においては前記のような硬調で高解像力を有する
乳剤層をガラス支持体上に有してなる写真乾板において
乳剤層の表面粗さを一定の範囲としたことにより、密着
性がきわめてすぐれた転写方法及びこれに用いる写真乾
板を得るにいたったものである。本発明においてはパタ
ーン転写に際しての密着性が良好であるので、すぐれた
画像の転写パターンを得ることができ、かつ密着のため
に吸引排気などの手段をとることが必ずしも必要ではな
くなり、この手段をとるにしても、時間を短縮でき、生
産性を高めることができる。

本発明のハロゲン化銀写真乾板の乳剤層の表面粗さは上
述の如り０．３μｍ〜３μｍとするが、このように乳剤
層を粗面にするには各種の手段によることができる。例
えば、ガラス支持体の表面を粗とする手段を用いること
ができる。ガラス支持体の表面を粗にすることによって
、この上に形成した乳剤層の表面を粗にできるので、該
表面粗さが上記の範囲になるようにガラス支持体を粗に
するとともに、適宜の塗布手段を用いればよいのである
。ガラス支持体として、例えばいわゆるすりガラスなど
を用いて、これを達成できる。また、乳剤層の材質によ
って、該乳剤層の表面を粗にすることができる。これは
乳剤中に適宜の物質を含有させることで達成でき、例え
ば乳剤層にマット剤を入れることにより、乳剤表面粗さ
が上記の範囲のものとすることができる。

好適に用いることができるマット剤としては、例えば次
の如きものがある。

即ち、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、二酸化チタン
、炭酸カルシウム等のごとき無機物質や、ポリメチルメ
タアクリレート、セルロースアセテートプロピオネート
などの有機物質などを好ましく使用でき、特に粒子直径
が０．３　μｍから５μｍまでのものを好適に使用でき
る。

本発明の写真乾板の表面粗さは０．３μｍ〜３μｍであ
るが、この範囲であれば、所望の目的に応じて適宜の粗
さを選定できる。特に高解像用として用いる場合、０．
３μｍｘｌ、ｃｒｍの表面粗さとするのがよい。

なお、本明細書中において表面粗さとは、「基準長さ０
．８　ｍｍのＩＯ点平均アラサ」を言い、例えば触針式
による表面粗さ測定方法により、試料のスキャン長さ０
．８　ｍｍ中の区間における１０ケ所の凹凸平均値から
求める。

また本明細書で言う粒径とは平均粒径ｌであり、これは
球状のハロゲン化銀粒子の場合はその直径、また立方体
や球状以外の形状の粒子の場合は、その投影像を同面積
の円像に換算した時の直径の平均値であって、個々のそ
の粒径がｒ、であり、その数がｎｌである時、下記の式
によって７が定義されたものである。

上記の粒子径は上記の目的のために当該技術分野におい
て一般に用いられる各種の方法によってこれを測定する
ことができる。代表的な方法としてはラブランドの［粒
子径分析法Ｊ　Ａ、Ｓ、Ｔ。

Ｍ、シンポジウム・オン・ライト・マイクロスコピー、
１９５５年、９４〜１２２項または「写真プロセスの論
理」ミースおよびジエームズ共著、第３版、マクミラン
社発行（１９６６年）の第２章に記載されている。この
粒子径は粒子の投影面積か直径近偵値を使ってこれを測
定することができる。

本発明の写真乾板におけるハロゲン化銀乳剤層等の親水
性コロイド層に用いられる親水性コロイドとしては、ゼ
ラチン、アルブミン、ゼイン、カゼイン、アルギン酸、
セルロース誘導体（例えばヒドロキシエチルセルロース
、カルボキシメチルセルロース等）、合成親水性コロイ
ド（例えばポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルピ
ロリドン等）等が挙げられる。

本発明の写真乾板は、ガラス支持体上に少なくとも１層
のハロゲン化銀乳剤層を有するものであり、該層の他必
要に応じて乳剤層の上に保護層、乳剤層の下に下引層等
を設けることができる。また、光吸収染料を含有するバ
ンキング層をハロゲン化銀乳剤層と反対側の面上に設け
たり、光吸収染料をハロゲン化銀乳剤層へ含有させるこ
ともできる。

光吸収染料には、オキサノール染料、ヘミオキサノール
染料、メロシアニン染料、シアニン染料、スチリル染料
、アゾ染料が含有される。なかでもオキサノール染料；
ヘミオキサノール染料およびメロシアニン染料が有用で
ある。用い得る染料の具体例は例えば西独特許第６１６
，００７号、英国特許第１．１７７．４２９号、特公昭
５１−３８１２９号、特開昭５７−１８５０３８号、米
国特許第４，０７１，３１２号、Ｐｔｌレポート７４１
７５号、ＰＩＩＯＴＯ，八Ｂ３．１２８（’２１）等に
記載されたものである。

本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
粒子は、粒子を形成する過程及び／又は成長させる過程
で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジ
ウム塩（錯塩を含む）、ロジウム塩（錯塩を含む）およ
び鉄塩（錯塩を含む）から選ばれる少なくとも１種を用
いて金属イオンを添加し、粒子内部及び／又は粒子表面
にこれらの金属元素を含有させることができ、また適当
な還元的雰囲気におくことにより、粒子内部及び／又は
粒子表面に還元増悪核を付与できる。

本発明のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀乳剤は、ハ
ロゲン化銀粒子の成長の終了後に不要な可溶性塩類を除
去してもよいし、あるいは含有させたままでもよい。該
塩類を除去する場合には、リサーチ・ディスクロジャー
（Ｒｃｓｃａｒｃｈ　Ｄｉｓｃ−１ｏｓｕｒｅ）　１７
６４３号記載の方法に基づいて行うことができる。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増官する
ことができる。即ち、硫黄増感法、セレン増感法、還元
増悪法、金その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法
などを単独で又は組み合わせて用いることができる。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感できる。増感色素は単独で用いてもよいが、
２種以上を組合わせて用いてもよい。増感色素とともに
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させてもよい。

増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、
複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラ
−シアニン色素、ヘミシアニン色素、ステリル色素およ
びヘミオキサノール色素が用いられる。

特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、
および複合メロシアニン色素である。これらの色素類に
は、塩基性異部環核としてシアニン色素類に通常利用さ
れる核のいずれをも適用できる。すなわち、ビロリン核
、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサ
ゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾー
ル核、テトラゾール核、ピリジン核およびこれらの核に
脂環式炭化水素環が融合した核およびこれるの核に芳香
族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ヘ
ンズインドレニン核、インドール綾、ベンズオキサゾー
ル核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナ
フトチアゾール核、ヘンゾセレナゾール核、ベンズイミ
ダゾール核、キノリン核ｔ〈どである。これらの核は炭
素原子上で置換されてもよい。

メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を有する核として、ピラゾルノー５−オン
核、チオヒダントイン核、２−チオオキサゾリジン−２
，４−ジオン核、チアゾリジン−２，４−シオン核、ロ
ーダニン核、チオバルビッール成核などの５〜６員異節
環核を適用することができる。

有用な青感光性ハロゲン化銀乳剤層に用いられる増感色
素としては、例えば西独特許９２９．０８０号、米国特
許第４．０４６．５７２号、英国特許１，２４２，５８
８号、特公昭５２−２４８４４号等に記載されたものを
挙げることができる。また緑感光性ハロゲン化銀乳剤に
用いられる有用な増感色素としては、例えば米国特許２
，９４５，７６３号、英国特許５０５．９７９号等に記
載されている如きシアニン色素、メロシアニン色素また
は複合シアニン色素をその代表的なものとして挙げるこ
とができる。さらに、赤感光性ハロゲン化銀乳剤に用い
られる有用な増感色素としては、例えば米国特許２，７
７６．２８０号等に記載されている如きシアニン色素、
メロシアニン色素または複合シアニン色素をその代表的
なものとして挙げることができる。更にまた米国特許２
，５１９，００１号、西独特許９２９，０８０号等に記
載されている如きシアニン色素、メロシアニン色素また
は複合シアニン色素を緑感光性ハロゲン化銀乳剤または
赤感光性ハロゲン化銀乳剤に有用に用いることができる
。

これらの増悪色素は単独に用いても良いが、それらの組
み合わせを用いても良い。増悪色素の組み合わせは特に
、強色増感の目的でしばしば用いられる。その代表例は
、特公昭５５−１５６９号、特開昭５９−１１６６４７
号、米国特許第３．８３７，８６２号に記載されている
。

増感色素とともに用いられる、それ自身分光増感作用を
持たない色素、あるいは可視光を実質的に吸収しない物
質であって強色増感を示す物質としては、例えば芳香族
有機酸ホルムアルデ龜ド縮金物（例えば、米国特許第３
，４３７．５１０号に記載のもの）、カドミウム塩、ア
ザインデン化合物、含窒素異部環基で置換されたアミノ
スチルベン化合物（例えば、米国特許第２．９３３，３
９０号、同３．６３５，７２１号に記載のもの）などが
ある。米国特許３，６１５，６１３号、同３，６１５，
６４１号、同３，６１７．２９５号、同３，６３５．７
２１号に記載の組み合わせは特に有用である。

本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカプリの防止、又は写真
性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、化学熟成
の終了時、及び／又は化学熟成の終了後、ハロゲン化銀
乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカプリ防止剤
又は安定剤として知られている化合物を加えることがで
きる。

カプリ防止剤、安定剤としては、米国特許第２．７１３
．５４１号、同２，７４３．１８０号、同２，７４３，
１８１号に記載されたペンタザインデン類、米国貨許第
２．７１６，０６２号、同２，４４４．６０７号、同２
，４４４．６０５号、同２，７５６，１４７号、同２，
８３５，５８１号、同２，８５２，３７５号、リサーチ
・ディスクロージャー（Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏ
ｓｕｒｅ）　１４８５１号に記載されたテトラザインデ
ン類、米国特許第２，７７２．１６４号に記載されたト
リアザインデン類、および特開昭５７−２１１１４２号
に記載されたポリマー化アザインデン類等のアザインデ
ン類；米国特許第２．１３１．０３８号、同３，３４２
，５９６号、同３，９５４．４７８号に記載されたチア
ゾリウム塩、米国特許３，１４８．０６７号に記載され
たビリリウム塩、および特公昭５０−４０６６５号に記
載されたホスホニウム塩等の４級オニウム塩類；米国特
許第２゜４０３、９２７号、同３，２６６．８９７号、
同３，７０８．３０３号、特開昭５５−１３５８３５号
、同５９−７１０４７号に記載されたメルカプトテトラ
ゾール類、メルカプトトリアゾール類、メルカプトジア
ゾール類、米国特許第２゜８２４．００１号に記載され
たメルカプトチアゾール類、米国特許第３，３９７，９
８７号に記載されたメルカプトベンズチアゾール類、メ
ルカプトベンズイミダゾール類、米国特許第２．８４３
．４９１号に記載されたメルカプトオキサジアゾール類
、米国特許第３．３６４゜０２８号に記載されたメルカ
プトチアジアゾール類等のメルカプト置換へテロ環化合
物類；米国特許第３．２３６，６５２号、特公昭４０−
１０２５６号に記載されたカナロール類、特公昭５６−
４４４１３号に記載されたレゾルシン類、および特公昭
４３−４１３３号に記載された没食子酸エステル等のポ
リヒドロキシベンゼン頻；西独特許第１．１８９．３８
０号に記載されたテトラゾール類、米国特許第３．１５
７．５０９号に記載されたトリアゾール類、米国特許第
２．７０４，７２１号に記載されたベンズトリアゾール
類、米国特許第３，２８７゜１３５号に記載されたウラ
ゾール類、米国特許第３゜１０６．４６７号に記載され
たピラゾール類、米国特許第２，２７１，２２９号に記
載されたインダゾール類、および特開昭５９−９０８４
４号に記載されたポリマー化ベンズトリアゾール類等の
アゾール類や米国特許第３．１６１．５１５号に記載さ
れたピリミジン類、米国特許第２，７５１．２９７号に
記載された３−ピラゾリドン類、および米国特許第３．
０２１，２１３号に記載されたポリマー化ピロリドン即
ちポリビニルピロリドンＩｎのへテロ環化合物類；特開
昭５４−１３００２０号、同５９−１３７９４５号、同
１４０４４５号、英国特許第１，３５６，１４２号、米
国特許第３，５７５．６９９号、同３，６４９．２６７
号等に記載された各種の抑制剤プレカーサー；米国特許
第３．０４７．３９３号に記載されたスルフィン酸、ス
ルフォン酸誘導体；米国特許第　２．５５６．２６３号
、同２．８３９．４０５号、同２，４８８，７０９号、
同２，７２８．６６３号に記載された無機塩類等がある
。

本発明の写真乾板の写真乳剤層、その他の親水性コロイ
ド層は、バインダー　（又は保護コロイド）分子を架橋
させ、膜強度を高める硬膜剤を１種又は２種以上用いる
ことにより硬膜することができる。硬膜剤は、処理液中
に硬膜剤を加える必要がない程度に感光材料を硬膜でき
る量添加することができるが、処理液中に硬膜剤を加え
ることも可能である。

硬膜剤としては、アルデヒド系、アジリジン系（例えば
、ＰＢレポート、１９，９２１、米国特許第３，２７１
、１７５号の明細書、特公昭４６−４０８９８号、特開
昭５０−９１３１５号の各公報に記載のもの）、イソオ
キサゾール系（例えば、米国特許第３３１，６０９号明
細書に記載のもの）、エポキシ系（例えば米国特許第３
゜０４７　、３９４号、西独特許第１，０８５，６６３
号、英国特許第１，０３３，５１８号の各明細書、特公
昭４８−３５４９５号公報に記載のもの）、ビニールス
ルホン系（例えば、ＰＢレポート１９，９２０、西独特
許第２，７４９，２６０号、英国特許第１，２５１，０
９１号、特願昭４８−１１０９９６号、米国特許第３．
５３９．６４４号、の各明細書に記載のもの）、アクリ
ロイル系（例えば、特願昭４８−２７９４９号、米国特
許第３，６４０，７２０号の各明細書に記載のもの）、
カルボジイミド系（例えば、米国特許第４，０６１，４
９９号の明細書、特公昭４６−３８７１５号公報、特願
昭４９−１５０９５号明細書に記載のもの）、トリアジ
ン系（例えば、西独特許第２，４１０．９７３号、２，
５５３，９１５号、米国特許第３．３２５．２８７号の
各明細書、特開昭５２−１２７２２号公報に記載のもの
）、高分子型（例えば、英国特許第８２２．０６１号、
米国特許第３．２２６．２３４号の各明細書、特公昭４
７−１８５７８号、同１８５７９号、同４７−４８８９
６号の各公報に記載のもの）、その他マレイミド系、ア
セチレン系、メタンスルホン酸エステル系、Ｎ−メチロ
ール系の硬膜剤が単独又は組み合わせて使用できる。有
用な組み合わせ技術として、例えば西独特許第２，５１
４．２４５号、米国特許第４．０４７，９５７号の各明
細書、特開昭４８−４３３１９号、同５０−６３０６２
号、同５２−１２７３２９号、特公昭４８−３２３６４
号の各公報に記載の組み合わせが挙げられる。

本発明の写真乾板のハロゲン化銀乳剤層及び／又は他の
親水性コロイド層には柔軟性を高める目的で可塑剤を添
加できる。

本発明の写真乾板の写真乳剤層その他の親水性コロイド
層には寸度安定性の改良などを目的として、水不溶性又
は難溶性合成ポリマーの分散物（ラテックス）を含有さ
せることができる。

難溶性合成ポリマーとしては、例えば英国特許第１，１
８６．６９９号、特公昭４９−２５４９９号、米国特許
第３．６４５．７４０号等に記載されているものを好ま
しく用いることができる。

本発明の写真乾板の写真乳剤層は、感度上昇、コントラ
スト上昇、又は現像促進の目的でポリアルキレンオキシ
ド又はそのエーテル、エステル、アミン等の誘導体、チ
オエーテル化合物、チオモルフォリン類、４級アンモニ
ウム化合物、ウレタン誘導体、尿素誘導体、イミダゾー
ル誘導体等を含んでもよい。

本発明の写真乾板の現像処理には、現像主薬としてハイ
ドロキノンを用い、亜硫酸イオン濃度の低いリス現像液
（伝染現像液）による現像を含めて公知のいずれをも用
いることができる。

本発明においてパターン形成する場合、本発明のハロゲ
ン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀写真乾板上に
原画パターンを形成し、形成された原画パターンを、ガ
ラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する別の本発明
の写真乾板に密着露光してパターン転写して、パターン
を形成する。

これは、まず本発明の写真乾板上に形成した原画パター
ンをマスターパターンとして、このマスターパターンを
別の本発明の写真乾板に密着露光して焼付は現像し、複
製パターンを作るものである。

本発明においてレジストパターン形成する場合、上記本
発明のハロゲン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀
写真乾板上に原画パターンを形成し、形成された原画パ
ターンを、フォトレジスト層を有する基板に密着露光し
てパターン転写してフォトレジストパターンを形成する
ものである。この場合も、本発明の写真乾板から転写し
てレジストパターンを得るので、密着性が充分にとれる
。

前記フォトレジスト層は支持体上に感光性組成物をバイ
ンダーとともに塗布することにより形成される。前記感
光性組成物としては種々のものが使用可能であるが、ア
ルカリ現像可能な感光性組成物を用いることが好ましく
、具体的には、例えば０−キノンジアジドを感光剤とす
る感光性樹脂組成物がある。なおネガティブワーキング
型の感光性組成物としては、例えば２，６−ジ（４′−
アジドヘンザル）シクロヘキサンのようなアジド系感光
剤とフェノールノボラック樹脂をブレンドした組成物、
さらにベンジルメタアクリレートとメタクリル酸（例え
ばモル比７：３）の共重合体をバインダーとしてトリメ
チロールプロパントリアクリレートのごとき多官能性モ
ノマーとミヒラーケトンのごとき光重合開始剤をブレン
ドした光重合型感光性組成物がネガティブワーキング型
の感光性組成物として用いられる。また、ポジティブワ
ーキング型としては、例えば０−キノンジアジドを感光
剤とする感光性樹脂組成物があり、さらにはｉ）活性光
線の照射により酸を発生し得る化合物、ｉｉ　）酸によ
り分解し得る結合を少なくとも１個有する化合物、およ
び山）２または３種類の異なるフェノール類を含むノボ
ラック樹脂を含有する感光性樹脂組成物を用いることも
できる。

ｉ）の化合物としては、多くの公知化合物および混合物
、例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウ
ム塩およびヨードニウムのＢＦ、−１ＰＦｈ−，５ｂＦ
ｈ＼５ｉＦｈ−、Ｃｌ０ａ−１などの塩、有機ハロゲン
化合物、オルトキノンジアジドスルホニルクロリド、お
よび有機金属／有機ハロゲン化合物も活性光線の照射の
際に酸を形成または分離する活性光線感受性成分として
使用することができる。

原理的には遊離基形成性感光開始剤として知られている
すべての有機ハロゲン化合物をハロゲン水素酸を形成し
得る感光性化合物として使用することができる。そのよ
うな化合物の例としては米国特許３．５１５．５５２号
、同３．５３６．４８９号、同３．７７９．７７８号お
よび西ドイツ国特許公開公報第２，２４３．６２１号に
記載されている。

また、例えば西ドイツ国特許公開公報第２，６１０゜８
４２号、特開昭５４−７４７２８号、同５５−７７７４
２号、同５７−１６３２３号、同６０−３６２６号公報
に記載の光分解により酸を発生させる化合物も使用する
ことができる。

これらの活性光線の照射により酸を発生し得る化合物の
含有量は、その化学的性質および感光性樹脂層の組成あ
るいは物性によって広範囲に変えることができるが、感
光性組成物の固形分の全重量に対して約０．１〜約１０
重量％の範囲が適当である。

ｉｉ）の化合物としては、例えば　Ｃ−〇−Ｃ結合や）
Ｓｉ　−０−Ｃり　　結合を有する化合物、あるいは）
Ｃ−０−Ｃ−結合や＞Ｓｉ　−０−Ｃ−結合を有する化
合物などが挙げられる。

、）Ｃ−Ｏ−Ｃぐ結合を有する具体゛同化合物には、例
えばアセタールまたはケタール基を有する化合物、特開
昭５１−１２０７１４号公報に記載のオルトカルボン酸
エステル基および／またはカルボン酸アミドアセタノー
ル基を有する化合物、特開昭５３−１３３４２９号公報
に記載の主鎖にアセタールまたはケタール基を有するポ
リマー、特開昭５５−１２９９５号公報に記載のエノー
ルエーテル基を有する化合物、特開昭５５−１２６２３
６号公報に記載のＮ−アシルイミノ炭酸塩基を有する化
合物、あるいは特開昭５６−１７３４５号公報に記載の
主鎖にオルトカルボン酸エステル基を有するポリマーな
どを挙げることができる。

また、−）Ｓｉ−Ｏ−Ｃ（結合を有する具体的化物には
、例えば特開昭６０−３７５４９号、同６０−５２８４
５号あるいは同６０−１２１４４６号公報に記載の化合
物などを挙げることができる。

また、エステル基を有する具体的化合物には、例えば特
開昭６０−３６２５号あるいは同６０−１０２４７号公
報に記載の化合物などを挙げることができる。

これらの酸により分解し得る結合を有する化合物の中で
は）ｓｉ−ＯＣ（：結合を有する化合物が好ましい。中
でも、特開昭６０−１２１４４６号公報に記載の＞５ｉ
−０−Ｃ（結合を少なくとも１個有し、なおかつ、親水
性基を少なくとも１個有する化合物が、特に好ましい。

これらの酸により分解し得る化合物は、１種類のみを単
独に用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい
。

これらの酸により分解し得る化合物の含有Ｖは、感光性
レジスト形成組成物の全固形分に対し５〜７０重量％が
好ましく、特に好ましくは１０〜５０車量％である。

ｉｉｉ　）のフェノール類として１種類のフェノール類
のみを含むツボランク樹脂を２種（各々のノボラック樹
脂のフェノール成分は互いに異なる）混合したものでよ
いが、好ましくは２種類の異なるフェノール類と活性カ
ルボニル化合物の共重縮合体を用いることができる。

又バインダーには、例えばアクリル酸やメタクリル酸お
よびそれらのアルキルエステルまたはスルホアルキルエ
ステル、フェノール樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
アクリルアミド、エチルセルロース、酢酸・酪酸セルロ
ース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸セルロース
、ベンジルセルロース、プロピオン酸セルロースなどの
セルロース誘逗体、その他ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジェン、
ポリ酢酸ビニル、およびそれらのコポリマー、酢酸セル
ロース、セルロースプロピオネート、セルロースアセテ
ートフタレートなどが挙げられる。

本発明において、本発明の写真乾板は前記の他種々の利
用ができるが、典型的なパターン形成工程は次の通りで
ある。最初、ホトプロッタで所望の原画パターンを乾板
に露光（例えばレーザ光にて乾板に直接描り）、現像し
、マスターパターン（以下、ＭＰと称する）を製作する
。次に、別の乾板にＭＰを密着焼付し、現像し、ワーキ
ングパターン（以下ＷＰと称する）を製作する。なお通
例、１枚のＭＰから複数枚のＷＰを製作する。しかる後
レジストを形成した部材の面（エツチング材のレジスト
面）にＷＰを密着焼付して、現像し、エツチングし、所
定のパターンをもった最終製品を得る。

本発明は上記のような工程において、ＭＰまたはＷＰと
して、本発明の写真乾板を用いる方法として、最も好ま
しく具体化できる。

このうち特に、ＭＰ用の写真乾板として、ガラス支持体
上の乳剤層に含有されるハロケン化銀がヨウ化銀含有量
が８モル％以下のヨウ化銀でその平均粒径が０．１　μ
ｍ以下のものである写真乾板を用い、ＷＰ用の乾板とし
て、ガラス支持体上の乳剤層に含有されるハロケン化銀
が少なくとも５０モル％以上の塩化銀を含有するもので
ある写真乾板を用いるのが最適である。

勿論、上記以外の工程、例えばＭＰから直接フォトレジ
ストに焼き付ける工程や、あるいはその他種々の工程に
本発明を通用することができる。

〔実施例］ 以下本発明の実施例について説明する。但し当然のこと
ではあるが、本発明は以下述べる実施例により限定され
るものではない。

実施例−１ （ＭＰの作成） 本例では、まず下記のようなりツブマン型乳剤を調製し
、これをスリ加工を施したガラス支持体に塗布して乳剤
層を形成した。

本例に用いる乳剤の処方は次の通りである。

沃化銀３モル％、臭化銀９７モル％から成る平均粒径０
．０５μｍのりツブマン型ハロゲン化恨乳剤に千オ硫酸
ナトリウムを加え化学増感した後、増感色素として下記
構造の化合物（Ｉ）、抑制剤　として下記構造の化合物
（■）、現像促進剤として下記化合物（■）、硬膜剤と
して下記化合物（■）、ガラスとの接着剤として下記構
造の化合物（Ｖ）を加え、塗布液を調製した。　（尚、
ゼラチン量は６．８ｇ　／　ｍ　２、Ａｇ量は２．ｈ／
ｍ２、であった）。

上記乳剤を、表面にスリ加工を施したガラス支持体面上
に塗布した。支持体として用いたスリガラスは、１００
０番のものであり、これは表面粗さが３．２０μｍであ
る。これに乳剤を塗布して、乳剤層表面の粗さが２．１
１μｍである写真乾板を得た。

尚本実施例では、バッキング層を設けた。即ちバンキン
グ層はメタノールとエタノールの混合溶媒にバインダー
としてメタアクリル酸とメタアクリル酸エステルのコー
ポリマーを添加し、光吸収染料としては下記構造の化合
物（Ａ）（Ｂ）を添加し、接着剤として、下記構造の化
合物（ＶＩ）を添加した溶液を塗布した。

乳剤及びバッキング層に用いた化合物は下記のとおりで
ある。

増感色素（１）　　　　　　　　　　　　　ＣＩｌ□Ｇ
ＨｚＣＨｚＯＨ抑制剤　（ｎ） 現像促進剤（ＩＩＩ） Ｈ Ｃ００Ｃｚｌｌｓ 硬膜剤　（ＩＶ） Ｃ（ＣＩＩｚＳＯｚＣＨ＝ＣＨｚ）ａｔ　ｎＮＨｚ（Ｃ
）ｌｘ）ｚｓＯＪ　　ｎ＝０．７５ガラスとの接着剤（
Ｖ） ＢＣ染料（Ａ） Ｈ２Ｃ１ｅ ＢＣ接着剤（１ このように得た写真乾板上にレーザ光により描くことに
よって、原画パターンを形成した。これをＭＰ（マスタ
ーパターン）として、次に述べる写真乾板に審着露光し
て現像し、ＷＰ（ワーキングパターン）を得る。

（ＷＰとして用いる写真乾板の作製） ＷＰとして用いる写真乾板は、次のようなリス乳剤を、
１０００番のスリを施したスリガラスの支持体上に塗布
して、形成した。

この場合のリス乳剤の処決は次のとおりである。

即ち、塩化銀６５モル％、臭化銀３５モル％がら成る平
均粒径０．１９μｍの立方晶の塩化ロジウム塩を含有す
るハロゲン化銀乳剤へ、塩化金酸とチオ硫酸ナトリウム
を加え化学増感した後、増感色素として下記化合物■、
安定剤として６−メチル−４−ヒドロキシ−１，３，３
ａ、７−チトラザインデン、抑制剤として下記構造の化
合物■、ポリマーラテックスとして下記構造の化合物■
、硬膜剤として前記化合物■、ガラス支持体との接着剤
として前記化合物■を加え、塗布液を調整した。

（尚ゼラチン付量４．１ｇ／ｍ”　、根付量３．５／ｍ
２であった）。

この塗布液を、１０００番のスリ加工を施したガラス支
持体上に塗布して、表面の粗さが２．１１μｍの乳剤層
を形成した。

なおこの写真乾板にもバッキング層を設けたが、これは
ＭＰ用写真乾板乳剤と同一のものを用いた。

増感色素（■）Ｃ）Ｉ２Ｃ１１２０１１ポリマーラテッ
クス（ＩＸ） ＋ｃｕｚ−Ｃ）Ｉ÷、。÷ＣＩＩ□−ＣＩｌ→、。

Ｉ Ｃ０ＯＣａＨｑ　　　　　Ｃ００ＣＩＩ＋（界面活性剤
　トランクスに一４０ Ｃ，□１１□ｓＯ（ＦＯ）４ＳＯ３Ｎ−共存）上記によ
り得たｗｐ用写真乾板に、前述の如くレーザ光を用いて
原画パターンを形成したＭＰを密着露光して、パターン
を転写し、現象してＷＰを得た。

比較例−１ 上記実施例のＭＰ及びＷＰが１０００番のスリガラスを
支持体として形成した写真乾板を用いたのに対し、比較
として、両者ともスリ加工を施していない鏡面ガラスを
支持体とした写真乾板を使用した。その他は上記実施例
−１と同様にした。

実施例−１、比較例−１の試料を用いて、吸引排気時間
との関係を調べた結果は、下表の如くである。

□□□−口 □□□−□□−一一 ■云 時間短縮性については、特に、密着時の吸引排気時間を
、２分、４分、６分、８分、１０分とした所、画質につ
いて、次の結果が得られた。

実施例−２ 実施例１で得たＷＰをフォトレジストを形成した基板上
に転写して、レジストパターンを得た。

フォトレジストを有する基板として、本例では次のもの
を用いた。

即ち、板ＪＥＥ０．１５ｍｍ、幅約５００ｍｍのウェー
ブ状、冷延鋼板を基板とし、これをトリクレンによって
脱脂した後、さらにアルカリによって脱脂してから、こ
の鋼板にカゼイン（冨士蘂品工業（裸製の５Ｓ−１６（
商品名）を使用）と重クロム酸アンモニウムとを比重１
．０３０に調合したレジストをロールロ−トして、これ
にパターンを転写する。

本例では、上記コーティング処理を終えた鋼板に、板厚
約５ｍｍで約５５９ｍｍ　（２２インチ）×約７１１ｍ
ｍ（２８インチ）の寸法の上記写真乾板を密着させ、４
ＫＷのメタルハライド灯下、距離５００ｍｍで５０秒間
露光焼付を行なった。ここで上記密着作業における吸引
排気時間を、２０秒、５０秒、８０秒、９０秒のそれぞ
れにて行なう。

上記密着焼付を終えた鋼板に対し、２３°Ｃの水道水を
使用しスプレー現像処理を施した。

続いて、無水クロム酸溶液に浸漬し、水洗し、２００°
Ｃ〜２５０℃にバーニングして硬膜処理を施す。

更に塩化第２鉄溶液をスプレィしエツチング処理をした
後、水洗して、エツチングして所望パターンの回路を有
する製品を得た。

比較例−２ 本例においても、比較としてスリ加工を施していないガ
ラスを支持体として用い、その他は上記と同様の操作を
行ったものを実施した。

上記実施例−２、比較例−２について、得られた製品の
エツチング状況を、次のようにして調べた。

即ち、２０％の苛性ソーダに数％の界面活性剤を加えた
溶液に浸漬することによりレジスト面を剥離し、水洗し
た後にエツチング状況を確認した。

この結果は、次表に示すとおりである。

上記の如く、本例は吸引時間が２０秒ですでに良好なエ
ツチングが行えるパターン転写が実現できる。

〔発明の効果〕 上述の如く本発明によれば、パターン転写において充分
な密着性をとることができ、よって良好な画質の複写パ
ターンが得られ、吸引排気時間などに要する時間も短縮
できるという効果がある。

例えば上述した実施例においては、パターン転写は生産
する製品の数に相当する数行うので、例えば上記データ
に基づき仮に７０秒時間短縮できて１０００個製造する
として、７０秒Ｘ　１０００　＝　７００００秒、即ち
約１９時間あまりも時間を節約でき、生産性を向上でき
るものである。

特許出願人　小西六写真工業株式会社 同　　　　　大日本スクリーン製造株式会社代理人弁理
士　　高　　月　　　　平 手　続　主甫　正　書（自発） 昭和６１年　９月　４日 特許庁長官　　黒　１）明　雄　殿 昭和６１年　特許願　第１０３１２６号３、補正をする
者 事件との関係　　特許出願人 住所　　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号４、代　
理　人 ７、補正の内容　　　別紙のとおり （１）明細書（昭和６１年７月１４日提出の全文補正明
細書をいう。以下同じ）中、第３３頁に記載のガラスと
の接着剤（Ｖ）の構造式を次の様に補正する。

（２）明細書中、第３４頁に記載のＢＣ接着剤（Ｖｌ）
の構造式を次の様に補正する。

（３）明細書中、第３５頁１２行目記載の「銀材量３．
５／ｎ？Ｊを「銀材ｆｔ　３．５　ｇ　／　％　Ｊに補
正する。

（４）明細書中、第３７頁下部の表を次の様に補正する
。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成る
   第１の写真乾板に原画パターンを形成し、該原画パター
   ンを、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成
   る第２の写真乾板もしくはフォトレジスト層を有する基
   板に密着転写するパターン転写方法において、 上記第１及び第２の写真乾板は、その乳剤層に含有され
   るハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有量が８モル％以下の
   ヨウ臭化銀乳剤でありその平均粒径が０．１μｍ以下の
   ものであるか、または該乳剤層に含有されるハロゲン化
   銀乳剤が少なくとも５０モル％以上の塩化銀を含有する
   ものである写真乾板であって、 かつ上記第１、第２の写真乾板の少なくとも一方の乳剤
   層の表面粗さが０．３μｍ〜３μｍであることを特徴と
   するパターン転写方法。 ２、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成り
   、該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含
   有量が８モル％以下のヨウ臭化銀乳剤でその平均粒径が
   ０．１μｍ以下のものである写真乾板を用い、 該写真乾板上に原画パターンを形成し、 該原画パターンを、 ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成り、該
   乳剤層に含有されるハロゲン化銀がすくなくとも５０モ
   ル％以上の塩化銀を含有するものである写真乾板に密着
   転写することを特徴とし、 かつ上記写真乾板の少なくとも１つはその乳剤層の表面
   粗さが０．３μｍ〜３μｍであることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載のパターン転写方法。 ３、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成り
   、該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が少なくとも
   ５０モル％以上の塩化銀を含有するものであって、かつ
   該乳剤層の表面粗さが０．３μｍ〜３μｍである写真乾
   板を用い、該写真乾板にパターンを形成し、 該パターンを、 支持体上にフォトレジスト層を有して成 る基板上に密着転写することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載のパターン転写方法。 ４、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロ
   ゲン化銀写真乾板において、 該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有
   量が８モル％以下のヨウ臭化銀乳剤でその平均粒径が０
   ．１μｍ以下のものであって、かつ該乳剤層の表面粗さ
   が０．３μｍ〜３μｍであることを特徴とするハロゲン
   化銀写真乾板。 ５、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロ
   ゲン化銀写真乾板において、 該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が少なくとも５
   ０モル％以上の塩化銀を含有するものであって、 かつ該乳剤層の表面粗さが０．３μｍ〜３μｍであるこ
   とを特徴とするハロゲン化銀写真乾板。