JPS62252546A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は大容量データファイル等に使用される光磁気デ
ィスク等の光磁気記録媒体に関し、詳しくはこの光磁気
記録媒体の光学磁気記録層の改良に関するものである。

（従来技術） 高密度、大容量あるいはヘッドと媒体との非接触性等多
くの特長を有する光記録媒体の中でも消去、再記録が容
易ということから光磁気記録媒体が注目されている。

この光磁気記録媒体は記録媒体として磁性体を用いこの
磁性体の磁化の変化により情報を記録する。この磁性体
としては例えば、Ｇｄ　、　Ｔｂ　。

Ｄｙ等の希土類金属（ＲＥ＞とＦ８．ＧＯ，Ｎｉ等の遷
移金属を組み合わせた非晶質（アモルファス）金属を用
い、これらの磁性体を層状にして記録層を形成する。

ところで、このような希土類系金属は極めて酸化、腐食
されやすく酸化又は腐食されると保磁力等の磁気特性が
劣化してしまい、効率的な光学磁気記録が困難となるの
で上記磁性体の酸化および腐食を防止することが光磁気
記録媒体の実用化を図る上で大きな課題となっている。

このような課題を解決するために、磁性体の酸化および
腐食を防止し得るＰｔ等の添加元素を記録層中に略均−
に混入せしめた光磁気記録媒体が知られている（第９図
日本応用磁気学会学術講演ｌ！要集２０９頁：添加元素
による光磁気ディスクの長寿命化二田中信介等（ＫＤＤ
研究所））。

しかしながら、このような光磁気記録媒体では磁性体に
対し添加元素が略均−に混合されているため、両者の関
係が密で、添加元素の存在によりやはり磁気特性が劣化
するおそれがあった。

（発明の目的） 本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、磁気記録
特性を劣化させることなく、光学磁気記録層の耐酸化性
および耐食性を向上させ得る光磁気記録媒体を提供する
ことを目的とするものである。

（発明の構成） 本発明の光磁気記録媒体は、希土類遷移金属を含有する
光学磁気記録のための薄層とプラチナ（Ｐｔ　）もしく
はパラジウム（Ｐｄ）を含有する、上記希土類遷移金属
の酸化、腐食を防止するためのｎ層とを交互に複数層に
亘り積層した光学磁気記録層を形成してなることを特徴
とするものである。

ここで、上記希土類遷移金属としてはＱｄｌ”ｅ。

Ｔｂ　Ｆｅ　、　Ｄｙ　Ｆｅ　、　Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ　
、　Ｔｂ　Ｄｙ　Ｆｅ　、　Ｔｂ　Ｆｅ　Ｃｏ　、　Ｇ
ｄ　Ｆｅ　Ｃｏ　、　Ｇｄ　Ｔｂ　Ｃｏ　。

Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ　Ｃｏ等がある。

また、上記光学磁気記録のための薄層の層厚は、上記光
学磁気記録層の層厚、ｐｔもしくはＰｄを含有する薄層
の層厚および光学磁気記録層全体に対するＰｔもしくは
Ｐｄの含有率から定め、られる。

ここで、光学磁気記録層の層厚は記録再生に十分なＣ／
Ｎ比を得ることができ、かつ通常用いられる光源の光量
で良好に記録再生し得る厚さとすることが望ましく、例
えば１００〜５０００Ａ　、より望ましくは１ｏｏｏＸ
程度とする。ＰｔもしくはＰｄを含有する薄層の層厚は
上記希土類遷移金属の酸化および腐食を防止するという
効果を発輝することができ、かつ光学磁気記録のための
薄層間の磁気相互作用に悪影響をおよぼさない程度の厚
さとすべきであり、例えば１層あたり２〜２０Ａ１より
好ましくは５〜１０Ａ程度とする。光学磁気記録層全体
に対するＰｔもしくはＰｄの含有率は希土類遷移金属の
酸化、腐食を防止し得るとともに磁気記録特性に影響を
与えない程度の含有率とすべきであり、例えば光学磁気
記録層全体に対し原子量比（ａｔｏｍ％）で１〜２０％
、好ましくは１０％程度とする。したがって、例えば光
学磁気記録層全体の層厚を１０００Ａ、　Ｐｔもしくは
Ｐｄを含有するＩｌｌの層厚を１０Ａ１この薄層におけ
るＰＬもしくはＰｄの含有率を１００％、光学磁気記録
層全体に対するｐｔもしくはＰｄの含有率を原子量比で
１０％としたとき、上記光学磁気記録層のための薄層の
層厚は９０Ａとなる。

また、上記複数層とは希土類遷移金属を含有する？１層
とＰｔもしくはＰｄを含有する薄層とをそれぞれ複数設
けることを意味する。

（発明の効果） 本発明の光磁気記録媒体によれば、ＰｔもしくはＰｄを
含有する薄層を希土類遷移金属を含有する１１の層間に
設けて外部からの酸素およびアルカリ塩等をこのＰｔも
しくはＰｄを含有する１層でとらえるようにしてこれら
の酸素、アルカリ塩等が光学磁気記録のための簿層内に
侵入するのを防止することができるから、この酸素およ
びアルカリ塩等による希土類遷移金属の酸化および腐食
を防止することができる。これにより光学磁気記録層の
磁気特性を向上させることができる。

また、ＰｔやＰｄの添加元素と磁性体を均一に混合する
ことなく、別々の層中に含有せしめるようにしているか
ら、両者を分離することができ従来技術のようにこの添
加元素の存在により記録感度等の磁気特性が劣化するお
それもない。

（実　施　悪　様） 以下、本発明の実施態様について説明する。

図面は本発明の実施態様に係る光磁気記録媒体の積層構
造を示す断面図である。この光磁気記録媒体１は透明基
板２上に第１保護層３、光学磁気記録層４および第２保
護層５が順に形成されたものであり、また、この光学磁
気記録層４は磁性層６と非磁性層７を交互に積層して形
成されたものである。

上記透明基板２はガラス、またはＰＣ，ＰＭＭＡ、エポ
キシ樹脂等の透明プラスチックからなり厚さが１ａｍ１
程度となるように形成されている。

上記第１および第２保護層３．５はＳｔ　Ｏ。

Ｓｉ　Ｏｘ　、５ｔ３Ｎ４　、ｚｎｓ等の誘電体等から
なり５００〜３０００Ａ程度の厚さに形成された層であ
って、光学磁気記録ｌ！１４と外部空気層の接触を断つ
ことにより磁性体の酸化をある程度防止する層である。

上記光学磁気記録ｌＩ！！１４は１ｏｏｏＡ程度の厚さ
に形成され、磁性層６および非磁性層７をそれぞれ１０
層程度、交互に積層するように形成されている。

上記磁性層６は希土類遷移金属を含有する層であって例
えば１００Ａ程度の厚さに形成されている。

なお、この磁性層６はＰｔ　、Ｐｄを例えば原子１比で
２０％以下程度含んでいてもよい。

上記非磁性層７はｐｔもしくはＰｄを主体とする層で５
〜１０Ａ程度の厚さに形成されている。なお、この非磁
性層７はＰｔもしくはｐｄを主体とする、難容性水酸化
物皮膜等の不働体層となって゛いてもよい。

また、上記光学磁気記録層４は、透明基板２に対し、Ｐ
【もしくはＰｄよりなるターゲットと希土類遷移金属よ
りなるターゲットを用いた２光間時スパッタリングを行
なうことにより形成する。

その際、透明基板２を回転することにより両スパッタリ
ングの層形成が半周期ずつ遅れて第１図に示すような記
録層が形成されるように両ターゲットの配設位置を調節
する必要がある。なお、光学磁気記録ｊｌＪ中のｐｔも
しくはＰｄの含有率は上記両ターゲットに印加する電力
比により、また各層厚は両ターゲットに印加する電力と
透明基板２の回転数を変えることにより調節することが
できる。

以上説明した本実ａｍ様の光磁気記録媒体によれば、磁
性層６を薄く形成し、これらの層と層の間に非磁性層７
を形成しているので、磁性層６内の磁性体の抗磁力が大
きくなり記録ビットの安定性を向上させることができる
。磁性１１６の層厚としては本実施態様のものに限られ
るものではないが、この層厚を大きくする程抗磁力は小
さくなる。

ところで、本発明の光磁気記録媒体によれば前述したよ
うに光学磁気記録層におけるピンホール、クラックの発
生を防止し、ピットエラーレートを上げることができる
。例えば従来技術においては１００時間程度経過すると
光磁気記録媒体のピットエラーレートが２桁程度劣化し
ていたが、上記実施態様の光磁気記録媒体によれば、ピ
ットエラーレートが同じだけ劣化するまでの時間を数倍
以上長くすることができる。

なお、本発明の光磁気記録媒体の各層厚としては上記実
施態様のものに限られるものではない。

なお、光学磁気記録層の形成方法は、上記に説明したも
のに限られるものではなく、その他種々の方法を用いる
ことができ、例えばｐｔもしくはＰｄと希土類遷移金属
を交互にスパッタリングしてもよいし、スパッタリング
法に代え蒸着法で形成してもよい。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施態様に係る光磁気記録媒体の層構
成を示す断面図である。 １・・・光磁気記録媒体　　２・・・透　明　基　板３
・・・第１保護ｗＩ　　　　４・・・光学磁気記録層５
・・・第２保；Ｉ！ＦＩＪ　　　　　６・・・磁　性　
層７・・・非　　磁　　性　　層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　透明基板上に、希土類遷移金属を含有する薄層とプラ
   チナもしくはパラジウムを含有する薄層が交互に複数層
   に亘って積層されてなる光学磁気記録層を形成してなる
   ことを特徴とする光磁気記録媒体。