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JPS62187710A - アクリルモノマ−用重合禁止剤 - Google Patents

アクリルモノマ−用重合禁止剤

Info

Publication number
JPS62187710A
JPS62187710A JP2891186A JP2891186A JPS62187710A JP S62187710 A JPS62187710 A JP S62187710A JP 2891186 A JP2891186 A JP 2891186A JP 2891186 A JP2891186 A JP 2891186A JP S62187710 A JPS62187710 A JP S62187710A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymerization
polymerization inhibitor
nitroso
monoalkyl
organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2891186A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Mukoyama
向山 秀明
Ryoichi Hiraoka
良一 平岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kohjin Holdings Co Ltd
Kohjin Co
Original Assignee
Kohjin Holdings Co Ltd
Kohjin Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kohjin Holdings Co Ltd, Kohjin Co filed Critical Kohjin Holdings Co Ltd
Priority to JP2891186A priority Critical patent/JPS62187710A/ja
Publication of JPS62187710A publication Critical patent/JPS62187710A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明はアクリルモノマー用の重合禁止剤に関するもの
である。時に一般式(1)で示さj、るモノアルキシN
置換アクリルアミド類又はモノアルキルN置換メタクリ
ルアミド類の重合禁止剤に関するものである。
一般式(1) (但し、R1は水素原子又はメチル基、 R2は炭素原
子数1〜3のアルキル基を示す。) (従来技術) 一般式(1)で示されるモノアルキルN1jl換アクリ
ルアミド又はモノアルキルN置換メタクリルアミド類は
極めて重合しやすく、#!造工程、貯蔵、及び輸送中に
熱、光その他の要因によってしばしば重合を起こすこと
が知られている。とりわけ、モノアルキル基が、メチル
基の場合には極めて重合性に富み、蒸留、濃縮工程の如
き、加熱条件下では三次元構造を有する不溶性ポリマー
(ポツプコーンポリマー)が急激に生成する。係るポリ
i−は系内の液相部より気相部において生成しやすく。
ひとたび生成するといかなる重合防止剤を添加しても気
液両相で爆発的に成長を続け、蒸留塔、及び配管等を閉
塞し、ひいては重合熱によシ自然発火することさえある
従来から一般的な重合禁止剤として、ノ・イドロキノン
、アントラキノン、ノーイドロキノンモノメチルエーテ
ル、フェノチアノン、パラフェニレンジアミン、金属銅
塩等が知られているが、ポツプコーン重合の防止にはほ
とんど効果がない。また一般式(1)で示されるモノア
ルキルN1jl換アクリルアミド及びモノアルキルN置
換メタクリルアミドが工業的規模で生産されていないこ
とともあいまりて今迄、該モノマーのポツプコーン重合
防止技術はなかった。
(問題を解決するための手段及び作用)以上の様な従来
技術の状況に謹み1本発明者らは係る課題を克服すべく
、一般式(1)で示されるアクリルモノマーのポツプコ
ーン重合誘発因子及びポツプコーン重合防止策について
鋭意検討した結果本発明を完成するに至った。
アクリルモノマー蒸留時のポツプコーン重合誘発因子は
空気であシ、単なる加熱によっては120℃程度まで加
熱してもポツプコーン重合は全く発生しないことを見い
出した。従って蒸留装置における極く微量の空気もれ(
減圧蒸留下に於ては系内に対する微量空気のすい込み)
が、ポツプコーン重合誘発因子となる。このことは、蒸
留装置のもれを完全に無くせばポツプコーン重合発生防
止が可能となることを示しているが、工業的な蒸留装置
では完全なもれ防止は不可能と言っても過言でない。従
りて、実用的な意味で一般式(1)で示されるアクリル
モノマーのポツプコーン重合防止策を確立するためには
、ポツプコーン重合防止用の特別の重合禁止剤が必要で
ある。
本発明者らは係る観点から一般式(1)で示されるモノ
アルキルN置換アクリルアミド類及びモノアルキルN置
換メタクリルアミド類の重合禁示剤、殊にポツプコーン
重合禁止剤につき鋭意検討した結果、ニトロソ類、無機
安定ラジカル類及び有機安定ラジカル類がその目的に極
めて合致するととを見い出した。
すなわち1本発明は前記一般式(1)で示されるモノア
ル中ルNti換アクリルアミド又はモノアルキルe換メ
タクリルアミド用亘合禁止剤として後記例示のようなニ
トロソ化合物#1.無機安定うジカル類、有機安定ラジ
カル類から選ばれた1種又は2種以上を採用するもので
ある。
本発明を更に詳しく説明すると本発明でいう重合禁示剤
たるニトロソ化合物としては、N、N−ジメチルp−ニ
トロソアニリン、p−ニトロソジフェニルアミン、p−
ニトロンジメチルアミン、p−ニトロン−N、N−ジエ
チルアミン、N−ニトロソジェタノールアミン、N−ニ
トロソジ−n−ブチルアミン、N−ニトロソ−N −n
−ブチル−4−ブタノールアミン、N−ニトロソ−ジ−
イソグロノ9ノールアミン、N−ニトロソ−N−エチル
−4−ブタノールアミン、5−ニトロソ−8−ヒドロキ
シキノリン、N−ニトロソモルホリン、N−二トロソー
N−フェニルヒトaキシルアミンアンモニウム塩等のニ
トロソアミンノ一二トロソペンゼン、 2,4.6− 
トリーt−ブチルニトロンベンゼン等のニトロソベンゼ
ン類、5−ニトロソ−オキシノ4寺のニトロソ万キ/ム
預、130−ニトロンアセトフェノン、α−1sO−ニ
トロソグロピオフェノン等のニトロソフェノン′fJ1
.N−ニトロンへ!タメチレンイミン等のニトロソイミ
ン類、N−ニトロソ−N−メチル−p−トルエンスルホ
ンアミド等のニトロソアミド>A、N−ニトロソ−N−
)fルウレタン、N−ニトロソ−N−n−プロピルウレ
タン等のニトロソウレタン類S 1−ニトロソ−2−ナ
フトローN、2−ニトロソー1−ナフトール、1−ニト
ロソ−2−ナフトール−3,6−ソスルホン酸ンーダ、
2−ニトロソ−1−ナフトール−4−スルホンIR等の
ニトロソナフトール類、2−ニトロン−5−ツメチルア
ミノフェノール塩酸塩、2−ニトロン−5−ツメチルア
ミノフェノール塩酸塩等のニトロツノアルキルアミノフ
ェノール類、5−1so−ニトロンパルビトールば、4
−二トロソーレゾルシ)I/−1−七ノメチルエーテル
等の各種ニトロソ化合物が挙げられる。
次に1本発明でいう無機安定ラジカル類と)ま前記一般
式(1)で示したアクリルモノマー類の通常の蒸留条件
下で安定なものであり、具体的には酸素。
−+d化窒素、二酸化塁素、二酸化塩素、三敵比塩素等
のガス状無機安定うソカル及び遷移金属イオンの錯化合
物例えば二mjの銅とヒドロキノント導体との反応物等
がある(この場合、eu  とセミキノン中間体の1i
iiJ方がラジカルとなる6)。
また本発明でいう有機安定ラジカル類とは前記一般式(
1)で示したアクリルモノマー類の通常の蒸留条件下で
安定なものであり1例えば、ノフェニルピクリルヒドラ
ジル、αlr−ビスジフェニレン−β−フェニルアリー
ル、ガルピノオキシル、1.3.5− )リフェニルバ
ーダ・ゾル、ノーt−ブチル−ニトロオキシド、2,2
.6.6−テトラメチルビペリジン−1−オキシル、 
2.2,6.6−テトラメチル−4−ピペリドン−1−
オキシル、3−カルバモイル−プロキシル、  2.2
.6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリノン−
1−オキシル等の各種安定ラジカルが挙げられる。
尚、前述のようにポツプコーン重合は主として気相にお
いておこりやすいので蒸留塔内において発生しやすい。
従ってポツプコーン重合を防止するためには充填塔内に
重合禁止剤を均一に存在させることが必要である。係る
観点から、上記ニトロソ化合物、無機安定ラジカル類及
び有機安定ラジカルの内、少なくとも一種以上金対象と
なるアクリルモノマーの蒸留に際し、該アクリルモノマ
ーの沸点に応じて選定し、蒸留釜又は充填塔に添加すれ
ば、広い温度範囲で液相又は気液両相に重合禁止剤を分
布させることが可能となり充分なポツプコーン重合防止
効果を示すことになる。
一方、係る重合禁止剤に対して要求される今一つの項目
は、製品中へ混入しないこともしくは。
混入しても容易に除去することが可能であり1重合反応
に供する除に重合反応を妨害しない点である。
以上の観点からすると、ニトロソ化合物の場合には、2
−ニトロン−1−ナフトール及び1−ニトロソ−2−ナ
フトールがその蒸気圧の点で特に好ましく、無機安定ラ
ジカル類としてはガス状の無機安定2ノカルが好ましく
、安全性、購入の容易さ等全考慮すると−j浚化窒素及
び二酸化窒素が特に好ましい。又、有機安定ラジカル類
としては。
2ヅカルの安定性の関係から一般式(2)で示さ扛る隣
接したジエミニソメチル置換基を有する有機ニトロオキ
シドラジカルが好ましい。
0・ 又、蒸気圧の点からは、2,2.6,6−テトシメチル
ビペリヅンー1−オキシル、 2.2,6.6−テトラ
メチル−4−ピペリドン−1−1オキシル及び3−カル
バモイルプロキシルが好ましい。
ところで、蒸留条件によっては、上記ニトロン類又は有
機安定ラジカル類のみを釜又は塔頂に添加した場合に充
填塔内に均一に分布させることが困難な場合があり得る
。係る場合には、ガス状の無機安定2ノカルとニトロソ
類又は有機安定ラジカルと併用することにより充分その
困at克服し目的を達することが可能である。ところで
ガス状の無機安定ラジカル全使用した場合には当然留出
液中にガスが溶解するが、蒸留終了後、減圧下に窒素バ
ブリング処理等を行なうことによって容易に溶解ガスを
除去することができる。当然乍ら。
本発明で言う重合禁止剤と従来公知の重合禁止剤例えば
フエノチアゾン等と併用することも可能であシ、伺ら本
発明の主旨に反応するものではない。
本発明の実施に当夛1重合禁止剤たる上記化合物の使用
量は特に制限するものではないが、一般式(1)で示さ
れるモノアルキルN置換アクリルアミド又はモノアルキ
ルN置換アクリルアミドに対し1〜2万−好しくは10
0〜1万騨程度である。
一方、一般式(1)で示されるモノアルキルN置換アク
リルアミド又は、モノアルキルN置換メタクリルアミド
類としてはN−メチルアクリルアミド、N−エチルアク
リルアミド、N−プロピルアクリルアミド及びそのメタ
体が具体例として挙げられる。
(発明の効果) 前述の:uaり、j&式(1)で示されるモノアルキル
N置換アクリルアミド又はモノアルキルNwt、3aメ
タクリルアミド類はアクリルモノマーの中でも重合性に
富むものであ#)精留工程での重合特にポツプコーン重
合防止技術の確立なしに該七ツマ−の工業的供給は全く
不可能である。本発明を採用することによって初めて精
留時のポツプコーン重合防止技術が確立できたことにな
シ、本技術の確立によってはじめて該アクリルモノマー
の工業的供給が可能となったと言っても過言ではなく、
その工業的意義は極めて大きい。
(実施例) 次に実施例をもって本発明を更に具体的に説明するが、
その主旨を超えない限り以下の実施例に限定されるもの
ではない。尚、以下の例において部及びチは特に制限し
ない限シ孟蛍部及び重量%を示すものである。
〔実施例1〜8及び比較例1〜4〕 N−メチルアクリルアミド10部及び各種重合禁止剤0
.05部を20atJ容かっ色アンプル中に入れ完全に
溶解したのち、〔ドライアイスメタノール浴中で凍結後
、減圧(0,5mHg以下)脱気、水浴中で融解〕操作
をくり返し、融解時気泡が出なくなるまで完全に脱気し
7’C,、脱気終了後、減圧(0,5瓢Kg以下)下に
、アンプルをガス火で封止し100℃の油浴中で23時
間加熱した。23時rA後、*合していないサンプルに
ついては、アンプルを開封し空気導入後、大気圧下で再
び封止し120℃の油浴中で更に20時間加熱し重合の
有無を肉眼でチェックした。
尚、参考例として重合禁止剤を全く添加しないで、N−
メチルアクリルアミドのみを同様のアングルに減圧下及
び大気圧下に封入し、同様なテストを行なった。
実験条件及び結果を第1表にまとめて示す。第】表の結
果から明らかなように、N−メチルアクリルアミドのポ
ツプコーン重合は空気によりて誘発される。完全に脱気
した系であれば100℃迄では従来公知の重合禁止剤は
もとよシ1重合禁止剤を添加せずとも重合は生じないが
空気存在下ではポツプコーン重合が発生する。
之 の 番、つ l; →鴫→−1従来公知の禁止剤では全く重合素止機能を発
現し得ない。一方1本発明のニトロソ類は、脱気下はも
とより、大気下でも完全にポツプコーン重合防止するこ
とが可能な事は明白である。従りて1本願発明を実施す
ることにより、蒸留操作条件範囲が広くなり、製造設備
の軽減、安全操業等に関するメリットも計シ知れないも
のがある。
〔実施例9〜10及び比較例5〜6〕 N−メチルアクリルアミドの代りにN−n−プロピルア
クリルアミド、及びN−メチルメタクリルアミドを使用
し第2表に示した重合禁止剤を用いた以外は実施例1と
同様に操作し各種重合禁止効果の比較を行なった。条件
及び結果を第2表にまとめて示す。
〔実施例11及び比較例7〕 還流冷却器付シシヒリング充填塔を500dガラス製フ
ラスコに取付け、N−メチルアクリルアミドに対し50
00PI’Xlの1−ニトロソ−2−ナフトールを添加
した溶液300.9をフラスコに仕込み。
浴温103℃、塔頂温度51〜57℃、系内圧力0.3
9〜0.78+mHgの条件下で還流操作を行なった。
同条件下で12時間操作しても、ポツプコーン重合は全
く発生しなかった。また還流液を一部サンプリングして
ガスクロマトグラフで重合禁止剤混入の有無をチェック
したが1重合禁止剤の混入は全く認められなかった。
一方、1−ニトロンー2−ナフトールの代りにフェノチ
アジンi 5000−添加した場合、30分後に充填塔
内にポツプコーン重合物が発生し、35分後に蒸留系内
を完全に閉塞した。
〔実施例12及び比較例8〕 実施例11と同一の装置を使用し、N−メチルアクリル
アミドに対し50001JI1mのフェノチアジンを添
加し念溶液をフラスコに仕込み、充填塔頂部よシ還流液
に対して200〜40011111となるように2.2
.6.6−テトラメチル−4−ピペリドン−1−オキシ
ルを滴下しつつ、実施例11と同様に操作した。12時
間経過してもポツプコーン重合の発生は全くなく、また
留出液中への重合禁止剤の混入も全く認めなかった。
一方、充填塔頂部から2.2.6.6−テトラメチル−
4−ビイリドン−1−オキシルの代りにフェノチアジン
を添加した以外は全く同様に操作した場合、60分後に
ポツプコーン重合が発生し70分後には蒸留系内を完全
に閉塞した。
〔実施例13〕 還流冷却器付ラシヒリング充填塔を500dffラスフ
ラスコに取付けN−メチルアクリルアミドに対しs o
 o op−の1−二トロン−2−ナフトールを添加し
た溶液300!iをフラスコに仕込み、更にフラスコ内
にガラスキャピラリーを通じて一酸化窒素ガスを吹き込
みつつ、浴温103℃、塔頂温度51〜57℃、系内圧
力0.39〜0.78■Hgの条件下で還流操作を行な
った。同条件下で12時間操作してもポツプコーン重合
は全く発生しなかった。また還流液を一部サンプリング
して、減圧下(1tm Hg以下)に窒素ガスバブリン
グを行なったのち、ガスクロマトグラフで重合禁止剤混
入の有無をチェックしたが1重合禁止剤の混入は全く認
められなか)た。
〔実施例14〕 実施例13において一酸化窒素の代りに二酸化窒素を使
用した以外は全て同様に操作した。12時間経過しても
ポツプコーン重合の発生は全くなく又、留出液も実施例
13と同様に処理したのち。
ガスクロマトグラフによシ重合禁止剤混入の有無をチェ
ックしたが1重合禁止剤の混入は全く認められなかった
〔実施例15〜19及び比較例9〜10〕各種モノマー
10部f 20 tnlかっ色アンプル中に入れ氷水中
で冷却しつつ真空ポンプで10wnHg迄減圧した。減
圧下に各種安定ラジカルをアンプル中に注入しガス火で
封止した。但し、固体ラジカルは減圧前にモノマーに対
して5oooppaをアンプルに加えて操作した。この
アンプルを120℃の油浴中に浸し、20時間加熱し重
合の有無を肉眼でチェックした。
(ト )ら イチ−1 尚≠ナチナとして安定ラジカルを全く添加しないでモノ
マーのみを減圧下に封止したアンプルについても同様な
テストを行なった。又、比較のため、従来公知の重合禁
止剤についても同様の実験を行なった。(添加址はs 
o o Oplmとした。)条件及び結果を第1表に示
すが1本発明の安定ラジカルがポツプコーン重合禁止能
において顕著であることは明白である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ニトロソ化合物、無機安定ラジカル類、及び有機安
    定ラジカル類から選らばれた少なくとも一種以上を含有
    することを特徴とする一般式(1)で示されるモノアル
    キルN置換アクリルアミド又はモノアルキルN置換メタ
    クリルアミド用重合禁止剤。 一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R_1は水素原子又はメチル基、R_2は炭素
    原子数1〜3のアルキル基) 2、ニトロソ化合物が1−ニトロソ−2−ナフトール、
    又は2−ニトロソ−1−ナフトールであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の重合禁止剤。 3、無機安定ラジカル類が、一酸化窒素又は二酸化窒素
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の重
    合禁止剤。 4、有機安定ラジカル類が、一般式(2)で示される隣
    接したジエミニジメチル置換基を有する有機ニトロオキ
    シドラジカルであることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の重合禁止剤。 一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、X及びYは任意の置換基を示す。)5、無機安
    定ラジカル類とニトロソ類又は有機安定ラジカル類とを
    併用することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    重合禁止剤。
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