JPS62174203A - 光重合開始剤組成物 - Google Patents
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、不飽和化合物1合用の光重合開始剤組成物に
関するものである。
関するものである。
不飽和結合を分子中に含む七ツマ−、オリゴマー及びポ
リマーは光重合開始剤の存在下で光重合することは良く
知られており、印刷版やプリント基板、IC等を作成す
る際に用いられるいわゆるフォトポリマーやフォトレジ
ストとして広く利用されている。
リマーは光重合開始剤の存在下で光重合することは良く
知られており、印刷版やプリント基板、IC等を作成す
る際に用いられるいわゆるフォトポリマーやフォトレジ
ストとして広く利用されている。
これらに使用する光重合開始剤としては、従来から独々
の物質が報告され、実際に使用−4nている。例えば、
ベンゾイン系化合物としてベンゾイン、ベンゾインアル
キルエーテル等、カルボニル化合物としてベンジル、ベ
ンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジルケタール等、
アゾ化合物としてアゾビスイソブチロニトリル、アゾジ
ベンゾイル等、また硫黄化合物としてジペンゾチアゾリ
ルスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド等が
ある。
の物質が報告され、実際に使用−4nている。例えば、
ベンゾイン系化合物としてベンゾイン、ベンゾインアル
キルエーテル等、カルボニル化合物としてベンジル、ベ
ンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジルケタール等、
アゾ化合物としてアゾビスイソブチロニトリル、アゾジ
ベンゾイル等、また硫黄化合物としてジペンゾチアゾリ
ルスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド等が
ある。
しかしながら、こ几らの光重合開始剤は未だ光分満足で
きろものではなく、種々の不飽和化合物との光重合組成
物はフォトポリマーとして必ずしも良好な感度を有して
いるとはいえず、さらに高感度でしかも安定性の高い光
直合開始剤が強く要望されている。
きろものではなく、種々の不飽和化合物との光重合組成
物はフォトポリマーとして必ずしも良好な感度を有して
いるとはいえず、さらに高感度でしかも安定性の高い光
直合開始剤が強く要望されている。
また過酸化結合を分子中に有する有機過酸化物はハイド
ロ過酸化物、過酸化ジアルキル、過酸化ジアシル、退散
エステル、過炭酸エステル等の多くの種類の化合物があ
り、これらは熱により分解して活性なラジカル橿を生成
することは周知である。このことより有機過酸化物は不
飽和化合物の熱重合開始剤、熱處合触媒、熱重合架橋剤
などとして広く用いられている。さらに有機過酸化物は
元エネルギーによっても分解しト+j 6kに活性なラ
ジカル縮を生成することが報告されている。ところがこ
れらは不f!j1λロ化合物17′1元屯合開始剤とし
て用いるには光重合開始能が低く、また一般に熱安定性
も低いことから到底実用に適するものではない。
ロ過酸化物、過酸化ジアルキル、過酸化ジアシル、退散
エステル、過炭酸エステル等の多くの種類の化合物があ
り、これらは熱により分解して活性なラジカル橿を生成
することは周知である。このことより有機過酸化物は不
飽和化合物の熱重合開始剤、熱處合触媒、熱重合架橋剤
などとして広く用いられている。さらに有機過酸化物は
元エネルギーによっても分解しト+j 6kに活性なラ
ジカル縮を生成することが報告されている。ところがこ
れらは不f!j1λロ化合物17′1元屯合開始剤とし
て用いるには光重合開始能が低く、また一般に熱安定性
も低いことから到底実用に適するものではない。
しに、かって重合型のフォトポリマーの光重合開始剤と
して有機!酸化物を使用した例は従来からほとんどみら
几ない。
して有機!酸化物を使用した例は従来からほとんどみら
几ない。
〔問題4(解決するための手段〕
このような背景から本発明者らは鋭意研究した緒果、特
定構造を有するアミノフェニルケトン化合物と有t*
過zエステル化合物とを組合せたものが、・瓶めて良好
な光重合開始能を有しており、不飽241化合物の光重
合において初期重合速度を増大させ、これな用いること
はより高感度な感光性樹脂が得られることを見出して本
発明に到達した。
定構造を有するアミノフェニルケトン化合物と有t*
過zエステル化合物とを組合せたものが、・瓶めて良好
な光重合開始能を有しており、不飽241化合物の光重
合において初期重合速度を増大させ、これな用いること
はより高感度な感光性樹脂が得られることを見出して本
発明に到達した。
すなわち本発明は、一般式(1)
で表わされるアミノフェニルケトン化合物と分子内にベ
ンゼン骨核またはベンゾフェノン骨核を有する有機過酸
エステル化合物とを組み合わせてなる光重合開始剤組成
物を提供するものである。
ンゼン骨核またはベンゾフェノン骨核を有する有機過酸
エステル化合物とを組み合わせてなる光重合開始剤組成
物を提供するものである。
本発明に用いる一般式(1>で表わされるアミノフェニ
ルケトン化合物としては、たとえば1.5−ビス〔3−
(ジメチルアミノウフェニル)−1,4−ペンタジェン
−3−オン、1.5−ビス〔3−(ジエチルアミノ)フ
ェニル)−1,4−ペンタジェン−3−オン、1.9−
ビス〔3−(ジエチルアミノ)フェニル〕−1.3,6
.8−ノナテトラエン−5−オン、 1.13−ビス(3−(ジエチルアミノ)フェニル〕−
1,3,5,8,10,12−トリデカヘキサエン−7
−オン。
ルケトン化合物としては、たとえば1.5−ビス〔3−
(ジメチルアミノウフェニル)−1,4−ペンタジェン
−3−オン、1.5−ビス〔3−(ジエチルアミノ)フ
ェニル)−1,4−ペンタジェン−3−オン、1.9−
ビス〔3−(ジエチルアミノ)フェニル〕−1.3,6
.8−ノナテトラエン−5−オン、 1.13−ビス(3−(ジエチルアミノ)フェニル〕−
1,3,5,8,10,12−トリデカヘキサエン−7
−オン。
1、17−ビス〔3−(ジエチルアミノ)フェニル1−
1.3,5,7,10,12,14.16−ヘブタデカ
オクタエンー9−オン、1.5−ビス(4−(ジエチル
アミノ)フェニル)−1,4−ペンタジェン−3−オン
、1.5−ビス〔4−(ジブチルアミノ)フェニル]−
1,4−ペンタジェン−3−オン−3カ6 ル。
1.3,5,7,10,12,14.16−ヘブタデカ
オクタエンー9−オン、1.5−ビス(4−(ジエチル
アミノ)フェニル)−1,4−ペンタジェン−3−オン
、1.5−ビス〔4−(ジブチルアミノ)フェニル]−
1,4−ペンタジェン−3−オン−3カ6 ル。
また、本発明に用いる前記有機過酸エステル化合物とし
てiJ、10時間半減期温度が70゛C以上のものが好
ましく、たとえばターシャリイブチルペルオキジペンゾ
エート、ターシャリイブチルペルオキシメトキシベンゾ
エート、ターシャリイブチルペルオキシニトロベンゾエ
ート、ターシャリイブチルペルオキシエチルベンゾエー
ト、フェニルイソグロビルベルオキシベンゾエート、ジ
ターシャリイブチルジベルオキシイソフタレート、トリ
ターシャリイブチルトリペルオキシトリメリテート、ト
リターシャリイプチルトリペルオキシトリメシネート、
テトラターシャリイブチルテトラベルオキシピロメリテ
ート、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペル
オキシ)ヘキサン、3、 3’、 4. 4″−テト
ラ (ターシャリイブチルペルオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン、3.3’。
てiJ、10時間半減期温度が70゛C以上のものが好
ましく、たとえばターシャリイブチルペルオキジペンゾ
エート、ターシャリイブチルペルオキシメトキシベンゾ
エート、ターシャリイブチルペルオキシニトロベンゾエ
ート、ターシャリイブチルペルオキシエチルベンゾエー
ト、フェニルイソグロビルベルオキシベンゾエート、ジ
ターシャリイブチルジベルオキシイソフタレート、トリ
ターシャリイブチルトリペルオキシトリメリテート、ト
リターシャリイプチルトリペルオキシトリメシネート、
テトラターシャリイブチルテトラベルオキシピロメリテ
ート、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペル
オキシ)ヘキサン、3、 3’、 4. 4″−テト
ラ (ターシャリイブチルペルオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン、3.3’。
4.4′−テトラ(ターシャリイアミルペルオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4+ 41−テ
トラ(ターシャリイへキシルペルオキシカルボニル)ベ
ンゾフェノン等がある。
ボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4+ 41−テ
トラ(ターシャリイへキシルペルオキシカルボニル)ベ
ンゾフェノン等がある。
本発明の光重合開始剤組成物は、前記の囚アミノフェニ
ルケトン化合物とCB)有機過酸エステル化合物とから
なるものであり、囚と(8)両者の配合割合は、重量比
テ(A):Q3)61 :100−100: 1であり
、さらに好ましく1″tl:30〜10:1である。
ルケトン化合物とCB)有機過酸エステル化合物とから
なるものであり、囚と(8)両者の配合割合は、重量比
テ(A):Q3)61 :100−100: 1であり
、さらに好ましく1″tl:30〜10:1である。
本発明の光1合開始剤組成物が不飽和化合物の良好な光
重合開始剤となり得るのは、有機過酸エステル化合物の
アミノフェニルケトン化合物による有効々増感光分解に
帰因するものと考えられる。
重合開始剤となり得るのは、有機過酸エステル化合物の
アミノフェニルケトン化合物による有効々増感光分解に
帰因するものと考えられる。
そしてアミノフェニルケトン化合物を選択することによ
り紫外光から可視光までの範囲で光1合開始能を発現す
ることができるのであらゆる光源が使用でき、さらに可
視光レーザー用の感光材料の光重合開始剤としても利用
できる。
り紫外光から可視光までの範囲で光1合開始能を発現す
ることができるのであらゆる光源が使用でき、さらに可
視光レーザー用の感光材料の光重合開始剤としても利用
できる。
本発明の光重合開始剤組成物はほとんどすべての不飽和
化合物な光重合することができる。すなわち不飽和化合
物としては重合性のエチレン系不飽和結合を有する七ツ
マ−、オリゴマーまたはポリマーでおり、例えはアクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸及びその
無水物、フタル酸及びその無水物、フiル酸等の不飽和
酸や(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エ
チル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸
グリンジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメ
チル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
エチレングリコールシ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート等の不飽和酸エス
テル化合物、及びアクリルアミド、アクリロニトリル、
N−ビニルピロリドン、酢酸ビニル等の単量体、さらに
不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル。
化合物な光重合することができる。すなわち不飽和化合
物としては重合性のエチレン系不飽和結合を有する七ツ
マ−、オリゴマーまたはポリマーでおり、例えはアクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸及びその
無水物、フタル酸及びその無水物、フiル酸等の不飽和
酸や(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エ
チル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸
グリンジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメ
チル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
エチレングリコールシ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート等の不飽和酸エス
テル化合物、及びアクリルアミド、アクリロニトリル、
N−ビニルピロリドン、酢酸ビニル等の単量体、さらに
不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル。
不飽和ポリウレタンやエポキシ(メタ)アクリレート化
合物等がある。
合物等がある。
これらの不飽和化合物の単独かもしくは二種以上の混合
物に本発明の光重合開始剤組成物を添加し必要に応じて
適当な希釈溶媒を加えて光重合組成物とする。
物に本発明の光重合開始剤組成物を添加し必要に応じて
適当な希釈溶媒を加えて光重合組成物とする。
光重合開始剤組成物の添加層は不飽和化合物1ooi量
部に対して0.1〜301量部、好ましくは0.5〜2
0重蓋部である。
部に対して0.1〜301量部、好ましくは0.5〜2
0重蓋部である。
ま念適当な希釈溶媒とは本発明の光重合開始剤組成物及
び不飽和化合物を溶解するものならすべて使用できる。
び不飽和化合物を溶解するものならすべて使用できる。
例えば、水、メタノール、エタノール、グロパノール、
ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ンブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリ
クロルエグレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキ7ド等でおる。
ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ンブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリ
クロルエグレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキ7ド等でおる。
このようにして得らルたf、i合組成物は紫外線または
可視光線のごとき活性光線な照射することにより重合反
応が達せらnる。光源としては超高圧、高圧、中圧およ
び低圧の各々の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアー
ク灯、キセノン灼、メタルハライドランプ、螢光灯、タ
ングステン灯、太陽光、及び各4レーザーランプ等が使
用できる。
可視光線のごとき活性光線な照射することにより重合反
応が達せらnる。光源としては超高圧、高圧、中圧およ
び低圧の各々の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアー
ク灯、キセノン灼、メタルハライドランプ、螢光灯、タ
ングステン灯、太陽光、及び各4レーザーランプ等が使
用できる。
本発明の光重合開始剤組成物は、前記アミノフェニルケ
トン化合物と有機過酸エステル化合物とを組み合わせて
用いているため、従来の光重合開始剤よむも著しく高感
度であり、弱い光源でも十分に感光するため作業性や経
済性の点でも優れてbろ。
トン化合物と有機過酸エステル化合物とを組み合わせて
用いているため、従来の光重合開始剤よむも著しく高感
度であり、弱い光源でも十分に感光するため作業性や経
済性の点でも優れてbろ。
本発明の光11合開始剤組成物は通常の光重合反応に使
用できる他、光硬化型の塗料、印刷インキ、接着剤や、
印刷版作製、さらにフォトレジスト等多方面に適用する
ことが可能であり、またその効果も非常に良好で、最高
窓開のものを得ることができる。
用できる他、光硬化型の塗料、印刷インキ、接着剤や、
印刷版作製、さらにフォトレジスト等多方面に適用する
ことが可能であり、またその効果も非常に良好で、最高
窓開のものを得ることができる。
〔実bf5例〕
以下実捲例及び比較例てよりて本発明をさらに詳MBて
説明する。例中の部は盈雪部を示す。
説明する。例中の部は盈雪部を示す。
実施例1〜20
ポリ(メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタク
リル酸)(モル比5/′・1/1;分子薫10万)10
0部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート(新中
村化学■製: A−TMM−3L)100部に表−1に
示す本発明の光21合開始剤組成物を表−1の割合で添
加し、さらにこれを工000部のエチルセロンルブに均
一に溶解して感光液を得た。
リル酸)(モル比5/′・1/1;分子薫10万)10
0部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート(新中
村化学■製: A−TMM−3L)100部に表−1に
示す本発明の光21合開始剤組成物を表−1の割合で添
加し、さらにこれを工000部のエチルセロンルブに均
一に溶解して感光液を得た。
こ几らの感光液な陽極醸化処理し念アルミニウム板上に
乾燥塗yA厚が2μmとなるようにホアラーを用いて皇
布し、乾燥させたものをそ几ぞれ感光性試験板とした。
乾燥塗yA厚が2μmとなるようにホアラーを用いて皇
布し、乾燥させたものをそ几ぞれ感光性試験板とした。
この感光性試験板にグレイスケール(コダック社製ステ
、ブタブレット應2)を真空密着し、60CIlの距離
から2 KVの超高圧水銀灯を用いて1.5秒間露光し
た後、市販のアルカリ現像液(富士写真フィルム■1D
N−30)で現像を行ない硬化部分のグレイスケールの
段数を読みとることで感Ifな測定した。結果な表−1
に示す。なおステップ段数は、2段差があると感度が2
暗になることを示し、数値が大きいほど高感度である。
、ブタブレット應2)を真空密着し、60CIlの距離
から2 KVの超高圧水銀灯を用いて1.5秒間露光し
た後、市販のアルカリ現像液(富士写真フィルム■1D
N−30)で現像を行ない硬化部分のグレイスケールの
段数を読みとることで感Ifな測定した。結果な表−1
に示す。なおステップ段数は、2段差があると感度が2
暗になることを示し、数値が大きいほど高感度である。
比較例1〜8
実施列に対する比較のため、本発明の光重合開始剤組成
物に替えて、表−2に示す市販の光重合開始剤、アミノ
フェニルケトン化合物または有機過酸エステル化合物を
用いて実施例と同様な方法により感光性試験板を作成し
、同様に感度を測定した。結果を表−2に示す。
物に替えて、表−2に示す市販の光重合開始剤、アミノ
フェニルケトン化合物または有機過酸エステル化合物を
用いて実施例と同様な方法により感光性試験板を作成し
、同様に感度を測定した。結果を表−2に示す。
PBZ :ターシャリイブチルペルオキシベンゾエート
PH2:λ5−ジメチルー2.5−ジ(ベンゾイルペル
オキシ)ヘキサン PBIFニジターシャリイブチルジペルオキシイソフタ
レート BTTB : 3,3:4.4″−テトラ(ターシャリ
イブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェ ノン TMT : )リターシャリイプチルトリペルオキシト
リメリテート PRP :テトラターンヤリイブチルテトラペルオキシ
ピロメリテート APK−1:1,5−ビス〔3−(ジメチルアミノ)フ
ェニル1−1.4−ペンタジェン−3−オン APK−2:1,5−ビス〔3−(ジエチルアミノ)フ
ェニル〕−1,4−ペンタジェン− 3−オン APK−3:1,9−ビス〔3−(ジエチルアミノ)フ
ェニル〕−1,3,6,8−ノナテトラエン−5−オン APK−4: 1,13−ビス〔3−(ジエチルアミノ
)フェニル) −1,3,5,8,10,12−トリデ
カヘキサエンー7−オン BIBK:ベンゾインイソプテルエーテルイルガキュア
651ニジメトキンフェニルアセトフェノン(チバガイ
ギー社 製) イルガキュア907:2−メチル−1−(4−(メチル
チオ)フェニル〕− 2−そルホリノーグロバノ ン−1(チバガイギー社製) ダロキコ、ア1173:2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニル−プロパ ソー1−オン(メルク社製) 他の略号は表−1と同じ 表−11表−2の結果から、実施例のものは比較例のも
の・疋比べ1櫃めて高感度であることが明らかである。
オキシ)ヘキサン PBIFニジターシャリイブチルジペルオキシイソフタ
レート BTTB : 3,3:4.4″−テトラ(ターシャリ
イブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェ ノン TMT : )リターシャリイプチルトリペルオキシト
リメリテート PRP :テトラターンヤリイブチルテトラペルオキシ
ピロメリテート APK−1:1,5−ビス〔3−(ジメチルアミノ)フ
ェニル1−1.4−ペンタジェン−3−オン APK−2:1,5−ビス〔3−(ジエチルアミノ)フ
ェニル〕−1,4−ペンタジェン− 3−オン APK−3:1,9−ビス〔3−(ジエチルアミノ)フ
ェニル〕−1,3,6,8−ノナテトラエン−5−オン APK−4: 1,13−ビス〔3−(ジエチルアミノ
)フェニル) −1,3,5,8,10,12−トリデ
カヘキサエンー7−オン BIBK:ベンゾインイソプテルエーテルイルガキュア
651ニジメトキンフェニルアセトフェノン(チバガイ
ギー社 製) イルガキュア907:2−メチル−1−(4−(メチル
チオ)フェニル〕− 2−そルホリノーグロバノ ン−1(チバガイギー社製) ダロキコ、ア1173:2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニル−プロパ ソー1−オン(メルク社製) 他の略号は表−1と同じ 表−11表−2の結果から、実施例のものは比較例のも
の・疋比べ1櫃めて高感度であることが明らかである。
特許出願人 日本油脂株式会社
手続補正書く自発)
昭和61年2月27日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中R_1、R_2、R_3およびR_4は各々独立に
水素原子、または炭素数1〜6のアルキル基を表わし、
lおよびmは1〜4の整数を表わす。 で表わされるアミノフェニルケトン化合物と分子内にベ
ンゼン骨核またはベンゾフェノン骨核を有する有機過酸
エステル化合物とを組み合わせてなる光重合開始剤組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1474086A JPH0611765B2 (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | 光重合開始剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1474086A JPH0611765B2 (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | 光重合開始剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62174203A true JPS62174203A (ja) | 1987-07-31 |
JPH0611765B2 JPH0611765B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=11869518
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1474086A Expired - Lifetime JPH0611765B2 (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | 光重合開始剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0611765B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1635219A1 (en) | 2004-08-27 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP1757984A1 (en) | 2005-08-22 | 2007-02-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP2042532A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound |
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