JPS62172545A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS62172545A JPS62172545A JP1117786A JP1117786A JPS62172545A JP S62172545 A JPS62172545 A JP S62172545A JP 1117786 A JP1117786 A JP 1117786A JP 1117786 A JP1117786 A JP 1117786A JP S62172545 A JPS62172545 A JP S62172545A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- layer
- magneto
- alloy
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、情報の消去及び再書き込みを繰返し行うこと
ができる光磁気記録媒体に関する。
ができる光磁気記録媒体に関する。
磁気テープあるいは磁気ディスクと同様に、情報の消去
・再書き込みが何度でも可能な光磁気ディスクが実用化
されようとしている。かかる光磁気ディスクの記録層に
適用される記録材料としては、■スパッタ法または蒸着
法によって大面積にして均一な記０層を形成することが
できろ、Ｉか粒界がないため大きなＳ／Ｎ 比が得られ
る、等の特徴を有するため、従来より、ガドリニウム、
テルビウム、ジスプロシウム等の希土類金属と、鉄。
・再書き込みが何度でも可能な光磁気ディスクが実用化
されようとしている。かかる光磁気ディスクの記録層に
適用される記録材料としては、■スパッタ法または蒸着
法によって大面積にして均一な記０層を形成することが
できろ、Ｉか粒界がないため大きなＳ／Ｎ 比が得られ
る、等の特徴を有するため、従来より、ガドリニウム、
テルビウム、ジスプロシウム等の希土類金属と、鉄。
コバルト等の！移金属との非晶質合金が注目されている
（日経エレクトロニクス １９８５．３．２５１６７頁
〜１８８頁）。
（日経エレクトロニクス １９８５．３．２５１６７頁
〜１８８頁）。
し７かしながら、上記希土類金属と遷移金属の非晶質合
金は、非常に酸化し易い物質であって空気中で容易に腐
蝕してしまうという欠点があり、これを光磁気記録媒体
の記録層として適用する場合には、何らかの腐蝕防止手
段を付加しなければ、必要とされる耐用命数を満足する
ことができない。
金は、非常に酸化し易い物質であって空気中で容易に腐
蝕してしまうという欠点があり、これを光磁気記録媒体
の記録層として適用する場合には、何らかの腐蝕防止手
段を付加しなければ、必要とされる耐用命数を満足する
ことができない。
従来は、上記の合金から成る記録層の表面に、例えば、
ＳｉＯ，５ｉＯｚ等の酸化物、あるいは、ＳＬ！ＩＮＪ
、ＡＩＮ等の窒化物から成る保護膜をコーティングす
ることによって記録層の耐食性の向上が図られている。
ＳｉＯ，５ｉＯｚ等の酸化物、あるいは、ＳＬ！ＩＮＪ
、ＡＩＮ等の窒化物から成る保護膜をコーティングす
ることによって記録層の耐食性の向上が図られている。
然るに、上記の如き酸化物及び窒化物は絶縁性の物質で
あるため、均質にして高密度の薄膜を記録層の表面に強
固に形成するには、例えば高周波スパッタ法など高度な
薄膜形成技術を用いなくてはならず、生産性が比較的悪
いという問題がある。
あるため、均質にして高密度の薄膜を記録層の表面に強
固に形成するには、例えば高周波スパッタ法など高度な
薄膜形成技術を用いなくてはならず、生産性が比較的悪
いという問題がある。
また、これらの保護層形成物質と記録層形成物質である
希土類金属と遷移金属の合金とは熱膨張率の相違が大き
いため、使用中に熱サイクルを受けると熱応力によって
保護層が破壊され易いという問題がある。さらに、Ｓｉ
ｎ、５ｉＯｚ等の酸化物にて保護層を形成した場合には
、当該酸化物中の酸素の作用によって、却って記録層の
腐蝕が促進されてしまう虞れがある。
希土類金属と遷移金属の合金とは熱膨張率の相違が大き
いため、使用中に熱サイクルを受けると熱応力によって
保護層が破壊され易いという問題がある。さらに、Ｓｉ
ｎ、５ｉＯｚ等の酸化物にて保護層を形成した場合には
、当該酸化物中の酸素の作用によって、却って記録層の
腐蝕が促進されてしまう虞れがある。
本発明は、上記した従来技術の問題点を解消し、均質に
して高密度かつ強固な保護層を記録層の表面に容易に形
成することができ、しかも記＠層に悪影響を与えたり記
録層の記録感度を劣Ｃヒしたりすることのない保ｇ！１
層を形成するため、耐食性に優れ、かつ、熱容量及び熱
伝導率が低く、熱膨張率が上記記録層と近似する金属、
またはこの種の金属と他の元素との合金から保護層を形
成したことを特徴とするものである。
して高密度かつ強固な保護層を記録層の表面に容易に形
成することができ、しかも記＠層に悪影響を与えたり記
録層の記録感度を劣Ｃヒしたりすることのない保ｇ！１
層を形成するため、耐食性に優れ、かつ、熱容量及び熱
伝導率が低く、熱膨張率が上記記録層と近似する金属、
またはこの種の金属と他の元素との合金から保護層を形
成したことを特徴とするものである。
第１図に本発明に係る光磁気記録媒体の断面図を示す。
この図において、ｌはディスク基板、２はディスク基板
１の片面に転写された凹凸パターン、３はディスク基板
ｌの凹凸パターン形成面に形成された下地層、４は下地
層３の表面に積層された記録層、５は記録層４の表面に
積層された保護層を示している。
１の片面に転写された凹凸パターン、３はディスク基板
ｌの凹凸パターン形成面に形成された下地層、４は下地
層３の表面に積層された記録層、５は記録層４の表面に
積層された保護層を示している。
ディスク基板ｌは、ガラス、ポリカーボネート。
ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリスチレンなど
の透明硬質物質を用いて形成される。
レン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリスチレンなど
の透明硬質物質を用いて形成される。
凹凸パターン２は、２Ｐ法あるいはインジェクション法
など、公知に属する任意の転写技術によってディスク基
板ｌの片面に形成される。いかなる転写技術を適用する
かは、ディスク基板ｌの材質等を考慮して定める。
など、公知に属する任意の転写技術によってディスク基
板ｌの片面に形成される。いかなる転写技術を適用する
かは、ディスク基板ｌの材質等を考慮して定める。
下地層３は、吸水性及び透湿性を有しない透明物質、例
えば、Ｓｉ３Ｎ４ によって形成される。
えば、Ｓｉ３Ｎ４ によって形成される。
この下地層３の形成手段としては、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティング等公知に屈する任意の薄
膜形成手段が用いられる。
リング、イオンブレーティング等公知に屈する任意の薄
膜形成手段が用いられる。
記録層４は、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウ
ム等の希土類金属と、鉄、コバルト等の遷移金属との非
晶質合金が用いられる。この記録層４も、真空蒸着、ス
パッタリング、イオンブレーティング等公知に属する任
意の薄膜形成手段によって形成される。
ム等の希土類金属と、鉄、コバルト等の遷移金属との非
晶質合金が用いられる。この記録層４も、真空蒸着、ス
パッタリング、イオンブレーティング等公知に属する任
意の薄膜形成手段によって形成される。
保護層５は、耐食性に優れ、かつ、熱容量及び熱伝導率
が低く、熱膨張率が上記記録層４と近似する金属、また
はこの種の金属と池の元素との合金によって形成される
。即ち、保護層５は上記記録層４を腐蝕から防止するた
めに形成さ７１．るものであるから、耐食性、特に耐候
性にｉｈでいる材料を使用する二とが第１の条件である
。さらに。
が低く、熱膨張率が上記記録層４と近似する金属、また
はこの種の金属と池の元素との合金によって形成される
。即ち、保護層５は上記記録層４を腐蝕から防止するた
めに形成さ７１．るものであるから、耐食性、特に耐候
性にｉｈでいる材料を使用する二とが第１の条件である
。さらに。
光磁気記録媒体は、原理的に熱記録であるから、レーザ
ビーム照射時の熱２ｔＷ範囲が狭いほど記録感度及び記
録密度を向上することができるので。
ビーム照射時の熱２ｔＷ範囲が狭いほど記録感度及び記
録密度を向上することができるので。
熱容量及び熱伝導率が低いことが条件になる、かかる紐
点から、室温から２５０°′Ｃの一度範囲における熱伝
導率がｌ ＯＯＷｍ−’ Ｋ以下の材料を用いることが
好ましい。加えて、熱応力の発生を防止し耐久性を向上
するため、熱膨張率が上記記録層４と近似する材料であ
ることが要求される。
点から、室温から２５０°′Ｃの一度範囲における熱伝
導率がｌ ＯＯＷｍ−’ Ｋ以下の材料を用いることが
好ましい。加えて、熱応力の発生を防止し耐久性を向上
するため、熱膨張率が上記記録層４と近似する材料であ
ることが要求される。
尚、上記実施例においては、ディスク基板ｌの片面に下
地層３と記録層４と保護層５の３層構造の薄膜を形成し
た場合について説明したが１本発明の要旨はこれに限定
されるものではかく、ガラス等吸水性及び透湿性を有し
ない材料にてディスク基板を作製した場合には、下地層
３を省略することもできる。また、記＠ＨＩ４を構成す
る記録材料も上記のものに限定されるものではない。
地層３と記録層４と保護層５の３層構造の薄膜を形成し
た場合について説明したが１本発明の要旨はこれに限定
されるものではかく、ガラス等吸水性及び透湿性を有し
ない材料にてディスク基板を作製した場合には、下地層
３を省略することもできる。また、記＠ＨＩ４を構成す
る記録材料も上記のものに限定されるものではない。
下表に、金属材料の耐食性と、熱伝導率と、熱容量の比
較を示す。尚、この表において、耐食性の欄のＯ印は耐
食性が良好であることを示し、また、○は耐食性がやや
良好であること、Ｘ印は耐食性が不良であること、Δは
耐食性が良好と不良の中間であることを示す。
較を示す。尚、この表において、耐食性の欄のＯ印は耐
食性が良好であることを示し、また、○は耐食性がやや
良好であること、Ｘ印は耐食性が不良であること、Δは
耐食性が良好と不良の中間であることを示す。
上表から、具体的には、アルミニウム、金、クロム、ガ
リウム、ハフニウム、インジウム、イリジウム、ニオブ
、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、スズ、タ
ンタル、チタン、ジルコニウムから選択された少なくと
も１種の金属、またはこれらの金属と他の元素との合金
、及びステンレス鋼が保護層形成材料として最も好まし
いことが判る。
リウム、ハフニウム、インジウム、イリジウム、ニオブ
、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、スズ、タ
ンタル、チタン、ジルコニウムから選択された少なくと
も１種の金属、またはこれらの金属と他の元素との合金
、及びステンレス鋼が保護層形成材料として最も好まし
いことが判る。
この保護層５の形成手段としては、作業性が良好で、か
つ、記録層３の表面に均質にして高密度かつ強固な保護
層を形成可能であることから、ＤＣスパッタ法を用いる
ことが好ましい。但し９作業性及び形成される保護層５
の品質の点からＤＣスパッタが特に優れているというこ
とであって。
つ、記録層３の表面に均質にして高密度かつ強固な保護
層を形成可能であることから、ＤＣスパッタ法を用いる
ことが好ましい。但し９作業性及び形成される保護層５
の品質の点からＤＣスパッタが特に優れているというこ
とであって。
保護層５の形成手段がこれに限定されるものではなく、
真空蒸着、ＲＦスパッタリング、イオンプレーレイング
等、他の薄膜形成手段も適用可能であることは勿論であ
る。
真空蒸着、ＲＦスパッタリング、イオンプレーレイング
等、他の薄膜形成手段も適用可能であることは勿論であ
る。
尚、保護層４は、任意のＪヴさに形成可能であるが、薄
膜の均質性を保持し、かつ熱容量をある程度低い値に押
えて記録感度及び記録密度の向上を図るため、５０人乃
至５００人の厚さに形成することが好ましい。
膜の均質性を保持し、かつ熱容量をある程度低い値に押
えて記録感度及び記録密度の向上を図るため、５０人乃
至５００人の厚さに形成することが好ましい。
以下、具体的な実施例を掲げ、従来の光磁気記録媒体の
耐久性の比較を示す。
耐久性の比較を示す。
片面にプリピット及びグループ等の凹凸パターンが転写
されたガラス製ディスク基板を真空槽内に収納し、該デ
ィスク基板の凹凸パターン形成面に、５ｉｓＮ４ をタ
ーゲットとしてＲＦスパッタリングを行い、厚さ約１０
００人の下地層を形成した。このときのスパッタ条件は
１反応ガスとして３：１の比率に調整されたアルゴンと
窒素の混合ガスを用い１反応ガス圧が２ Ｘ １０−２
Ｔｏｒｒ。
されたガラス製ディスク基板を真空槽内に収納し、該デ
ィスク基板の凹凸パターン形成面に、５ｉｓＮ４ をタ
ーゲットとしてＲＦスパッタリングを行い、厚さ約１０
００人の下地層を形成した。このときのスパッタ条件は
１反応ガスとして３：１の比率に調整されたアルゴンと
窒素の混合ガスを用い１反応ガス圧が２ Ｘ １０−２
Ｔｏｒｒ。
投入電力５００Ｗであった。
次いで、上記下地層の表面にＴ ｂ ２Ｇ Ｆ ｅ ｔ
ｌ、をターゲットとしてＤＣスパッタリングを行い、厚
さ約１０００人の記録層を形成した。このときのスパッ
タ条件は、アルゴンガス圧が４ Ｘ １０−’ Ｔｏｒ
ｒ。
ｌ、をターゲットとしてＤＣスパッタリングを行い、厚
さ約１０００人の記録層を形成した。このときのスパッ
タ条件は、アルゴンガス圧が４ Ｘ １０−’ Ｔｏｒ
ｒ。
投入電力が４００Ｗであった。
次いで、上記記録層の表面にそれぞれアルミニラム、金
、クロム、ガリウム、ハフニウム、インジウム、イリジ
ウム、ニオブ、パラジウム、白金。
、クロム、ガリウム、ハフニウム、インジウム、イリジ
ウム、ニオブ、パラジウム、白金。
ロジウム、ルテニウム、スズ、タンタル、チタン。
ジルコニウムの純金属及びステンレス鋼（ＳＵＳ３２）
をターゲットとしてＤＣスパッタリングを行い、厚さ約
３００人の保護層を有する１７例の光磁気記録媒体を形
成した。このときのスパッタ条件は、アルゴンガス圧が
４ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ、投入電力が１００〜５０
０Ｗであった。
をターゲットとしてＤＣスパッタリングを行い、厚さ約
３００人の保護層を有する１７例の光磁気記録媒体を形
成した。このときのスパッタ条件は、アルゴンガス圧が
４ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ、投入電力が１００〜５０
０Ｗであった。
第２図に、上記のようにして作製された１７例の光磁気
記録媒体の′Ｑ境試験結果を示す。試験条件は、＠度８
０℃、相対湿度９５％である。
記録媒体の′Ｑ境試験結果を示す。試験条件は、＠度８
０℃、相対湿度９５％である。
第２図において、横軸は各実施例における保護層の成分
を示し、縦軸は記録層のカー回転角が初期値から２０％
変化するまでの時間を、記録層の表面に ５ｉＯｚを１
０００人の厚さに形成したものとの比較で示している。
を示し、縦軸は記録層のカー回転角が初期値から２０％
変化するまでの時間を、記録層の表面に ５ｉＯｚを１
０００人の厚さに形成したものとの比較で示している。
このグラフから明らかなように、上記実施例の光磁気記
録媒体は、 ５ｉＯｚを保護層として用いたものに比べ
ていずれも耐食性が顕著に改善されている。上記実施例
のうちでは、ハフニウム、イリジウム、ニオブ、パラジ
ウム、白金、ロジウム。
録媒体は、 ５ｉＯｚを保護層として用いたものに比べ
ていずれも耐食性が顕著に改善されている。上記実施例
のうちでは、ハフニウム、イリジウム、ニオブ、パラジ
ウム、白金、ロジウム。
ルテニウム、タンタル、チタン、ジルコニウムの保護層
を形成したものが最も顕著な効果が認められ、その値は
ＳｉＯ：ａを保護層として用いたものに比べて約８０倍
乃至９０倍の向上している。次いで、金、ガリウム、イ
ンジウム、スズ、ステンレス鋼（ＳＵＳ３２）の保護層
を形成したものが優れ、 ５ｉＯｚを保護層として用い
たものに比べて約４０倍乃至７０倍の効果が認められる
。効果が比較的小さいアルミニウム及びクロムの保護層
を形成したものについても５ｉＯｚを保護層として用い
たものに比べて約７．５倍乃至１０．３倍程度の効果が
認められる。
を形成したものが最も顕著な効果が認められ、その値は
ＳｉＯ：ａを保護層として用いたものに比べて約８０倍
乃至９０倍の向上している。次いで、金、ガリウム、イ
ンジウム、スズ、ステンレス鋼（ＳＵＳ３２）の保護層
を形成したものが優れ、 ５ｉＯｚを保護層として用い
たものに比べて約４０倍乃至７０倍の効果が認められる
。効果が比較的小さいアルミニウム及びクロムの保護層
を形成したものについても５ｉＯｚを保護層として用い
たものに比べて約７．５倍乃至１０．３倍程度の効果が
認められる。
以上説明したように１本発明の光磁気記録媒体は、耐食
性に優れた金属材料をもって保護層を形成したので、保
護層形成の際に１作業性が良好で生産性の高いＤＣスパ
ッタ法を適用することができ、製造コストの低廉化を図
ることができる。また、熱容量及び熱伝導率の低い金属
材料を選択したので、レーザビーム照射時に熱の影響を
受ける範囲を狭く押えることができ、記録感度及び記録
密度を向上を図ることができる。さらに、熱膨張率が上
記記録層と近似する材料を選択したので。
性に優れた金属材料をもって保護層を形成したので、保
護層形成の際に１作業性が良好で生産性の高いＤＣスパ
ッタ法を適用することができ、製造コストの低廉化を図
ることができる。また、熱容量及び熱伝導率の低い金属
材料を選択したので、レーザビーム照射時に熱の影響を
受ける範囲を狭く押えることができ、記録感度及び記録
密度を向上を図ることができる。さらに、熱膨張率が上
記記録層と近似する材料を選択したので。
熱応力の発生が防止され、耐久性が向上する。
第１図に本発明に係る光磁気記録媒体構造を模式的に示
す断面図、第２図は本発明の詳細な説明するグラフであ
る。 ｌ：ディスク基板、２：凹凸パターン、３：下地層、４
：記録層、５：保護層 第１図 １ｔヂづ又２基３文 ２： 凹凸ハ０ターン ３：下に１ ４：象り ５：程１蔓１ 手続壱〇正！（自発） 昭和６１年 ４月２日
す断面図、第２図は本発明の詳細な説明するグラフであ
る。 ｌ：ディスク基板、２：凹凸パターン、３：下地層、４
：記録層、５：保護層 第１図 １ｔヂづ又２基３文 ２： 凹凸ハ０ターン ３：下に１ ４：象り ５：程１蔓１ 手続壱〇正！（自発） 昭和６１年 ４月２日
Claims (4)
- （１）ディスク基板上に、少なくとも記録層及び保護層
を順次積層して成る光磁気記録媒体において、上記保護
層を、耐食性に優れ、かつ、熱容量及び熱伝導率が低い
金属、または合金、または上記金属と他の元素との合金
から形成したことを特徴とする光磁気記録媒体。 - （２）保護層が、アルミニウム、金、クロム、ガリウム
、ハフニウム、インジウム、イリジウム、ニオブ、パラ
ジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、スズ、タンタル
、チタン、ジルコニウムから選択された少なくとも１種
の金属、またはこれらの金属と他の元素との合金、また
はステンレス鋼をもって形成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録媒体。 - （３）保護層の厚さを、５０Å乃至５００Åに形成した
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項及び第２項記載
の光磁気記録媒体。 - （４）室温から２５０℃の温度範囲における熱伝導率が
、１００Ｗｍ＾−＾１に以下である金属または合金をも
って保護層を形成したことを特徴とする特許請求の範囲
第１項乃至第３項記載の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1117786A JPS62172545A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1117786A JPS62172545A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62172545A true JPS62172545A (ja) | 1987-07-29 |
Family
ID=11770775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1117786A Pending JPS62172545A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62172545A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6339164A (ja) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 記録媒体 |
| JPH01245447A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPH0296951A (ja) * | 1988-10-04 | 1990-04-09 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPH0388152A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-12 | Kyocera Corp | 光磁気記録素子 |
| US5032470A (en) * | 1989-04-17 | 1991-07-16 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Optical recording medium with an aluminum alloy metallic layer containing at least hafnium |
| US5232790A (en) * | 1990-04-28 | 1993-08-03 | Kyocera Corporation | Magneto-optical recording disc and method of producing it |
| US5492773A (en) * | 1988-09-13 | 1996-02-20 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
| US6042919A (en) * | 1998-05-07 | 2000-03-28 | Zomax Optical Media, Inc. | Structurally stable optical data storage medium |
-
1986
- 1986-01-23 JP JP1117786A patent/JPS62172545A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6339164A (ja) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 記録媒体 |
| JPH01245447A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
| US5492773A (en) * | 1988-09-13 | 1996-02-20 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
| JPH0296951A (ja) * | 1988-10-04 | 1990-04-09 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
| US5032470A (en) * | 1989-04-17 | 1991-07-16 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Optical recording medium with an aluminum alloy metallic layer containing at least hafnium |
| EP0393576B1 (en) * | 1989-04-17 | 1996-08-14 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Information recording media |
| JPH0388152A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-12 | Kyocera Corp | 光磁気記録素子 |
| US5232790A (en) * | 1990-04-28 | 1993-08-03 | Kyocera Corporation | Magneto-optical recording disc and method of producing it |
| US6042919A (en) * | 1998-05-07 | 2000-03-28 | Zomax Optical Media, Inc. | Structurally stable optical data storage medium |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4554217A (en) | Process for creating wear and corrosion resistant film for magnetic recording media | |
| US6120890A (en) | Magnetic thin film medium comprising amorphous sealing layer for reduced lithium migration | |
| US6586116B1 (en) | Nonmetallic thin film magnetic recording disk with pre-seed layer | |
| EP0413423A2 (en) | Thin film metal alloy magnetic recording disk | |
| US5082749A (en) | Platinum or palladium/cobalt multilayer on a zinc oxide or indium oxide layer for magneto-optical recording | |
| JPS62172545A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| EP1005577A1 (en) | Metallic chromium-tantalum oxide composition, sputtering targets and magnetic recording media | |
| JPH0451963B2 (ja) | ||
| US6986954B2 (en) | Perpendicular magnetic recording media | |
| KR100639620B1 (ko) | 자기 기록 매체 및 그 제조 방법과 자기 디스크 장치 | |
| US20080037407A1 (en) | Method for Manufacturing Perpendicular Magnetic Recording Medium, Perpendicular Magnetic Recording Medium, and Magnetic Recording/Reproducing Apparatus | |
| US20020001736A1 (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH04219643A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPS60231935A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| EP1625579B1 (en) | Method for making a nano-particulate medium | |
| EP0317982B1 (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JP2538124B2 (ja) | 固定磁気ディスクおよびその製造方法 | |
| JPH04219619A (ja) | 薄層透明な腐食防止膜およびその製造法 | |
| JPH05325163A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US20020098386A1 (en) | Magnetic recording medium and magnetic disc drive | |
| JP2737241B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH03122846A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2842918B2 (ja) | 磁性薄膜、薄膜磁気ヘッド及び磁気記憶装置 | |
| JPS63124213A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH0380417A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |