JPS62138514A - 光学用樹脂材料 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 24
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 50
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 50
- -1 aromatic vinyl compound Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 16
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 3
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- LBHPSYROQDMVBS-UHFFFAOYSA-N (1-methylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(C)CCCCC1 LBHPSYROQDMVBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJCGDEYGAIPAEN-UHFFFAOYSA-N (1-methylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(C)CCCCC1 CJCGDEYGAIPAEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEZWIIUNRMEKGW-UHFFFAOYSA-N (2-bromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Br OEZWIIUNRMEKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNYTWDAWZSFABS-UHFFFAOYSA-N (2-bromophenyl) prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C VNYTWDAWZSFABS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Cl YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOUZWCLULXUQSR-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) prop-2-enoate Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C GOUZWCLULXUQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBHSYCDRICCRMQ-UHFFFAOYSA-N (2-fluorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1F KBHSYCDRICCRMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C(=C)C)CC1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C(=C)C)C3 MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCN1C(=O)C=CC1=O JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXTILEHINBCKSS-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(Cl)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 SXTILEHINBCKSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHAFIUUYXQFJEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC(=C)C1=CC=CC=C1 XHAFIUUYXQFJEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAEXAGHVEUWODX-UHFFFAOYSA-N 1-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC(=C)C1=CC=CC=C1 DAEXAGHVEUWODX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYBPIDAYDPNCTP-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(C)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 IYBPIDAYDPNCTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCHRVFZBKRIKIX-UHFFFAOYSA-N 1-nitro-3-(3-nitrophenyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(C=2C=C(C=CC=2)[N+]([O-])=O)=C1 CCHRVFZBKRIKIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCN1C(=O)C=CC1=O DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAXBZQUSTLNLPU-UHFFFAOYSA-N 2,5-dioxo-3-phenylpyrrole-1-carboxylic acid Chemical compound O=C1N(C(=O)O)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 WAXBZQUSTLNLPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHCGGLXPGFJNCO-UHFFFAOYSA-N 2-(2H-benzotriazol-4-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC2=C1N=NN2 YHCGGLXPGFJNCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMFMTNROJASFBW-UHFFFAOYSA-N 2-(furan-2-ylmethylsulfinyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CS(=O)CC1=CC=CO1 BMFMTNROJASFBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOUSBQVEVZBMNI-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCBr AOUSBQVEVZBMNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDZAAIHWZYWBSS-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl prop-2-enoate Chemical compound BrCCOC(=O)C=C CDZAAIHWZYWBSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-M 2-chloroacrylate Chemical compound [O-]C(=O)C(Cl)=C SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCl GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 2-chlorostyrene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=C ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C#N IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYCFGHUTYSLISP-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)=C TYCFGHUTYSLISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQCSQWMHCAFBDD-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C#N)CC(C)C KQCSQWMHCAFBDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQWBJUXAIXBZTC-UHFFFAOYSA-J 2-methylprop-2-enoate;tin(4+) Chemical compound [Sn+4].CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O KQWBJUXAIXBZTC-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGYSHXGENGTBP-UHFFFAOYSA-N 6-(2-ethylhexoxy)-6-oxohexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CCCCC(O)=O MBGYSHXGENGTBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethyl-succinimide Natural products CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-OPQQBVKSSA-N [(1s,3r,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] prop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@H](OC(=O)C=C)C[C@H]1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-OPQQBVKSSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- UAWJHCGABXDYRE-UHFFFAOYSA-N [bromo(phenyl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(Br)C1=CC=CC=C1 UAWJHCGABXDYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXFPHNDKVMTINC-UHFFFAOYSA-N [bromo(phenyl)methyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(Br)C1=CC=CC=C1 FXFPHNDKVMTINC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQVUUGHMHQPVSI-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(Cl)C1=CC=CC=C1 DQVUUGHMHQPVSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXJPGVLRLBAGGW-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(Cl)C1=CC=CC=C1 IXJPGVLRLBAGGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORKUXJCVRDNFL-UHFFFAOYSA-N [fluoro(phenyl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)C1=CC=CC=C1 QORKUXJCVRDNFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 description 1
- SQHOHKQMTHROSF-UHFFFAOYSA-N but-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CCC(=C)C1=CC=CC=C1 SQHOHKQMTHROSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKHANKSRIPFCE-UHFFFAOYSA-L calcium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [Ca+2].CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O OAKHANKSRIPFCE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TXTCTCUXLQYGLA-UHFFFAOYSA-L calcium;prop-2-enoate Chemical compound [Ca+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C TXTCTCUXLQYGLA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- XZTWHWHGBBCSMX-UHFFFAOYSA-J dimagnesium;phosphonato phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XZTWHWHGBBCSMX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl cyclohexane-1,4-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1CCC(C(=O)OOC(C)(C)C)CC1 CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- CHPAZJVPFDXOAQ-UHFFFAOYSA-N fluoromethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCF CHPAZJVPFDXOAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWYUJGXEYOXHRJ-UHFFFAOYSA-N fluoromethyl prop-2-enoate Chemical compound FCOC(=O)C=C FWYUJGXEYOXHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N heptyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C=C SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- BSLBENVVENBYIW-UHFFFAOYSA-L lead(2+);prop-2-enoate Chemical compound [Pb+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C BSLBENVVENBYIW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- DJDSLBVSSOQSLW-UHFFFAOYSA-N mono(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O DJDSLBVSSOQSLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSFCMRGOZNQUSW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[2-(6,7-dimethoxy-3,4-dihydro-1h-isoquinolin-2-yl)ethyl]phenyl]-5-methoxy-9-oxo-10h-acridine-4-carboxamide Chemical compound N1C2=C(OC)C=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(=O)NC1=CC=C(C=C1)CCN1CCC=3C=C(C(=CC=3C1)OC)OC)=CC=C2 OSFCMRGOZNQUSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDJFUWIQZPRDDG-UHFFFAOYSA-J prop-2-enoate;tin(4+) Chemical class [Sn+4].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C XDJFUWIQZPRDDG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003626 triacylglycerols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- XKMZOFXGLBYJLS-UHFFFAOYSA-L zinc;prop-2-enoate Chemical compound [Zn+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C XKMZOFXGLBYJLS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、プラスチック光学素子を射出成型。
圧縮成型等によって製造するのに適した光学用樹脂材料
に関する。
に関する。
(従来の技術)
プラスチック光学用素子は、ガラス製のものに較べて軽
く、耐衝撃性が良く研摩が不要で、大量生産が可能でか
つ非球面レンズを量産できるという利点を有しているた
め、近年その需要が増大しつつある。
く、耐衝撃性が良く研摩が不要で、大量生産が可能でか
つ非球面レンズを量産できるという利点を有しているた
め、近年その需要が増大しつつある。
しかし、一方プラスチック光学用素子はガラス製のもの
に較べ精度が悪く、屈折率の選択幅が小さく、複屈折が
大きいという欠点を有している。
に較べ精度が悪く、屈折率の選択幅が小さく、複屈折が
大きいという欠点を有している。
特に、レーザー光を利用した光による情報の読み取り、
書き込み等で使用される基盤においてはその面上への数
ミクロンのピントの成型性や複屈折性などが大きな問題
となっている。
書き込み等で使用される基盤においてはその面上への数
ミクロンのピントの成型性や複屈折性などが大きな問題
となっている。
プラスチック光学素子の複屈折性は、素材そのものの特
性および成型条件によって変化する。そのため、プラス
チック光学素子の複屈折の低減化は成型条件に頼るのが
主であった。しかしより。
性および成型条件によって変化する。そのため、プラス
チック光学素子の複屈折の低減化は成型条件に頼るのが
主であった。しかしより。
精密な光学素子に対する要求が高壕るに従い、成型条件
では回避しがたい複屈折条件を素材そのもので行なう必
要性が生じてきた。
では回避しがたい複屈折条件を素材そのもので行なう必
要性が生じてきた。
この様な光学用プラスチック材料としてはメタクリレー
ト系ポリマーとポリカーボネート系材料とがある。メタ
クリレート系材料は光学用プラスチック材料のもう一つ
の要求性能である低吸湿性に問題があり、これを改善す
るためには耐衝撃性や耐熱性に弊害を生じる。特にボリ
カーホ不一トのような低吸湿性を有し、100℃以上の
耐熱性や耐衝撃性を有する材料をメタクリレート系ポリ
マーで得ることは不可能である。
ト系ポリマーとポリカーボネート系材料とがある。メタ
クリレート系材料は光学用プラスチック材料のもう一つ
の要求性能である低吸湿性に問題があり、これを改善す
るためには耐衝撃性や耐熱性に弊害を生じる。特にボリ
カーホ不一トのような低吸湿性を有し、100℃以上の
耐熱性や耐衝撃性を有する材料をメタクリレート系ポリ
マーで得ることは不可能である。
一方、ポリカーボネート系材料は低吸湿性・高耐熱性・
耐衝撃性に優れている。
耐衝撃性に優れている。
ポリカーボネート系材料としては、主に、ビスフェノー
ル骨核を有する直鎖状ポリカーボネートが使用される。
ル骨核を有する直鎖状ポリカーボネートが使用される。
また、このようなポリカーボネートとスチレン系樹脂な
どの高流動性樹脂とのブレンド物も知られている(特公
昭55−4143号公報)。
どの高流動性樹脂とのブレンド物も知られている(特公
昭55−4143号公報)。
(発明が解決しようとする問題点)
ポリカーボネート系材料は、上記のとおシ、耐熱性、低
吸湿性及び耐衝撃性に優れるが、複屈折性が太きいとい
う問題点がある。
吸湿性及び耐衝撃性に優れるが、複屈折性が太きいとい
う問題点がある。
この問題点を解決する方法として考えられる方法は、第
1に、ポリカーボネートの主骨核であるビスフェノール
骨核を変えることが考えられる。
1に、ポリカーボネートの主骨核であるビスフェノール
骨核を変えることが考えられる。
しかし、この骨核が少し変わっても、樹脂全体の特性が
著しく変化する(例えば、耐溶剤性、耐熱性、耐吸湿性
、耐衝撃性1曲げ強度等が低下する)ため、特に、ポリ
カーボネートの特徴である耐熱性が著しく低下するため
、この方法は好ましくない。
著しく変化する(例えば、耐溶剤性、耐熱性、耐吸湿性
、耐衝撃性1曲げ強度等が低下する)ため、特に、ポリ
カーボネートの特徴である耐熱性が著しく低下するため
、この方法は好ましくない。
第2に、ポリカーボネートの分子量を小さくすることが
考えられる。しかし、この方法で、ポリカーボネート樹
脂の好ましい特性を保つ分子量に下限があり、この下限
の分子量でも複屈折性が大きく1問題点の解決にならな
い。
考えられる。しかし、この方法で、ポリカーボネート樹
脂の好ましい特性を保つ分子量に下限があり、この下限
の分子量でも複屈折性が大きく1問題点の解決にならな
い。
第3に、前記公報に記載されるように、スチレン系樹脂
とのブレンドがあるが、ポリカーボネートとスチレン系
樹脂は相溶性が悪く、成型品に層状剥離が生じるため実
用化は困難であった。そこで、さらに、ジオクチルフタ
レート等の相111Jt−添加する方法も考えられてい
るが、この方法では。
とのブレンドがあるが、ポリカーボネートとスチレン系
樹脂は相溶性が悪く、成型品に層状剥離が生じるため実
用化は困難であった。そこで、さらに、ジオクチルフタ
レート等の相111Jt−添加する方法も考えられてい
るが、この方法では。
耐熱性が著しく低下する。
このように、ポリカーボネート系樹脂は、優れた性質を
有しているにもかかわらず、この性質を保持しつつ、大
きな欠点である複屈折性を改善し。
有しているにもかかわらず、この性質を保持しつつ、大
きな欠点である複屈折性を改善し。
しかも、実用性に富む材料となっていない。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、直鎖状ポリカーボネート90〜50重量%及
び該直鎖状ポリカーボネートとの屈折率の差が絶対値で
0.01以内であって芳香族ビニル化合物を必須成分と
する不飽和化合物の重合体10〜50重量係を含有して
なり、該重合体が該直鎖芳香族ポリカーボネートの存在
下に芳香族ビニル化合物を必須成分とする不飽和化合物
を重合させて得られるものである光学用樹脂材料に関す
る。
び該直鎖状ポリカーボネートとの屈折率の差が絶対値で
0.01以内であって芳香族ビニル化合物を必須成分と
する不飽和化合物の重合体10〜50重量係を含有して
なり、該重合体が該直鎖芳香族ポリカーボネートの存在
下に芳香族ビニル化合物を必須成分とする不飽和化合物
を重合させて得られるものである光学用樹脂材料に関す
る。
本発明における直鎖状芳香族ポリカーボネート樹脂、
4.4’−ジヒドロキシジフェニルアルカン又はこれら
のハロゲン置換体からホスゲン法またはエステル交換法
によって得られるポリカーボネートである。
4.4’−ジヒドロキシジフェニルアルカン又はこれら
のハロゲン置換体からホスゲン法またはエステル交換法
によって得られるポリカーボネートである。
4、イージヒドロキシジフェニルアルカン又はこれらの
ハロゲン置換体としては2例えば、4.4’−ジヒドロ
キシジフェニルメタン、4.4’−ジヒドロキシジフェ
ニルエタン、4.4’−ジヒドロキシジフェニル−2,
2−プロパン、4.4’−ジヒドロキシジフェニルブタ
ン、 a、 3: s、 s’−テトラブロモ−4,
4′−ジヒドロキシジフェニル−λ2−プロパン、3゜
3:5.5′−テトラフルオロ−4,4′−ジヒドロキ
シジフェニル−2,2−プロパン、3.3’−ジブロモ
−4゜4′−ジヒドロキシジフェニル−2,2−フOパ
ン。
ハロゲン置換体としては2例えば、4.4’−ジヒドロ
キシジフェニルメタン、4.4’−ジヒドロキシジフェ
ニルエタン、4.4’−ジヒドロキシジフェニル−2,
2−プロパン、4.4’−ジヒドロキシジフェニルブタ
ン、 a、 3: s、 s’−テトラブロモ−4,
4′−ジヒドロキシジフェニル−λ2−プロパン、3゜
3:5.5′−テトラフルオロ−4,4′−ジヒドロキ
シジフェニル−2,2−プロパン、3.3’−ジブロモ
−4゜4′−ジヒドロキシジフェニル−2,2−フOパ
ン。
3.3’−シクロルー4.4′−ジヒドロキシジフェニ
ル−2,2−プロパン等がある。
ル−2,2−プロパン等がある。
本発明の重合体は、芳香族ビニル化合物を必須成分とす
る不飽和化合物の重合体である。
る不飽和化合物の重合体である。
芳香族ビニル化合物としては、スチレン又はα−メチル
スチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン
、α−クロルスチレン等のα−置換スチレン、フルオロ
スチレン、クロルスチレン。
スチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン
、α−クロルスチレン等のα−置換スチレン、フルオロ
スチレン、クロルスチレン。
ブロモスチレン、メチルスチレン、フチルスチレン、メ
トキ7スチレン等の核置換スチレンがある。
トキ7スチレン等の核置換スチレンがある。
本発明の不飽和化合物は、芳香族ビニル化合物以外に適
宜他の重合性不飽和単量体1体を含む。
宜他の重合性不飽和単量体1体を含む。
他の重合性不飽和単量体としては、不飽和脂肪酸エステ
ル、シアン化ビニル化合物、不#i、H1l二塩基酸又
はその誘導体、不飽和脂肪酸又はその誘導体等がある。
ル、シアン化ビニル化合物、不#i、H1l二塩基酸又
はその誘導体、不飽和脂肪酸又はその誘導体等がある。
不飽和脂肪酸エステルとしては、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エ
チルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステル、アクリ
ル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル
、アクリル酸ボルニル、アクリル酸インボルニル、アク
リル酸アダマンチル、トリシクロデシルアクリレート等
のアクリル酸シクロアルキルエステル、アクリル酸フェ
ニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸す7チル等のア
クリル酸芳香族エステル、アクリル酸フルオロフェニル
、アクリル酸クロロフェニル、アクリル酸ブロモフェニ
ル、アクリル酸フルオロベンジル、アクリル酸クロロベ
ンジル、アクリル酸ブロモベンジル等のアクリル酸置換
芳香族エステル。
クリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エ
チルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステル、アクリ
ル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル
、アクリル酸ボルニル、アクリル酸インボルニル、アク
リル酸アダマンチル、トリシクロデシルアクリレート等
のアクリル酸シクロアルキルエステル、アクリル酸フェ
ニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸す7チル等のア
クリル酸芳香族エステル、アクリル酸フルオロフェニル
、アクリル酸クロロフェニル、アクリル酸ブロモフェニ
ル、アクリル酸フルオロベンジル、アクリル酸クロロベ
ンジル、アクリル酸ブロモベンジル等のアクリル酸置換
芳香族エステル。
アクリル酸フルオロメチル、アクリル酸フルオロエ、チ
ル、アクリル酸クロロエチル、アクリル酸ブロモエチル
等のアクリル酸−・ロゲン化アルキルエステル、アクリ
ル酸ヒドロキシアルキルエステル。
ル、アクリル酸クロロエチル、アクリル酸ブロモエチル
等のアクリル酸−・ロゲン化アルキルエステル、アクリ
ル酸ヒドロキシアルキルエステル。
アクリル酸グリシジル、アクリル酸エチレングリコール
エステル、アクリル酸ホリエチレングリコールエステル
、アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル、アクリ
ル酸シアノアルキルエステルナトのアクリル酸エステル
、メタクリル酸メチル。
エステル、アクリル酸ホリエチレングリコールエステル
、アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル、アクリ
ル酸シアノアルキルエステルナトのアクリル酸エステル
、メタクリル酸メチル。
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸2−エチルヘキシル等のメタクリル酸アルキルエステ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル。
酸2−エチルヘキシル等のメタクリル酸アルキルエステ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル。
メタクリル酸メチルシクaヘキシル、メタクリル酸ボル
ニル、メタクリル酸インボルニル、メタクリル酸アダマ
ンチル、トリシクロデシルメタクリレート等のメタクリ
ル酸シクロアルキルエステル。
ニル、メタクリル酸インボルニル、メタクリル酸アダマ
ンチル、トリシクロデシルメタクリレート等のメタクリ
ル酸シクロアルキルエステル。
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル。
メタクリル酸ナフチル等のメタクリル酸芳香族エステル
、メタクリル酸フルオロフェニル、メタクリル酸クロロ
フェニル、メタクリル酸ブロモフェニル、メタクリル酸
フルオaベンジル、メタクリル酸クロロベンジル、メタ
クリル酸ブロモベンジル等のメタクリル酸置換芳香族エ
ステル、メタクリル酸フルオロメチル、メタクリル酸フ
ルオロエチル、メタクリル酸クロロエチル、メタクリル
酸ブロモエチル等のメタクリル酸ハロゲン化アルキルエ
ステル、メタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、メ
タクリル酸グリシジル、メタクリル酸エチレングリコー
ルエステル、メタクリル酸ポリエチレン〆リコールエス
テル、メタクリル酸アルキルアミノアルキルエステル、
メタクリル酸シアノアルキルエステルなどのメタクリル
酸エステル。
、メタクリル酸フルオロフェニル、メタクリル酸クロロ
フェニル、メタクリル酸ブロモフェニル、メタクリル酸
フルオaベンジル、メタクリル酸クロロベンジル、メタ
クリル酸ブロモベンジル等のメタクリル酸置換芳香族エ
ステル、メタクリル酸フルオロメチル、メタクリル酸フ
ルオロエチル、メタクリル酸クロロエチル、メタクリル
酸ブロモエチル等のメタクリル酸ハロゲン化アルキルエ
ステル、メタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、メ
タクリル酸グリシジル、メタクリル酸エチレングリコー
ルエステル、メタクリル酸ポリエチレン〆リコールエス
テル、メタクリル酸アルキルアミノアルキルエステル、
メタクリル酸シアノアルキルエステルなどのメタクリル
酸エステル。
α−フルオロアクリル酸エステル、α−クロロアクリル
酸エステル、α−シアンアクリル酸エステルなどのα−
置換アクリル酸エステルなどがある。
酸エステル、α−シアンアクリル酸エステルなどのα−
置換アクリル酸エステルなどがある。
シアン化ビニル化合物としては、アクリロニトリル、メ
タクリレートリル等がある。
タクリレートリル等がある。
不飽和二塩基酸及びその誘導体としては、N−メチルマ
レイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイ
ミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレ
イミド、j’J−フェニルマレイミド、N−メチルフェ
ニルマレイミ)”、N−クロロフェニルマレイミド、N
−メトキシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェニ
ルマレイミド等のN−置換マレイミド、マレイン酸、無
水マレイン酸、フマル酸等がある。
レイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイ
ミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレ
イミド、j’J−フェニルマレイミド、N−メチルフェ
ニルマレイミ)”、N−クロロフェニルマレイミド、N
−メトキシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェニ
ルマレイミド等のN−置換マレイミド、マレイン酸、無
水マレイン酸、フマル酸等がある。
不飽和脂肪酸及びその誘導体としては、アクリルアミド
、メタクリルアミド、N−ジメチルアクリルアミド、N
−ジエチルアクリルアミド、N−ジメチルメタクリルア
ミド、N−ジエチルメタクリルアミド等の(メタ)アク
リルアミド類、アクリル酸カルシウム、メタクリル酸カ
ルシウム、アクリル酸バリウム、メタクリル酸バリウム
、アクリル酸鉛、メタクリル酸鉛、アクリル酸すず、メ
タクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛な
どのアクリル酸又はメタクリル酸の金属塩。
、メタクリルアミド、N−ジメチルアクリルアミド、N
−ジエチルアクリルアミド、N−ジメチルメタクリルア
ミド、N−ジエチルメタクリルアミド等の(メタ)アク
リルアミド類、アクリル酸カルシウム、メタクリル酸カ
ルシウム、アクリル酸バリウム、メタクリル酸バリウム
、アクリル酸鉛、メタクリル酸鉛、アクリル酸すず、メ
タクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛な
どのアクリル酸又はメタクリル酸の金属塩。
アクリル酸、メタクリル酸などがある。
本発明において、他の重合性不飽和単量体は。
芳香族ビニル化合物及び他の重合性不飽和単量体の重合
体の屈折率と前記直鎖状芳香族ポリカーボネートの屈折
率の差が絶対値で0.01以内になるように調整して使
用される。この屈折率の差が絶対値で0.01より大き
くなると複屈折率の改善が困雑になり、また光線透過率
、曇化が増太しやすくなる。
体の屈折率と前記直鎖状芳香族ポリカーボネートの屈折
率の差が絶対値で0.01以内になるように調整して使
用される。この屈折率の差が絶対値で0.01より大き
くなると複屈折率の改善が困雑になり、また光線透過率
、曇化が増太しやすくなる。
このような条件を満たすのに好ましい不飽和化合物の組
成を具体例で示すと次のとおりである。
成を具体例で示すと次のとおりである。
far スチレン 100〜86重址%及び
メタクリル酸メチルO〜141tffl−%。
(b) オルト−クロロスチレン 85〜73ii%
及び メタクリル酸メチル 15〜27重ffi%。
及び メタクリル酸メチル 15〜27重ffi%。
(C1スチレン 100〜30重量%
及び
メタクリル酸フェニル 0〜70重量%。
(dl スチレン 100〜78重量%及び
トリシクロ(5,2,1,0)1カー8−イル−メタク
リレート O〜22′M量係 なお2本発明において、前記重合体の屈折率は。
リレート O〜22′M量係 なお2本発明において、前記重合体の屈折率は。
直鎖芳香族ポリカーボネートの不存在下に不飽和化合物
を重合させて得た重合体の屈折率によって確認し、この
屈折率と直鎖芳香族ポリカーボネートの屈折率から2両
者の屈折率の差を求めるものである。
を重合させて得た重合体の屈折率によって確認し、この
屈折率と直鎖芳香族ポリカーボネートの屈折率から2両
者の屈折率の差を求めるものである。
本発明において、前記重合体は、直鎖芳香族ポリカーボ
ネートの存在下に、前記不飽和化合物を重合させて得ら
れ、この結果2本発明に係る光学用樹脂材料を得ること
ができる。このために2重合前に、予め、前記直鎖状芳
香族ポリカーボネートと前記不飽和化合物が混合される
。
ネートの存在下に、前記不飽和化合物を重合させて得ら
れ、この結果2本発明に係る光学用樹脂材料を得ること
ができる。このために2重合前に、予め、前記直鎖状芳
香族ポリカーボネートと前記不飽和化合物が混合される
。
混合方法としては、前記直鎖状芳香族ポリカーボネート
に前記不飽和化合物を充分に含浸させる方法が好ましい
。このために、前記直鎖状芳香族ポリカーボネートは、
ペレット状、粉砕された細片、粉末等の形状のものを使
用するのが好ましい。
に前記不飽和化合物を充分に含浸させる方法が好ましい
。このために、前記直鎖状芳香族ポリカーボネートは、
ペレット状、粉砕された細片、粉末等の形状のものを使
用するのが好ましい。
混合操作としては、前記直鎖状芳香族ポリカーボネート
と前記不飽和化合物を混合し、静置又は攪拌する方法、
これらを水中で混合し懸濁させる方法、前記直鎖状芳香
族ポリカーボネートに前記不飽和化合物をスプレ状でふ
きつける方法等がある。この場合、含浸を十分に均一に
行なわせるために1両者を充分な時間接触させるのが好
ましく。
と前記不飽和化合物を混合し、静置又は攪拌する方法、
これらを水中で混合し懸濁させる方法、前記直鎖状芳香
族ポリカーボネートに前記不飽和化合物をスプレ状でふ
きつける方法等がある。この場合、含浸を十分に均一に
行なわせるために1両者を充分な時間接触させるのが好
ましく。
特に、この間9重合が進行しない程度に加熱するのが好
ましい。また、前記不飽和化合物には、予め2重合開始
剤を溶解させておくのが好ましいが。
ましい。また、前記不飽和化合物には、予め2重合開始
剤を溶解させておくのが好ましいが。
該不飽和化合物の大部分を例えば、80〜90℃の温度
下に直鎖状芳香族ポリカーボネートに含浸させた後2重
合開始剤を溶解させた残りの不飽和化合物を、該重合開
始剤の活性温度より低い温度。
下に直鎖状芳香族ポリカーボネートに含浸させた後2重
合開始剤を溶解させた残りの不飽和化合物を、該重合開
始剤の活性温度より低い温度。
例えば40〜60℃で含浸させるのが、最も好ましい。
含浸法によれは直鎖状芳香族ポリカーボネート中の不飽
和化合物の濃度を最も均一にさせやすく2%に、懸濁状
態で行なうのが好ましい。
和化合物の濃度を最も均一にさせやすく2%に、懸濁状
態で行なうのが好ましい。
重合に用いる開始剤としては9例えば過酸化ベンゾイル
、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシへキサ
ヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサノエート、1.1−ジーt−ブチルパーオキ
シ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンなどの有機
過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4
−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビ
スシクロへキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベン
ゾイルなどのアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アン
モニウムに代表される水溶性触媒及び過酸化物あるいは
過硫酸塩と還元剤の組合せによるレドックス触媒など通
常のラジカル重合に使用できるものはいずれも可能であ
る。重合触媒はモノマーの総量に対して0.01〜10
重量%の範囲で使用されるのが好ましい。重合調節剤と
してのメルカプタン系化合物、チオグリコール、四臭化
炭素。
、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシへキサ
ヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサノエート、1.1−ジーt−ブチルパーオキ
シ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンなどの有機
過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4
−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビ
スシクロへキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベン
ゾイルなどのアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アン
モニウムに代表される水溶性触媒及び過酸化物あるいは
過硫酸塩と還元剤の組合せによるレドックス触媒など通
常のラジカル重合に使用できるものはいずれも可能であ
る。重合触媒はモノマーの総量に対して0.01〜10
重量%の範囲で使用されるのが好ましい。重合調節剤と
してのメルカプタン系化合物、チオグリコール、四臭化
炭素。
α−メチルスチレンダイマーなどが分子−AYS節のた
めに必要に応じて添加しうる。
めに必要に応じて添加しうる。
重合温度は0〜200℃の間で適宜選択するのが好まし
く、特に50〜120°Cが好ましい。
く、特に50〜120°Cが好ましい。
重合方法としては、直鎖状芳香族ポリカーボネートと重
合性不飽和単量体の混合物は、それを塊状で重合させて
もよいが、後処理のしやすさから。
合性不飽和単量体の混合物は、それを塊状で重合させて
もよいが、後処理のしやすさから。
水性媒体中に懸濁させて重合させるのが好ましい。
この場合、懸濁剤及び必要に応じM濁助剤が添加される
。懸濁剤としては、ポリビニルアルコール。
。懸濁剤としては、ポリビニルアルコール。
メチルセルロース、ポリアクリルアミド等の水溶性高分
子、燐酸カルシウム、ピロ燐酸マグネシウム等の難溶性
無機物質等があり、水溶性高分子はモノマーのatに対
して0.03〜1重量%及び難溶性無機物質はモノマー
の総量に対して0,05〜0.5重量%使用するのが好
ましい。
子、燐酸カルシウム、ピロ燐酸マグネシウム等の難溶性
無機物質等があり、水溶性高分子はモノマーのatに対
して0.03〜1重量%及び難溶性無機物質はモノマー
の総量に対して0,05〜0.5重量%使用するのが好
ましい。
懸濁助剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ
等の陰イオン界面活性剤があり、懸濁剤として難溶性無
機物質を使用する場合は、併用する方が好ましい。懸濁
助剤はモノマーの総量に対してo、 o o i〜0.
4重量%使用するのが好ましい。
等の陰イオン界面活性剤があり、懸濁剤として難溶性無
機物質を使用する場合は、併用する方が好ましい。懸濁
助剤はモノマーの総量に対してo、 o o i〜0.
4重量%使用するのが好ましい。
本発明に係る光学用樹脂材料には耐光性向上のため紫外
線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤としては可視
光領域の光線透過率を低下させないものならば特に制限
はない。具体例としてはオルトヒドロキシサリチル酸フ
ェニル化合物、オルトヒドロキシベンゾフェノン化合物
、 2 (o−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール系化11. 7アノアクリレ一ト系化合物等を用
いることができる。
線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤としては可視
光領域の光線透過率を低下させないものならば特に制限
はない。具体例としてはオルトヒドロキシサリチル酸フ
ェニル化合物、オルトヒドロキシベンゾフェノン化合物
、 2 (o−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール系化11. 7アノアクリレ一ト系化合物等を用
いることができる。
また、流動計をさらに向上させるため、耐熱性を著しく
損わない範囲で可塑剤を加えてもよい。
損わない範囲で可塑剤を加えてもよい。
可塑剤としては2−エチルへキシルフタレート。
ジオクチルフタレート、トリデカニルフタレート等のア
ルキルフタレート類、2−エチルへキシルアジペートの
ような二塩基酸のアルキルエステル類、リン酸トリオク
チルのようなリン酸アルキルエステル類、エポキ7化脂
肪酸エステル類、ポリエステル系可塑剤等が挙げられる
。
ルキルフタレート類、2−エチルへキシルアジペートの
ような二塩基酸のアルキルエステル類、リン酸トリオク
チルのようなリン酸アルキルエステル類、エポキ7化脂
肪酸エステル類、ポリエステル系可塑剤等が挙げられる
。
本発明に係る光学用樹脂材料には、その使用にあたって
、劣化防止、熱的安定性、成形性、加工性等の観点から
、フェノール系、ホスファイト系。
、劣化防止、熱的安定性、成形性、加工性等の観点から
、フェノール系、ホスファイト系。
チオエーテル系などの抗酸化剤、脂肪族アルコール、脂
肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類
、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤
、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、難燃剤9重金属不
活性化剤などを添加して使用してもよい。
肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類
、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤
、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、難燃剤9重金属不
活性化剤などを添加して使用してもよい。
これらの添加剤は、前記重合中に添加してもよく2本発
明の光学樹脂材料と溶融混練して混合してもよいが、前
者の方が好ましい。
明の光学樹脂材料と溶融混練して混合してもよいが、前
者の方が好ましい。
また、得られた成形品表面に、 Mg)”2,5i02
等の無機化合物を真空蒸着法、スパッタリング法。
等の無機化合物を真空蒸着法、スパッタリング法。
イオングレーティング法等によってコーティングするこ
と、成形品表面をシランカップリング剤等の有機シリコ
ン化合物、ビニルモノマー、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂等をハードコートす
ることなどによって。
と、成形品表面をシランカップリング剤等の有機シリコ
ン化合物、ビニルモノマー、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂等をハードコートす
ることなどによって。
耐湿性、光学芳性、耐薬品性、耐摩耗性、曇り止め等を
向上させることもできる。
向上させることもできる。
(実施例〕
次に1本発明の実施例を示す。
参考例1
アンカー翼を付帯したステンレス製反応器内を窒素で充
分置換した後、窒素流通下ビスフェノールA 228.
2g (1moJ)、 ジフェニルカーボネート20
3.8 g (0,95moJ)、 フェニルりん酸0
、0002 gを添加し内温130°C〜150℃10
0mmHgでフェノールを留出させながら180分間反
応させた抜栓々に真空度を上げながら昇温し、1時間後
に0.3mmHg 250℃にした。真空度0.3 m
mHgを保ちなから内温250〜260℃で更にフェノ
ールを留出させながら3時間重縮合反応せしめて直鎖状
芳香族ポリカーボネートを得た。これを押出し機でペレ
ット状にした。これを280〜300℃、 100ko
/Cm”でプレス成形し。
分置換した後、窒素流通下ビスフェノールA 228.
2g (1moJ)、 ジフェニルカーボネート20
3.8 g (0,95moJ)、 フェニルりん酸0
、0002 gを添加し内温130°C〜150℃10
0mmHgでフェノールを留出させながら180分間反
応させた抜栓々に真空度を上げながら昇温し、1時間後
に0.3mmHg 250℃にした。真空度0.3 m
mHgを保ちなから内温250〜260℃で更にフェノ
ールを留出させながら3時間重縮合反応せしめて直鎖状
芳香族ポリカーボネートを得た。これを押出し機でペレ
ット状にした。これを280〜300℃、 100ko
/Cm”でプレス成形し。
透明板を得た。この透明プラスチック板の屈折率(η甘
)は1.586であった。
)は1.586であった。
参考例2〜16
表1に示す組成の不飽和化合物100重量部及びベンゾ
イックパーオキサイド1.2重量部を500m1 フラ
スコ内に仕込み、均一溶液とし、フラスコ内の空気を窒
素ガスで置換したのち、該均一溶液の脱気処理を行なっ
た。
イックパーオキサイド1.2重量部を500m1 フラ
スコ内に仕込み、均一溶液とし、フラスコ内の空気を窒
素ガスで置換したのち、該均一溶液の脱気処理を行なっ
た。
ついで、均一溶液をガラスセルに注入して密封し、65
℃の温水中で10時間加熱した後、エアーオーブン中に
て、90℃で2時間、110℃で8時間、120℃で2
時間加熱して重合させ。
℃の温水中で10時間加熱した後、エアーオーブン中に
て、90℃で2時間、110℃で8時間、120℃で2
時間加熱して重合させ。
200乱×200mm×30]Inの透明なキャスト板
を得た。このキャスト板を用いて、屈折率(η′Di)
を25℃にて、アツベ屈折計で測定した。この結果及び
参考例1で得られた直鎖状芳香族ポリカーボネートとの
屈折率の差(絶対値)を表1に示す。
を得た。このキャスト板を用いて、屈折率(η′Di)
を25℃にて、アツベ屈折計で測定した。この結果及び
参考例1で得られた直鎖状芳香族ポリカーボネートとの
屈折率の差(絶対値)を表1に示す。
以下、t;白
表1 組成および屈折率
実施例1
三方活栓を備えた100OCC三角フラスコにモノマー
としてスチレン94重量部、メタクリル酸メチル6重量
部と開始剤としてベンゾイックパーオキサイド1.2重
量部を共に加え混合・溶解しモノマー液を作成し、フラ
スコ内を窒素ガスで約1時間置換する。また、窒素ガス
を流した51フラスコ内で参考例1で合成したポリカー
ボネート300重量部を強力なかくはん機で攪拌してお
く。
としてスチレン94重量部、メタクリル酸メチル6重量
部と開始剤としてベンゾイックパーオキサイド1.2重
量部を共に加え混合・溶解しモノマー液を作成し、フラ
スコ内を窒素ガスで約1時間置換する。また、窒素ガス
を流した51フラスコ内で参考例1で合成したポリカー
ボネート300重量部を強力なかくはん機で攪拌してお
く。
このフラスコ内へ上記三角フラスコからモノマー液を1
分間に4 CCずつスプレー状に滴下させる。
分間に4 CCずつスプレー状に滴下させる。
スプレー滴下は約150分で終了するが、その後攪拌し
た状態で約10時間放置する。放置後純水28009を
注ぎ85℃まで昇温し重合を開始し。
た状態で約10時間放置する。放置後純水28009を
注ぎ85℃まで昇温し重合を開始し。
85℃で6時間98℃で3時間重合を行なった。
この時の樹脂内部の残存モノマーは0.1重量%以下で
あった。
あった。
このようにして得られた樹脂は脱水・乾燥後射出成型を
行ない、以下の特性を測定した。
行ない、以下の特性を測定した。
を行なった。
熱変形温度はASTM−D−648−56,アイゾツト
衝撃値はASTM−D−256に従い、またメルトイン
デックスはASTM−D−1238試験法。
衝撃値はASTM−D−256に従い、またメルトイン
デックスはASTM−D−1238試験法。
230℃、3.8に9の条件で、複屈折は5インチディ
スク板を成形して測定を行なった。
スク板を成形して測定を行なった。
比較例1
攪拌機およびコンデンサを備えた5!!セパラブルフラ
スコに分散剤として塩基性リン酸カルシウム10重量%
水懸濁剤42g、ドデシルベンゼンスルフオン酸ナトリ
ウム0.0049および純水を24009共に加え、攪
拌・混合し懸濁媒体とした。これに下記組成物を加え、
攪拌回転数24Orpm、窒素雰囲気下にて85℃で6
時間、続いて98℃で3時間重合させた。
スコに分散剤として塩基性リン酸カルシウム10重量%
水懸濁剤42g、ドデシルベンゼンスルフオン酸ナトリ
ウム0.0049および純水を24009共に加え、攪
拌・混合し懸濁媒体とした。これに下記組成物を加え、
攪拌回転数24Orpm、窒素雰囲気下にて85℃で6
時間、続いて98℃で3時間重合させた。
生成重合体粒子を酸洗・水洗・脱水・乾燥した。
君ちれfr*介億100重量部と参考例1で得られたポ
リカーボネート300重量部混ぜ、押し出し機により2
40〜280℃で溶融混練を3回行なった後、射出成型
を行なったが2層状はく離を生じ成型物は得られなかっ
た。
リカーボネート300重量部混ぜ、押し出し機により2
40〜280℃で溶融混練を3回行なった後、射出成型
を行なったが2層状はく離を生じ成型物は得られなかっ
た。
比較例2
参考例1で得たポリカーボネート単独を射出成型し実施
例1と同様に各特性を測定した。
例1と同様に各特性を測定した。
比較例3
比較例1と同様にして得られたスチレン系樹脂100重
量部とポリカーボネート300重l・部およびジオクチ
ルフタレート20重量部を混合し。
量部とポリカーボネート300重l・部およびジオクチ
ルフタレート20重量部を混合し。
押し出し機にて220〜260℃の温度で溶融混線を3
回行なった後、射出成型を行なった。これを実施例1と
同様に各特性を測定した。
回行なった後、射出成型を行なった。これを実施例1と
同様に各特性を測定した。
実施例2
攪拌機を備えた21セパラブルフラスコに分散剤として
5.0重1i%ポリビニルアルコール水溶液24攪拌回
転数72 Orpmで強烈に攪拌し分散液を準備した。
5.0重1i%ポリビニルアルコール水溶液24攪拌回
転数72 Orpmで強烈に攪拌し分散液を準備した。
続いて攪拌機およびコンデンサーを備えた151ステン
レス製セパラブルフラスコに分散剤としてポリビニルア
ルコール5重量%水溶液20重量部と純水2400重景
部金集に加え2m、拌・混合して分散媒体とした。これ
に参考例1で得られたポリカーボネー)1200重量部
を加え、続いて下記組成物を加え攪拌回転数54 Or
pmとし、窒素雰囲気下で下記組成物のモノマーのポリ
カーボネートへの含浸を90℃3時間行なった。この時
の水溶液のモノマー濃度は0.02重]“チ以下となり
、はとんどのモノマーがポリカーボネートへ含先に準備
した分散液を60℃で注入し、4時間ポリカーボネート
への含浸を行なった。
レス製セパラブルフラスコに分散剤としてポリビニルア
ルコール5重量%水溶液20重量部と純水2400重景
部金集に加え2m、拌・混合して分散媒体とした。これ
に参考例1で得られたポリカーボネー)1200重量部
を加え、続いて下記組成物を加え攪拌回転数54 Or
pmとし、窒素雰囲気下で下記組成物のモノマーのポリ
カーボネートへの含浸を90℃3時間行なった。この時
の水溶液のモノマー濃度は0.02重]“チ以下となり
、はとんどのモノマーがポリカーボネートへ含先に準備
した分散液を60℃で注入し、4時間ポリカーボネート
への含浸を行なった。
その後、85℃で6時間、続いて98℃で3時間重合さ
せた。生産重合体は水洗・脱水・乾燥後。
せた。生産重合体は水洗・脱水・乾燥後。
射出成型を行ない実施例1と同様、各特性を測定した。
て行なった。
また、各特性結果は表2に示した。
なお実施例1〜2及び比較例2〜3の組成も表2に各特
性も表3にあわせて示した。
性も表3にあわせて示した。
以上の例かられかるように、ポリカーボネートと他の樹
脂を単にブレンドしたのみでは相溶性が悪いため層状剥
離を生じ、満足に成形品を得ることはできない。
脂を単にブレンドしたのみでは相溶性が悪いため層状剥
離を生じ、満足に成形品を得ることはできない。
ま九、相溶剤を用いて相溶させるためには、相溶剤が4
〜5部以上必要となシ、そのため耐熱性が著しく低下す
る。
〜5部以上必要となシ、そのため耐熱性が著しく低下す
る。
本発明に係る光学用樹脂材料はポリカーボネート中に不
飽和化合物の重合体が均一に混合されているため9層状
剥離を生ぜず、上記のように相溶剤を用いた時のような
著しい耐熱性の低下もなく。
飽和化合物の重合体が均一に混合されているため9層状
剥離を生ぜず、上記のように相溶剤を用いた時のような
著しい耐熱性の低下もなく。
流動性を大幅に改善できる。
応用例
実施例5で得られた光学用樹脂材料を樹脂温度290℃
で射出成形し、120mmφで厚さ1.2 manのデ
ィスク盤用の透明基板を得た。この基板の片面にアルミ
ニウムを蒸着し、さらにその上に保護膜を被覆した。−
このようにして得られたディスク盤を40℃で湿度10
01几Hの雰囲気に72hr放置した。この後、ディス
ク盤の中心部のそり(吸湿歪)および複屈折を測定した
。その結果吸湿歪は0.2 nun以下、複屈折は20
〜40nm/l1111mとなった。これは低分子!(
重量平均分子量15.000〜1aO001のポリカー
ボネートを射出成型して得られるディスク基盤の複屈折
性30〜80nm/mu+よりも小さく、良好なもので
あった。また、成型面の平滑性も低分子量ポリカーボネ
ートよりも優れていた。
で射出成形し、120mmφで厚さ1.2 manのデ
ィスク盤用の透明基板を得た。この基板の片面にアルミ
ニウムを蒸着し、さらにその上に保護膜を被覆した。−
このようにして得られたディスク盤を40℃で湿度10
01几Hの雰囲気に72hr放置した。この後、ディス
ク盤の中心部のそり(吸湿歪)および複屈折を測定した
。その結果吸湿歪は0.2 nun以下、複屈折は20
〜40nm/l1111mとなった。これは低分子!(
重量平均分子量15.000〜1aO001のポリカー
ボネートを射出成型して得られるディスク基盤の複屈折
性30〜80nm/mu+よりも小さく、良好なもので
あった。また、成型面の平滑性も低分子量ポリカーボネ
ートよりも優れていた。
(発明の効果)
本発明に係る光学用樹脂材料は、光学的特性。
耐熱性9強度、耐吸湿性及び流動性に優れ、光デイスク
基盤等の光学用素子で問題となっている複屈折性を減少
化できる。
基盤等の光学用素子で問題となっている複屈折性を減少
化できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、直鎖芳香族ポリカーボネート90〜50重量%及び
該直鎖状ポリカーボネートとの屈折率の差が絶対値で0
.01以内であつて芳香族ビニル化合物を必須成分とす
る不飽和化合物の重合体10〜50重量%を含有してな
り、該重合体が該直鎖芳香族ポリカーボネートの存在下
に芳香族ビニル化合物を必須成分とする不飽和化合物を
重合させて得られるものである光学用樹脂材料。 2、重合体が直鎖芳香族ポリカーボネートに芳香族ビニ
ル化合物を必須成分とする不飽和化合物を含浸させて重
合して得られるものである特許請求の範囲第1項記載の
光学用樹脂材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27828585A JPS62138514A (ja) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | 光学用樹脂材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27828585A JPS62138514A (ja) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | 光学用樹脂材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62138514A true JPS62138514A (ja) | 1987-06-22 |
Family
ID=17595214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27828585A Pending JPS62138514A (ja) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | 光学用樹脂材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62138514A (ja) |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6445453A (en) * | 1987-08-13 | 1989-02-17 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Optical molding material |
JPH026514A (ja) * | 1988-06-24 | 1990-01-10 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 熱可塑性グラフト共重合体の製造方法 |
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US6852798B1 (en) | 2000-08-14 | 2005-02-08 | Mistubishi Rayon Co., Ltd. | Polycarbonate-based thermoplastic resin composition and process for producing the same |
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JP2006249290A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Teijin Chem Ltd | 帯電防止性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 |
JP2006249292A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート樹脂組成物 |
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US8729205B2 (en) | 2003-09-30 | 2014-05-20 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Flowability improver for engineering plastics, thermoplastic resin compositions containing the same and molded articles of the compositions |
JP2021066880A (ja) * | 2019-10-23 | 2021-04-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 硬化用樹脂組成物 |
-
1985
- 1985-12-11 JP JP27828585A patent/JPS62138514A/ja active Pending
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