JPS62133478A - アクテイブマトリツクス形表示装置 - Google Patents
アクテイブマトリツクス形表示装置Info
- Publication number
- JPS62133478A JPS62133478A JP60274011A JP27401185A JPS62133478A JP S62133478 A JPS62133478 A JP S62133478A JP 60274011 A JP60274011 A JP 60274011A JP 27401185 A JP27401185 A JP 27401185A JP S62133478 A JPS62133478 A JP S62133478A
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- Japan
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- display device
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
スキャンバスライン、データバスライン、表示電極、ス
イッチング素子などが、二枚のガラス基板上にパターン
形成されており、その間に表示媒体を保持する表示装置
において、スキャンバスラインとデータバスラインとを
別個のガラ、ス基板上に設けることより製造歩留りと駆
動面積率を向上した表示装置。
イッチング素子などが、二枚のガラス基板上にパターン
形成されており、その間に表示媒体を保持する表示装置
において、スキャンバスラインとデータバスラインとを
別個のガラ、ス基板上に設けることより製造歩留りと駆
動面積率を向上した表示装置。
本発明はデータ入力用のパスラインとラインアドレス用
のスキャンバスラインとを対向する二枚のガラス基板に
別々に設けた構造をとるアクティブマトリックス形表示
装置に関する。
のスキャンバスラインとを対向する二枚のガラス基板に
別々に設けた構造をとるアクティブマトリックス形表示
装置に関する。
アクティブマトリックス形表示装置は単純マド。リック
ス形表示装置と共に情報処理装置の端末として使用され
ており、表示媒体としては液晶が使用されている。
ス形表示装置と共に情報処理装置の端末として使用され
ており、表示媒体としては液晶が使用されている。
ここで両者の特性を比較するとアクティブマトリックス
形は多数ある画素をそれぞれ独立に駆動させることがで
き、そのため表示容量の増大に伴ってライン数が増加し
ても単純マトリックスのように駆動のデユーティ比が低
下し、コントラストの低下や視野角の減少をきたすなど
の問題が生じない。
形は多数ある画素をそれぞれ独立に駆動させることがで
き、そのため表示容量の増大に伴ってライン数が増加し
ても単純マトリックスのように駆動のデユーティ比が低
下し、コントラストの低下や視野角の減少をきたすなど
の問題が生じない。
然し、各画素ごとにスイッチング素子を備えるためにコ
ストが高くなり易く、また総てのスイッチング素子が良
品でなければならぬことから製造歩留りに問題があり、
パネルの大きさがこの点から製材されると云う問題があ
る。
ストが高くなり易く、また総てのスイッチング素子が良
品でなければならぬことから製造歩留りに問題があり、
パネルの大きさがこの点から製材されると云う問題があ
る。
本発明はか\るアクティブマトリックス形表示装置につ
いて製造歩留りを向上する回路構成に関するものである
。
いて製造歩留りを向上する回路構成に関するものである
。
第2図はアクティブマトリックス形表示装置を構成する
パネルについて従来の等価回路を示すもので、各画素1
ごとにスイッチング素子(薄膜トランジスタ以下略して
TPT) 2が設けられており、その一端は画素1を構
成する液晶素子3に回路接続されている。
パネルについて従来の等価回路を示すもので、各画素1
ごとにスイッチング素子(薄膜トランジスタ以下略して
TPT) 2が設けられており、その一端は画素1を構
成する液晶素子3に回路接続されている。
すなわち、スキャンバスライン4とデータバスライン5
とは直角に交叉するように同一基板上に形成されており
、スキャンバスライン4は各画素1のTNT 2のゲー
ト電極6に、またデータバスライン5は各TFT 2の
ドレイン電極7に回路接続されている。
とは直角に交叉するように同一基板上に形成されており
、スキャンバスライン4は各画素1のTNT 2のゲー
ト電極6に、またデータバスライン5は各TFT 2の
ドレイン電極7に回路接続されている。
またTI?T 2のソース電極8は液晶素子3の表示電
極に回路接続されており、表示電極に対向する透明電極
は共通に接続されて接地されている。
極に回路接続されており、表示電極に対向する透明電極
は共通に接続されて接地されている。
か\る従来のパネルの駆動方法としてはパネルに多数設
けられているスキャンバスライン4をパルス幅が30〜
60μSeCの短いパルスで順次ラインアドレスを行っ
ている状態で、データバスライン5より信号パルスを加
え、アドレスパルスに同期した表示信号を各液晶セルに
印加することによって液晶表示が行われている。
けられているスキャンバスライン4をパルス幅が30〜
60μSeCの短いパルスで順次ラインアドレスを行っ
ている状態で、データバスライン5より信号パルスを加
え、アドレスパルスに同期した表示信号を各液晶セルに
印加することによって液晶表示が行われている。
すなわちTFT 2がONとなることにより液晶素子3
の表示電極と透明電極との間に充電が行われ、これによ
り生じた電位差により液晶素子3はON状態となり、T
FT 2がOFFになった後も、充電電荷がそのまま維
持されるために液晶素子3はON状態が続き、次に再び
ラインアドレスされてTFT 2がONになった際にリ
フレッシュが行われる。
の表示電極と透明電極との間に充電が行われ、これによ
り生じた電位差により液晶素子3はON状態となり、T
FT 2がOFFになった後も、充電電荷がそのまま維
持されるために液晶素子3はON状態が続き、次に再び
ラインアドレスされてTFT 2がONになった際にリ
フレッシュが行われる。
このようにして液晶表示が行われているが、スキャンバ
スライン4とデータバスライン5は同一のガラス基板上
に形成されており、互いに交叉する構造となっているた
めに製造に当たってどちらかのパスラインに断線の発生
する確率が高く、また両者の間に短絡或いは絶縁不良が
起こり易く、更に表示電極面積の画素面積に対する比率
を表す駆動面積率が高くとれないことなどが問題となっ
ている。
スライン4とデータバスライン5は同一のガラス基板上
に形成されており、互いに交叉する構造となっているた
めに製造に当たってどちらかのパスラインに断線の発生
する確率が高く、また両者の間に短絡或いは絶縁不良が
起こり易く、更に表示電極面積の画素面積に対する比率
を表す駆動面積率が高くとれないことなどが問題となっ
ている。
以上記したように表示装置においてマトリックス状に形
成されているスキャンバスラインとデータバスラインが
同一のガラス基板上に形成されているためにどちらかの
パスラインに断線が発生する確率が高く、また交叉位置
で絶縁不良が発生し易く、更に二種類のパスラインがパ
ターン形成されているために駆動面積率が高くできない
ことが問題である。
成されているスキャンバスラインとデータバスラインが
同一のガラス基板上に形成されているためにどちらかの
パスラインに断線が発生する確率が高く、また交叉位置
で絶縁不良が発生し易く、更に二種類のパスラインがパ
ターン形成されているために駆動面積率が高くできない
ことが問題である。
上記の問題は第1のガラス基板上にスキャンバスライン
と画素の表示電極に繋がるスイッチング素子と接地パス
ラインとがあり、ストライプ状の透明導電膜からなるデ
ータバスラインを備えた第2のガラス基板とにより表示
媒体が挟持される構造をとることを特徴とするアクティ
ブマトリックス形表示装置により解決することができる
。
と画素の表示電極に繋がるスイッチング素子と接地パス
ラインとがあり、ストライプ状の透明導電膜からなるデ
ータバスラインを備えた第2のガラス基板とにより表示
媒体が挟持される構造をとることを特徴とするアクティ
ブマトリックス形表示装置により解決することができる
。
本発明は画素を構成するTFT 2と液晶素子3の配列
を変えることにより、スキャンバスライン4とデータバ
スライン5とを別々の基板上にパターン形成するように
したものである。
を変えることにより、スキャンバスライン4とデータバ
スライン5とを別々の基板上にパターン形成するように
したものである。
すなわち、本発明は第1図に等価回路を、また第3図に
斜視図を示すように、スキャンバスライン4が形成され
る第1のガラス基板上にTFT 2と液晶素子3の表示
電極lOを設けると共にTPT 2のソース電極8に繋
がる共通接地9を接地パスライン11として形成してい
る。
斜視図を示すように、スキャンバスライン4が形成され
る第1のガラス基板上にTFT 2と液晶素子3の表示
電極lOを設けると共にTPT 2のソース電極8に繋
がる共通接地9を接地パスライン11として形成してい
る。
また、対向する第2のガラス基板にはストライプ状の透
明電極12をパターン形成し、データバスライン5に回
路接続する構成をとる。
明電極12をパターン形成し、データバスライン5に回
路接続する構成をとる。
このようにするとスキャンバスライン4とデータバスラ
イン5とは別のガラス基板上に形成されるので絶縁不良
や短絡のような不良発生は無くなり、また駆動面積率を
向上させることができ、更にそれぞれのパスラインにつ
いて断線検査を行い断線のない基板だけを組み合わせる
ことにより製造歩留りを向上させることができる。
イン5とは別のガラス基板上に形成されるので絶縁不良
や短絡のような不良発生は無くなり、また駆動面積率を
向上させることができ、更にそれぞれのパスラインにつ
いて断線検査を行い断線のない基板だけを組み合わせる
ことにより製造歩留りを向上させることができる。
一方、本発明に係るパネルにおいては接地パスライン1
1を設ける必要があり、この際に場合によっては接地パ
スライン11とスキャンバスライン4との交叉が生じる
。
1を設ける必要があり、この際に場合によっては接地パ
スライン11とスキャンバスライン4との交叉が生じる
。
第4図はかかる場合の接地パスライン11を模式的に示
すもので、共通端子13から取ら出される構成をとる。
すもので、共通端子13から取ら出される構成をとる。
ここで接地パスライン11は各画素1を形成するTPT
2のゲート電極6に回路接続するスキャンバスライン
4と交叉するが、この交叉個所は従来構造においてスキ
ャンバスライン4とデータバスライン5の交叉数と較べ
ると蟲かに少なく、また板金短絡あるいは絶縁不良が発
生してもその個所の接地パスライン11を不良個所の前
後で切断し、隔離することにより修復することができる
。
2のゲート電極6に回路接続するスキャンバスライン
4と交叉するが、この交叉個所は従来構造においてスキ
ャンバスライン4とデータバスライン5の交叉数と較べ
ると蟲かに少なく、また板金短絡あるいは絶縁不良が発
生してもその個所の接地パスライン11を不良個所の前
後で切断し、隔離することにより修復することができる
。
また接地パスライン11とスキャンバスライン4とを交
叉することなく形成するには第5図に示すようにスキャ
ンバスライン4を迂回して蛇行状に形成すればよい。
叉することなく形成するには第5図に示すようにスキャ
ンバスライン4を迂回して蛇行状に形成すればよい。
更に付は加えれば、スイッチング素子を形成する基板と
してシリコンウェハ等の半導体基板を用いる場合には基
板自体を接地用電極として用いることができるため接地
パスライン11を設ける必要はない。
してシリコンウェハ等の半導体基板を用いる場合には基
板自体を接地用電極として用いることができるため接地
パスライン11を設ける必要はない。
次に第7図は本発明に係る駆動回路の波形図であって、
第1図の等価回路に対応している。
第1図の等価回路に対応している。
すなわち共通接地9を繋ぐ接地パスライン11の電位は
0■に保たれており、一方データパスライン5にはアド
レスのタイミングで+Vaと−Vaのデータ電圧Vda
taが極性を交互に変えて印加される。
0■に保たれており、一方データパスライン5にはアド
レスのタイミングで+Vaと−Vaのデータ電圧Vda
taが極性を交互に変えて印加される。
またスキャンバスラインには負のデータ時にもOFF状
態が保たれるように非アドレス時にはVg−の負電圧に
保たれ、アドレス時にはVg+が印加される。
態が保たれるように非アドレス時にはVg−の負電圧に
保たれ、アドレス時にはVg+が印加される。
ここで電圧V padは表示電極10に掛かる電圧を示
すもので、アドレス時にはON状態のTFT 2を通っ
て充放電が行われてOvに戻るが、スキャンバスライン
4の電位がVg−となりTPT 2がOFF状態となっ
た後、データバスライン5の電位が+VaからOに変化
し、これと共に液晶素子3の容量を介してデータバスラ
イン5と結合しているVpadはOvから−Vaに変化
し、次のアドレス時までこのまま維持され、次のアドレ
ス時に+Vaに変化する。
すもので、アドレス時にはON状態のTFT 2を通っ
て充放電が行われてOvに戻るが、スキャンバスライン
4の電位がVg−となりTPT 2がOFF状態となっ
た後、データバスライン5の電位が+VaからOに変化
し、これと共に液晶素子3の容量を介してデータバスラ
イン5と結合しているVpadはOvから−Vaに変化
し、次のアドレス時までこのまま維持され、次のアドレ
ス時に+Vaに変化する。
一方、VLcは液晶素子3に掛かる電圧であってVda
ta −Vpadの値であり、同図(E)に示すように
+Va、−Vaと変化して液晶表示が行われる。
ta −Vpadの値であり、同図(E)に示すように
+Va、−Vaと変化して液晶表示が行われる。
本発明の従来の構成と異なるところは第3図と第4図に
示すようにデータバスライン5が透明電極12と共に第
2のガラス基板上に設けられること\、スキャンバスラ
イン4. TPT 2および表示電極10が設けられて
いる第1のガラス基板上に新たに接地パスライン11を
設ける点である。
示すようにデータバスライン5が透明電極12と共に第
2のガラス基板上に設けられること\、スキャンバスラ
イン4. TPT 2および表示電極10が設けられて
いる第1のガラス基板上に新たに接地パスライン11を
設ける点である。
それ故に大部分の工程は従来と違はない。
ただ、スキャンバスライン4と接地パスラインとの交叉
が新たに生ずる場合がある。
が新たに生ずる場合がある。
そこで、交叉位置での絶縁法と絶縁不良あるいは短絡が
生じた場合の対策について実施例を示すと次のようにな
る。
生じた場合の対策について実施例を示すと次のようにな
る。
第4図に示す画素1の大きさを200μm角にとり、そ
の間に幅20μmの接地パスライン11を這わせて共通
端子12より外部に取りだす。
の間に幅20μmの接地パスライン11を這わせて共通
端子12より外部に取りだす。
ここでスキャンバスライン4とは複数個所(この図の場
合は6個所)で交叉している。
合は6個所)で交叉している。
この絶縁は第1のガラス基板上に形成されるTFT2の
形成と同時に行われる。
形成と同時に行われる。
第8図はスキャンバスライン4と交叉する接地パスライ
ン11の形成法を示す断面図である。
ン11の形成法を示す断面図である。
すなわちクローム(Cr)よりなるスキャンバスライン
4の上に化学気相成長法(CVD法)により窒化シリコ
ン(Si3Nm)層14を約3000人の厚さに形成し
て絶縁し、この上に同様にCVD法によりアモルファス
シリコン(略してa −5i)層15を約1000人の
厚さに形成した後、導体層としてn”a−5i層16と
11層17を形成し、これを写真食刻法によりパターン
形成して接地パスライン11がパターン形成される。
4の上に化学気相成長法(CVD法)により窒化シリコ
ン(Si3Nm)層14を約3000人の厚さに形成し
て絶縁し、この上に同様にCVD法によりアモルファス
シリコン(略してa −5i)層15を約1000人の
厚さに形成した後、導体層としてn”a−5i層16と
11層17を形成し、これを写真食刻法によりパターン
形成して接地パスライン11がパターン形成される。
次に第6図はスキャンバスライン4と接地パスライン1
1との交叉部で短絡或いは絶縁不良が生じた場合の対策
を示すもので、不良個所の前後の接地パスライン11を
破線で示すようにレーザカットなどの方法で切断すれば
よい。
1との交叉部で短絡或いは絶縁不良が生じた場合の対策
を示すもので、不良個所の前後の接地パスライン11を
破線で示すようにレーザカットなどの方法で切断すれば
よい。
このようにして接地パスラインは梯子形に設けられてい
るため、ライン欠陥となることはなく、また近傍のTF
T 2の特性に影響を及ぼすこともない。
るため、ライン欠陥となることはなく、また近傍のTF
T 2の特性に影響を及ぼすこともない。
本発明は従来のパネル構成においてはスキャンバスライ
ン4とデータバスライン5とが同一基板上に交叉して設
けられているために不良発生率が積の形で効き、そのた
め製造歩留りを低下させていたが、本発明の実施により
解消でき、またスキャンバスラインと接地パスラインと
の間に絶縁不良を生じても容易に回復させることができ
る。
ン4とデータバスライン5とが同一基板上に交叉して設
けられているために不良発生率が積の形で効き、そのた
め製造歩留りを低下させていたが、本発明の実施により
解消でき、またスキャンバスラインと接地パスラインと
の間に絶縁不良を生じても容易に回復させることができ
る。
以上のことから本発明の実施により製造歩留りが大幅に
改良され、コスト低減が可能となる。
改良され、コスト低減が可能となる。
第1図は本発明に係るパネルの等価回路、第2図は従来
のパネルの等価回路、 第3図は本発明を適用したパネルの斜視図、第4図は本
発明に係る接地パスラインを示す平面図、 第5図は本発明に係る別の接地パスラインを示す平面図
、 第6図は接地パスラインの不良部切り離しを説明する平
面図、 第7図(A)〜(E)は本発明に係る駆動回路の波形図
、 第8図はスキャンバスラインと交叉する接地パスライン
の形成法を示す断面図、 である。 図において、 lは画素、 2はTPT、3は液晶素子
、 4はスキャンバスライン、 5はデータバスライン、 6はゲート電極、 7はドレイン電極、8はソ
ース電極、 9は共通接地、lOは表示電極、
11は接地パスライン、12は透明電極、 である。
のパネルの等価回路、 第3図は本発明を適用したパネルの斜視図、第4図は本
発明に係る接地パスラインを示す平面図、 第5図は本発明に係る別の接地パスラインを示す平面図
、 第6図は接地パスラインの不良部切り離しを説明する平
面図、 第7図(A)〜(E)は本発明に係る駆動回路の波形図
、 第8図はスキャンバスラインと交叉する接地パスライン
の形成法を示す断面図、 である。 図において、 lは画素、 2はTPT、3は液晶素子
、 4はスキャンバスライン、 5はデータバスライン、 6はゲート電極、 7はドレイン電極、8はソ
ース電極、 9は共通接地、lOは表示電極、
11は接地パスライン、12は透明電極、 である。
Claims (1)
- 複数のスキャンバスラインとデータバスラインとが直角
に交叉して区画される方形の領域に画素のスイッチング
素子と表示電極とがパターン形成されており、対向する
透明電極との間に表示媒体が挟持される構造をとる表示
装置において、第1のガラス基板上にスキャンバスライ
ンと画素の表示電極に繋がるスイッチング素子があり、
ストライプ状の透明導電膜からなるデータバスラインを
備えた第2のガラス基板とにより表示媒体が挟持される
構造をとることを特徴とするアクティブマトリックス形
表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60274011A JPS62133478A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | アクテイブマトリツクス形表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60274011A JPS62133478A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | アクテイブマトリツクス形表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62133478A true JPS62133478A (ja) | 1987-06-16 |
Family
ID=17535710
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60274011A Pending JPS62133478A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | アクテイブマトリツクス形表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62133478A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02135318A (ja) * | 1988-11-16 | 1990-05-24 | Fujitsu Ltd | アクティブマトリクス型表示装置 |
US6115099A (en) * | 1998-06-12 | 2000-09-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
US6208394B1 (en) | 1997-11-27 | 2001-03-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | LCD device and method for fabricating the same having color filters and a resinous insulating black matrix on opposite sides of a counter electrode on the same substrate |
US6288765B1 (en) | 1998-10-01 | 2001-09-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having improved thickness uniformity |
JP2004102151A (ja) * | 2002-09-12 | 2004-04-02 | Sharp Corp | 表示装置 |
US8982024B2 (en) | 2010-03-29 | 2015-03-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
US9035299B2 (en) | 2010-12-01 | 2015-05-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor device and method for producing same |
-
1985
- 1985-12-05 JP JP60274011A patent/JPS62133478A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02135318A (ja) * | 1988-11-16 | 1990-05-24 | Fujitsu Ltd | アクティブマトリクス型表示装置 |
US6208394B1 (en) | 1997-11-27 | 2001-03-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | LCD device and method for fabricating the same having color filters and a resinous insulating black matrix on opposite sides of a counter electrode on the same substrate |
US6392728B2 (en) | 1997-11-27 | 2002-05-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | LCD with color filter substrate with tapering color filter portions overlapped by electrode and black matrix layers |
US6115099A (en) * | 1998-06-12 | 2000-09-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
US6288765B1 (en) | 1998-10-01 | 2001-09-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having improved thickness uniformity |
JP2004102151A (ja) * | 2002-09-12 | 2004-04-02 | Sharp Corp | 表示装置 |
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