JPS6199945A - 光学的情報処理装置 - Google Patents
光学的情報処理装置Info
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- JPS6199945A JPS6199945A JP59219969A JP21996984A JPS6199945A JP S6199945 A JPS6199945 A JP S6199945A JP 59219969 A JP59219969 A JP 59219969A JP 21996984 A JP21996984 A JP 21996984A JP S6199945 A JPS6199945 A JP S6199945A
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- JP
- Japan
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- optical
- optical head
- light
- swing arm
- coefficient
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0908—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for focusing only
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
Landscapes
- Moving Of The Head For Recording And Reproducing By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、集束光を用い情報記憶媒体から少な°(とも
情報を読取るとをが可能な装置であり、例えば、DAD
用のCD(コンAクトディスク)中ビデオディスクのよ
うな再生専用の情報記憶媒体や、画像ファイル・静止画
ファイル・COM(コンビエラターアウトプットメモリ
ー)等に用いられ、集束光によ)記録肩に対し穴を開け
る等の状態変化を起こさせて情報の記録を行ない、また
、そこから再生することができる情報記憶媒体、さらに
消去可能な情報記憶媒体に対し、少なくとも再生または
記録を行なうときに用いられる光学ヘッド、その光学ヘ
ッドを搭載した光学的情報再生装置、もしくは光学的情
報記録・再生装置等の光学的情報処理装置に関する。
情報を読取るとをが可能な装置であり、例えば、DAD
用のCD(コンAクトディスク)中ビデオディスクのよ
うな再生専用の情報記憶媒体や、画像ファイル・静止画
ファイル・COM(コンビエラターアウトプットメモリ
ー)等に用いられ、集束光によ)記録肩に対し穴を開け
る等の状態変化を起こさせて情報の記録を行ない、また
、そこから再生することができる情報記憶媒体、さらに
消去可能な情報記憶媒体に対し、少なくとも再生または
記録を行なうときに用いられる光学ヘッド、その光学ヘ
ッドを搭載した光学的情報再生装置、もしくは光学的情
報記録・再生装置等の光学的情報処理装置に関する。
上記種の装置においては、情報記憶媒体から情報を読取
ったシ、あるいは情報記憶媒体に新たに情報を書き加え
るとき、常に集束光の集光点が情報記憶媒体の記録層も
しくは光反射層の位置と一致していなければならない。
ったシ、あるいは情報記憶媒体に新たに情報を書き加え
るとき、常に集束光の集光点が情報記憶媒体の記録層も
しくは光反射層の位置と一致していなければならない。
そのため、その装置内には自動焦点ぼけ検出機能および
その補正機能を有している。
その補正機能を有している。
ところで、光学ヘッド自体で検出する焦点ぼけ検出方式
として合焦点時情報記憶媒体の記録層もしくは光反射層
に対する結像位置あるいはその近傍に光検出器を置き、
焦点がぼけるととKよシスポットの中央が光検出器上で
移動する方法が何種類か存在している。この方法の場合
、合焦点時の光検出器上のスポットサイズが非常に小さ
いので、わずかな光軸ずれが生じても光検出器上でスポ
ットが移動してしまい、あたかも焦点がぼけたものと誤
検出してしまう。そのため、これらの方法を焦点ぼけ検
出に用いた光学ヘッドは外部環境の変化(温度変化、湿
度変化、機械的な振動や衝撃等)にょ)光軸がずれ焦点
がぼけ易い欠点を有する。特に、温度変化に対しては敏
感に影響を受は易い。
として合焦点時情報記憶媒体の記録層もしくは光反射層
に対する結像位置あるいはその近傍に光検出器を置き、
焦点がぼけるととKよシスポットの中央が光検出器上で
移動する方法が何種類か存在している。この方法の場合
、合焦点時の光検出器上のスポットサイズが非常に小さ
いので、わずかな光軸ずれが生じても光検出器上でスポ
ットが移動してしまい、あたかも焦点がぼけたものと誤
検出してしまう。そのため、これらの方法を焦点ぼけ検
出に用いた光学ヘッドは外部環境の変化(温度変化、湿
度変化、機械的な振動や衝撃等)にょ)光軸がずれ焦点
がぼけ易い欠点を有する。特に、温度変化に対しては敏
感に影響を受は易い。
本発明は上記事情にもとづいてなされたもので、その目
的とするところは、温度変化に対して光軸がずれ難く、
安定して焦点ぼけ検出を行なうことができるようにした
光学的情報処理装置を提供することにある。
的とするところは、温度変化に対して光軸がずれ難く、
安定して焦点ぼけ検出を行なうことができるようにした
光学的情報処理装置を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために、光学ヘッドと支
持台との接触部分を至る断熱膨張率の違いKよシ生ずる
熱歪量の差に対しスライド可能としたことを特徴とする
ものである。
持台との接触部分を至る断熱膨張率の違いKよシ生ずる
熱歪量の差に対しスライド可能としたことを特徴とする
ものである。
以下、本発明の一実施例を第1図〜第6図を参照しなが
ら説明する。第2図は本発明に係る ゛光学的情報処理
装置としての情報記録再生装置を概略的に示すもので、
この図中1は光ディスク(情報記憶媒体)である。この
光ディスク1は、一対の円板状透明グレート2.3を内
外スペーサ4,5を介して貼シ合せて形成され、その透
明グレート2,3のそれぞれの内面上には情報記録層と
しての光反射層6,7が蒸着によって形成されている。
ら説明する。第2図は本発明に係る ゛光学的情報処理
装置としての情報記録再生装置を概略的に示すもので、
この図中1は光ディスク(情報記憶媒体)である。この
光ディスク1は、一対の円板状透明グレート2.3を内
外スペーサ4,5を介して貼シ合せて形成され、その透
明グレート2,3のそれぞれの内面上には情報記録層と
しての光反射層6,7が蒸着によって形成されている。
この光反射層6,1のそれぞれには、ヘリカルにトップ
中ングガイド8(第3図参照)が形成され、このトラッ
キングガイド8上にピットの形で情報が記録される。
中ングガイド8(第3図参照)が形成され、このトラッ
キングガイド8上にピットの形で情報が記録される。
また、光ディスク1の中心には孔が穿けられ、ターンテ
ーブル9上に光ディスク1が載置された際に、このター
ンテーブル9のセンタースピンドル10が光ディスク1
の孔に挿入され、ターンテーブル9と光ディスク1の回
転中心が一致される。ターンテーブル9のセンタースピ
ンドル10には、さらにチャック装置11が装着され、
このチャック装置11によって光ディスク1がターンテ
ーブル9上に固定される。ターンテーブル9は、回転可
能に支持台(図示しない)によって支持され、駆動モー
タ12によって一定速度で回転される。
ーブル9上に光ディスク1が載置された際に、このター
ンテーブル9のセンタースピンドル10が光ディスク1
の孔に挿入され、ターンテーブル9と光ディスク1の回
転中心が一致される。ターンテーブル9のセンタースピ
ンドル10には、さらにチャック装置11が装着され、
このチャック装置11によって光ディスク1がターンテ
ーブル9上に固定される。ターンテーブル9は、回転可
能に支持台(図示しない)によって支持され、駆動モー
タ12によって一定速度で回転される。
また、13は後述するスウィングアームJ17Jによっ
て光デイスク10半径方向に移動可能に設けられた光学
ヘッドでアシ、この光学ヘッド13内にはレーザービー
ムLを発生する半導体レーデ−(光源)15が設けられ
ている。そして、情報を光ディスク1に書き込むに際し
ては、書き込むべき情報に応じてその光強度が変調され
たレーデ−ビームLが半導体レーデ−15から発生され
、情報を光ディスク1から読み出す際には、一定の光強
度を有するレーザービームLが半導体レーデ−15から
発生される。半導体レーデ−15から発生された発散性
のレーデ−ビームLは、コリメーターレンズ16により
て平行光束に変換され、偏向ビームスプリッタ11に向
けられる。偏向ビームスプリッタ11を通過した平行レ
ーザービームLは、174波長板18および後述するミ
2−1o2を順次通過して対物レンズ19に入射され、
この対物レンズ19によって光ディスク1の光反射層7
に向けて集束される。対物レンズ19は、ディスコイル
20によりてその光軸方向に移動可能に支持され、対物
レンズ19が所定位置に位置されると、この対物レンズ
19から発せられた集束性レーデ−ビームLのビームウ
ェストが光反射層70表面上に投射され、最小ビームス
イツトが光反射層10表面上に形成される。この状態に
おいて、対物レンズ19は合焦点状態に保たれ、情報の
書き込みおよび読み出しが可能となる。そして、情報を
書き込む際には、光強度変調すれたレーデ−ビームI、
によりて光反射[7上のトラッキングガイド8にビット
だ形成され、情報を読み出す際には、一定の光強度を有
するレーデ−ビームLが、トラッキングガイド8に形成
された♂ラドによりて光強度変調されて反射される。
て光デイスク10半径方向に移動可能に設けられた光学
ヘッドでアシ、この光学ヘッド13内にはレーザービー
ムLを発生する半導体レーデ−(光源)15が設けられ
ている。そして、情報を光ディスク1に書き込むに際し
ては、書き込むべき情報に応じてその光強度が変調され
たレーデ−ビームLが半導体レーデ−15から発生され
、情報を光ディスク1から読み出す際には、一定の光強
度を有するレーザービームLが半導体レーデ−15から
発生される。半導体レーデ−15から発生された発散性
のレーデ−ビームLは、コリメーターレンズ16により
て平行光束に変換され、偏向ビームスプリッタ11に向
けられる。偏向ビームスプリッタ11を通過した平行レ
ーザービームLは、174波長板18および後述するミ
2−1o2を順次通過して対物レンズ19に入射され、
この対物レンズ19によって光ディスク1の光反射層7
に向けて集束される。対物レンズ19は、ディスコイル
20によりてその光軸方向に移動可能に支持され、対物
レンズ19が所定位置に位置されると、この対物レンズ
19から発せられた集束性レーデ−ビームLのビームウ
ェストが光反射層70表面上に投射され、最小ビームス
イツトが光反射層10表面上に形成される。この状態に
おいて、対物レンズ19は合焦点状態に保たれ、情報の
書き込みおよび読み出しが可能となる。そして、情報を
書き込む際には、光強度変調すれたレーデ−ビームI、
によりて光反射[7上のトラッキングガイド8にビット
だ形成され、情報を読み出す際には、一定の光強度を有
するレーデ−ビームLが、トラッキングガイド8に形成
された♂ラドによりて光強度変調されて反射される。
光ディスク1の光反射層1から反射された発散性のレー
デ−ビームL a 、合焦点時には対物レンズJjKよ
りて平行光束に変換され、再びミラー102およびV4
波長板18を順次通過して偏向ビームスグリツタ17に
戻される。レーデ−げ−ムLが1/4波長板18を往復
することによってレーザービームLは、偏向ビームスプ
リッタ17を通過した際に比べて偏波面が90度回転し
、この90度だけ偏波面が回転したレーデ−ビームしは
、偏向ビームスグリツタ11を通過せず、この偏向ビー
ムスプリッタ1rで反射されることとなる。偏向ビーム
スプリッタ12で反射したレーザービームLdハーフミ
?−21によりて2系統に分けられ、その一方は、凸レ
ンズ22によって第1の光検出器23に照射される。こ
の第1の光検出器23で検出畜れた第1の信号は、光デ
ィスク1に記録された情報を含み、信号処理装置j41
c送られてデシタルデータに変換される。ハーフミラ−
21によりて分けられた他方のレーデ−ビームLは、遮
光板(光抜出部材)25によりて光軸Sノから離間した
領域を通過する成分のみが取 パ・出され、投射レンズ
26を通過した抜落2の光検出器27に入射される。第
2の光検出器27で検出された信号はs 7 を−カス
信号発生器28で処理され、この7を一カス信号が?イ
スコイル駆動回路29に与えられる。ゲイスコイル駆動
回路29は、フす−カス信号に応じて?イスコイル20
を駆動し、対物レンズ19を合焦点状態に維持する。
デ−ビームL a 、合焦点時には対物レンズJjKよ
りて平行光束に変換され、再びミラー102およびV4
波長板18を順次通過して偏向ビームスグリツタ17に
戻される。レーデ−げ−ムLが1/4波長板18を往復
することによってレーザービームLは、偏向ビームスプ
リッタ17を通過した際に比べて偏波面が90度回転し
、この90度だけ偏波面が回転したレーデ−ビームしは
、偏向ビームスグリツタ11を通過せず、この偏向ビー
ムスプリッタ1rで反射されることとなる。偏向ビーム
スプリッタ12で反射したレーザービームLdハーフミ
?−21によりて2系統に分けられ、その一方は、凸レ
ンズ22によって第1の光検出器23に照射される。こ
の第1の光検出器23で検出畜れた第1の信号は、光デ
ィスク1に記録された情報を含み、信号処理装置j41
c送られてデシタルデータに変換される。ハーフミラ−
21によりて分けられた他方のレーデ−ビームLは、遮
光板(光抜出部材)25によりて光軸Sノから離間した
領域を通過する成分のみが取 パ・出され、投射レンズ
26を通過した抜落2の光検出器27に入射される。第
2の光検出器27で検出された信号はs 7 を−カス
信号発生器28で処理され、この7を一カス信号が?イ
スコイル駆動回路29に与えられる。ゲイスコイル駆動
回路29は、フす−カス信号に応じて?イスコイル20
を駆動し、対物レンズ19を合焦点状態に維持する。
次に1第2図に示した合焦点を検出するための光学系は
、単純化して示すと、第3図のようになル、合焦点検出
に関するレーザービームLの軌跡は、第4図(ハ)、(
ロ)、Cつに示すように描かれる。対物レンズ19が合
焦点状態にある際には、光反射層i上にビームウェスト
が投射され、最小ビームスポット、すなわちビームウェ
ストス4ツト30が光反射層2上に形成される。通常、
半導体レーザー15かも対物レンズ19に入射されるレ
ーデ−ビームLは平行光束であるから、ビームウェスト
は対物レンズ19の焦点上に形成される。しかしながら
1.対物レンズ19に半導体レーザー15から入射され
るレーザービームLがわずかに発散域あるいは収束して
いる場合には、ビームウェスト紘対物レンズ19の焦点
近傍に形成される。ここで、光検出器27の受光面は合
焦点状態においてそのビームウェストスポット30の結
像面に配置されている(なお、結像面近傍に配置しても
よい。)。
、単純化して示すと、第3図のようになル、合焦点検出
に関するレーザービームLの軌跡は、第4図(ハ)、(
ロ)、Cつに示すように描かれる。対物レンズ19が合
焦点状態にある際には、光反射層i上にビームウェスト
が投射され、最小ビームスポット、すなわちビームウェ
ストス4ツト30が光反射層2上に形成される。通常、
半導体レーザー15かも対物レンズ19に入射されるレ
ーデ−ビームLは平行光束であるから、ビームウェスト
は対物レンズ19の焦点上に形成される。しかしながら
1.対物レンズ19に半導体レーザー15から入射され
るレーザービームLがわずかに発散域あるいは収束して
いる場合には、ビームウェスト紘対物レンズ19の焦点
近傍に形成される。ここで、光検出器27の受光面は合
焦点状態においてそのビームウェストスポット30の結
像面に配置されている(なお、結像面近傍に配置しても
よい。)。
したがりて、合焦点時には、ビームウェストス4ツト3
0の像が光検出器27の*光面の中心に形成される。
0の像が光検出器27の*光面の中心に形成される。
すなわち、第4図(ハ)に示すように、ビームウェスト
ス4ツト30が光反射層2上に形成され、この光反射層
1で反射されたレーデ−ビームLは対物レンズ19によ
りて平行光束に変換されて遮光板25に向けられる。遮
光板25によりて光軸31から離間した領域を通る光成
分のみt” 取出され、投射レンズ26によって収束さ
れ、光検出器26上で最小に絞られ、ビームウェスト化
がその上炉形成される。次に、対物レンズ19が光反射
層1に向けて近接すると、ビームウェストは、第4図(
ロ)に示すように、レーザービームLが光反射HA F
で反射されて生ずる。すなわち、ビームウェストは対物
レンズ19と光反射層7との間に生ずる。このような非
合焦点時においては、ビームウェストは、通常、対物レ
ンズ19の焦点距離内に生ずることから、ビームウェス
トが光点として機能すると仮定すれば明らかなように光
反射層7で反射され、対物レンズ19から射出されるレ
ーザービームLは対物レンズ19によりて発散性のレー
ザービームLに変換される。遮光板25を通過したレー
ザービームL成分も同様に発散性であることから、この
レーデ−ビームL成分が投射レンズ26によって集束さ
れても光検出器27の受光面上で最小に絞られず、光検
出器22よりも遠い点に向かって集束されることとなる
。したがって、光検出器27の受光面の中心から図中上
方に向かってレーザービームL成分は投射すれ、その受
光面上にはビームスポット像よ)も大きなパターンが形
成される。さらに、第4図&eに示すように、対物レン
ズ19が光反射層7から離間された場合には、レーデ−
ビームLは、ビームウェストを形成した後、光反射層7
で反射される。このような非合焦点時には、対物レンズ
1θの焦点距離外でありて対物レンズ19と光反射層1
との間に形成されることから、対物レン)e19から遮
光板25に向かう反射レーデ−ビームLは集束性を有す
ることとなる。したがって、遮光板25を通過したレー
ザービームL成分は投射レン黛26によりてさらに収束
され、収束点を形成し左後、光検出器27の受光面上に
投射される。その結果、光検出器21の受光面上にはピ
ームクニストスデクト30の像よシも大きなパターンが
中心から図中下方に形成嘔れる。
ス4ツト30が光反射層2上に形成され、この光反射層
1で反射されたレーデ−ビームLは対物レンズ19によ
りて平行光束に変換されて遮光板25に向けられる。遮
光板25によりて光軸31から離間した領域を通る光成
分のみt” 取出され、投射レンズ26によって収束さ
れ、光検出器26上で最小に絞られ、ビームウェスト化
がその上炉形成される。次に、対物レンズ19が光反射
層1に向けて近接すると、ビームウェストは、第4図(
ロ)に示すように、レーザービームLが光反射HA F
で反射されて生ずる。すなわち、ビームウェストは対物
レンズ19と光反射層7との間に生ずる。このような非
合焦点時においては、ビームウェストは、通常、対物レ
ンズ19の焦点距離内に生ずることから、ビームウェス
トが光点として機能すると仮定すれば明らかなように光
反射層7で反射され、対物レンズ19から射出されるレ
ーザービームLは対物レンズ19によりて発散性のレー
ザービームLに変換される。遮光板25を通過したレー
ザービームL成分も同様に発散性であることから、この
レーデ−ビームL成分が投射レンズ26によって集束さ
れても光検出器27の受光面上で最小に絞られず、光検
出器22よりも遠い点に向かって集束されることとなる
。したがって、光検出器27の受光面の中心から図中上
方に向かってレーザービームL成分は投射すれ、その受
光面上にはビームスポット像よ)も大きなパターンが形
成される。さらに、第4図&eに示すように、対物レン
ズ19が光反射層7から離間された場合には、レーデ−
ビームLは、ビームウェストを形成した後、光反射層7
で反射される。このような非合焦点時には、対物レンズ
1θの焦点距離外でありて対物レンズ19と光反射層1
との間に形成されることから、対物レン)e19から遮
光板25に向かう反射レーデ−ビームLは集束性を有す
ることとなる。したがって、遮光板25を通過したレー
ザービームL成分は投射レン黛26によりてさらに収束
され、収束点を形成し左後、光検出器27の受光面上に
投射される。その結果、光検出器21の受光面上にはピ
ームクニストスデクト30の像よシも大きなパターンが
中心から図中下方に形成嘔れる。
次に、上記光学ヘッド13の各部品の支持構造を第5図
にもとづいて説明すると、コリメーターレンズ16およ
び凸レンズ22はそれぞれコリメーターレンズ支持部材
32、凸レンズ支持部材33内に収納され固定されてい
る。また、′半導体レーデー15、第1の光検出器23
、および第2の光検出器27はそれぞれ半導体レーザー
支持部材34、第1の光検出器支持部材35、第2の光
検出器支持部材36内に入っている。
にもとづいて説明すると、コリメーターレンズ16およ
び凸レンズ22はそれぞれコリメーターレンズ支持部材
32、凸レンズ支持部材33内に収納され固定されてい
る。また、′半導体レーデー15、第1の光検出器23
、および第2の光検出器27はそれぞれ半導体レーザー
支持部材34、第1の光検出器支持部材35、第2の光
検出器支持部材36内に入っている。
また、半導体レーデ−ISとコリメーターレンズ16は
1つにまとま〕、レーデ−・;リメート系固定部材37
の中で一体化されている。また対物レンズ19はディス
コイル20およびミラー102とともに対物レンズ駆動
系フレーム38の中に入ってhる。ここで、ミラー10
2はレーザービームLの進行方向を直角に曲げる、すな
わち、図中紙面に沿う方向から垂直な方向へ、またその
逆に変換するものである。さらに、第1の光検出器支持
部材35は第1の光検出器固定部材39によって固定さ
れている。また、投射レンズ26は投射レンズ固定支持
部材4゜によって固定支持されている。すなわち、投射
レンズ固定支持部材40は投射レンズ支持部材41と投
射レンズ固定部材42とからなシ、投射レンズ26は投
射レンズ支持部材41内に収容され固定され、この投射
レンズ支持部材4ノは第2の光検出器支持部材36とと
もに投射レンズ固定部材42によって固定されている。
1つにまとま〕、レーデ−・;リメート系固定部材37
の中で一体化されている。また対物レンズ19はディス
コイル20およびミラー102とともに対物レンズ駆動
系フレーム38の中に入ってhる。ここで、ミラー10
2はレーザービームLの進行方向を直角に曲げる、すな
わち、図中紙面に沿う方向から垂直な方向へ、またその
逆に変換するものである。さらに、第1の光検出器支持
部材35は第1の光検出器固定部材39によって固定さ
れている。また、投射レンズ26は投射レンズ固定支持
部材4゜によって固定支持されている。すなわち、投射
レンズ固定支持部材40は投射レンズ支持部材41と投
射レンズ固定部材42とからなシ、投射レンズ26は投
射レンズ支持部材41内に収容され固定され、この投射
レンズ支持部材4ノは第2の光検出器支持部材36とと
もに投射レンズ固定部材42によって固定されている。
また、43はベース部材であシ、これは中空な箱形状を
呈しておシ、略均−な厚みを有する底板部44と、この
底板部44上に略垂直に立設された側壁45とから構成
されている。そして、上記レーザーコリメート系固定部
材37、対物レンズ駆動系フレ一台38、第1の光検出
器固定部材39、および投射レンズ固定支持部材400
投射レンズ固定部材42はこのペース部材43の側壁4
5の側面に直接接合されねじ止めあるいは接着により固
定されている。また、遮光板25および凸レンズ支持部
材33はペース部材43の底板部40に直接接合され固
定されている。さらに、偏向ビームスポット像17およ
びハーフ!リズム21はペース部材43の底板部44に
直接接着され固定されている。さらに、l/4波長板1
8は174波長板支持部材46を介してベース部材41
0側壁45に固定されている。
呈しておシ、略均−な厚みを有する底板部44と、この
底板部44上に略垂直に立設された側壁45とから構成
されている。そして、上記レーザーコリメート系固定部
材37、対物レンズ駆動系フレ一台38、第1の光検出
器固定部材39、および投射レンズ固定支持部材400
投射レンズ固定部材42はこのペース部材43の側壁4
5の側面に直接接合されねじ止めあるいは接着により固
定されている。また、遮光板25および凸レンズ支持部
材33はペース部材43の底板部40に直接接合され固
定されている。さらに、偏向ビームスポット像17およ
びハーフ!リズム21はペース部材43の底板部44に
直接接着され固定されている。さらに、l/4波長板1
8は174波長板支持部材46を介してベース部材41
0側壁45に固定されている。
このような支持構造において、ペース部材43と、投射
レンズ固定支持部材40の上記ぺ−ス部材43に直接接
合している投射レンズ固定部材42とは略等しい熱膨張
率を有する構成となっている。すなわち、例えば、これ
ら両者は同一の部材で構成されている。
レンズ固定支持部材40の上記ぺ−ス部材43に直接接
合している投射レンズ固定部材42とは略等しい熱膨張
率を有する構成となっている。すなわち、例えば、これ
ら両者は同一の部材で構成されている。
また、ベース部材43と、偏向ビームスプリッタ17と
は熱膨張率の略等しい材質で構成されている。そして、
ペース部材は、少なくとも一部が鉄を含む金属、または
、鋳鉄もしくはステンレスを含む材質であって、熱膨張
率として線膨張率が1℃当シ(9±9)XIO″″6の
範囲内に存在している材質で構成されている。この場合
、線膨張率がICCクシ9±7 ) X 10−’の範
囲内に存在している材質で構成した方fif好ましい。
は熱膨張率の略等しい材質で構成されている。そして、
ペース部材は、少なくとも一部が鉄を含む金属、または
、鋳鉄もしくはステンレスを含む材質であって、熱膨張
率として線膨張率が1℃当シ(9±9)XIO″″6の
範囲内に存在している材質で構成されている。この場合
、線膨張率がICCクシ9±7 ) X 10−’の範
囲内に存在している材質で構成した方fif好ましい。
として回転するスウィングアーム(支持台)101の先
端上に支持されている。すなわち、第゛1図に示すよう
に、光学へラド13は、ベース部材43にばか穴104
・−があけられ、このばか穴104・・・にカラー10
5・・・を介して固定用ねじ106・・・を挿通しスウ
ィングアーム101に締め付けることにより、スウィン
グアーム101に対する接触部分が至る断熱膨張率の違
いによシ生ずる熱歪量の差に対しスライド可能となりて
いる。なお、カラー105の材質としては弾性力が強く
、摩擦が少ないものであシ、たとえばテフロン等が好ま
しい。
端上に支持されている。すなわち、第゛1図に示すよう
に、光学へラド13は、ベース部材43にばか穴104
・−があけられ、このばか穴104・・・にカラー10
5・・・を介して固定用ねじ106・・・を挿通しスウ
ィングアーム101に締め付けることにより、スウィン
グアーム101に対する接触部分が至る断熱膨張率の違
いによシ生ずる熱歪量の差に対しスライド可能となりて
いる。なお、カラー105の材質としては弾性力が強く
、摩擦が少ないものであシ、たとえばテフロン等が好ま
しい。
以上の構成によれば、ベース部材43と偏向ビームスグ
リツタJ1とを熱膨張率の略等しい材質で構成したため
、温度変化が生じてもペース部材43に対し偏向ビーム
スプリッタ17がずれその光軸31がずれるという現象
が生じ難い、したがって、温度変化に対して光軸ずれt
;起こることなく安定に焦点ぼけ補正を行ない続けるこ
とができる。
リツタJ1とを熱膨張率の略等しい材質で構成したため
、温度変化が生じてもペース部材43に対し偏向ビーム
スプリッタ17がずれその光軸31がずれるという現象
が生じ難い、したがって、温度変化に対して光軸ずれt
;起こることなく安定に焦点ぼけ補正を行ない続けるこ
とができる。
すなわち、ペース部材43としてアルミニラ 。
部材を用い、情報記録再生装置としての温度特性を調べ
たところ、高温・低温での焦点ずれ〃;生シた。これは
、偏向ビームス7” リッタ17の′材料であるガラス
の熱に対する線膨張率が1℃当クシ8〜l0XIOであ
るのに対してアルミニウム材のそれが1℃当J23X1
0 であることから、1℃当j615 X 10−’
の熱歪みが生じ、この熱歪みによシ偏向ビームスシリツ
タ17が傾き、合焦点瞳光検出器上の光スー゛ットの位
置がずれたためである。そこで、種々の実験によシ、線
膨張率の違いによる熱歪みが1℃当、!>9xlo
以内であれば装置として機能上支障がないことを確認し
た。このため、ベース部材43に線膨張率が1℃当クシ
18 X 10”’であるアンバー材を用いたところ、
温度特性として良好な結果が得られた。すなわち、偏向
ビームスグリツタ17が固定されているベース部材43
の材質が熱膨張率として線膨張率が1℃当シ(9±9
) X 10”’の範囲内に存在すれば良いことを種々
の実験によシ確認した。、さらに、装置としての温度特
性をよ多安定にするにはペース部材43の材質が線膨張
率がICCクシ9±7 ) X 10−’の1ilu内
に存在するようなものを選択すれば良いことも同様に判
明した。
たところ、高温・低温での焦点ずれ〃;生シた。これは
、偏向ビームス7” リッタ17の′材料であるガラス
の熱に対する線膨張率が1℃当クシ8〜l0XIOであ
るのに対してアルミニウム材のそれが1℃当J23X1
0 であることから、1℃当j615 X 10−’
の熱歪みが生じ、この熱歪みによシ偏向ビームスシリツ
タ17が傾き、合焦点瞳光検出器上の光スー゛ットの位
置がずれたためである。そこで、種々の実験によシ、線
膨張率の違いによる熱歪みが1℃当、!>9xlo
以内であれば装置として機能上支障がないことを確認し
た。このため、ベース部材43に線膨張率が1℃当クシ
18 X 10”’であるアンバー材を用いたところ、
温度特性として良好な結果が得られた。すなわち、偏向
ビームスグリツタ17が固定されているベース部材43
の材質が熱膨張率として線膨張率が1℃当シ(9±9
) X 10”’の範囲内に存在すれば良いことを種々
の実験によシ確認した。、さらに、装置としての温度特
性をよ多安定にするにはペース部材43の材質が線膨張
率がICCクシ9±7 ) X 10−’の1ilu内
に存在するようなものを選択すれば良いことも同様に判
明した。
この範囲内に入るペース部材43の材質として熱に対す
る線膨張率が1℃当クシ10〜16X10−’ステンレ
ス鋼や、1℃当り11〜15X10−’の鋳鉄、1℃当
クシ8〜IQXIOのガラス、1’C当り14〜15
X 10−’の金、1℃当97〜11 X 10−6の
クロム、1℃当夛4.5〜7X 10−6のタングステ
ン、1℃当夛6.6 X 10−’のタンタル、1℃当
クシ12.8〜18X10 のニッケル、1℃当クシ8
.9〜10.2 X 10 の白金、1℃当)15〜
17X10 のコンスタンタン、1℃当クシ11〜1
4X10 のステライト、1℃当クシ11 X 10−
6の炭素鋼、1℃当夛13 X 10”’以下のニッケ
ル鋼等が存在している。また、線膨張率が1℃当シ(9
±7)xlO−6の範囲かられずかにはずれるが、線膨
張率が1℃当クシ16〜20 X 10””の銅や1℃
当クシ18〜19 X 10”の黄銅を用いても装置と
して一応機能上支障ないことを確認した。なお、これら
の材質の中で、安価で、加工性に優れ、入手容易なもの
として、特に、線膨張率がIC当1710〜12X10
″″4の範囲に入る一部〜のステンレス鋼中鯛鉄、およ
びデンスパ=(鋳鉄の一部で商品名)が最適である。こ
れらはいずれも鉄を含む金属であシ、取扱いが容易であ
る。
る線膨張率が1℃当クシ10〜16X10−’ステンレ
ス鋼や、1℃当り11〜15X10−’の鋳鉄、1℃当
クシ8〜IQXIOのガラス、1’C当り14〜15
X 10−’の金、1℃当97〜11 X 10−6の
クロム、1℃当夛4.5〜7X 10−6のタングステ
ン、1℃当夛6.6 X 10−’のタンタル、1℃当
クシ12.8〜18X10 のニッケル、1℃当クシ8
.9〜10.2 X 10 の白金、1℃当)15〜
17X10 のコンスタンタン、1℃当クシ11〜1
4X10 のステライト、1℃当クシ11 X 10−
6の炭素鋼、1℃当夛13 X 10”’以下のニッケ
ル鋼等が存在している。また、線膨張率が1℃当シ(9
±7)xlO−6の範囲かられずかにはずれるが、線膨
張率が1℃当クシ16〜20 X 10””の銅や1℃
当クシ18〜19 X 10”の黄銅を用いても装置と
して一応機能上支障ないことを確認した。なお、これら
の材質の中で、安価で、加工性に優れ、入手容易なもの
として、特に、線膨張率がIC当1710〜12X10
″″4の範囲に入る一部〜のステンレス鋼中鯛鉄、およ
びデンスパ=(鋳鉄の一部で商品名)が最適である。こ
れらはいずれも鉄を含む金属であシ、取扱いが容易であ
る。
これらの材料をペース部材47に用いて温度試験を行な
り光ところ、−60℃〜+60℃の範囲でほんど光軸ず
れを生じることなく安定に動作・した。
り光ところ、−60℃〜+60℃の範囲でほんど光軸ず
れを生じることなく安定に動作・した。
また、ペース部材43と投射レンズ固定部材42とを熱
膨張率の略等しい材質で構成したため、温度変化が生じ
てもベース部材411fC対し投射レンズ26がずれそ
の光軸31がずれるという現象が生じ難い。したがりて
、さらに温度変化に対して光軸ずれが起こることなく安
定に焦点ぼけ補正を・行ない続けることができる。
膨張率の略等しい材質で構成したため、温度変化が生じ
てもベース部材411fC対し投射レンズ26がずれそ
の光軸31がずれるという現象が生じ難い。したがりて
、さらに温度変化に対して光軸ずれが起こることなく安
定に焦点ぼけ補正を・行ない続けることができる。
すなわち、ペース部材43の材質として一種のステンレ
ス鋼もしくはデンスパーを用い、投射レンズ固定部材4
2の材質としてアンバー材を用いたところ、温度変化を
与えるとペース部材4Jの側I!45と投射レンズ固定
部材42との間の接合部分で熱膨張率の違いによシ歪み
が生じ投射レンズ26がずれ、光軸ずれを起こした1次
に、投射Vンズ固定部材42をペース部材43J!−同
一の部材にし九ところ、温度変化による光軸ずれは観察
されなかった。以上よシ、ペース部材4Jと投射レンズ
固定部材42とはともに略等しい熱膨張率を有する部材
を用いる必要があることがわか一5九、ζO場合、両者
が同一の材質からできていることが望ましい。
ス鋼もしくはデンスパーを用い、投射レンズ固定部材4
2の材質としてアンバー材を用いたところ、温度変化を
与えるとペース部材4Jの側I!45と投射レンズ固定
部材42との間の接合部分で熱膨張率の違いによシ歪み
が生じ投射レンズ26がずれ、光軸ずれを起こした1次
に、投射Vンズ固定部材42をペース部材43J!−同
一の部材にし九ところ、温度変化による光軸ずれは観察
されなかった。以上よシ、ペース部材4Jと投射レンズ
固定部材42とはともに略等しい熱膨張率を有する部材
を用いる必要があることがわか一5九、ζO場合、両者
が同一の材質からできていることが望ましい。
さらに、スクィンダアー五101社高速アクセスをする
ために極力軽重量とする必要があシ、このため、比重の
小さいアル電材等で作られておシ、これに対し、光学ヘ
ラPJJのペース部材43は上述したように線膨張率が
IC当たシ9 X 10”’ K近い材質で作られるこ
とから、温度変化によシスフィングーアーム167とペ
ース パ部材4J1!:の間で熱膨張率の違いによる
熱歪量の差が生じるととくなるが、ペース部材43とス
ウィングアーム101との接触部分が至る断熱膨張率の
違いによル生ずる熱歪量の差に対しスライド可能となっ
ているため、ペース部材43とスウィングアーム101
とは独立的に熱歪を生じることKなる。し九がって、さ
らに一層温度変化に対して光学ヘッドIJ内の光軸ずれ
が起こることなく安定に焦点ぼけ補正を行ない続妙るこ
とができる。この場合、温度変化に対して光学ヘッド1
30ペース部材4Jはスウィングアーム101に対して
ずれるととになるが、固定用ねじ106−で確実に固定
しであるので、通常の状態で外力によ)容易に光学ヘッ
ド130ペース部材43がスウィングアーム101から
ずれることはない。
ために極力軽重量とする必要があシ、このため、比重の
小さいアル電材等で作られておシ、これに対し、光学ヘ
ラPJJのペース部材43は上述したように線膨張率が
IC当たシ9 X 10”’ K近い材質で作られるこ
とから、温度変化によシスフィングーアーム167とペ
ース パ部材4J1!:の間で熱膨張率の違いによる
熱歪量の差が生じるととくなるが、ペース部材43とス
ウィングアーム101との接触部分が至る断熱膨張率の
違いによル生ずる熱歪量の差に対しスライド可能となっ
ているため、ペース部材43とスウィングアーム101
とは独立的に熱歪を生じることKなる。し九がって、さ
らに一層温度変化に対して光学ヘッドIJ内の光軸ずれ
が起こることなく安定に焦点ぼけ補正を行ない続妙るこ
とができる。この場合、温度変化に対して光学ヘッド1
30ペース部材4Jはスウィングアーム101に対して
ずれるととになるが、固定用ねじ106−で確実に固定
しであるので、通常の状態で外力によ)容易に光学ヘッ
ド130ペース部材43がスウィングアーム101から
ずれることはない。
なお、上記実施例では、光学ヘッド13をスウィングア
ーム101に支持してアクセスさせる構造のものについ
て本発明を適用したが、たとえば第7図に示すように、
スライドペース106上を磁気の力によ)移動するスラ
イ〆107に光学へラドJ3を支持してアクセスさせる
構造のものに適用してもよいことは勿論である。
ーム101に支持してアクセスさせる構造のものについ
て本発明を適用したが、たとえば第7図に示すように、
スライドペース106上を磁気の力によ)移動するスラ
イ〆107に光学へラドJ3を支持してアクセスさせる
構造のものに適用してもよいことは勿論である。
壇た、光学ヘッド130ペース部材43とスウィングア
ーム101との間には、pJE8図に示すよりに、よ〕
ナベシを良くするため、!イ2−ヤツフロンシ一ト等で
できたすべ〕用敷板108を介在させてもよい。
ーム101との間には、pJE8図に示すよりに、よ〕
ナベシを良くするため、!イ2−ヤツフロンシ一ト等で
できたすべ〕用敷板108を介在させてもよい。
また、投射レンズ量定支持部材40を投射レンズ支持部
材41と投射レンズ固定部材42とから構成し、投射レ
ンズ固定部材42をペース部材410側壁45の側面に
直接接合し固定する構成としたが、本発明はこれに限定
されることはなく、投射レンズ固定部材42を用いない
で、凸レンズ22のように、投射レンズ支持部材41を
直接ペース部材43に接合固定する構造としてもよく、
この場合、ペース部材43と投射レンズ支持部材41と
を熱膨張率が略等しい構成とすればよい。
材41と投射レンズ固定部材42とから構成し、投射レ
ンズ固定部材42をペース部材410側壁45の側面に
直接接合し固定する構成としたが、本発明はこれに限定
されることはなく、投射レンズ固定部材42を用いない
で、凸レンズ22のように、投射レンズ支持部材41を
直接ペース部材43に接合固定する構造としてもよく、
この場合、ペース部材43と投射レンズ支持部材41と
を熱膨張率が略等しい構成とすればよい。
また、投射レンズ26の単体をペース部材4Sの側壁4
5に直接接着固定してもよい。
5に直接接着固定してもよい。
また、上記実施例では、同一のペース部材43に、レー
デ−・コリメート系固定部材31や対物レンズ駆動系フ
レーム38%偏向ビームスグリツタ12等を固定したが
、偏向ビームスグリツタ17等をfslのベース部材に
直接接着固定し、レーデ−・コリメート系固定部材31
等を第2のベース部材に接合固定し、これら第1と第2
のベース部材を連結した構造としてもよい。
デ−・コリメート系固定部材31や対物レンズ駆動系フ
レーム38%偏向ビームスグリツタ12等を固定したが
、偏向ビームスグリツタ17等をfslのベース部材に
直接接着固定し、レーデ−・コリメート系固定部材31
等を第2のベース部材に接合固定し、これら第1と第2
のベース部材を連結した構造としてもよい。
また、半導体レーデ−15と第1および第2の光検出器
23.21との間で光学的なアイル−シ1ン作用を行な
わせようとする場合、上記実施例では、ゾリズムとして
偏向ビームスグリツタ11を用いたので、これにともな
って174波長板18が必要となったが、ハーフプリズ
ムを用いれば174波長板18は不要となる。
23.21との間で光学的なアイル−シ1ン作用を行な
わせようとする場合、上記実施例では、ゾリズムとして
偏向ビームスグリツタ11を用いたので、これにともな
って174波長板18が必要となったが、ハーフプリズ
ムを用いれば174波長板18は不要となる。
さらに、合焦点時を検出する光学系としては、上記実施
例のものの他に、第9図〜第12図に示すものかあシ、
本発明はこのような光学系にも適用でき、また、とれら
以外に、光ディスク1の光反射層IK対する結像位置あ
るいはその近傍に光検出器27を配置し、焦点が埋けた
ときスイットの中央が光検出器27上で移動するように
して焦点ぼけ検出を行なうあらゆる光学系に対して適用
することができる。なお、第9LIK示す光学系におい
ては、レーデ−ビームLが対物レンズ19の光軸JJK
対して斜め方向から入射されて光反射層11に照射され
ている。
例のものの他に、第9図〜第12図に示すものかあシ、
本発明はこのような光学系にも適用でき、また、とれら
以外に、光ディスク1の光反射層IK対する結像位置あ
るいはその近傍に光検出器27を配置し、焦点が埋けた
ときスイットの中央が光検出器27上で移動するように
して焦点ぼけ検出を行なうあらゆる光学系に対して適用
することができる。なお、第9LIK示す光学系におい
ては、レーデ−ビームLが対物レンズ19の光軸JJK
対して斜め方向から入射されて光反射層11に照射され
ている。
この場合においても、対物レンズ19から投射、レンズ
、26に破線で示すように集束性のレーデ−ビームLが
照射され、光反射層1rが近付くと、対物レンダ19か
ら投射レンズ26に一点鎖線で示すように発散性のレー
デ−ビームLが照射されることとなる。したがって、投
射レンズ26から光検出器21に向うレーザービームL
は焦点ぼけの程度に応じて偏向させ、光検出器21の受
光面上ではスイットパターンの大きさが変化するととも
にその投射位置が偏位されることとなる。第1θ図に示
す光学系において −゛は、投射レンズ26と光検出器
27との間にパイプリズム47が設けられている。した
がって、レーザービームLは、合焦点時には実線で示す
軌跡を描き、非合焦点時にはパイプリズム42によって
偏向される。第11図に示す光学系に訃いては、対物レ
ンズ19および投射レンズ26で定まるビームウェスト
の結像点にミ2−48が設けられ、その<2−4s上の
像を光検出器21上KM像するレンズ49がミラー48
と光検出器21との間に設けられている。そして、合焦
点時にu<9−48上に向りてレーデ−ビームLが実線
で示すように集束されるのに対し、非合焦点時には破線
または一点鎖線で示す集束性または発散性のレーザービ
ームLが投射レンズ26によって集束されることKなシ
、結果としてレーザービームLがミ2−48によりて偏
向されることになる。さらに、第12図に示す光学系に
おいては、光軸3Jから離間した領域を通シ光軸3Jに
平行にレーザービームLが対物レンズ19に照射されて
いる。この場合においても、対物レンズ19と光反射層
11との間の距離に依存して投射レンズ26から光検出
器21に向うレーザービームLd偏向されることになる
。
、26に破線で示すように集束性のレーデ−ビームLが
照射され、光反射層1rが近付くと、対物レンダ19か
ら投射レンズ26に一点鎖線で示すように発散性のレー
デ−ビームLが照射されることとなる。したがって、投
射レンズ26から光検出器21に向うレーザービームL
は焦点ぼけの程度に応じて偏向させ、光検出器21の受
光面上ではスイットパターンの大きさが変化するととも
にその投射位置が偏位されることとなる。第1θ図に示
す光学系において −゛は、投射レンズ26と光検出器
27との間にパイプリズム47が設けられている。した
がって、レーザービームLは、合焦点時には実線で示す
軌跡を描き、非合焦点時にはパイプリズム42によって
偏向される。第11図に示す光学系に訃いては、対物レ
ンズ19および投射レンズ26で定まるビームウェスト
の結像点にミ2−48が設けられ、その<2−4s上の
像を光検出器21上KM像するレンズ49がミラー48
と光検出器21との間に設けられている。そして、合焦
点時にu<9−48上に向りてレーデ−ビームLが実線
で示すように集束されるのに対し、非合焦点時には破線
または一点鎖線で示す集束性または発散性のレーザービ
ームLが投射レンズ26によって集束されることKなシ
、結果としてレーザービームLがミ2−48によりて偏
向されることになる。さらに、第12図に示す光学系に
おいては、光軸3Jから離間した領域を通シ光軸3Jに
平行にレーザービームLが対物レンズ19に照射されて
いる。この場合においても、対物レンズ19と光反射層
11との間の距離に依存して投射レンズ26から光検出
器21に向うレーザービームLd偏向されることになる
。
以上説明したように本発明によれば、集束性を用い情報
記憶媒体から少なくとも情報を読取る丸めの光学ヘッド
と、この光学ヘッドを支持する支持台とを具備し、上記
光学ヘッドは、上記支持台に対する接触部分を至る断熱
膨張率の違いによシ生ずる熱歪量の差に対しスライド可
°能としたから、温度変化に対して光軸がずれ難く、安
定して焦点埋は検出を行なうことができる°等優れた効
果を奏する。
記憶媒体から少なくとも情報を読取る丸めの光学ヘッド
と、この光学ヘッドを支持する支持台とを具備し、上記
光学ヘッドは、上記支持台に対する接触部分を至る断熱
膨張率の違いによシ生ずる熱歪量の差に対しスライド可
°能としたから、温度変化に対して光軸がずれ難く、安
定して焦点埋は検出を行なうことができる°等優れた効
果を奏する。
第1図〜第6図は本発明の一実施例を示すもので、第1
図は光学ヘッドの支持構造を示す図、#f2図は情報記
録再生装置を概略的に示すブロック図、第3図は焦点ぼ
け検出用光学系を示す斜視図、第4図(イ)、←) 、
?つは同光学系の合焦点時および非合焦点時における
レーザービームの軌跡を示す説明図、第5図は光学ヘッ
ドを構成する各部品の支持構造を示す断面図、陣6図は
光学ヘッドをアクセスさせるための構造を示す斜視図、
第7図は光学ヘッドをアクセスさせるための構造の他の
実施例を示す側面図、第8図は他の光学ヘッドの支持構
造を示す図、第9図〜第12図は他の焦点ぼけ検出用光
学系を示す図である。 1・・・情報記憶媒体(光ディスク)、13・・・光学
ヘッド、101・・・支持台(スウィングアーム)、1
05・・・カラー、106・・・固定用ねじ、108・
−すベシ用敷板。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦′M3図 第4図 N5図 第6図 第7図 第8図 第9図 第10図
図は光学ヘッドの支持構造を示す図、#f2図は情報記
録再生装置を概略的に示すブロック図、第3図は焦点ぼ
け検出用光学系を示す斜視図、第4図(イ)、←) 、
?つは同光学系の合焦点時および非合焦点時における
レーザービームの軌跡を示す説明図、第5図は光学ヘッ
ドを構成する各部品の支持構造を示す断面図、陣6図は
光学ヘッドをアクセスさせるための構造を示す斜視図、
第7図は光学ヘッドをアクセスさせるための構造の他の
実施例を示す側面図、第8図は他の光学ヘッドの支持構
造を示す図、第9図〜第12図は他の焦点ぼけ検出用光
学系を示す図である。 1・・・情報記憶媒体(光ディスク)、13・・・光学
ヘッド、101・・・支持台(スウィングアーム)、1
05・・・カラー、106・・・固定用ねじ、108・
−すベシ用敷板。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦′M3図 第4図 N5図 第6図 第7図 第8図 第9図 第10図
Claims (4)
- (1)集束性を用い情報記憶媒体から少なくとも情報を
読取るための光学ヘッドと、この光学ヘッドを支持する
支持台とを具備し、上記光学ヘッドは、上記支持台に対
する接触部分を至る所熱膨張率の違いにより生ずる熱歪
量の差に対しスライド可能としたことを特徴とする光学
的情報処理装置。 - (2)光学ヘッドは、支持台に対する接触部分の隙間が
広がらないように外側から押えた構成としたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の光学的情報処理装置
。 - (3)支持台は、光学ヘッドをアクセスさせるためのス
ライダの一部で構成したことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の光学的情報処理装置。 - (4)支持台は、光学ヘッドをアクセスさせるためのス
ウィングアームの一部で構成したことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の光学的情報処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59219969A JPS6199945A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 光学的情報処理装置 |
JP59219968A JPS6199944A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 光学的情報処理装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP59219969A JPS6199945A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 光学的情報処理装置 |
JP59219968A JPS6199944A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 光学的情報処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPS6199945A true JPS6199945A (ja) | 1986-05-19 |
Family
ID=26523436
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP59219969A Pending JPS6199945A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 光学的情報処理装置 |
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Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP59219968A Pending JPS6199944A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 光学的情報処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (2) | JPS6199945A (ja) |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59219969A patent/JPS6199945A/ja active Pending
- 1984-10-19 JP JP59219968A patent/JPS6199944A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6199944A (ja) | 1986-05-19 |
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