JPS615081A - １−置換カルバペネム−３−カルボン酸誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式（１’）の化合物に一般式（１）の化合
物を反応させ、一般式（１）の化合物とし、化合物偵）
を閉環させ一般式に）の化合物に導くことを特徴とする
１−置換カルバベネムー３−カルボン酸誘導体値）の製
造法である。

（＋）　　　　　　　　　　（Ｍｌ　　　　　　　＠）
一般式（ＩＬ　（１）、　（１）、　（ｆｆ）式中ノＲ
１オヨびＲ２ハ同一または異々る水素原子（ただしＲ１
およびＲ２がともに水素業子のものを除く）、炭素数１
〜１０個の未置換もしくは置換アルキル、アルケニル、
アルキニル、アルコキシ、アルキルチオ、シクロアルキ
ル、了り−ル、もしくはＲ１とＲ２が一緒になって３〜
６員環を形成する基、またはハロゲン原子を、Ｒ３は未
置換もしくは置換アルキル基、アラルキル基、脂環式複
素環基、脂環式複素環置換アルキル基、アリール基また
は芳香族複素環基、または芳香族複素環置換アルキル基
な　１４はカルボキシ基の保護基を、およびＲ５は水素
原子または水酸基の保護基を、Ｒ６はアルコキシ基、ア
リールオキシ基またはジアルキルアミノ基を示す。

一般式（１）、　（１）、α）、偵）ＫおけるＢ１　、
　Ｂ２　、　Ｂ３゜Ｂ４　、　ＢＳおよびＢ６について
以下に具体的に説明する。Ｒ１およびＲ２は同一または
異なる水素原子（ただしＲ１およびＲ２がともに水素の
場合を除く）、ハロゲン原子（たとえば弗素、塩素また
は臭素原子）、またはアルキル基（たとえばメチル、エ
チル、プロピルまたはイソプロピルなど）、アルケニル
基（たとえばビニルまたはアリルなど）、アルキニル基
（たとえばエチニルまたはプロパルギルなど）、アルコ
キシ基（たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシまた
はイソプロポキシなど）、アルキルチオ基（たとえばメ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオまたはイノプロピ
ルチオなと）、シクロアルキル基（たとえばシクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキ
シルなト）、アリール基（たとえばフェニル力と）もし
くはＲ１とＲ２が一緒になって環を形成する基（たとえ
ば−（ＣＨ２）２　　＊　　（ＯＨ２）５　＊　（ＯＨ
２）４−または−（ＯＨ２）５−など）でありこれらの
基は以下の置換基を１〜３個有してもよいハロゲン原子
（たとえば弗素、塩素または臭素など）、ハロゲン化メ
チル（たとえばフルオルメチル、クロルメチルまたはブ
ロムメチルなど）、アルキル基（たとえばメチルまたは
エチルなど）、アルコキシ基（たとえばメトキシまたは
エトキシ）、水酸基、アルキルチオ基（たとえばメチル
チオまたはエチルチオ基がど）またはフェニル基。

Ｒ３は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ま
たはｔ−ブチルなどのアルキル基を、２−ヒドロキシエ
チル、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシ−１−
メチルエチルまたは３−ヒドロキシ−１−メチルプロピ
ルなどの水酸基が保護された（水酸基の保護基としては
特に限定はなく一般的アルコール性水酸基の保護基を用
いることができる。好ましくはメチル、エチル、プロピ
ルなどのアルキル基、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、
０−ニトロベンジルナトのアラルキル基、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、クロルアセチル、ベンゾイルな
どのアシル基、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロ
ヘンシルオキシカルボニル、０−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、アリルオキシカルボニＡ、、２−／ロルア
リルオキシカルボニル、２−メチルアリルオキシカルボ
ニル、２，２．２−トリブロムエチルオキシカルボニル
、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ジフェニルメチルオキ
シカルボニル、２−トリメチルシリルエチルオキシカル
ボニルなどのオキシカルボニル基、テトラヒドロピラニ
ル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、２−トリメ
チルシリルエチルオキシメチルなどのエーテル基、であ
る）直鎖もしくは分枝鎖ヒドロキシアルキル基を、２−
アミノエチル、２−アミノ−１−メチルエチル、２−ア
ミノ−１−エチルエチル、３−アミノプロピル、３−ア
ミノ−１−メチルプロピル、２−アミノ−２−メチルエ
チル、２−Ｎ−メチルアミノエチルまたは２−Ｎ−メチ
ルアミノ−１−メチルエチルなどのアミン基が保護され
た（アミノ基の保睦基としては特に限定はなく一般的な
アミン基の保護基を用いることができる。好ましくはホ
ルミル、アセチル、クロルアセチル、プロピオニル、ベ
ンゾイルなどのアシル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル
、λ２．２−　）リブロムエチルオキシカルボニル、２
−トリメチルシリルエチルオキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、０−ニトロペンジルオキシヵルホニルナトノアルコ
オキシカルボニル基である）直鎖もしくは分枝鎖アミノ
アルキル基を、２−（２−アミノエトキシ）エチル、２
−（２−アミノエトキシ）−１−メチルエチル、２−（
３−アミノプロポキシ）エチル、３−（２−アミノエト
キシ）プロピルまたは５−（２−アミノエトキシ）−１
−メチルプロピルなどのアミン基は前述のアミノ基の保
瞳基で保護されていてもよいアミノアルコキシアルキル
基を、置換基として 一〇／ＮＲ７（式中、Ｒ７，Ｒ８およびＲ９は水素Ｒ８
Ｒ９ 原子、先に置換アルキルアミノ基のところで述べたアミ
ノ基の保設基、メチル、エチルなどのアルキル基、Ｒ８
とＲ９が一緒になりて環を形成する基たとえばＲ８、Ｒ
ｑ　カー（ＯＨ２）２　ｅ　（ＯＨ２）ｓ−１−（ＯＨ
２）４　＊　　（ＯＨｚ）ｒ−もしくは−（ＯＨ２）６
−などのアルキレン基、又はＲ７とＲ８が−緒になりて
環を形成する基たとえばＲ’　、　Ｒ８が−（ＯＨ２）
２　＊　（ＯＨ２）ｘ−などのアルキレン基である。こ
れらの基から選ばれたものを示す。）を有するメチル、
エチル、プロピル基などの低級アルキル基を、ベンジル
、ｐ−メトキシベンジル、ｍ−ニトロベンジル、０−メ
チルベンジル、　１）−フロムベンジル、ｐ−アミノベ
ンジル、２−テニル、３−テニル、またはフルフリルな
どのアラルキル基を、フェニル、ｐ−ニトロフェニル、
ｍ−カルホキジフェニル、０−ヒドロキシフェニル、ｐ
−メトキシフェニル、ｍ−エトキシカルボニルメチルフ
ェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどのアリール基
を示し、脂環式複素環基としては環炭素銀に窒素原子、
酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基ま
たはカルボニル基が介在していてもよい未置換若しくは
置換の４員環乃至８員壌を形成する環状脂肪族アミン残
基を表わし、その環炭素原子に結合する置換基はアルキ
ル基、シクロアルキル基、プルコキシアルキル基、ヒド
ロキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、
アシルオキシメチル基、シアノアルキル基、ハロゲノア
ルキル基、アルコキシ基、水酸基、アぐノ基、ハロゲン
原子、アシルオキシ基、アシルアミノ基、シアノ基、ア
ジド基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基
、アルキルスルホニル基またはニトロ基からなる群から
選択されたものであり、その環窒素原子に結合する置換
基はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルキルアルキル基、ハロゲノアル
キル基、アリール基、アラルキル基、ヒドロキシアルキ
ル基、アシル基、アミノアルキルカルボニル基、フェナ
シル基、スルフオ基；アルコキシスルホニル基、アルキ
ルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アルキニル
スルホニル基、シクロアルキルスルホニル基、シクロア
ルキルアルキルスルホニル基、了り−ルスルホニル基；
アラルキルスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基
、ヘテロアラルキルスルホニル基、 アルキル基、アルコキシアルキル基、ハロゲノアルキル
基、または複素環基を、Ｒ１１は水素原子、イミノ基の
保護基またはアルキル基を示す）、アミノ基が保護され
ていてもよいアミノアルキルカルボニル基、 一または異なって水素原子または低級アルキル基を示し
、２は酸素原子、硫黄原子または低級アルキル基で置換
されていてもよいアミノ基を示す、）、アルコキシカル
ボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基からなる
群から選択されたものである。脂環式複素環基として置
換基を有してもよいアゼチジニル、ピロリジニル、２−
オキソピロリジニル、ピペリジル、モルホリニル、テト
ラヒドロピリミジニル、チアゾリジニル、オキサゾリジ
ニル、ヘキサヒドロピリミジニル、イミダゾリジニル、
ヘキサヒドロアゼピニル、ヘキサヒドロピリダジニル、
またはオクタヒドロアゾシニルなどであってその環炭素
原子に結合する置換基は例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、　　ｓｅｃ　
−７’チル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチルのよ
うな直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキル基、例えば
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシルのようなシクロアルキル基、例えばメトキシ
メチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、インプロ
ポキシメチル、ブトキシメチル、メトキシエチル、３−
メトキシプロピル、２−メトキシプロピル、４−エトキ
シブチルのような低級アルコキシアルキル基、例えばヒ
ドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキ
シプロピルなどのヒドロキシアルキル基、例えばメトキ
シカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、ｔ−
ブトキシカルボニルメチル、ベンジルオキシカルボニル
エチル、メトキシカルボニルプロピルなどのアルコキシ
カルボニルアルキル基、例えばアシルオキシメチル、プ
ロピオニルオキシメチルなどのアシルオキシメチル基、
例えばシアノメチル、シアノエチル、３−シアノプロピ
ル、２−シアノプロピル、４−シアノブチルのようなシ
アノ低級アルキル基、例えばフルオルメチル、トリフル
オルメチル、２−フルオルエチル、２，２．２−）リフ
ルオルエチル、２−クロルエチル、　　２−７’ロムエ
チル、３−フルオルプロピル、２−フルオルプロピル、
４−クロルブチル、３−フルオルブチルのようなハロゲ
ノ低級アルキル基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、　５
ｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシのような直鎖状若しくは
分枝鎖状の低級アルコキシ基１、水酸基、アミノ基、例
えば弗素、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子、例
えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ
、イソブチリルオキシのような低級脂肪族アシルオキシ
基、例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチ
リルアミノ、イソブチリルアミノのような低級脂肪族ア
シルアミノ基、シアノ基、アジド基、カルボキシ基、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、インブトキシカルボニル、５ｅｅ−ブトキ
シカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルのような低級ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基、例えばメチル
チオ、エチルチオ、プロピルチオ、インプロピルチオ、
ブチルチオ、インブチルチオのような直鎖状若しくは分
枝鎖状の低級アルキルチオ基、例えばメチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イン
フロビルスルフィニル、フチルスｋ　フィニル、インブ
チルスルフィニルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低
級アルキルスルフィ＝ｋＴｉ、例りばｌチルスルホニル
、エチルスルホニル、プｏビルスルホニル、イソプロピ
ルスルホニル、ブチルスルホニル、インブチルスルホニ
ルのような直鎖状若しくは分校鎖状の低級アルキルスル
ホニル基またはニトロ基からなる群から選択されたもの
であル、その環窒素原子に結合する置換基は例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、　　５ｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アル
キル基、例えばビニル、アリル、１−フロベニル、イソ
ブ四ベニル、２−７’テニル、２−ペンテニルのような
低級アルケニル基、例エバエチニル、　　２−７’ロピ
ニル、２−フチニル。

４−ペンチニルのような低級アルキニル基、例えばシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチルのようなシクロ低級アルキル基
、例えばシクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、
シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロ
ヘプチルメチル、２−シクロペンチルエチル、２−シク
ロヘキシルエチル、３−シクロペンチルプロピル、２−
シクロペンチルプロピル、３−シクロヘキシルプロビル
、２−シクロヘキシルプロピル、４−シクロペンチルブ
チル、３−シクロヘキシルブチルのような低級シクロア
ルキルアルキル基、例えばフェニル、ナフチルのような
アリール基、例えばフルオロメチル、２−フルオルエチ
ル、３−フルオルプロピル、２−クロルエチルなどのハ
ロゲノアルキル基、例工ばベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ル、７エネチル、３−フェニルプロピルのようなアラル
キル基、９１１え＆ｆ２−ヒドロキシエチル、３−ヒド
ロキシプロピルなどのヒドロキシアルキル基、例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、インブチ
リル、アクリロイル、メタアクリロイル、クロトノイル
、インクロトノイル、プロピオロイル、メチルプロピオ
ロイルのような低級脂肪族アシル基、例えばアミンメチ
ルカルボニル、２−アミノエチルカルボニル、１−アミ
ンエチルカルボニルなどのアミノアルキルカルボニル基
、例エバシクロプロパンカルボニル、シクロフタンカル
ボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカ
ルボニルのような低級シクロアルカンカルボニル基、例
えばシクロプロピルアセチル、シクロブチルアセチル、
シクロペンチルアセチル、シクロヘキシルアセチル、３
−シクロペンチルプロピオニル、３−シクロヘキシルプ
ロピオニル、４−シクロペンチルブチリル、４−シクロ
ヘキシルブチリルのような低級シクロアルキルアルカノ
イル基、例えばベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフ
トイルのよう々芳香族アシル基、例えばフェニルアセチ
ル、１−ナフチルアセチル、３−フェニルプロピオニル
、ヒドラトロボイル、シンナモイル、フェニルプロピオ
ロイルのような芳香脂肪族アシに基％例えばフロイル、
テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、４−チア
ゾールカルボニル、５−ピリミジンカルボニル、　　２
−ヒラジンカルボニルのような複素環アシル基、例えば
２−チェニルアセチル、３−（２−チェニル）プロピオ
ニル、４−チアゾリルアセチル、２−ピリジルアセチル
、４−ピリジルアセチル、５−ピリミジルアセチルのよ
うな複素環脂肪族アシル基、ｅ’ｌｌハ１−アジリジン
カルボニル、１−アゼチジンカルボニル、３−アゼチジ
ンカルボニル、１−ピロリジンカルボニル、２−ピロリ
ジンカルボニル、３−ピロリジンカルボニル、１−ピペ
リジンカルボニル、２−ピペリジンカルボニル、４−？
”ベリジンカルボニル、４−モルホリンカルボニルのよ
うなヘテロシクリルカルボニル基若しくは例えば１−ア
ジリジニルアセチル、１−アゼチジニルアセチル、３−
アゼチジニルアセチル、１−ピロリジニルアセチル、２
−ピロリジニルアセチル、３−ピロリジニルアセチル、
３−（２−ピロリジニル）プロピオニル、ピペリジノア
セチル、２−ピペリジニルアセチル、４−？’ペリジニ
ルアセチル、モルホリノアセチルのようなヘテロシクリ
ル脂肪族アシル基等のアシル基、フェナシル基、スルフ
ォ基、例えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニル
、プロポキシスルホニル、インプロポキシスルホニルの
ヨウな低級アルコキシスルホニに基、例Ｌｋｆ、メチル
スルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、
イソフロビルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチ
ルスルホニルのような直鎖軟着しくは分枝鎖状の低級ア
ルキルスルホニルｆｉ、例ｔハアリ４ｆ　ｋ　スｋ　ホ
ニル、インプロペニルスルホニル、２−ブテニルスルホ
ニルのような低級アルケニルスルホニル基、例え＋！エ
チニルスルホニル、　２−７’ロビニルスルホニル、２
−プチニルスルホニルノヨウナ低級アルキニルスルホニ
ル基、例えばシクロプロピルスルホニル、シクロブチル
スルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシ
ルスルホニルのような低級シクロアルキルスルホニル基
、例エバシクロプロビルメチルスルホニル、シクロブチ
ルメチルスルホニル、シクロペンチルメチルスルホニル
、シクロヘキシルメチルスルホニル、２−シクロペンチ
ルエチルスルホニル、２−シクロヘキシルエチルスルホ
ニル、３−シクロペンチルプロピルスルホニル、２−シ
クロペンチルプロピルスルホニルのような低級シクロア
ルキルスルホニルｆｉ、例えばフェニルスルホニル、１
−ナフチルスルホニル、２−ナフチルスルホニルのよう
なアリールスルホニル基、例えばベンジルスルホニル、
フェネチルスルホニル、３−フェニルプロピルスルホニ
ル、２−フェニルプロピルスルホニルのようなアラルキ
ルスルホニル基、例えば２−チェニルスルホニル、４−
チアゾリルスルホニル、２−ピリジルスルホニル、４−
ピリジルスルホニルのようなヘテロアリールスルホニル
基、例えば２−チェニルメチルスルホニル、３−（２−
４エニル）プロピルスルホニル、４−チアゾリルメチル
スルホニル、２−ピリジルメチルスルホニル、４−ピリ
ジルメチルスルホニルのようなヘテロアラルキルスルホ
ニル基、 式−〇　＝＝　Ｎ　　Ｒ１１基（式中、ＢＩＤは水素原
子または例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ルのような低級アルキル基を、たとえばメトキシメチル
、エトキシメチルのような低級アルコキシアルキル基、
たとえばシアノメチル、シアノエチルのようがシアノア
ルキル基、たトエばピリジン、フラン、チオフェンなど
の芳香族複素環基、フェニル基、ベンジル基またはたと
えばクロルメチル、フルオルメチルのような）１０ゲノ
アルキル基を、Ｒ１１は水素原子、例えばアリルオキシ
カルボニル、２−メチルアリルオキシカルボニル、２−
クロルアリルオキシカルボニル、２，２．２−）リプロ
ムエトキシカルボニル、２，２．２−）リプロムエトキ
シカルボニルのようなアルコキシカルボニル基または例
えばｐ−ニトロペンジルオキシカルボニル、０−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルのよりなアラルオキシカルボ
ニル基、または、たとえばメチル、エチル、プロピル、
ブチル愈どのアルキル基を示す、） 例えば、アミンメチルカルボニル、２−アミンエチルカ
ルボニル、Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）アミノメチル、２−（Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）アミノコエチルまたは３−７ミノプロビ
ルカルボニルなどのアミノ基が保護されていてもよいア
ミノアルキルカルボニル基 ま たけ異なりて水素原子または例えばメチル、エチル、プ
ロピル、インプロピルのような低級アルキル基を示し、
２は酸素原子、硫黄原子または例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基で置換
されていてもよいイミノ基を示す。）、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル
、２，２．２−１Ｊクロルエトキシカルボニル、　２，
２．２−トリフロムエトキクカルボニルのような低級ア
ルコキシカルボニル基または例えばベンジルオキシカル
ボニル、フェネチルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、０−ニトロベンジルオキシカル
ボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基からなる
群から選択されたものである。

脂環式複素環置換アルキル基として複素環は前述した脂
環式複素環であってその環炭素原子、窒素原子に結合す
る置換基は前述したものと同意義を示しアルキル基はメ
チル、１−置換エチル、２−置換エチル、または１−置
換プロピルなどの低級アルキル基である。了り−ル基と
しては、置換基を有してもよいフェニル、ナフチル基で
ありその置換分は脂環式複素環蕃基の炭素原子の置換基
と同意義である。

芳香族複素環基としては置換基を有してもよいピリジル
、ピリミジニル、トリアジニル、チェニル、フリル、ト
リ了ゾリル、チアゾリル、テトラゾリルまたはイミダゾ
リル々どであ勺、その置換基としてはメチル、エチル、
プロピルなどのアルキル基、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシなどのアルコキシ基、アミノ基、メチルアミン、
エチルアミノ、プキピルアきノなどのアルキルアミノ基
、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどのジアルキルア
ミノ基、水酸基、アセトキシ、プロピオニルオキシなど
の低級アルカノイルオキク基、ニトロ基、弗素、塩素、
臭素などのハロゲン原子、またはたとえばメトキシカル
ボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブ
チルオキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基で
ある。

芳香族複素環置換アルキル基は前述した芳香族複素環基
であルその環の置換分は前述した芳香族複素環基の置換
基と同意義であ）、アルキル基は置換メチル、１−置換
エチル、２−置換エチル、１−置換プロピル、または３
−置換プロピルなどのアルキル基である。

Ｒ４はカルボキシ基の保護基であシ、カルボキシ基の保
護基としては特に限定されるものではなくβ−ラクタム
系抗生物質で用いられるカルボキシ基の保護基を示し、
好ましくはメチル、エチル、ｔ−ブチルなどの低級アル
キル基、ベンジル、ジフェニルメチル、ｐ−ニトロベン
ジル、０−ニトロベンジルナトのアラルキル基、アリル
、２−クロルアリル、２−メチルアリルなどのアルケニ
ル基、２，２．２−１リクロルエテｋ、２．２．２　　
）　リプロムエチルナトツノ・ロケン化アルキル基、２
−（）リメチルシリル）エチル基、メトキシメチル、プ
ロポキシメチル、インプロポキシメチル、ブトキシメチ
ル、イソブトキシメチルのような低級アルコキシメチル
基、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブ
チリルオキシメチル、インブチリルオキシメチル、ピバ
ロイルオキシメチルのような低級脂肪族アシルオキシメ
チル基、１−（メトキシカルボニルオキシ）エチル、１
−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、１−（プロポ
キシカルボニルオキシ）エチル、　１−（イソプロポキ
シカルボニルオキシ）エチル、１−（ブトキシカルボニ
ルオキシ）エチル、１−（イソブトキシカルボニルオキ
シ）エチルのような１−（低級アルコキシカルボニルオ
キシ）エチル基、（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル）メチル基またはフタリジル基
である。

Ｒ５は水素原子または水酸基の保護基であル、水酸基の
保糎基Ｅして特に限定されるものではなく一般的なアル
コール性水酸基保護基を用いることができる、好ましく
はトリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリ
フェニルシリルナトのシリル基；ベンジル、ｐ−ニトロ
ベンジル、０−ニトロベンジル、ｍ−メトキシベンジル
などのアラルキル基、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル、０−ニトロベンジル
オキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、２−クロ
ルアリルオキシカルボニル、２−メチルアリルオキシカ
ルボニル、２、２．２−　）リクｐルエトキシカルボニ
ル、２．λ２−トリブロムエトキシカルボニル、１−ブ
トキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、２
−（１７メチルシリル）エトキシカルボニルなどの置換
アルコキシカルボニル基、テトラヒドロピラニル、メト
キシメチル、１−エトキシエチル、２−（）リメチルシ
リル）エトキシメチルなどのエーテル基またはクロルア
セチル基を示し、Ｒ６はメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、　５ｅｃ−ブトキシ力
どのアルコキシ基、フェノキシ、ｐ−トリルオキシ、ｐ
−メトキシフェニルオキシなどのアリールオキシ基を示
す。

一般式（１）において好ましくは、Ｂ１が　メチル基、
エチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、メ
チルチオメチル基、フルオルメチル基、クロルメチル基
、メトキシ基、メチルチオ基、トリフルオルメチル基、
弗素原子、塩素原子、臭素原子であり、Ｒ２は水素原子
、　メチル基、エチル基、ヒドロキシメチル基、メトキ
シメチル基、メチルチオメチル基、フルオルメチル基、
クロルメチル基、トリフルオルメチル基、弗素原子、塩
素原子、臭素原子、Ｒ１とＲ２が一緒になって環を形成
する基−（ＯＨ２）２−　もしくは−（ＯＨ２）３−基
であり、 Ｒ５が水酸基の保護されていてもよいヒドロキシアルキ
ル基、アミノ基の保護されていてもよい了ミノアルキル
基、アミノ基が保護されていてもよいアミノアルコキシ
アルキル基、または同意義を示す）、置換されたアルキ
ル基；置換されていてもよい脂環式複素環基、その環の
炭素原子の置換基は低級アルキル基、シアノ低級アルキ
ル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低
級アルコキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル
基、低級アシルオキシ基、ハロゲン原子、低級アルキル
チオ基、低級アルキルスルフィニル、ハロゲノ低級アル
キル基、低級アルキルスルフォニル基、低級アルコキシ
カルボニル基、アルコキシカルボニル低級アルキル基、
アラアルキル基、カルバモイル基、またはアシルオキシ
メチル基、その環の窒素原子の置換基は、低級アルキル
基、アラルキル基、低ｉ　脂肪族アシル基、アミノアル
キルカルボニル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲノア
ルキル基、スルフォ基、アルキルスルホニル基、 ■ −０：　ＮＲ１１基（Ｒ１０およびＢ１１は前述したも
のと同意義を示す）、または ものと同意義を示す。）、その脂環式複素環基は、アゼ
チジニル、ピロリジニル、ピペリジル、モルホソニル、
テトラヒドロピリミジニル、チアゾリジニル、オキサゾ
リジニル、またはヘキサヒドロピリミジニルなどである
；買換された脂環式複素環置換アルキル基、その環炭素
原子および環窒素原子の置換基は上述の脂環式複素環基
の場合と同意義を示し、そのアルキル基は、メチル、１
−置換エチル、２−置換エチル、または１−置換プロビ
ル基、その置換脂環式複素環基は、上述した脂環式複素
環基と同意義を示す。；または、置換されていてもよい
芳香族複素環置換アルキル基、その環炭素原子置換基は
メチル、エチル、プロピルなどのアルキル基、メトキシ
、エトキシ、プロポキシなどのアルコキシ基、アミノ基
、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノなどの
アルキルアミノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノな
どのジアルキルアミノ基、水酸基、アセトキシ、プロピ
オニルオキシなどの低級アルカノイルオキシ基、ニトロ
基、弗素、塩素、臭素などのハロゲン原子、またはたと
えばメトキシカルボニル、ｐ−二トロベンジルオキシカ
ルボニル、ｔ−７’チルオキシカルボニルなどのアルコ
キシカルボニル基であり、その芳香族複素環基は、ピリ
ジル。

ピリミジニル、トリアジニル、チェニル、フリル、トリ
アゾリル、チアゾリル、テトラゾリルまたはイミダゾリ
ルなどであシ、そのアルキル基は置換メチル、１−置換
エチル、２−置換エチル、１−置換プ目ピル、または３
−置換プロビルである。

Ｒ４が水素原子、　メチル、ｔ−ブチル、ベンジル、ジ
フェニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、０−ニトロベン
ジル、アリル、２−クロロアリル、２．２．２−トリク
ロロエチル、２．２．２−　）リブロモエチル、２−（
）リメチルシリル）エチル、ピバロイルオキシメチルま
たは（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン
−４−イル）メチル基などのカルボキシ基の保護基であ
シ、Ｒ５は水素原子、　アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、
ｐ−ニトロベンジル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、アリルオキシカルボニル、２，２．２−）リブロ
ムエトキシカルボニル、１−エトキシエチルまたはクロ
ルアセチル基であＪ、Ｂ６はメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、　　５ｅｃ−ブト
キシ々どのアルコキシ基、フェノキシ、ｐ−トリルオキ
シ、ｐ−メトキシフェニルオキシなどのアリールオキシ
基、炭素数１〜４個の直鎖または分枝鎖状ジアルキルア
ミノ基、たとえばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
プロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミ
ノ、ジー５ｅｅ−ブチルアミン、ジ−ブチルアミンなど
である。

一般式（至）を有する化合物を第１表に例示する。

第　　１　　表 表中の略号は以下の通シである。

ＰＮＢ　：　ｐ−二トロペンジル基 ＰＮＺ　：　ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基Ｏ
ＮＢ　：　ｏ−ニトロベンジル基 ＴＭＳ　：　）リメチルシリル基 ＰＯＭ　？ピバロイルオキシメチル基 一般式翰におけるＲ＋　、　Ｒ２、Ｒ５、Ｒ４およびＲ
５は一般式億）における前述のそれらと同意義を示し、
一般式翰における好適なＲ１、Ｒ２、Ｒ５、１４および
Ｒ５は、一般式（９）における前述のそれらと同意義を
示す。

第２表に一般式翰を有する化合物を例示する。

表中の略号は以下の通シである ＦＩＢ　：　ｐ−二トロベンジル基 ＦＮＺ　：　ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル基Ｏ
ＮＢ　：　Ｏ−ニトロベンジル基 ＴＭＳ　：　）リメチルシリル基 ＰＯＭ　：ピバロイルオキシメチル基 一般式（Ｉ）、　＠、　（Ｖ）の立体配位に関しては特
に限定はないがチェナマイシンで代表される立体配位を
有するものが好ましい。Ｒ３が不斉炭素原子を有する場
合にはその光学活性体またはそれらの混合物であっても
よい。

一般式（１）を有する化合物は、ウッドワードの方法に
よｐ　ＲＩＳがフェニル基である化合物が合成可能であ
るが（例えば、亀谷ら、　Ｊ、Ｏ，Ｓ、Ｐｅｒｋｉｎｌ
　、　１９８１　、９６４．　Ｒ，Ｊ、　Ｐｏｎ５ｆｏ
ｒｄ　ａｎｄ　Ｒ，Ｓｏｕｔｈｇａｔｅ。

：ｒ、ａ、ｓ、　ｃｈｅｍ　ｃｏｍｍ、、　１９８０．
１０８５　）　ｓその分子内ウィツテイヒ反応による環
化反応はＲ３が電子吸引性置換基の場合のみ進行し　Ｒ
５がアルキル基の場合はきわめて困難であることが知ら
れている。本発明者らは一般式（１）を有する化合物の
うちで、従来のウッドワードの方法では合成困難と思わ
れるＲ６がアルコキシ基である化合物が、一般式（１）
と一般式〇ｌ）を有する化合物を加熱することによシ容
易に得られることを見い出した。

さらにこ＼に得られた一般式（１）を有する化合物はＲ
３が電子吸引性置換基であると否とを問わずその環化反
応がきわめて円滑に進行して、カルバペネム化合物幌を
与えることを見い出した。

一般式（［）、ＧＶ）を有する化合物は次に述べる方法
によシ合成される。

本発明に用いた出発物質である一般式（１）を有する化
合物は次のようにして得ることができる。

化合物（Ｖ）（式中Ｒ１４は水酸基の一般的保護基を示
す。）とシリルケテンアセタール（ＶＤ　Ｃ式中Ｒ’、
Ｒ２は、前述したものと同意義を示す。）をトリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステルの存在下
で反応させて得られる化合物（ＶＩＤのトリメチルシリ
ル基及びベンジル基を常法にしたがって除去し、カルボ
ン酸（■）とする。

（Ｖ）　　　　　　　（％ｌｌ）　　　　　　　　［相
］■ この化合物にメルカプタン誘導体（Ｒ’ＳＨ；　Ｒ３は
前述したものと同意義を示す、たとえばイングロピルメ
ルカブタン、ブチルメルカプタン、２−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）エチルメルカグタン、
２−［（ト）−（ｐ−二トロペンジルオ中ジカルボニル
）ホルムイミドイルコアミノコニチルメルカプタン、？
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン
−３−イルメルカプタン、１−［Ｎ−（ｐ−二トロベン
ジルオキシカルボニル）アセトイミドイル」ピロリジン
−３−イルメルカプタンのようなメルカプタン類を示す
。）を、たとえばジシクロへキシルカルボジイミドのよ
うな縮合剤の存在下に反応させ化合物ωへ導き次いでア
ルコキシオキサリルクロリドを反応させて化合物００（
式中ｕ１５は一般的カルボキシ基の保膿基を示す。）へ
導く。

化合物ωはまた次のようにしても得ることができる。

すなわち、化合物（Ｖ）（式中Ｒ１４は前述したものと
同意義を示す。）とシリルケテンチオアセクール（至）
（式中、Ｒ１６ハフエニル、ｐ−クロロフェニルｓ　ｐ
−メトキシフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ナフチルな
どのアリール基を示す。）をトリフルオロメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルエステルの存在下で反応させて得
られる生成物のＮ−）リメチルシリル基を常法にしたが
って除去し化合物（Ｘｌｌ）を得る。この化合物ω　　
　　＠　　　　　　　（至） ω にメルカプタン誘導体（Ｒ’８Ｈ；　Ｒ’は前述したも
のと同意義を示す、たとえばイソプロピルメルカグタン
、ブチルメルカプタン、ｚ−（ｐ−二トロベンジルオキ
シカルボニルアミノ）エチルメルカプタン、２−［［Ｎ
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ホルムイミ
ドイルコアミノコニチルメルカプタン、１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルメ
ルカプタン％　　１−［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）アセトイミドイル」ピロリジン−３−イ
ルメルカプタンのようなメルカプタン類を示す。）を、
たとえばトリエチルアミンのような三級アミンの存在下
に反応させて化合物■を得ることができる。

一般式（１）を有する化合物と一般式（…）を有する化
合物を非プロトン性溶媒、たとえばヘキサン、ベンゼン
、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチレン、
１，２−ジクロルエタン、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、アセトニトリルまたはジメチルホル
ムアミド中で（一般式（ＩＩ）を有する化合物を加え、
この混合物を）５０〜１５０℃に５時間ないし５０時間
加熱したのち、溶媒および低沸点物質を減圧下留去する
ことによシ一般式値）を有する化合物が得られる。この
際反応温度および時間によって一般式（ＩＶ）を有する
化合物も同時に生成してくる。

化合物僅）をさらに上記の非プロトン性溶媒中８０〜１
５０℃に１０時間から５日間加熱することによシ一般式
■を有する化合物が得られる。

なお化合物（１）を単離することなく化合物（１）と（
ＩＩ）の混合溶液を反応温度８０〜１５０℃で１０時間
〜５日間保つことによシ化合物ＧＶ’）を直接得ること
ができる。以下に（Ｉ［）およびωの製造法を実施例及
び参考例によって示す。

実施例　１ ルエステル （３）ＰＮＢ （ａｓ、ＪＲ）−４−［Ｃｍ−１−［［（ｓ）−１−（
ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）ピロリシン−３
−イルチオ］カルボニル］エチル」−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル）−３−［（６）−１−（）
　ＩＪ　メチルシリルオギシ）エチル］−２−アゼチジ
ノゾ１４６りをトルエン５０−に溶かし、亜リン酸トリ
エチル９８０μノとハイドロキノン１０ηを加え、１日
加熱還流した。トルエンを留去し残留物をキシレン８０
ｄに溶かし、１日加熱還流した。シリカゲルカラムを用
いて精１１１１［シクロヘキサン−酢酸エチル（１：２
）で浴出］して目的物４１５〜（収率５８％）を得た。

ＩＲスヘク）　＃　　ｒｉａＥＩ”’ｄ’　：　１７６
５．　ＨＯＧａｘ ＮＭＲスペクトル（ａＤａ１５）δｐＩ）ｍ　：　０．
１０　（９Ｈ。

Ｂ）、　１．２５（６Ｈ，ｄ、　Ｊ−５Ｈ２）、　１．
７〜２．４（２Ｈ，ｍ）、　３．１〜４．４（９Ｈ，ｍ
）ｓ　５．１１　（ＩＨ。

ｃＬ、　、Ｔ−１４Ｈ２）、　５．１５（２Ｈ，ｓ）、
　５．２４（ＩＨ。

ｄ、　、Ｔ−１４Ｈｚ）、　７．０（２Ｈ，ｃＬ、　Ｊ
−９Ｈ２）＋７．５７　（２Ｈ，ｅＬ、　Ｊ＝９Ｈｚ）
、　８．１４　（２Ｈ，ｅＬ。

ｙ　−ｓ　Ｈｚ） 実施例　２ キシ）エチル］カルバベンー２−エム−３−力（ｓｓ、
４Ｒ）　−４−［（８）−１−［［（ｓ）−１−［Ｎ−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミド
イル］ピロリジン−３−イルチオ」カルボニル」エチル
］−３−１１ｒｔ）−１−（トリメチルシリルオキシ）
エチル］　−２−７ゼチジノン５５０■を実施例１で述
べたと同様の操作により、環化生成物２０４１ダを得た
。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：　０．１
２（９Ｈ。

ｓ）、　１２６（６Ｈ，ｄ、　Ｊ−７Ｈｚ）、　１．７
〜２．６（２Ｈ，ｍ）、　２．２８（３Ｈ，ｓ）、　ａ
、ｏ　〜４．４（９Ｈ。

ｍ　）＋　５．１３　（Ｉ　Ｈ９ｄ、Ｊ−１４Ｈｚ）、
５．１５　（２Ｈｅ５）、　５．２７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
”１４Ｈ２）、　７．４８（２Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　７．５’８Ｃ２Ｈ＊　ｃｌｌ　
、ｒ＝ｓＨｚ）＋８．１５（４Ｈ，ｄ、　、Ｔ−９Ｈ２
）参考例　１ （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［（Ｆｌ）−ｔ
−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチルコー１−
トリメチルシリル−２−アゼチジノン１．５０　ｆｉと
　１−フェニルチオ−１−（トリメチルシリルオキシ）
プロペン１．００ｇを塩化メチレン１０−に溶かし、ト
リフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル
５０μノを加えて、窒素雰囲気上室温で一夜攪拌した０
反応液を水洗後、溶媒を留去し、残留物をエタノール１
０−に溶かし弗化カリ１４０りを加えて室温で１時間攪
拌した。シリカゲルカラムでＨ１ｌｌ！［シクロヘキサ
ン−酢酸エチル（４：１）で溶出コして目的物［異性体
Ａ　８７０　＃、異性体Ｂ５４０〜。

ＡとＢの約１：１混合物１２０１１＋１ｉ１合計１．３
３１ψ（収率８１チ）」を得た。

異性体Ａ； 工Ｒスペクトル　νＯＨ”’ｃｍ−’　：　３４３０，
１７６５．１６９５ａｘ ＮＭＲスペクト＃　（ＯＤＯ／３）δｐｐｍ　：　０．
０８（６Ｈ。

θ）、　０．８７（９Ｈ，ｓ）、　１．２０（３Ｈ，ａ
、　：ｒ−ｓＨｚ）、　１．３２（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−６
Ｈ２）、　２．７〜３．２（２４ｍ　）　、３，９４　
（Ｉ　Ｈｌｄｄ、Ｊ−６，２Ｈｚ）　＋４．２０　（Ｉ
Ｈ，ａｑ、、ｙｍｓ、　５Ｈｚ）、　５．９０（ＩＨ。

ｂｒ、ｓＬ　７．４１（５Ｈ，ｓ） 異性体Ｂ； 工Ｒスペクトル　νＯＨ”ｔ″ｃｒｎ−’　：　３４３
０，１７６５，１６９５ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ　：　０．０
　Ｂ　（６Ｈ。

θ）、　０．８７（９Ｈ，ｅ）＋　１．２２（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ−６Ｈ２）、　１．３２（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−８Ｈ
ｚ）＋　２．５〜４１（２Ｈ，ｍ）、　３．７６　（Ｉ
　Ｈ，ｄａ、　Ｉ−８，２Ｈｚ）。

４．１８（ＩＨ，ｑｕｉｎｔ、Ｊ−６Ｈ２）、　６．０
５（１Ｈ。

ｂｒ、　ｓ　）１　７．４１　（５Ｈｓ　　Ｂ　）参考
例　２ 参考例１で得られた（３Ｂ、４Ｒ）−３−［（３）−１
−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−
［（Ｒ）−１−［（フェニルチオ）カルボニルコニチル
］−２−アゼチジノン（異性体Ａ　）　１．４ｏｇをア
セトニトリル１４ｍｊＫ溶かし、水冷下、三弗化ホウ素
エーテル錯体９００μｌを加えた。同温度で１時間攪拌
後、苛性ソーダ水浴液を加えて中和した。酢酸エチルを
加えて水洗し、溶媒を留去して目的物９７７１ｎ９（収
率９８％）を得た。

工Ｒスヘク）　ｈ　　ｖＫＢｒｃｙｉ’：　３３６０，
１７４５，１６９５ＱａＸ ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯ／！、）Ｊｐｐｍ　：　１．
２０　（３Ｅ。

ｄ、　　Ｊ−６Ｈ２）、　　１．２８（３Ｈ，ｄ、　　
７Ｈ２）、　　２．８〜３．２　（４Ｈ，ｍ）、　　３
．７４　（Ｉ　Ｈ，ｄ４．、Ｔ−７，３Ｈ２）４．０５
　（ＩＨ，ｑｕｉｎｔ、　Ｊ−６Ｈｒ；）、　　７．３
５　（５Ｈ，Ｂ）参考例３ （ａｓ、４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル
、Ｊ−４−［但）−１−［（フェニルチオ）カルボニル
コニチル〕−２−アゼチジノン７５０叩を塩化メチレン
に溶かし、クロロトリメチルシラン１．０２ｄとトリエ
チルアミン１．１５１Ｌｌを加えて室温で２時間攪拌し
た後、溶媒を留去した。

残留物を酢酸エチル１０―とメタノール２ｄの混合溶媒
に溶かしくＳ）　−３−メルカプ）−１−（ｐ−二トロ
ベンジルオキシ力ルボニル）ピロリジン１．２８１１と
トリエチルアミン７５０μｌを加え、室温で１日攪拌し
た。反応液を水洗後　溶媒を留去し、シリカゲルカラム
で精製［シクロヘキサン−酢酸エチル（１：１）で溶出
コして目的物１．０４ｇ（収率Ｔ５％）を得た。

工Ｒスペクトル　ν（ｌ′Ｈ”　ｃＩＩＬ−１：　３４
３Ｇ　、　１７６０　、１６９５ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＯＤＣ！ｔ、）　Ｊｐｐｍ　：　０
．１０　（９Ｈ。

ｓＬ　１．１　Ｂ（３Ｈ，（１，、Ｔ−７Ｈ２）１１．
２２（３ＨＩｄ、　Ｊ−７Ｈｚ）、　１．７〜２．４（
２Ｈ，ｍ）、　２．６〜３．１（２Ｈ，ｍ）、３．２〜
４．３（７Ｈ，ｍ）、５．１８（２Ｈ。

ｓ）＋　６．１　（ＩＨ，ｂｒ、　ｓ　）、　Ｔ、４Ｔ
Ｃ２Ｈ，＋１．Ｊ−８Ｈｚ）、　ＩＬ１８（２Ｈ，ｄ、
　、Ｔ−８Ｈ２）参考例　４ −３−［（６）−１−（トリメチルシリルオキシ）（３
８，４Ｒ）−４−［（Ｒ）−１−［［（Ｓ）−１−（ｐ
−二トロベンジルオキシカルポニル）ピロリジン−３−
イルチオ］カルボニル］エチル〕−３−［（旬−１−（
トリメチルシリルオキシ）エチル］−２−アゼチジノン
９８４ηをテトラヒドロフラン１０ｍ１Ｋ溶かし、トリ
エチルアミン６１５μｌとｐ−ニトロベンジルオキシオ
キサリルクロリド９１１１１１１ｉＪを加え　室温で１
時間攪拌した。

反応液に酢酸エチルを加え水洗後溶媒を留去した。残留
物をシリカゲルカラムで精製［シクロヘキサン−酢酸エ
チル（２：１）で溶出コして目的物７６１１１ｎ９（収
率５６チ）を得た。

工Ｒスペクトル　νＯＨ”ａｎ’：　１８０５，１７３
０，１７１０ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：　０．１
０　（９Ｈ。

８　）１　１．２４　（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）Ｉ　　
１．３１　（３）１゜ｄ、　　Ｊ＝７Ｈｚ）、１．７〜
２．３Ｃ２Ｈ，ｍ）、３．２〜４．５（９Ｈ＋　　ｍ　
）＋　　５−２０　（２Ｈ＊　　ｓ　）＋　　５．３８
　（２ＨＩ　　ｓ）。

７．４７　（２Ｈ，ｄ、、Ｔ＝９Ｈｚ）、　　１．５４
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝　９　ａｚ）＋　　８−２１　（４Ｈ
ｌａｔ　　Ｊ　−９Ｈ２）参考例　５ ００ＰＮＢ （ＩＲ，ＳＲ，６Ｂ）−１−メチル−２−［（ＳＬ？−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−
３−イルチオ］−６−［（Ｒ）−１イトリメチルシリル
オキシ）エチル］カルノ（ペン−２−エム−３−カルボ
ン酸　ｐ−ニトロベンジルエステル２７９　Ｔｎ９をア
セトニトリル３−に溶かし、弗化カリ６５１ダを水１−
に溶かして加えた。

さらに酢酸１３０μｊを加え　室温で１時間攪拌した。

反応液に酢酸エチルを加えて水洗後溶媒を留去した。残
留物をシリカゲルのショートカラムでｆＩＩ＃［酢酸エ
チル−メタノール（Ｉ　Ｑ　：　１）で溶出コして目的
物２３７１ｎｇ（収率９５チ）を得たＯ ＩＲスヘｌ　）　ルｙＫＢｒＢ−’：　３４（１０，１
７７Ｇ、１７０５ａｘ ＮＭＲスペクトル（ｃ：ｏａ１３）δｐｐｍ　：　１．
３０　（３Ｈ＋ａ、　Ｊ−６Ｈｚ）、　Ｌ３８Ｃ３Ｈ，
ａ、　、Ｔ＝６Ｈ２）、　１．ｓ〜１５　（２ＦＬ、　
ｍ）、　３．１〜４．４　（１０Ｈ，ｍ）、　５．１７
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１５Ｈｚ）、　５．２０（２Ｈ，ｓ
　）、　５．５２（Ｉ　Ｈ，ｄ、　：ｆ−１５Ｈｖｓ）
、　７．４７　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ−９Ｈｚ）、　？−６
２（２Ｈ，ｄ、　Ｊ−ｆｌＨｚ）、　１１．２Ｇ（４Ｈ
。

ｄ、Ｊ讃９Ｈｚ） 参考例６ −３−１ルチオ］カルバペン−２−エム−３−カルボン
酸 Ｃ！０ＯＨ （Ｉ　Ｒ，ＳＲ１６Ｂ）−６−［＠−１−ヒドロキシエ
チルコーラ−メチル−２−［（ｓ）−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルチオ
］′カルバベンー２−エム−３−カルボンＩＲｐ−二ト
關ベンジルエステル８０〜をテトラヒドロンラン１０ｒ
Ｒ１ト水１０ｄノｆｆｉ合溶媒に溶かし１０％パラジウ
ム−炭素ａｏＩＲ９を加え、水素雰囲気下室源で１．５
時間攪拌した。

触媒を濾過して除き、ｐ液のテトラヒドロフランを留去
した後　酢酸エチルで洗浄した。ダイヤイオンのカラム
でＭｉｊ！１（水〜３％アセトンー水で浴出して凍結乾
燥）して目的物２５ダ（収率６３％）を得た。

ＩＲスヘク）　ｋ　　ｙＫＢｒ（ｙｇｌ−’：　３４０
０．１７６０．１５９０ａｘ ＵＶスヘクトｋ　　λＨ２Ｏ２９Ｂ、８ｎｍ（ｇ８４６
０）ａｘ ＮＭＲスペクトル（Ｄ２０′）δｐｐｍ　：　１．ｏ　
３　（３Ｈ。

ｄｏ　　Ｊ　＝　Ｔ　Ｈ２）１　１．１０　（３Ｈ＋　
　６＊　　Ｊ　＝　（ｉ　Ｈｚ）、　　１−７〜１．９
（ＩＨ，ｍ）、２．２−４４（ＩＨ，ｔｏ）Ｉ　　３１
）　〜４．１（９Ｈ，ｍ） 参考例　Ｔ ジノン （３Ｂ、　　４Ｒ）−＋−［（ａ）−１−［［（ｓ）−
ｔ　−［Ｎ−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル］ピロリジン−３−イルｆ−オ」カル
ボニルコニチル］−３−［（６）−１−ヒドロキシエチ
ル］−２−アゼチジノン６６１ｍｇを参考例３および４
で述べたと同様の操作にょシ、標題化合物５５０ノダに
導いたＯ ＮＭＲスペクトル（○Ｄａｔ、）δｐｐｍ　：　０．０
８（９Ｈ。

ｓ）、１２３（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２）、１．３０（３
Ｈ１ａ、　Ｊ−７ａｚ）、　１．７〜２．６　（２Ｈ，
ｍ　）、　２．２８（３Ｈ，Ｂ）、　３．２〜４．６（
９ＨＩ　ｍ）１５．１８（２Ｈ。

Ｂ）、５．３８（２Ｈ，８）、７．５２（２Ｈ，ｄ、Ｊ
−９Ｈ２）、　　乙５５（２Ｈ，ｄ、Ｊ−９Ｈ２）、８
．１５（２Ｌａｓ　Ｊ　−９ＨＥ） 参考例　８ （ＩＲ，ＳＲ，６Ｓ）−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシ
エチル」−１−メチル−２−［（Ｓ）−１−（ｐ−二ト
目ベンジルオキシカルボニル）ピロリシン−３−イルチ
オ」カルバペン−２−エム−３′−カルボン酸　ｐ−ニ
トロベンジルエステル１００ダをテトラヒドロ７ラン１
０１１Ｌｔと水１０ｍＪの混合溶液に溶かし、１０％パ
ラジウム−炭素１００Ｔｎ９を加え、水素雰囲気上室温
で１．５時間攪拌した。触媒を濾過して除きＦ液からテ
トラヒドロフランを留去した後酢酸エチルで洗浄した。

水層にリン酸緩衝液（ｐＨ７）１０ｄを加え、さらに苛
性ソーダ水溶液を加えてｐＨ８，５に調整しなからエチ
ルアセトイはデート塩酸塩１９６〜を加えた。室温で３
０分間攪拌した後、反応液に稀塩酸を加えてｐＨ７に戻
し、ダイヤイオンのカラムで８ｆｆ［（水〜３％アセト
ンー水で浴出して凍結乾燥）して目的物３２ｒｎ？（収
率５Ｔチ）を得た。

工Ｒスペクトル　ν盆：　ａｍ−’　：　３４００．１
７５５゜１６Ｂ０．１６３５．１５９０ ＵＶスペクトル　λ：１０Ｘ２９７．２ｎｍ（１６００
）ＮＭＲスペクトル（Ｄ２０）δｐｐｍ　：　１．０４
　（３Ｈ，ａ。

、Ｔ＝７Ｈｚ）、１．１０（３Ｈ，６，、Ｔ＝ｌＩ６Ｈ
ｚ）、１．８〜２．０（Ｉ　Ｈ，ｍ）、２．０５（１，
５Ｈ，ｓ）、２．０９（１，５Ｈ，Ｂ）、　　２．２〜
２．４（ＩＨ，ｍ）ｅ　　３．１〜４．２（９Ｈ。

ｍ） 用願人　三共株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は同一または異なる水素原
   子（ただしＲ＾１およびＲ＾２がともに水素原子のもの
   を除く）、炭素数１〜１０個の未置換もしくは置換アル
   キル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキル
   チオ、シクロアルキル、アリール、アラルキル、アラル
   ケニル、アラルキニルもしくはＲ＾１とＲ＾２が一緒に
   なって３〜６員環を形成する基、またはハロゲン原子を
   、Ｒ＾３は未置換もしくは置換アルキル基、アラルキル
   基、脂環式複素環基、脂環式複素環置換アルキル基、ア
   リール基または芳香族複素環基または芳香族複素環置換
   アルキル基を、Ｒ＾４はカルボキシ基の保護基を、およ
   びＲ＾５は水素原子または水酸基の保護基を示す。〕を
   有する化合物に一般式 Ｐ（Ｒ＾６）＿３（II） 〔式中、Ｒ＾６はアルコキシ基、アリールオキシ基また
   はジアルキルアミノ基を示す。〕 を有する化合物を反応させ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５およ
   びＲ＾６は前述したものと同意義を示す。〕を有する化
   合物とし、これを閉環することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５
   は前述したものと同意義を示す。〕を有する１−置換カ
   ルバペネム−３−カルボン酸誘導体の製造法。