JPS61275706A - 光導波路 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光導波路に関し、更に詳しくはクラッドと光導
波路よりなる光導波路において少なくとも光導波部が屈
折率を制御する為の置換基をヒドロシリル化反応により
導入した架橋シロキサンポリマーよりなる光導波路に関
する。

［従来技術］ 比較的安価な光導波路用材料としてプラスチックがある
が、利用可能な素材は４〜５種類と少なく、またプラス
チックは耐熱性に劣る。

シロキサンポリマーは、透明性、耐熱性に優れ、架橋硬
化後にゴム状弾性を示すことから、興味ある光学材料と
して注目されている。

光導波路としてシロキサンポリマーを用いることは古く
から知られている。たとえば、ジャパニーズ・ジャーナ
ル・オブ・アプライド・フィジックス（ＪＪＡＰ）、Ｖ
ｏｌ、１０．（１９７１）１５９７頁には、シリコーン
ゴムが可撓性光導波路となることが示されている。また
１、特開昭５４−１５０１３９号公報には、コアおよび
クラッドの少なくとも一方をシリコーンゴムで構成した
ことを特徴とする光伝達用タララドロッドが開示されて
いる。

しかしながらいずれの文献も、透明なかつ屈折率を制御
したシロキサンポリマーを用いて性能の良い、かつ安価
な光導波路を製造するための方法については同等言及し
ていない。

一方、シロキサンポリマーはコンタクトレンズなどへの
応用を意図した光学材料として注目されている。

古くは、たとえば米国特許第３，２２８，７４１号（１
９６６年１月１１日）では、ガス透過性のよい透明シリ
コーンゴムから成るコンタクトレンズが示されている。

米国特許第３，９９６，１８９号（１９７６年１２月７
日）では、シリカ系充填剤の屈折率とシロキサンポリマ
ーの屈折率とを整合させるために、フェニル基を含むシ
ロキサンポリマーを適量用いて、組成中のシロキサンポ
リマーの屈折率とシリカ系充填剤の屈折率とを整合させ
、これにより光学的に透明なシロキサンポリマーを作る
方法が開示されてる。すなわち、ともに６〜１６モル％
のフェニル基を含有した両末端ビニル基を有するシロキ
サンポリマーと両末端水素けい素結合（ミ５ｔＨ）を有
するシロキサンポリマーとを白金触媒を用いた付加反応
（ヒドロシリル化反応）により光学的に透明な架橋シロ
キサンポリマーを得ている。

次に、２５℃における粘度が１００〜１５．０００ｃＰ
の両末端ビニル基封鎖のフェニル基を含有したシロキサ
ンポリマー（メチル基／フェニル基のモル比１／１〜１
０／ｌ）と２５℃における粘度が０．５〜５，０００ｃ
Ｐであるけい素−水素結合（ＳｉＨ）を有するシロキサ
ンポリマーと白金化合物とからなる光通信ガラスファイ
バー用被覆材［クラツド材（コア材より屈折率が大きい
）コが特開昭５５−１３０８４４号公報（１９８０年Ｉ
Ｏ月１１日公開）などに示されている。

一方、米国特許第３，３４１，４９０（１９６７年１０
月１２日）においては、主としてジメチル／フェニルメ
チルシロキサンコポリマーとジメチル／メチルビニルシ
ロキサンコポリマーとのブレンドによって補強性シリカ
系充填剤を混合した透明なシロキサンポリマーが得られ
ている。

以上の公知技術は、いずれも光学的に透明な架橋シロキ
サンポリマーに関するものであり、その中で屈折率の制
御をフェニル基含有シロキサンにより行うものである。

その具体的な方法としては、１．３．５−トリメチル−
１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，
３，５．７−テトラメチル−１，３，５，フーチトラフ
エニルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロ
トリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサ
ンなどのフェニル基含有環状シロキサンモノマーを用い
、かつ付加反応による架橋のためのビニル基、けい素−
水素結合を導入したジメチル／ジフェニルシロキサンコ
ポリマー、ジメチル／メチルフェニルシロキサンコポリ
マー、メチルフェニルシロキサンポリマーなどの重合物
ないしはこれらのブレンド物を付加反応により架橋した
シロキサンポリマーである。

以上のシロキサンポリマーの光学材料としての従来技術
には次のような欠点がある。

１）屈折率の制御が主としてフェニル基によるため、屈
折率の制御範囲が限定される。

２）フェニル基含有シロキサンモノマーの共重合によっ
て屈折率の制御を精度よく行うためには、共重合工程か
ら何回かの試作を繰返す必要があるため、不経済であり
、かつ時間がかかる。

３）屈折率が異なる数種類の架橋シロキサンポリマーを
得たい場合には、その各々について、フェニル基含有シ
ロキサンポリマーの仕込み量を変えた共重合を行なう必
要があり、品質管理、在庫などの面で種々の不都合が生
じる。

４）ポリマーブレンドによる屈折率制御は、両ポリマー
の相溶性からの制限と同時に、たとえ相溶性のあるポリ
マー同志を用いても、レーリー散乱が大きくなるため、
透明性がそこなわれる。

また、以上の公知技術は、いずれも光学的に透明なシロ
キサンポリマーに関するもので、用途としてはコンタク
トレンズなどであり、屈折率を精度よく制御しようとい
うものではない。

光導波路、光ファイバー等の基本原理となる屈折率の制
御技術は重要である。光導波路のクラッドと光導波路と
の屈折率によって光導波路の重要な特性の一つである開
口度が決まる。また光導波路と他の光素子、光デバイス
などとの接合において良好な光透過特性を得るためには
、屈折率の整合が必要である。これらのために屈折率を
精度よくかつ広範囲に変化させた光導波路が必要になっ
てくる。

［発明の目的］ 本発明の目的の一つは、自由に、しかも大きく屈折率を
変化させ得る置換基を有する架橋シロキサンポリマーよ
りなる光導波路を提供することにある。

本発明の他の目的は、フェニル含有環状シロキサンポリ
マーの合成から得られるシロキサンボリマーによらず、
屈折率を制御する為の置換基をヒドロシリル化反応によ
りシロキサンポリマーの側鎖に導入すると同時にヒドロ
シリル化反応により架橋させたシロキサンポリマーより
なる光導波路を提供することにある。

本発明のもう一つの目的は、他の光素子、光デバイスな
どとの接合に適した屈折率を整合させた光導波路を提供
することにある。

［発明の構成コ 本発明のこれら目的は、クラッドおよび光導波部（コア
）よりなる光導波路において、少なくとも光導波部が、
屈折率を制御するための置換基をヒドロシリル化反応に
より導入したシロキサンポリマーよりなることを特徴と
する光導波路により達成される。より詳しくは、少なく
とも光導波部が次の架橋シロキサンポリマー（Ａ）また
は（Ｂ）のいずれかによりなる光導波路である。

イ）架橋シロキサンポリマー（Ａ） （ａ）少なくとも１つの非共役型不飽和結合および屈折
率を制御する為の置換基を有する有機化合物と（ｂ）水
素化ケイ素を有するシロキサンポリマーとのヒドロシリ
ル化反応により側鎖に該置換基を導入したシロキサンポ
リマーを、ヒドロシリル化反応において反応せずに残っ
た該シロキサンポリマー中の水素化ケイ素と、（ｃ）少
なくとも２個の非共役型不飽和結合を有する有機化合物
とのヒドロシリル化反応により架橋した架橋シロキサン
ポリマー ロ）架橋シロキサンポリマー（Ｂ） （ｄ）少なくとも１個の水素化ケイ素を有しかつ屈折率
を制御するための置換基を有するシロキサン化合物また
はシラン化合物と（ｅ）非共役型不飽和結合を有するシ
ロキサンポリマーとのヒドロシリル化反応により側鎖に
該置換基を導入したシロキサンポリマーを、ヒドロシリ
ル化反応において反応せずに残った該シロキサンポリマ
ー中の非共役型不飽和結合と、（ｒ）少なくとも２個の
水素化ケイ素を有するシロキサン化合物またはシラン化
合物とのヒドロシリル化反応により架橋した架橋シロキ
サンポリマー。

１、架橋シロキサンポリマー（Ａ、） 水素化ケイ素を有するシロキサンポリマー（ｂ）として
は、たとえば式： ［式中、ＲＩは水素または炭素数１−１２のアルキル基
またはアルコキシ基、Ｒ２およびＲ３は同一または異な
る炭素数１−１２のアルキル基またはアルコキシ基、Ｘ
およびｙは正の整数を表す。］。

アルキル基としては、メチル、エチルなどの低級アルキ
ル基、特にメチル基が好ましい。アルコキシ基としては
、メトキシ、エトキシなどの低級アルコキシ基が好まし
い。

有機化合物（ａ）の屈折率を制御するための置換基とし
ては芳香族炭化水素基またはフッ素置換炭化水素基が包
含され、たとえば、フェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基、ピレニル基などの芳香族炭化水素基、フッ素置換
アルキル基たとえばトリフルオロプロピル基などが好ま
しい。

有機化合物（ａ）としては、種々の有機化合物を用いる
ことができ、たとえば式： ［式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ８およびＲ７は同一または異な
る置換基を表し、その内の少なくとも１つは屈折率を制
御するための置換基である］。

で表される化合物であり、少なくとも１つ以上の非共役
型不飽和結合を有する化合物である。

非共役型不飽和結合としてはビニル基、アリル基、イソ
プロペニル基などがあり、ビニル基が特に好ましい。

有機化合物（ａ）とけい素−水索結合を有するシロキサ
ンポリマ−（ｂ）とのヒドロシリル化反応は次の形で進
行する 少なくとも２個の非共役型不飽和結合を有する何機化合
物（ｃ）としては、たとえば側鎖または鎖端にビニル基
を有する下式で示されるものを用いることができる。

ＣＨ，＝ＣＨ−〜＾翳ＣＨ＝ＣＩ−１ｔ　　　　（ＩＩ
Ｉ）ｃＨ＝ｃｔｔｔ （ただし、へ〜〜−八：へ学構造部） 例えば、 ＣＨ！　＝　ＣＨＳ　ｉ　−ＯＳ　Ｉ　　ＣＨ＝　ＣＨ
！ＣＨ３ＣＨ３ また、有機化合物（ｃ）としては、たとえば式：［式中
、Ｒ５−Ｒ１８は、ビニル基以外の置換基である。］ で表される末端または側鎖にビニル基を持つシロキサン
ポリマーを例示することができる。置換基としては、メ
チル基、エチル基などのアルキル基、アルコキシ基、シ
アノ基が例示される。

さらに有機化合物（ｃ）としては、たとえばなどのごと
く、非共役型不飽和結合を２つ以上有するものであれば
よい。

すなわち有機化合物（ｃ）は、水素化けい素とのヒドロ
シリル化反応を生じさせうる少なくとも２つ以上の非共
役型不飽和結合を有するものであればよく、また、シロ
キサン単位、屈折率を制御するための置換基を含んでい
てもよい。

次にヒドロシリル化反応による架橋は下図のように進行
する。

Ｇ　Ｈｔ　＝　ＣＨ蘭〜−ＣＨ＝　ＣＩ−Ｉ　ｔ＋２６
ｉＳｉＨ ＝Ｓｉ−ＣＨｔＣＩ−１ｔ〜ψ＾ＣＨｔＣＨｔ　　Ｓｉ
＝架橋は、有機化合物（ａ）とシロキサンポリマー（ｂ
）とのヒドロシリル化反応終了後に行ってもよく、ある
いは、該ヒドロシリル化反応時に有機化合物（ｃ）を共
存させて両ヒドロシリル化反応を競争的に行わせてもよ
い。

■、架橋シロキサンポリマー（Ｂ） 非共役型不飽和結合を有するシロキサンポリマー（ｅ）
としては、たとえば式： ［式中、Ｒ′７は非共役型不飽和結合を有する置換基、
Ｒ”、Ｒ”およびＲ”は同一または異なる炭素数１〜１
２のアルキル基またはアルコキシ基、Ｘおよびｙは正の
整数を表わす。］ で示される化合物である。

非共役型不飽和結合を有する置換基としては、ビニル基
、アリル基、イソプロペニル基などがあり、ビニル基が
特に好ましい。

アルキル基としては、メチル基、エチル基などの低級ア
ルキル基、特にメチル基が好ましい。アルコキシ基とし
ては、メトキシ、エトキシなどの低級アルコキシ基が好
ましい。

また両末端は、たとえばビニル基などの非共役型不飽和
結合を有する置換基で封鎖されていることが好ましい。

（ｄ）の少なくとも１個の水素化ケイ素を有するシラン
化合物で、屈折率を制御するための置換基を有するもの
としては、フェニルジメチルシラン、ジフェニルメチル
シラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、メチルフ
ェニルシラン、ｐ−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、
トリフェニルシラン、ビス［（ｐ−ジメチルシリル）フ
ェニルフェーテル、シクロへキシルジメチルシランなど
がある。

（ｄ）の少なくとも１個の水素化ケイ素を有するシロキ
サン化合物で、屈折率を制御するための置換基を有する
ものとしては、１．３−ジフェニル−１，３−ジメチル
ジシロキサンなどの低分子量のもの以外に、次に述べる
ようなシロキサンポリマーであってもよい。

すなわち、（１）式に示した水素化ケイ素を有するシロ
キサンポリマーと、（Ｉ［）式に示した少なくとも１つ
の非共役型不飽和結合を有しかつ屈折率を制御するため
の置換基を有する有機化合物とのヒドロシリル化反応に
より、該シロキサンポリマーの側鎖に該置換基を導入す
るとともに、シロキサンポリマーの水素化ケイ素の一部
を未反応のまま残したシロキサンポリマーである。

（ｄ）の少なくとも１個の水素化ケイ素を有し、かつ屈
折率を制御するための置換基を有するシラン化合物また
はシロキサン化合物と、（ｅ）の非共役型不飽和結合を
有するシロキサンポリマーとのヒドロシリル化反応は、
たとえば下図のように進行する。

→□Ｓ＋−〜ＭＮＳｉ−ｗ−−−へＳｉ−いｍ−ＣＨｔ
　　　　ＣＨ＝　ＣＨｔ　　ＣＨｔ（Ｉ Ｓ　ｔ＝ｇ　　　　　　　　　　Ｓ　ＩＥｉｉｇここで
ｇは、屈折率を制御するための置換基を有する化学構造
を表わす。上図のヒドロシリル化反応により、非共役型
不飽和結合を有するシロキサンポリマーの側鎖に屈折率
を制御するための置換基を導入できる。

次に少なくとも２個の水素化ケイ素を有するシロキサン
化合物またはシラン化合物（ｆ）と、未反応で残った非
共役型不飽和結合を有するシロキサンポリマーとのヒド
ロシリル化反応による架橋は、たとえば次のように進行
する。

Ｇ φ■Ｓｉ−％ＭＳ　１−ＡＡ−９ｉ≠鴫ＣＨ＝ＣＨｔ ＋　ＨＳ　１−Ｎ−９ｉＨ ＣＨ−ＣＨｔ 情−９ｔ翳−９ｉ　−Ｓ　ｉ　−一 Ｇ　　　　　　　Ｇ ↓ Ｇ　　　　　　　Ｇ Ｓｉ　　　Ｓｔφ−９ｉ− ＣＨ！ 　Ｈｔ Ｓｉ Ｓｉ ＣＨ。

　Ｈｔ 輌Ｓ１輌Ｓ　ｉ　−Ｓ　ｉ　− Ｇ ここでＧは、ヒドロシリル化反応により側鎖に導入した
屈折率を制御するための置換基を有する化学構造を表わ
す。

架橋は、シロキサン化合物またはシラン化合物（ｄ）と
シロキサンポリマー（ｅ）とのヒドロシリル化反応終了
後に行なってもよく、あるいは該ヒドロシリル化反応時
に、シロキサン化合物またはシラン化合物（ｒ）を共存
させて、両ヒドロシリル化反応を競争的に行なわせても
よい。

少なくとも２個の水素化ケイ素を有するシラン化合物（
ｒ）としては、ジメチルシラン、メチルシラン、テトラ
キス（ジメチルシロキシ）シランなどがある。また、少
なくとも２個の水素化ケイ素を存するものであれば、前
述したシラン化合物（ｄ）としてあげたものから選択し
てもよい。

少なくとも２個の水素化ケイ素を有するシロキサン化合
物（ｒ）としては、１．１．３．３−テトラメチルジシ
ロキサンなど以外に（１）式で表されるシロキサンポリ
マーであってもよい。また、少なくとも２個の水素化ケ
イ素を有するものであれば、前述したシロキサン化合物
（ｄ）として例示したシロキサンポリマーなどから選択
してもよい。

通常は、主として架橋のために少なくとも２個の水素化
ケイ素を有するシロキサン化合物またはシラン化合物（
ｒ）と屈折率を制御するための置換基を有し、かつ少な
くとも１個の水素化ケイ素を有するシラン化合物または
シロキサン化合物（ｄ）とを併用することが屈折率制御
と弾性率（網目濃度）制御の両者から見て好ましい結果
が得られる。

しかし、水素化ケイ素結合が２個以上あるものであれば
、シロキサン化合物（ｄ）およびシラン化合物（ｄ）と
シロキサン化合物（ｆ）およびシラン化合物（ｆ）とは
同じものであってもよい。

以上、架橋シロキサンポリマー（Ａ）および（Ｂ）につ
いて説明した。すなわち、ヒドロシリル化反応に、よっ
て、シロキサンポリマーの側鎖に屈折率を制御するため
の置換基を導入するとともに、該シロキサンポリマーの
架橋をも進行せしめることができ簡単に屈折率の異なる
架橋シロキサンポリマーを得ることができる。このよう
なシロキサンポリマーによって屈折率を精度よく、かつ
広範囲に変化させた光導波路を得ることができる。

［発明の効果］ 本発明によれば、ヒドロシリル化反応によりシロキサン
ポリマーに屈折率を制御するための置換基を導入した架
橋シロキサンポリマーによる光導波路を得ることができ
る。すなわち、このような架橋シロキサンポリマーによ
り、光導波路の屈折率を精度よく、かつ広範囲に変化さ
せることができ、これにより他の光素子、光テバイスな
どとの接合において、屈折率を容易に整合させることが
できるため、良好な接合特性が得られる。

クラッドに屈折率を小さくする置換基、たとえばトリフ
ルオロプロピル基を、また光導波部に屈折率を大きくす
る置換基、たとえばナフチル基をそれぞれ導入した架橋
シロキサンポリマーを用いて光導波路とすれば、開口度
の大きい光導波路とすることができ、発光素子との接合
などに適した光導波路が得られることとなる。また開口
度の大きい光導波路は、光学的に曲率半径を小さくでき
るため架橋シロキサンポリマーの可撓性をより生かした
光導波路とすることができる。

本発明によるシロキサンポリマーはまた架橋する前は液
状であるため加工が容易である。このため、たとえばＦ
ＥＰ（テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピ
レンコポリマー）チューブ内に、イメージファイバーを
挿入後、照明用のライトガイドとして本発明のシロキサ
ンポリマーを注入、硬化させて一体とした複合光導波路
などへの応用もできる。

シロキサンポリマーは耐熱性にすぐれているため、他の
プラスチック系光学材料よりなる光導波路より耐熱性の
すぐれた光導波路が得られる。

実施例 ［実施例１］ （Ｍｖ＝　２９００、ｎ♂’＝１．３９９０）１．２ｇ
、２−ビニルナフタレン２．４ｇをそれぞれクロロホル
ム１０ｍ１２に溶かし、両溶液を混合した。

この混合液に塩化白金酸／メタノール溶液（濃度。

４．７２　Ｘ　１０−’Ｍ）ｌ　０ｍ１２を加え試験管
に入れ、よく混合した後、７０℃で７３時間反応させた
。

反応生成物をメタノールで沈澱させた後、再びトルエン
に溶解し、メタノールで沈澱させて透明な液状物を得た
。

この液状物１ｇ、１，３．５−トリビニル−１，１゜３
．５．５−ペンタメチルトリシロキサン０　、１　ｇ。

塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８ｘ　
Ｉ　Ｏ−’Ｍ）０．１−をよく混合し、内径２ｍｍのＦ
ＥＰ（ｎ＝　１．３３８）のチューブに注入し、５０℃
で２４時間反応硬化させて光導波路を得た。この硬化物
（光導波部）は透明であり、２０℃での屈折率を測定し
たところ、１．５９３であった。この光導波路の開口度
は、計算によると０．８６であった。

［実施例２］ （Ｍｗ＝　２９２０、ｎ♂０＝１．３９９０）３ｇ１ （Ｍｗ＝　２３８００、ｎ、”＝　１．４０５３）５ｇ
およびスチレン３ｇ、ならびに塩化白金酸のイソプロピ
ルアルコール溶液（３，８ｘｌＯ″″’Ｍ）０．１５ｍ
Ｑをよく混合し、実施例１と同様にして６０℃で３時間
反応硬化させ光導波路を得た。この硬化物（光導波部）
は透明であり、２０℃での屈折率を測定したところ、１
．４６２であった。

［実施例３］ （Ｍｗ＝　２９００、ｎ♂’＝１．３９９０）２ｇ１ジ
ビニルベンゼン４．７ｇ、塩化白金酸のイソプロピルア
ルコール溶液（３，８ｘ　ｌ　Ｏ−３Ｍ）０　、１　ｍ
Ｑをよく混合し、内径２ｍｌ１１の透明なシリコーンゴ
ム（ｎ＝１．４１）のチューブに注入し、５０℃で２４
時間反応硬化させて光導波路を得た。この硬化物は透明
であり、２０℃での屈折率を測定したところ、１．４６
９であった。

［実施例４］ （Ｍｗ＝４７００、ｆｆ＝３２．２％、ｎ♂０＝　１．
４ｏ　ｔ　ｓ＞ ２　、　Ｏｇｓジビニルベンゼン０．６６ｇ、塩化白金
酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８Ｘ１０−’Ｍ
）０．１ｍ１２をよく混合し、実施例３と同様にして５
０℃で６時間反応硬化させ光導波路を得た。この硬化物
（光導波部）は透明であり、２０℃での屈折率を測定し
たところ、１．４５５であった。

［実施例５］ （Ｍｗ＝　９９００、（２ｍ３％、ｎ♂’＝１．４０４
８）３　、０　ｇ、ジビニルベンゼン０．１７ｇ１塩化
白金酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８ｘｌ　Ｏ
−’Ｍ）０．１ｍｆ２をよく混合し、実施例！と同様に
して５０℃で２．５時間反応硬化させ光導波路を得た。

この硬化物は透明であり、２０℃での屈折率を測定した
ところ、１．４１３であった。

［実施例６］ （Ｍｗ＝６２４ＱＯ１ｋ＝１９．３％、ｎ♂’＝１．４
１３） ２．０ｇ、実施例４で用いたポリマー（５）１．０ｇ１
フエニルジメチルシラン１．Ｏｇ、塩化白金酸のイソプ
ロピルアルコール溶液（３，８Ｘ　１０−’Ｍ）０．１
ｍｆ２をよく混合し、実施例１と同様にして７０℃で１
時間反応硬化させ光導波路を得た。この硬化物は透明で
あり、２０℃での屈折率を測定したところ、１．４２１
であった。

［実施例７コ （Ｍｗ＝　６０００、ｐ＝４２．４％、Ｑ＝２５．６％
口。”＝１．５０１） １．０ｇ、実施例６で用いたポリマー（７）２．０ｇ。

フェニルジメチルシランｌ　、　Ｏｇ、塩化白金酸のイ
ソプロピルアルコール溶液（３，８Ｘ１０−’Ｍ）０．
１ｍ（２をよく混合し、実施例１と同様にして７０℃で
１時間反応硬化させ光導波路を得た。この硬化物は透明
であり、２０℃での屈折率を測定したところ、１．４２
９であった。

し実施例８］ （Ｍｗ＝１３２２００．５＝２４．２％、ｎｏ”＝　１
．４１６） ２　、　Ｏｇ、フェニルシラン０　、９　ｇ、塩化白金
酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８Ｘ　Ｉ　Ｏ−
’Ｍ）０　、１　ｍＱをよく混合し、実施例１と同様に
して１００℃で１時間反応硬化させ光導波路を得た。

この硬化物の２０℃での屈折率を測定したところ、１．
４３７であった。

［実施例９］ 実施例４で用いたポリマー（５）５．０ｇ、ＣＨ＊＝Ｃ
ＨＣ４Ｆ　ｅ　１　、　Ｏｇ、塩化白金酸のイソプロピ
ルアルコール溶液（３，８ＸＩＯ−’Ｍ）Ｏ，１ｍ１２
をよく混合し、アンプル中５０℃で３時間ヒドロシリル
化反応に付した。生成物をメタノールで沈澱させ、回収
し乾燥させた。次に、この得られた液状物０　、２　ｇ
、実施例６で用いたポリマー（７）１．０ｇ、塩化白金
酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８Ｘ　ｌ　Ｏ−
’Ｍ）０．０５−をよく混合し、５０℃で３時間ヒドロ
シリル化反応させた。

さらに、このものに１．１，３．３−テトラメチルシロ
キサン０．０５ｇを加え、実施例１と同様にして７０℃
で１時間反応硬化させ光導波路を得た。

この硬化物は透明で、２０℃での屈折率を測定したとこ
ろ、１．４０３であった。

［実施例１０１ 実施例４で用いたポリマー（５）２．５ｇ、９−ビニル
アントラセン０．５ｇ、）ルエン３　ｆｆ１Ｑ、塩化白
金酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８Ｘ１０−３
Ｍ）０．０５ｍａをよく混合し、アンプル中５０℃で３
時間ヒドロシリル化反応に付した。生成物をメタノール
で沈澱させ、回収し乾燥させた。

次に、この得られた液状物０　、１　ｇ、実施例６で用
“いたポリマー（７）１．Ｏｇ、実施例４で用いたポリ
マー（５）０．１ｇおよび塩化白金酸のイソプロピルア
ルコール溶液（３，８Ｘ　１０”−’Ｍ）０．０５ｍ１
２をよく混合し、実施例１と同様にして７０℃で１時間
反応硬化させ光導波路を得た。この硬化物は透明で、２
０℃での屈折率を測定したところ、１．４１６であった
。

［実施例１１］ 一〇） （Ｍｗ＝６６８００、ｋ＝２８．９％、ｎ１ｌｌ”＝　
１．４０２） ２　、７　ｇ、ジビニルベンゼン０　、２　ｇ、塩化白
金酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８ｘｌＯ″″
”Ｍ）０．０１ｍｆ２をよく混合し脱泡した。この混合
物を外径２ｍｎ＋、内径Ｉｎ＋ｍのＦ’ＥＰチューブに
注入した。

常温で５日間放置し、混合物を硬化させ光導波路を得た
。この光導波路の伝送損失を測定したところ、８ｄＢ／
ｍであった。なお、この硬化物の２０°Ｃでの屈折率を
測定したところ、１．４０４であった。

［実施例１２］ 実施例２で用いたポリマー（３）１．０ｇ１実施例１１
で用いたポリマー（１０）３．０ｇ、スチレン２．０ｇ
および塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（３，
８ｘ　１０−’Ｍ）０．０１ｍｆ２をよく混合し、脱泡
した。この混合物を実施例１１と同様にして光導波路を
得、伝送損失を測定したところ、２ｄＢ／ｍであった。

なお、この硬化物の２０℃での屈折率を測定したところ
、１．４０８であった。

［実施例１３コ 実施例４で用いたポリマー（５Ｎ、５ｇ、実施例８で用
いたポリマー（９）３．０ｇ、フェニルジメチルシラン
ｌ　、５ｇおよび塩化白金酸のイソプロピルアルコール
溶液（３，８ｘ　１０−’Ｍ）０．０５ｍｆ２をよく混
合し、脱泡した。この混合物から実施例１１と同様にし
て光導波路を得、伝送損失を測定したところ、１ｏｄＢ
／＋＋＋であった。なお、この硬化物の２０℃での屈折
率を測定したところ、１．４２０であった。

［実施例１４コ 実施例４で用いたポリマー（５）１０．０ｇ、ＣＨ，＝
ＣＨＣ，Ｆｅ　２．Ｏｇ、塩化白金酸のイソプロピルア
ルコール溶液（３，８Ｘ　１０−’Ｍ）０．２ｍ１２を
よく混合し、ビーカー中５０℃で３時間ヒドロシリル化
反応に付した。生成物をメタノールで沈澱させ、回収し
乾燥させた。次に、この得られた液状物４．０ｇに、実
施例２で用いたポリマー（３）０．４ｇおよび塩化白金
酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８Ｘ１０−３Ｍ
）０．０５ｍ（を加え、混合、脱泡した。この混合物か
ら実施例１１と同様にして光導波路を得、伝送損失を測
定したところ、４ｄＢ／ｍであった。なお、この硬化物
の２０℃での屈折率を測定したところ、１．４０２であ
った。

［実施例１５コ 実施例４で用いたポリマー（５）５．０ｇ。

ＣＨｔ＝ＣＨＣ，Ｆｓ　１．Ｏｇ、塩化白金酸のイソプ
ロピルアルコール溶液（３，８ｘｌ　Ｏ−’Ｍ）Ｏ，１
ｍ１２をよく混合し、ビーカー中５０℃で３時間ヒドロ
シリル化反応に付した。生成物をメタノールで沈澱させ
、回収し乾燥させた。次に、この得られた液状物ｔ　、
Ｑｇに、実施例８で用いたポリマー（９）３．０ｇ、１
．１，３．３−テトラメチルジシロキサン０．１ｇおよ
び塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８Ｘ
　１０−３Ｍ）０．０５ｍ１２を加え、混合後、脱泡し
た。この混合物から実施例１１と同様にして光導波路を
得、伝送損失を測定したところ、５ｄＢ／ｍであった。

なお、この硬化物の２０℃での屈折率を測定したところ
、１．４００であった。

［実施例１Ｂ］ 実施例４で用いたポリマー（５）５．０ｇ１ＣＨｔ＝Ｃ
ＨＣ，Ｆｓ　１．Ｏｇ、塩化白金酸のイソプロピルアル
コール溶液（３，８Ｘ　ｌ　Ｏ−’Ｍ）Ｏ，１ｍ１２を
よく混合し、ビーカー中５０℃で３時間ヒドロシリル化
反応に付した。生成物をメタノールで沈澱させ、回収し
乾燥させた。得られた液状物をＡとする。

一方、実施例４で用いたポリマー（５）２．０ｇ、スチ
レンｔ、Ｏｇ、および塩化白金酸のイソプロピルアルコ
ール溶層（３，８Ｘ　ｌ　Ｏ−’Ｍ）０．０５ｍｇをよ
く混合し、ビーカー中５０℃で３１時間ヒドロシリル化
反応に付した。生成物をメタノールで沈澱させ、回収し
乾燥させた。得られた液状物をＢとする。

続いて液状物Ａ　　１．Ｏｇに、実施例８で用いたボ！
Ｊ？−（９）３．Ｏｇ、液状物Ｂ　　Ｏ，１ｇおヨヒ塩
化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（３，８ｘ１０
″″３Ｍ）　０　、０．５　ｍＱを加え、混合後、脱泡
した。

この混合物から実施例１１と同様にして光導波路を得、
伝送損失を測定したところ、５ｄＢ／ｍであった。なお
、この硬化物の２０’Ｃでの屈折率を測定したところ、
１．４０６であった。

［実施例１７］ 実施例９と同様にして得られる未架橋ポリマーをプラス
チックフィルムに塗布し、７０℃で１時間反応硬化させ
クラッド層とし、その上に実施例！と同様にして得られ
る未架橋ポリマーを塗布し、５０℃で２４時間反応硬化
させ光導波部とした。

さらにその上から実施例９と同様にして得られる未架橋
ポリマーを塗布し、７０’Ｃで１時間硬化させクラッド
層とし、クラッドの屈折率１．４０３、光導波部の屈折
率１，５９３の平面光導波路を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、クラッドおよび光導波部よりなる光導波路において
   、少なくとも光導波部が屈折率を制御するための置換基
   をヒドロシリル化反応により導入した架橋シロキサンポ
   リマーよりなることを特徴とする光導波路。 ２、架橋シロキサンポリマーが、（ａ）少なくとも１つ
   の非共役型不飽和結合および屈折率を制御するための置
   換基を有する有機化合物と（ｂ）水素化ケイ素を有する
   シロキサンポリマーとのヒドロシリル化反応により側鎖
   に該置換基を導入したシロキサンポリマーを、ヒドロシ
   リル化反応において反応せずに残った該シロキサンポリ
   マー中の水素化ケイ素と、（ｃ）少なくとも２個の非共
   役型不飽和結合を有する有機化合物とのヒドロシリル化
   反応により架橋した架橋シロキサンポリマーである特許
   請求の範囲第１項に記載の光導波路。 ３、有機化合物（ａ）の屈折率を制御するための置換基
   が芳香族炭化水素基である特許請求の範囲第２項に記載
   の光導波路。 ４、有機化合物（ａ）の屈折率を制御するための置換基
   がフッ素含有炭化水素基である特許請求の範囲第２項に
   記載の光導波路。 ５、有機化合物（ｃ）が少なくとも２個の非共役型不飽
   和結合を有し、かつ屈折率を制御するための置換基を有
   する特許請求の範囲第２〜４項のいずれかに記載の光導
   波路。 ６、有機化合物（ｃ）が少なくとも２個の非共役型不飽
   和結合を有し、かつシロキサン単位を有する特許請求の
   範囲第２〜４項のいずれかに記載の光導波路。 ７、有機化合物（ｃ）が少なくとも２個の非共役型不飽
   和結合を有し、かつ屈折率を制御するための置換基とシ
   ロキサン単位を有する特許請求の範囲第２〜４項のいず
   れかに記載の光導波路。 ８、有機化合物（ａ）と有機化合物（ｃ）とが同一の化
   合物である特許請求の範囲第２〜７項のいずれかに記載
   の光導波路。 ９、架橋シロキサンポリマーが（ｄ）少なくとも１個の
   水素化ケイ素を有し、かつ屈折率を制御するための置換
   基を有するシロキサン化合物またはシラン化合物と（ｅ
   ）非共役型不飽和結合を有するシロキサンポリマーとの
   ヒドロシリル化反応により側鎖に該置換基を導入したシ
   ロキサンポリマーを、ヒドロシリル化反応において反応
   せずに残った該シロキサンポリマー中の非共役型不飽和
   結合と、（ｆ）少なくとも２個の水素化ケイ素を有する
   シロキサン化合物またはシラン化合物とのヒドロシリル
   化反応により架橋した架橋シロキサンポリマーである特
   許請求の範囲第１項に記載の光導波路。 １０、シロキサン化合物（ｄ）が水素化ケイ素を有する
   シロキサンポリマーと少なくとも１つの非共役型不飽和
   結合を有し、かつ屈折率を制御するための置換基を有す
   る有機化合物とのヒドロシリル化反応により、該シロキ
   サンポリマーの側鎖に該置換基に導入したシロキサンポ
   リマーである特許請求の範囲第９項に記載の光導波路。 １１、シロキサン化合物（ｆ）が水素化ケイ素を有する
   シロキサンポリマーと少なくとも１つの非共役型不飽和
   結合を有し、かつ屈折率を制御するための置換基を有す
   る有機化合物とのヒドロシリル化反応により、該シロキ
   サンポリマーの側鎖に該置換基を導入したシロキサンポ
   リマーである特許請求の範囲第９項または第１０項に記
   載の光導波路。 １２、屈折率を制御するための置換基が芳香族炭化水素
   基である特許請求の範囲第９〜１１項のいずれかに記載
   の光導波路。 １３、屈折率を制御するための置換基がフッ素含有炭化
   水素基である特許請求の範囲第９〜１１項のいずれかに
   記載の光導波路。 １４、シロキサン化合物またはシラン化合物（ｆ）が少
   なくとも２個の水素化ケイ素を有し、かつ屈折率を制御
   するための置換基を有する特許請求の範囲第９〜１３項
   のいずれかに記載の光導波路。 １５、シロキサン化合物またはシラン化合物（ｄ）とシ
   ロキサン化合物またはシラン化合物（ｆ）とが同一の化
   合物である特許請求の範囲第９〜１４項に記載の光導波
   路。