JPS61266245A - 表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法 - Google Patents
表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法Info
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- JPS61266245A JPS61266245A JP60107020A JP10702085A JPS61266245A JP S61266245 A JPS61266245 A JP S61266245A JP 60107020 A JP60107020 A JP 60107020A JP 10702085 A JP10702085 A JP 10702085A JP S61266245 A JPS61266245 A JP S61266245A
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- Japan
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- resin
- methacrylate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は各種機械、家具、建材、雑貨などの面板となる
化粧シー1〜の製造方法に関()、詳しくは極めて精密
忠実なエンボスパターン表面を有し、目つ該表面が三次
元架橋硬化した合成樹脂により優れた物理的及び科学的
性状を有する表面強化エンボス化粧シートの製造方法で
ある。
化粧シー1〜の製造方法に関()、詳しくは極めて精密
忠実なエンボスパターン表面を有し、目つ該表面が三次
元架橋硬化した合成樹脂により優れた物理的及び科学的
性状を有する表面強化エンボス化粧シートの製造方法で
ある。
口、従来の技術並びにその問題点
熱可Φ性合成樹脂フィルムの表面に印刷模様を施し更に
イの表面をエンボス加工して凹凸模様を形成する化粧シ
ートの製造方法は従来普通に行われているが、製品の表
面物性、耐熱性などが不十分であった。またこれを改善
するため熱可塑性フィルムの表面に三次元架橋硬化合成
樹脂皮膜を設けた化粧シーl−提案されているが、これ
に対してエンボス加■を施した場合、硬化皮膜は■ンボ
スパターンの再現性が劣り、エンボス部の耐熱性が低下
覆るなどの問題点があった。
イの表面をエンボス加工して凹凸模様を形成する化粧シ
ートの製造方法は従来普通に行われているが、製品の表
面物性、耐熱性などが不十分であった。またこれを改善
するため熱可塑性フィルムの表面に三次元架橋硬化合成
樹脂皮膜を設けた化粧シーl−提案されているが、これ
に対してエンボス加■を施した場合、硬化皮膜は■ンボ
スパターンの再現性が劣り、エンボス部の耐熱性が低下
覆るなどの問題点があった。
ハ0問題点を解決するための手段
本発明は」]記の問題点を解決4るため、熱可塑性フィ
ルムの表面に、必要に応じて印刷模様を設け、その−)
二に未硬化状態では常温固体であり熱可塑性である紫外
線硬化性または電子線硬化性の合成樹脂の皮膜を設【プ
た後、エンボス加工して該皮膜表面に忠実なパターンの
凹凸模様を形成し、次いで紫外線または電子線を照射し
、皮膜を袢渇することなく賦形された凹凸模様が変形を
生じないで急速に硬化せしめるようにした表面強化エン
ボス化粧シートの製造方法である。
ルムの表面に、必要に応じて印刷模様を設け、その−)
二に未硬化状態では常温固体であり熱可塑性である紫外
線硬化性または電子線硬化性の合成樹脂の皮膜を設【プ
た後、エンボス加工して該皮膜表面に忠実なパターンの
凹凸模様を形成し、次いで紫外線または電子線を照射し
、皮膜を袢渇することなく賦形された凹凸模様が変形を
生じないで急速に硬化せしめるようにした表面強化エン
ボス化粧シートの製造方法である。
本発明において用いる熱可塑性フィルムとしては、例え
ばポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−
ブタジェン−スチレン共重合体。
ばポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−
ブタジェン−スチレン共重合体。
ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ナイロン、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の
熱可塑性合成樹脂フィルムを挙げることができる。
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の
熱可塑性合成樹脂フィルムを挙げることができる。
熱可塑性フィルムは後で行われる■ンボス加■によって
容易に賦形され良好なエンボス効果が得られる。
容易に賦形され良好なエンボス効果が得られる。
熱可塑性フィルムの片面には必要に応じて適宜の印刷手
段で模様を設けてもよい。
段で模様を設けてもよい。
印刷インキとしてはベヒクルに顔料もしくは染料の着色
剤、可塑剤、安定剤、その他の添加剤。
剤、可塑剤、安定剤、その他の添加剤。
溶剤もしくは稀釈剤を混練してなるものを用い、ベヒク
ルとしては例えば、エチルセルロース、エチルヒドロキ
シエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネ
ート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチ
レン、ポリα−メチルス= 3 − チレンなどのスチレン樹脂及びスチレンバ重合樹脂、ポ
リメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリ
アクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチルなどのアクリ
ル樹脂又はメタクリル樹脂の単独又は」先重合樹脂、ロ
ジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノー
ル樹脂1重合ロジンなどのロジンエステル樹脂、ポリ酢
酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩
化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ1クレタン樹脂
、ブチラール樹脂等のうち一神ないしは二種以上を選択
して使用し、以上のようなインキを用いて模様を印刷形
成するにはグラビア印刷法、オフセットグラビア印刷法
、シルクスクリーン印刷法、71フセッi〜印刷法、静
電印刷法、ジェットプリント法などの公知の印刷方法を
基材フィルムの材質。
ルとしては例えば、エチルセルロース、エチルヒドロキ
シエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネ
ート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチ
レン、ポリα−メチルス= 3 − チレンなどのスチレン樹脂及びスチレンバ重合樹脂、ポ
リメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリ
アクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチルなどのアクリ
ル樹脂又はメタクリル樹脂の単独又は」先重合樹脂、ロ
ジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノー
ル樹脂1重合ロジンなどのロジンエステル樹脂、ポリ酢
酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩
化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ1クレタン樹脂
、ブチラール樹脂等のうち一神ないしは二種以上を選択
して使用し、以上のようなインキを用いて模様を印刷形
成するにはグラビア印刷法、オフセットグラビア印刷法
、シルクスクリーン印刷法、71フセッi〜印刷法、静
電印刷法、ジェットプリント法などの公知の印刷方法を
基材フィルムの材質。
性状を考慮して選択して用いて行えばよい。
熱可塑性フィルムの片面には、未硬化の状態では常温で
固体であり、Hつ熱可塑性である紫外線硬化樹脂または
電子線硬化樹脂からなる樹脂層が積層されている。この
ような樹脂層を構成する樹脂としてはラジカル重合性不
飽和基を有する熱可塑性のものであり、次の2種類のも
のがある。
固体であり、Hつ熱可塑性である紫外線硬化樹脂または
電子線硬化樹脂からなる樹脂層が積層されている。この
ような樹脂層を構成する樹脂としてはラジカル重合性不
飽和基を有する熱可塑性のものであり、次の2種類のも
のがある。
(1)ガラス転移渇麿が0〜250℃のポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には
、ポリマーとしては以下の化合物■〜■を重合もしくは
共重合させたものに対し後述する方法(イ)〜(ニ)に
よりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いるこ
とができる。
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には
、ポリマーとしては以下の化合物■〜■を重合もしくは
共重合させたものに対し後述する方法(イ)〜(ニ)に
よりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いるこ
とができる。
■水i!I基を有する甲邑体:N−メチロールアクリル
アミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート。
アミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート。
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシブチルメタクリレ−1〜。
プロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシブチルメタクリレ−1〜。
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート
、2−ヒト[1キシ−3−フェノキシプロピルメタクリ
レートなど。
、2−ヒト[1キシ−3−フェノキシプロピルメタクリ
レートなど。
■カルボキシル機を有する単量体ニアクリル酸。
メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネ
ートなど。
ートなど。
■エポキシ基を有Jる111 鋤体ニゲリシジルメタク
リレ−1〜など。
リレ−1〜など。
■アジリジニル基を有する甲出体:2−アジリジニルエ
チルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなと。
チルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなと。
■アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミド。
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミド。
ジメチルアミンエチルメタクリレート、ジエチルアミノ
エチルメタクリレートなど。
エチルメタクリレートなど。
■スルフォン基を有する単邑体:2−アクリルアミドー
2−メチルプロパンスルフォン酸など。
2−メチルプロパンスルフォン酸など。
■イソシアネート基を有する単量体:2.4−トルエン
ジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレート
の1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性
水素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。
ジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレート
の1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性
水素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。
■さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節したり
、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物
と、この化合物とへ巾合可能な以下のような11体とを
共重合させることもでき= 6 − る。このような共重合可能な411体としては、例えば
メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレー
ト、イソブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレー
ト、 1−ブチルメタクリレート、イソアミルメタクリ
レート、シクロへキシルアクリレート、シクロへキシル
メタクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、2
−エチルへキシルメタクリレートなどが挙げられる。
、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物
と、この化合物とへ巾合可能な以下のような11体とを
共重合させることもでき= 6 − る。このような共重合可能な411体としては、例えば
メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレー
ト、イソブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレー
ト、 1−ブチルメタクリレート、イソアミルメタクリ
レート、シクロへキシルアクリレート、シクロへキシル
メタクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、2
−エチルへキシルメタクリレートなどが挙げられる。
次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる述
べる方法〈イ)〜〈二)により反応させ、ラジカル重合
性不飽和基を導入することによって、本発明において用
いる樹脂を得ることができる。
べる方法〈イ)〜〈二)により反応させ、ラジカル重合
性不飽和基を導入することによって、本発明において用
いる樹脂を得ることができる。
(イ)水酸基を有するIIi量体の重合体または共重合
体の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。
体の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。
(ロ)カルボキシル基、スルフォン基を有する単一
7 − 量体の小合体または共重合体の場合には前述の水酸基を
有する単量体を縮合反応させる。
7 − 量体の小合体または共重合体の場合には前述の水酸基を
有する単量体を縮合反応させる。
(ハ)エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を右するll量体′・の重合体また(よ共重合体
の場合には前)本の水酸基を有する中量体もしくはカル
ボキシル基を有する1111体をイ1加反応させる。
ニル基を右するll量体′・の重合体また(よ共重合体
の場合には前)本の水酸基を有する中量体もしくはカル
ボキシル基を有する1111体をイ1加反応させる。
(ニ)水!!!!あるいはカルボキシル基を有する単量
体の重合体または共重合体の場合にはエポキシ基を有す
る111体あるいはアジリジニル基を有する11 量体
あるいはジイソシアネート化合物と水[i含有アクリル
@Xステル単量体の1モル対1モル付加物を付加反応さ
せる。
体の重合体または共重合体の場合にはエポキシ基を有す
る111体あるいはアジリジニル基を有する11 量体
あるいはジイソシアネート化合物と水[i含有アクリル
@Xステル単量体の1モル対1モル付加物を付加反応さ
せる。
上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合
禁止材を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい
。
禁止材を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい
。
(2)融点が0〜250℃でありラジカル重合性不飽和
基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレート
、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシアヌ
レート、シクロヘキサンジオーー 日 − ルジアクリレート、シク0ヘキサンジオールジメタクリ
レート、スピログリコールジアクリレート。
基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレート
、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシアヌ
レート、シクロヘキサンジオーー 日 − ルジアクリレート、シク0ヘキサンジオールジメタクリ
レート、スピログリコールジアクリレート。
スピログリコールジメタクリレートなどが挙げられる。
また本発明においては、前記(1)、(2)を混合して
用いることもでき、さらに、これらに対してラジカル重
合性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル
重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度
を向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単
量体の他にエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート。
用いることもでき、さらに、これらに対してラジカル重
合性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル
重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度
を向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単
量体の他にエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート。
ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレー
ト、トリメ、チロールプロパンジメタクリレート、ペン
タエリスリ1−一ルテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート。
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレー
ト、トリメ、チロールプロパンジメタクリレート、ペン
タエリスリ1−一ルテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート。
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールへキサメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレ
ート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメ
タクリレートなどを用いることができ、前記した共重合
体混合物の固形分100重醋部に対して、0.1〜b量
部で用いることが好ま【ノい。また、上記のものは電子
線により充分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化さ
せる場合には、増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン
、ベンゾインメチルエーテルなとのベンゾインニーチル
類、ハロゲン化アセ1〜フエノン類、ビアチル類などの
、紫外線照射にJ:リラジカルを発生するものも用いる
ことができる。
エリスリトールへキサメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレ
ート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメ
タクリレートなどを用いることができ、前記した共重合
体混合物の固形分100重醋部に対して、0.1〜b量
部で用いることが好ま【ノい。また、上記のものは電子
線により充分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化さ
せる場合には、増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン
、ベンゾインメチルエーテルなとのベンゾインニーチル
類、ハロゲン化アセ1〜フエノン類、ビアチル類などの
、紫外線照射にJ:リラジカルを発生するものも用いる
ことができる。
上記の樹脂は適宜の方法により、例えば溶剤溶液として
ロールコートした後、溶剤を揮散せしめる等の公知の方
法により熱可塑性フィルム上に積層することができる。
ロールコートした後、溶剤を揮散せしめる等の公知の方
法により熱可塑性フィルム上に積層することができる。
積層された樹脂層は、常温下では非粘着性の熱可塑性の
固体である。
固体である。
上記の樹脂層を設けた熱可塑性フィルムは、次いでエン
ボス加工処理される。
ボス加工処理される。
エンボス加工法としては、エンボスロールを用いるロー
ルエンボス法、エンボス板を用いるプレスエンボス法、
高周波エンボス法等の公知の手段が採用される。
ルエンボス法、エンボス板を用いるプレスエンボス法、
高周波エンボス法等の公知の手段が採用される。
エンボス加工された表面樹脂層は次いで紫外線または電
子線を照射して、温度上行を伴わずに急速に三次元架橋
硬化される。
子線を照射して、温度上行を伴わずに急速に三次元架橋
硬化される。
紫外線源としては、超高H水銀灯、高Ft〜水銀灯。
低圧水銀灯、カーボンアーク、キヒノンアーク。
メタルハライドランプ等が用いられる。又、電子線源と
しては、コツクロッ(ヘワルトン型、バンプグラフ型、
バ振変圧器型、直線型、ダイlミドロン型、高周波型等
の電子線加速器が用いられ、50〜10001<fN、
好ましくは100〜300Ktuのエネルギーを持つ電
子線が利用され、リニアフィラメントよりカーテン状に
連続照射される電子線によればエンボス樹脂層の連続的
硬化処理を効率的に行うことができる。
しては、コツクロッ(ヘワルトン型、バンプグラフ型、
バ振変圧器型、直線型、ダイlミドロン型、高周波型等
の電子線加速器が用いられ、50〜10001<fN、
好ましくは100〜300Ktuのエネルギーを持つ電
子線が利用され、リニアフィラメントよりカーテン状に
連続照射される電子線によればエンボス樹脂層の連続的
硬化処理を効率的に行うことができる。
二1作用・効果
本発明の方法によれば得られる■ンボス化粧シートの表
面の樹脂層は紫外線または電子線の照射によって架橋硬
化するので、表面の物理的及び化学的性状の優れた表面
強化エンボス化粧シートが得られる。
面の樹脂層は紫外線または電子線の照射によって架橋硬
化するので、表面の物理的及び化学的性状の優れた表面
強化エンボス化粧シートが得られる。
しかも樹脂層を構成する樹脂は未硬化の状態では常温で
も固体であり、かつ、熱可塑性であるので、未硬化の状
態で樹脂層の粘着等の障碍がなく、Tンボス加:rも容
易であり、自好なエンボス再現性を有する。
も固体であり、かつ、熱可塑性であるので、未硬化の状
態で樹脂層の粘着等の障碍がなく、Tンボス加:rも容
易であり、自好なエンボス再現性を有する。
本発明の方法にj、って得られる表面強化■ンボス化粧
シー]へは弱電製品のキトビネット、もしくは車両部品
、(180機器、玩具等の雑貨等に利用できる。
シー]へは弱電製品のキトビネット、もしくは車両部品
、(180機器、玩具等の雑貨等に利用できる。
ホ、実施例
厚み0.2+no+のポリ塩化ビニル樹脂着色シート(
IlF研ビニル工業株式会ネI製、可塑剤添加閤は樹脂
100重鋤部に対し8重i部)上に、塩ビ/酢ビ几重合
樹脂をベヒクルとするグラビアインキを用い、グラビア
印刷法にて木目模様を印刷し、印刷シー1−とじた。
IlF研ビニル工業株式会ネI製、可塑剤添加閤は樹脂
100重鋤部に対し8重i部)上に、塩ビ/酢ビ几重合
樹脂をベヒクルとするグラビアインキを用い、グラビア
印刷法にて木目模様を印刷し、印刷シー1−とじた。
得られた印刷シーhの印刷面上に紫外線硬化樹脂(三菱
油化ファイン製、トリアジン系アクリレート、 l 7
−075)のMEK溶液をグラビアコーティングし、乾
燥して膜厚5μの樹脂層を形成した後、木目の突導管の
凹凸模様を有するエンボス1]−ル(表面温度80℃)
により熱1ンボス加工した。
油化ファイン製、トリアジン系アクリレート、 l 7
−075)のMEK溶液をグラビアコーティングし、乾
燥して膜厚5μの樹脂層を形成した後、木目の突導管の
凹凸模様を有するエンボス1]−ル(表面温度80℃)
により熱1ンボス加工した。
= 13 −
次に紫外線硬化樹脂層側から160W / clllの
高圧水銀灯にて、1秒間の紫外線照θ]を行い表面樹脂
層を架橋硬化させた。
高圧水銀灯にて、1秒間の紫外線照θ]を行い表面樹脂
層を架橋硬化させた。
得られIC化粕シー1−は、極め−C忠実な■ンボスパ
ターン再現性とともに、優れた耐スクラッチ竹。
ターン再現性とともに、優れた耐スクラッチ竹。
耐薬品↑q、耐熱性の硬化樹脂表面層が強固に積層接着
されたものであった。
されたものであった。
Claims (1)
- 熱可塑性フィルム上に、必要に応じ印刷模様を設け、そ
の上に、未硬化状態では常温固体であり熱可塑性である
紫外線硬化性または電子線硬化性の合成樹脂皮膜を設け
た後、エンボス加工して該皮膜表面に凹凸模様を形成し
、次いで紫外線または電子線を照射して硬化皮膜とする
ことを特徴とする表面強化エンボス化粧シートの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60107020A JPS61266245A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60107020A JPS61266245A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61266245A true JPS61266245A (ja) | 1986-11-25 |
Family
ID=14448475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60107020A Pending JPS61266245A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61266245A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63281900A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-11-18 | 株式会社吉野工業所 | 装飾被膜の成形方法 |
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JPS56129121A (en) * | 1980-03-13 | 1981-10-09 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of decorative material |
JPS5924729A (ja) * | 1982-08-02 | 1984-02-08 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 被処理体の表面に凹凸を形成する方法 |
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-
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