JPS61243977A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPS61243977A JPS61243977A JP8568985A JP8568985A JPS61243977A JP S61243977 A JPS61243977 A JP S61243977A JP 8568985 A JP8568985 A JP 8568985A JP 8568985 A JP8568985 A JP 8568985A JP S61243977 A JPS61243977 A JP S61243977A
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Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はE−DRAW型光ディスクに関し、特に希土類
金属と遷移金属を主成分とするアモルファス合金からな
りかつ膜面に垂直な方向に一軸磁気異方性を有する光記
録膜を担持した光磁気記録媒体に関する。
金属と遷移金属を主成分とするアモルファス合金からな
りかつ膜面に垂直な方向に一軸磁気異方性を有する光記
録膜を担持した光磁気記録媒体に関する。
背景技術
従来から、一定の条件下で例えば高周波スパッタリング
等の方法で作成さ、れる希土類金属と遷移金属との合金
例えばGd1bFe(ガドリニウム−テルビウム−鉄)
、TbFeCo (テルビウム−鉄−コバルト)等の合
金薄膜は、アモルファス構造をとり、膜面に垂直な一軸
磁気異方性を有することが知られている。
等の方法で作成さ、れる希土類金属と遷移金属との合金
例えばGd1bFe(ガドリニウム−テルビウム−鉄)
、TbFeCo (テルビウム−鉄−コバルト)等の合
金薄膜は、アモルファス構造をとり、膜面に垂直な一軸
磁気異方性を有することが知られている。
この性質を光磁気記録媒体の記録膜として利用すること
が出来る。すなわち、情報の記録読取りについては次の
ように行う。先ず、−軸磁気異方性を有するアモルファ
ス合金膜上にレーザ光を焦光してその焦光部分を永久磁
石又は電磁石を用いて外部磁場を印加しながらキューリ
一温度又は補償温度付近まで局部的に加熱せしめる。こ
の時の焦光部分における熱消磁又は磁化反転の熱磁気的
効果によって、一方向に一様に磁化された合金膜面内に
反転磁区を形成して情報を記録することが出来る。次に
、形成された反転磁区に偏光レーザ光を入射し、その反
射光におけるポーラ・カー効果による偏波面の回転から
反転磁区の有無を信号として検出できる。このようにし
て、上記記録媒体において反転磁区の有無を“1″、“
0”に対応させることによって記録した情報の読取りが
可能となる。
が出来る。すなわち、情報の記録読取りについては次の
ように行う。先ず、−軸磁気異方性を有するアモルファ
ス合金膜上にレーザ光を焦光してその焦光部分を永久磁
石又は電磁石を用いて外部磁場を印加しながらキューリ
一温度又は補償温度付近まで局部的に加熱せしめる。こ
の時の焦光部分における熱消磁又は磁化反転の熱磁気的
効果によって、一方向に一様に磁化された合金膜面内に
反転磁区を形成して情報を記録することが出来る。次に
、形成された反転磁区に偏光レーザ光を入射し、その反
射光におけるポーラ・カー効果による偏波面の回転から
反転磁区の有無を信号として検出できる。このようにし
て、上記記録媒体において反転磁区の有無を“1″、“
0”に対応させることによって記録した情報の読取りが
可能となる。
従来からの希土類金属と遷移金属とのアモルファス合金
例えばGdTbFe、TbFeCo等は光磁気効果及び
磁気特性、特にキューリ一点、補償温度が室温から百数
十度の範囲にあってかつ数KOeの保磁力があり光磁気
記録材料として適しているため光磁気記録媒体の記録膜
材料として注目され実用化が検討されている。
例えばGdTbFe、TbFeCo等は光磁気効果及び
磁気特性、特にキューリ一点、補償温度が室温から百数
十度の範囲にあってかつ数KOeの保磁力があり光磁気
記録材料として適しているため光磁気記録媒体の記録膜
材料として注目され実用化が検討されている。
しかしながら、これら希土類金属と遷移金属とのアモル
ファス合金薄膜は酸化し易いために長期信頼性に欠けて
いる。そのために該アモルファス合金膜においては、磁
気特性や光磁気特性に経時変化が生じ易く、特に高温で
かつ高湿度の環境中ではその劣化が大きいという欠点が
あり、該アモルファス合金膜は、光磁気記録膜として使
用する場合に安定性に問題があった。
ファス合金薄膜は酸化し易いために長期信頼性に欠けて
いる。そのために該アモルファス合金膜においては、磁
気特性や光磁気特性に経時変化が生じ易く、特に高温で
かつ高湿度の環境中ではその劣化が大きいという欠点が
あり、該アモルファス合金膜は、光磁気記録膜として使
用する場合に安定性に問題があった。
また、かかるアモルファス合金膜は膜面に垂直な方向に
一軸磁気異方性を有する垂直磁化膜であることが必要で
あるが、従来のアモルファス合金は、その磁化容易軸が
理想的な膜面に垂直な方向からかなり傾いて分布してお
り、レーザ光で信号を読取るのに充分なカー回転角を有
しているとは言えなかった。そこで従来から、より大き
なカー回転角を得るような磁化容易軸が膜面に垂直な方
向に出来るだけ向いた垂直磁化膜としてのアモルファス
合金膜が求められている。
一軸磁気異方性を有する垂直磁化膜であることが必要で
あるが、従来のアモルファス合金は、その磁化容易軸が
理想的な膜面に垂直な方向からかなり傾いて分布してお
り、レーザ光で信号を読取るのに充分なカー回転角を有
しているとは言えなかった。そこで従来から、より大き
なカー回転角を得るような磁化容易軸が膜面に垂直な方
向に出来るだけ向いた垂直磁化膜としてのアモルファス
合金膜が求められている。
更に、アモルファス合金膜のカー回転角を高めるために
、第1図の従来の光磁気記録媒体の概略断面図にて示す
如く、Zn5(硫化亜鉛)からなるカー効果エンハンス
r!A2を基板1とアモルファス合金膜3との間に設は
保護膜4を積層した光磁気記録媒体も開発されている。
、第1図の従来の光磁気記録媒体の概略断面図にて示す
如く、Zn5(硫化亜鉛)からなるカー効果エンハンス
r!A2を基板1とアモルファス合金膜3との間に設は
保護膜4を積層した光磁気記録媒体も開発されている。
しかしながら、この従来の光磁気記録媒体おいても充分
大きなカー回転角を得るには至っていない。
大きなカー回転角を得るには至っていない。
発明の概要
本発明の目的は、経時変化の小さい長期保存性に優れ、
更に大ぎなカー回転角を有した光磁気記録媒体を提供す
ることを目的としている。
更に大ぎなカー回転角を有した光磁気記録媒体を提供す
ることを目的としている。
本発明の光磁気記録媒体は、基板と、該基板に担持され
かつ膜面に垂直な方向に一軸磁気異方性を有するアモル
ファス合金膜とを有する光磁気記録媒体であって、該ア
モルファス合金膜はAI(アルミニウム)を添加元素と
して含む希土類金属−遷移金属系合金膜であり、かつ基
板とアモルファス合金膜との間にZnSからなる第1カ
ー効果エンハンス膜及びGe(ゲルマニウム)からなる
第2カー効果エンハンス膜を設けたことを特徴とする。
かつ膜面に垂直な方向に一軸磁気異方性を有するアモル
ファス合金膜とを有する光磁気記録媒体であって、該ア
モルファス合金膜はAI(アルミニウム)を添加元素と
して含む希土類金属−遷移金属系合金膜であり、かつ基
板とアモルファス合金膜との間にZnSからなる第1カ
ー効果エンハンス膜及びGe(ゲルマニウム)からなる
第2カー効果エンハンス膜を設けたことを特徴とする。
実 施 例
以下、本発明の実施例を添附図面に基づいて説明する。
第2図は本発明の光磁気記録媒体の拡大部分断面概略図
である。案内溝付ぎ円板状PMMA基板1の主面上に、
膜厚830人のZnS (硫化亜鉛)からなる第1カー
効果エンハンス膜2a1膜厚50人のGe(ゲルマニウ
ム)からなる第2カー効果エンハンス膜2b、光磁気記
録材料であるアモルファス合金膜3、SiO2からなる
保護1114を真空蒸着あるいはスパッタリング等の製
膜方法により順に積層し光磁気記録媒体を作成する。尚
、アモルファス合金膜3を次式の合金組成となるように
形成する。
である。案内溝付ぎ円板状PMMA基板1の主面上に、
膜厚830人のZnS (硫化亜鉛)からなる第1カー
効果エンハンス膜2a1膜厚50人のGe(ゲルマニウ
ム)からなる第2カー効果エンハンス膜2b、光磁気記
録材料であるアモルファス合金膜3、SiO2からなる
保護1114を真空蒸着あるいはスパッタリング等の製
膜方法により順に積層し光磁気記録媒体を作成する。尚
、アモルファス合金膜3を次式の合金組成となるように
形成する。
CRT ’) AI
X 1−X 1−1 %
上式では、希土類金属Rは、Gd(ガドリニウム)、T
b(テルビウム)及びDy(ジスプロシウム)から選ば
れる1種類以上の金属であり、遷移金属Tは、Fe(鉄
)及びCo(コバルト)から選ばれる1種類以上の金属
である。Xは原子比率で0.1≦X≦0.4の範囲の値
となるようにする。この範囲で垂直磁化膜が真空蒸着又
はスパッタリングによって得られることが知られている
。
b(テルビウム)及びDy(ジスプロシウム)から選ば
れる1種類以上の金属であり、遷移金属Tは、Fe(鉄
)及びCo(コバルト)から選ばれる1種類以上の金属
である。Xは原子比率で0.1≦X≦0.4の範囲の値
となるようにする。この範囲で垂直磁化膜が真空蒸着又
はスパッタリングによって得られることが知られている
。
更に本実施例では、この希土類金属−遷移金属合金へ添
加元素としてAI(アルミニウム)を添加する。アモル
ファス合金における希土類金属−遷移金属合金とアルミ
ニウムとの原子比率における組成式(RT) A
I は、以下に述べる理1−y y 由でyが0.005≦y≦0,4の範囲の値となるよう
にして、光磁気記録媒体のアモルファス合金膜を形成す
る。
加元素としてAI(アルミニウム)を添加する。アモル
ファス合金における希土類金属−遷移金属合金とアルミ
ニウムとの原子比率における組成式(RT) A
I は、以下に述べる理1−y y 由でyが0.005≦y≦0,4の範囲の値となるよう
にして、光磁気記録媒体のアモルファス合金膜を形成す
る。
光磁気記録膜としての添加元素Alを含む非晶質の希土
類金属−遷移金属合金膜における添加元素Alの効果を
調べてみる。実験結果によると、Q、5at、%未満の
AI<即ちy<0.005)の希土類金属−遷移金属合
金への添加では酸化による該記録膜の経時変化を小さく
する効果がないことが確認された。また、40at、%
を超えるのAI(即ちy>0.4)の希土類金属−遷移
金属合金への添加になると光磁気記録膜の磁気的及び光
磁気特性における保磁力Hcやカー回転角の急激な低下
が生じ、光磁気記録媒体として使用することが不可能と
なることも確認された。
類金属−遷移金属合金膜における添加元素Alの効果を
調べてみる。実験結果によると、Q、5at、%未満の
AI<即ちy<0.005)の希土類金属−遷移金属合
金への添加では酸化による該記録膜の経時変化を小さく
する効果がないことが確認された。また、40at、%
を超えるのAI(即ちy>0.4)の希土類金属−遷移
金属合金への添加になると光磁気記録膜の磁気的及び光
磁気特性における保磁力Hcやカー回転角の急激な低下
が生じ、光磁気記録媒体として使用することが不可能と
なることも確認された。
第3図は、本実施例の光磁気記録媒体と従来のものとに
ついて、45℃90%R,H,(湿度)の状態で波長8
30nmの半導体レーザ光によって測定した場合におけ
るカー回転角θにの経時変化を調べた結果を示すグラフ
である。第3図において、縦軸にカー回転角、横軸に経
過時間を示しており、曲線Aは(Tb (Fe
Co )x O,80,2 l−X)1−1”V合金においてx=0.18゜y=0
.08としてアモルファス合金膜として用いた本実施例
の光磁気記録媒体の経時変化を示し、曲線Bはカーエン
ハンス膜を用いることなく基板の上にTbFeCo合金
膜、そして保護膜をこの順に形成した従来の光磁気記録
媒体の経時変化を示している。グラフに示す如(本実施
例の光記録媒体は従来のものよりもθk(カー回転角)
の劣化が小さく酸化等による経時変化少ないことが分る
。
ついて、45℃90%R,H,(湿度)の状態で波長8
30nmの半導体レーザ光によって測定した場合におけ
るカー回転角θにの経時変化を調べた結果を示すグラフ
である。第3図において、縦軸にカー回転角、横軸に経
過時間を示しており、曲線Aは(Tb (Fe
Co )x O,80,2 l−X)1−1”V合金においてx=0.18゜y=0
.08としてアモルファス合金膜として用いた本実施例
の光磁気記録媒体の経時変化を示し、曲線Bはカーエン
ハンス膜を用いることなく基板の上にTbFeCo合金
膜、そして保護膜をこの順に形成した従来の光磁気記録
媒体の経時変化を示している。グラフに示す如(本実施
例の光記録媒体は従来のものよりもθk(カー回転角)
の劣化が小さく酸化等による経時変化少ないことが分る
。
更に、本実施例の光磁気記録媒体と従来のものとを45
℃90%R,H,(湿度)の状態である時間保持した侵
、波長830nmの半導体レーザ光を用いてそれぞれの
光磁気記録媒体のカー回転角θkについて調べて見る。
℃90%R,H,(湿度)の状態である時間保持した侵
、波長830nmの半導体レーザ光を用いてそれぞれの
光磁気記録媒体のカー回転角θkについて調べて見る。
本実施例の光磁気記録媒体のカー回転角θには1.05
°となり、従来の光記録媒体のカー回転角θには0.5
4°となることが分った。このことは、本実施例では第
2図に示す如く膜厚830人のZnSからなる第1カー
効果エンハンス膜2aと膜厚50人のGeからなる第2
カー効果エンハンス膜2bを基板1とアモルファス合金
膜3との間に積層させているので、従来からのZnSの
誘電体の見掛上Qカー回転角の増大効果にざらにGeに
よる増大効果が付与されることを示している。
°となり、従来の光記録媒体のカー回転角θには0.5
4°となることが分った。このことは、本実施例では第
2図に示す如く膜厚830人のZnSからなる第1カー
効果エンハンス膜2aと膜厚50人のGeからなる第2
カー効果エンハンス膜2bを基板1とアモルファス合金
膜3との間に積層させているので、従来からのZnSの
誘電体の見掛上Qカー回転角の増大効果にざらにGeに
よる増大効果が付与されることを示している。
また、ZnSからなる第1カー効果エンハンス膜の膜厚
は50人〜1500人の範囲で変化させ、かつまた、G
e(ゲルマニウム)からなる第2カー効果エンハンス膜
の膜厚は10人〜100Aの範囲で変化させるなど、こ
れら両者のカー効果エンハンス膜の膜厚を適当に選択す
ることによって、45℃90%R,H,の状態で波長8
30nmの半導体レーザ光を用いてカー回転角Okを測
定したところ、上記同様のカー回転角の増大効果が得ら
れることが確認できた。
は50人〜1500人の範囲で変化させ、かつまた、G
e(ゲルマニウム)からなる第2カー効果エンハンス膜
の膜厚は10人〜100Aの範囲で変化させるなど、こ
れら両者のカー効果エンハンス膜の膜厚を適当に選択す
ることによって、45℃90%R,H,の状態で波長8
30nmの半導体レーザ光を用いてカー回転角Okを測
定したところ、上記同様のカー回転角の増大効果が得ら
れることが確認できた。
1艶立11
以上の如く本発明によれば、希土類金属−遷移金属合金
に添加元素としてAlを添加することにより、さらにま
たZnSからなる第1カー効果エンハンス膜及びGeか
らなる第2カー効果エンハンス膜を記録膜と基板との間
に設けることにより1、経時変化の少ない長期保存性に
優れかつカー回転角の増大した光磁気記録媒体を得るこ
とができる。
に添加元素としてAlを添加することにより、さらにま
たZnSからなる第1カー効果エンハンス膜及びGeか
らなる第2カー効果エンハンス膜を記録膜と基板との間
に設けることにより1、経時変化の少ない長期保存性に
優れかつカー回転角の増大した光磁気記録媒体を得るこ
とができる。
第1図は従来の光磁気配記録媒体の概略断面図であや、
第2図は本発明による光磁気記録媒体の概略断面図であ
り、第3図は従来の光記録媒体と本発明にの光記録媒体
との45℃、湿度90%の状態におけるカー回転角θに
の経時変化を示すグラフである。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・PMMA基板 2.2a、2b・・・・・・カー効果エンハンス膜3・
・・・・・アモルファス合金膜 4・・・・・・保護膜
第2図は本発明による光磁気記録媒体の概略断面図であ
り、第3図は従来の光記録媒体と本発明にの光記録媒体
との45℃、湿度90%の状態におけるカー回転角θに
の経時変化を示すグラフである。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・PMMA基板 2.2a、2b・・・・・・カー効果エンハンス膜3・
・・・・・アモルファス合金膜 4・・・・・・保護膜
Claims (3)
- (1)透明基板と該透明基板に担持されかつ膜面に垂直
な方向に一軸磁気異方性を有するアモルファス合金膜と
を有する光磁気記録媒体であつて、前記アモルファス合
金膜はAlを添加元素として含む希土類金属−遷移金属
合金膜であり、かつ前記基板と前記アモルファス合金膜
との間にZnSからなる第1カー効果エンハンス膜及び
Geからなる第2カー効果エンハンス膜を設けたことを
特徴とする光磁気記録媒体。 - (2)前記アモルファス合金膜は原子比としてx、yを
用いて、 (R_xT_1_−_x)_1_−_yAl_yで示さ
れる組成を有する多元合金の膜であり、RはGd、Tb
、Dyから選ばれる1種類以上の希土類金属であり、T
はFe、Coから選ばれる1種類以上の遷移金属であり
、かつx及びyは0.1≦x≦0.4及び0.005≦
y≦0.4の各々の範囲にある値であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の光磁気記録媒体。 - (3)前記ZnSからなる第1カー効果エンハンス膜の
膜厚は50Å〜1500Åでありかつ前記Geからなる
第2カー効果エンハンス膜の膜厚は10Å〜100Åで
あることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の光磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8568985A JPS61243977A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8568985A JPS61243977A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61243977A true JPS61243977A (ja) | 1986-10-30 |
JPH0445898B2 JPH0445898B2 (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=13865808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8568985A Granted JPS61243977A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61243977A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02152041A (ja) * | 1988-12-05 | 1990-06-12 | Hitachi Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
US5175715A (en) * | 1990-08-03 | 1992-12-29 | Goldstar Co., Ltd. | Magneto-optical recording medium anti-reflective layers made of amorphous thin films having a specific reflective index range |
-
1985
- 1985-04-22 JP JP8568985A patent/JPS61243977A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02152041A (ja) * | 1988-12-05 | 1990-06-12 | Hitachi Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
US5175715A (en) * | 1990-08-03 | 1992-12-29 | Goldstar Co., Ltd. | Magneto-optical recording medium anti-reflective layers made of amorphous thin films having a specific reflective index range |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0445898B2 (ja) | 1992-07-28 |
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