JPS61229229A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS61229229A JPS61229229A JP7158985A JP7158985A JPS61229229A JP S61229229 A JPS61229229 A JP S61229229A JP 7158985 A JP7158985 A JP 7158985A JP 7158985 A JP7158985 A JP 7158985A JP S61229229 A JPS61229229 A JP S61229229A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
11匁j
本発明は金属薄膜型磁気記録媒体の改良に関し、特に金
属磁性薄膜の表面に保護層(いわゆるトップコート層)
を形成して耐摩耗性および長期にわたる走行安定性を改
善した磁気記録媒体に関する。
属磁性薄膜の表面に保護層(いわゆるトップコート層)
を形成して耐摩耗性および長期にわたる走行安定性を改
善した磁気記録媒体に関する。
11且遣
従来より、磁気テープ、フロッピーディスク等の磁気記
録媒体においては、強磁性微粒子を高分子結合剤中に分
散させた磁性層を有するいわゆる塗布型の記録媒体が広
く用いられて来たが、近年はFe、Ni、Fe−Co、
Co−Ni、Co−Cr、 Go−P、 Mn−B
1. Fe−Co−B 、Co−N1−P、 Co
−V、 Co−Re、 Co −Pt等の金属あ
るいは金属化合物の薄膜を蒸着。
録媒体においては、強磁性微粒子を高分子結合剤中に分
散させた磁性層を有するいわゆる塗布型の記録媒体が広
く用いられて来たが、近年はFe、Ni、Fe−Co、
Co−Ni、Co−Cr、 Go−P、 Mn−B
1. Fe−Co−B 、Co−N1−P、 Co
−V、 Co−Re、 Co −Pt等の金属あ
るいは金属化合物の薄膜を蒸着。
スパッタリング等の方法で非磁性支持体上に形成せしめ
た、より記録密度の高い金属薄M型磁気記録媒体の開発
が進められている。
た、より記録密度の高い金属薄M型磁気記録媒体の開発
が進められている。
これらの磁気記録媒体においては、高密度記録等の磁気
的性能を満足させると同時に、摩擦係数が小さく円滑な
走行安定性を示すこと、耐摩耗性に優れ長期にわたり安
定走行を維持すること、いかなる環境下でも安定な性能
を発揮できる耐環境性があること等の特性が要求される
。
的性能を満足させると同時に、摩擦係数が小さく円滑な
走行安定性を示すこと、耐摩耗性に優れ長期にわたり安
定走行を維持すること、いかなる環境下でも安定な性能
を発揮できる耐環境性があること等の特性が要求される
。
磁性層たる金属薄膜の表面がむき出しのままとなってい
る金属薄膜型磁気記録媒体においては。
る金属薄膜型磁気記録媒体においては。
磁気へラド−記録媒体間の摺動により磁性層に傷がつき
やすいため、ヘッドと媒体間の潤滑性向上による走行安
定性、耐摩耗性等が一段と強く要請される。これらの特
性が得られなければ、磁性層に高密度記録された情報を
長期にわたって安定に維持し、かつ確実に再生すること
が到底期待し得ないからである。
やすいため、ヘッドと媒体間の潤滑性向上による走行安
定性、耐摩耗性等が一段と強く要請される。これらの特
性が得られなければ、磁性層に高密度記録された情報を
長期にわたって安定に維持し、かつ確実に再生すること
が到底期待し得ないからである。
磁気記録媒体の走行安定性を改善するために、従来より
、フッ素系あるいはシリコン系オイル、界面活性剤、滑
剤等の潤滑剤を磁性層表面に塗布する方法や、直鎖の飽
和脂肪酸ないしそのエステルを蒸着して表面保護層とす
る方法が検討されている。
、フッ素系あるいはシリコン系オイル、界面活性剤、滑
剤等の潤滑剤を磁性層表面に塗布する方法や、直鎖の飽
和脂肪酸ないしそのエステルを蒸着して表面保護層とす
る方法が検討されている。
これらの方法においては、塗布剤の均一な混合、塗布が
困難であるばかりでなく、形成された潤滑剤あるいは脂
肪酸等の層は磁性層の保護層として十分な耐久性がなく
、その潤滑効果が徐々に低減する傾向があるため、潤滑
効果を長期間維持した長期的に信頼性のある薄い保護層
を得ることは困難であった。
困難であるばかりでなく、形成された潤滑剤あるいは脂
肪酸等の層は磁性層の保護層として十分な耐久性がなく
、その潤滑効果が徐々に低減する傾向があるため、潤滑
効果を長期間維持した長期的に信頼性のある薄い保護層
を得ることは困難であった。
1に1」
本発明の目的は、潤滑性、耐摩耗性に優れると同時に長
期にわたる走行安定性改善効果を示す表面保護層を有す
る磁気記録媒体を提供することにある。
期にわたる走行安定性改善効果を示す表面保護層を有す
る磁気記録媒体を提供することにある。
発JLIJL鷹
本発明者等の研究によれば、磁性層の表面に炭化クロミ
ウムの1[を形成することが、上述の目的達成のために
効果的であることが見出された。
ウムの1[を形成することが、上述の目的達成のために
効果的であることが見出された。
本発明の磁気記録媒体はこのような知見に基づくもので
あり、より詳しくは、非磁性支持体上に金属磁性薄膜お
よび炭化クロミウムの薄膜をこの順序で形成してなるこ
とを特徴とするものである。
あり、より詳しくは、非磁性支持体上に金属磁性薄膜お
よび炭化クロミウムの薄膜をこの順序で形成してなるこ
とを特徴とするものである。
−雷
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、図面に一実施例の部分断面構
成を示すように、非磁性支持体lの一面に磁性層たる金
属磁性薄sI2および炭化クロミウムの薄Pa3をこの
順序で形成してなる。
成を示すように、非磁性支持体lの一面に磁性層たる金
属磁性薄sI2および炭化クロミウムの薄Pa3をこの
順序で形成してなる。
非磁性支持体lとしては、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド等のプラスチックの厚さ5〜1100JL程
度のフィルムが好ましく用いられるが、その他、ガラス
又はアルミニウム等の非磁性金属も必要に応じて用いる
ことができ、基本的には所望の磁性層形成面を与える任
意の非磁性固体材料が用いられる。
ポリアミド等のプラスチックの厚さ5〜1100JL程
度のフィルムが好ましく用いられるが、その他、ガラス
又はアルミニウム等の非磁性金属も必要に応じて用いる
ことができ、基本的には所望の磁性層形成面を与える任
意の非磁性固体材料が用いられる。
磁性層2は、上記したような非磁性支持体l上に、蒸着
、スパッタリング等の方法により形成されたFe、Ni
、Fe−Co、Co−Ni、C。
、スパッタリング等の方法により形成されたFe、Ni
、Fe−Co、Co−Ni、C。
−Cr、Co−P、Mn−B1.Fe−Co −B、C
o−N1−P、Go−V、Go−Re。
o−N1−P、Go−V、Go−Re。
Co−Pt、等の金属あるいは金属化合物の好ましくは
厚さ0.04〜2.0ルm程度の薄膜として得られる。
厚さ0.04〜2.0ルm程度の薄膜として得られる。
炭化クロミウム薄膜3を構成する炭化クロミウムの組成
は特に限定されるものではなく、例えばCr3C2,C
r7C,、Cr23C@等の組成のものが用いられる。
は特に限定されるものではなく、例えばCr3C2,C
r7C,、Cr23C@等の組成のものが用いられる。
炭化クロミウム薄@3の厚さは40〜tooo人が好ま
しく、更には、50〜300人が好ましい、これは炭化
クロミウムg膜3が薄すぎると長期にわたる耐久性が得
られず、保護層どしての信頼性に欠けるためであり、ま
た一方、炭化クロミウム薄115I3が厚すぎると長期
にわたる走行安定性は向上するもののスペーシングロス
が増大し、再生信号出力が低下するためである。
しく、更には、50〜300人が好ましい、これは炭化
クロミウムg膜3が薄すぎると長期にわたる耐久性が得
られず、保護層どしての信頼性に欠けるためであり、ま
た一方、炭化クロミウム薄115I3が厚すぎると長期
にわたる走行安定性は向上するもののスペーシングロス
が増大し、再生信号出力が低下するためである。
炭化クロミウム層3は例えばCVD (化学的気相成長
法)プラズマCVD、高周波スパッタリング、マグネト
ロンスパッタリング、イオンブレーティング等により形
成される。蒸着源あるいはスパッタ源としては、炭化ク
ロミウムそのものが用いられるほか、クロミウムを蒸着
源あるいはスパッタ源として用いて真空雰囲気中にメタ
ン、エタンあるいは一酸化炭素を導入し、気相反応で炭
化クロミウムを形成する方法も好ましく用いられる。炭
化クロミウム層3の形成は金属磁性薄膜2(必要な場合
は更に中間層)を形成する工程と同一の真空槽内で連続
工程として実施し、生産性を向上させることも可能であ
る。
法)プラズマCVD、高周波スパッタリング、マグネト
ロンスパッタリング、イオンブレーティング等により形
成される。蒸着源あるいはスパッタ源としては、炭化ク
ロミウムそのものが用いられるほか、クロミウムを蒸着
源あるいはスパッタ源として用いて真空雰囲気中にメタ
ン、エタンあるいは一酸化炭素を導入し、気相反応で炭
化クロミウムを形成する方法も好ましく用いられる。炭
化クロミウム層3の形成は金属磁性薄膜2(必要な場合
は更に中間層)を形成する工程と同一の真空槽内で連続
工程として実施し、生産性を向上させることも可能であ
る。
なお1本発明の磁気記録媒体において非磁性支持体lと
金属磁性薄llI2の間に磁気記録媒体としての特性向
上のため、Fe−Ni系や非晶質高透磁材料のCo−Z
r系、Fe−P−C系、Co−5i−B系等の軟磁性膜
あるいはTi、Ge等の非磁性金属薄膜等の中間層又は
その他の層が例えば0.5uLm程度までの厚さで必要
に応じて形成されていてもよい。
金属磁性薄llI2の間に磁気記録媒体としての特性向
上のため、Fe−Ni系や非晶質高透磁材料のCo−Z
r系、Fe−P−C系、Co−5i−B系等の軟磁性膜
あるいはTi、Ge等の非磁性金属薄膜等の中間層又は
その他の層が例えば0.5uLm程度までの厚さで必要
に応じて形成されていてもよい。
また、本発明の磁気記録媒体は、磁性層保護層の耐摩耗
性が要求される限り、ディスク、シート、テープ、カー
ド等任意の形態を取り得る。
性が要求される限り、ディスク、シート、テープ、カー
ド等任意の形態を取り得る。
11立皇j
上述したように本発明はよれば、金属磁性薄膜上に炭化
クロミウム薄膜を形成することにより、磁気特性、生産
性を損うことなく、潤滑性、耐摩耗性に優れると同時に
、長期にわたる走行安定性を示す磁気記録媒体が得られ
る。
クロミウム薄膜を形成することにより、磁気特性、生産
性を損うことなく、潤滑性、耐摩耗性に優れると同時に
、長期にわたる走行安定性を示す磁気記録媒体が得られ
る。
1亙1
以下、実施例、比較例により本発明を更に具体的に説明
する。
する。
東」L倍」2
厚さ12ILmのポリエチレンテレフタレート(PET
)フィルムの一面に、蒸着法によりC。
)フィルムの一面に、蒸着法によりC。
80原子%Ni 20原子%の組成を有する厚さ0.2
終mの金属薄膜を形成した。
終mの金属薄膜を形成した。
更に炭化クロミウム(組成Cr、C2)をターゲットと
して配したマグネトロンスパッタ装置において、真空槽
内を一旦2.5X10−4Pa以上まで排気した後、ア
ルゴンガスを導入してスパッタリング圧0.3Paとし
、マグネトロンスパッタリングにより磁性層表面に厚さ
150人の炭化クロミウム薄膜を形成した。
して配したマグネトロンスパッタ装置において、真空槽
内を一旦2.5X10−4Pa以上まで排気した後、ア
ルゴンガスを導入してスパッタリング圧0.3Paとし
、マグネトロンスパッタリングにより磁性層表面に厚さ
150人の炭化クロミウム薄膜を形成した。
これを8mm巾にスリットし1本発明による磁気テープ
を得た。
を得た。
一方、厚さ124mのポリエチレンテレフタレートフィ
ルムに上記と同様に厚さ0.21LmのCo−Ni金属
薄膜のみを形成し、8mm巾にスリットして、比較例1
のテープとした。
ルムに上記と同様に厚さ0.21LmのCo−Ni金属
薄膜のみを形成し、8mm巾にスリットして、比較例1
のテープとした。
上記2種のテープについて動摩擦係数ルおよび走行耐久
性のテストを行った。
性のテストを行った。
動摩擦係数は温度30℃、相対湿度80%の条件下で(
オイラーの摩擦係数値測定の方法に従って)測定し、さ
らに100回目の往復時の動摩擦係数を測定した。
オイラーの摩擦係数値測定の方法に従って)測定し、さ
らに100回目の往復時の動摩擦係数を測定した。
走行耐久性は市販のVTR装置のスチルモードにおける
スチル再生寿命として測定した。上記スチルモードにお
いて最初の再生出力がl/2になる時間をスチル再生寿
命とした。
スチル再生寿命として測定した。上記スチルモードにお
いて最初の再生出力がl/2になる時間をスチル再生寿
命とした。
結果を第1表に示す。
支ム亘」
厚さlopmのアラミドフィルムの一面に、スパッタリ
ング法によりCo80原子%、Cr2O原子%の組成を
有する厚さ0.5pmの金属薄膜を形成した。
ング法によりCo80原子%、Cr2O原子%の組成を
有する厚さ0.5pmの金属薄膜を形成した。
さらに、スパッタリング圧力を0.4Paとした他は実
施例1と同様のマグネトロンスパッタリング法により厚
さ100人の炭化クロミウム層を形成し、8mm巾にス
リットして本発明による磁気テープを得た。一方、厚さ
10pmのアラミドフィルムに上記と同様に厚さ0.5
4mのCo−Cr金属薄膜のみを形成し、8mm巾にス
リットして比較例2のテープとした。
施例1と同様のマグネトロンスパッタリング法により厚
さ100人の炭化クロミウム層を形成し、8mm巾にス
リットして本発明による磁気テープを得た。一方、厚さ
10pmのアラミドフィルムに上記と同様に厚さ0.5
4mのCo−Cr金属薄膜のみを形成し、8mm巾にス
リットして比較例2のテープとした。
上記2種のテープについて、実施例1と同様に、動摩擦
係数終およびスチル再生寿命の測定を行った。結果を第
1表に示す。
係数終およびスチル再生寿命の測定を行った。結果を第
1表に示す。
裏」ul】
厚さ40ILmのポリイミドフィルムの一面に。
蒸着法により、厚さ0.5BmのパーマロイFe−Ni
(Fe20原子%、Ni80原子%)mを形成し、さ
らにその上に蒸着法により厚さ0.5pmc7)Co−
Cr (Co80原子%、Cr2O原子%)I8!を形
成した。
(Fe20原子%、Ni80原子%)mを形成し、さ
らにその上に蒸着法により厚さ0.5pmc7)Co−
Cr (Co80原子%、Cr2O原子%)I8!を形
成した。
さらに、スパッタ圧を0.5Paとした他は実施例1と
同様のマグネトロンスパッタリングにより、厚さ300
人の炭化クロミウム層を形成し、さらに裁断して150
mmφの本発明による磁気ディスクを得た。一方、厚さ
404mのポリイミドフィルムに上記と同様にFe−N
i膜およびco−Cr膜を形成し、さらに裁断して15
0mmφの比較例3のディスクとした。
同様のマグネトロンスパッタリングにより、厚さ300
人の炭化クロミウム層を形成し、さらに裁断して150
mmφの本発明による磁気ディスクを得た。一方、厚さ
404mのポリイミドフィルムに上記と同様にFe−N
i膜およびco−Cr膜を形成し、さらに裁断して15
0mmφの比較例3のディスクとした。
上記2種のディスクについて動摩擦係数鉢の測定を実施
例1と同様の方法で行った。
例1と同様の方法で行った。
走行耐久性は、垂直記録方式専用の録画再生装置におい
て、1800rpm、サンプリング周波数(輝度信号)
7.16MHzで録画した画像の再生出力が、最初の値
の1/2になるまでの走行回数パスとして測定した。
て、1800rpm、サンプリング周波数(輝度信号)
7.16MHzで録画した画像の再生出力が、最初の値
の1/2になるまでの走行回数パスとして測定した。
結果を第1表に示す。
第1表に示すように、炭化クロミウム層を形成した本発
明のテープ(実施例1〜2)あるいはディスク(実施例
3)の動摩擦係数路はそれぞれの比較例の2/3程度に
減少していた。また100回往復時の動摩擦係数芦の値
も実施例1〜3においては最初の終の値に比べほとんど
変化していなかった。これに対し、比較例1〜3では動
摩擦係数路は100回往復時では大幅に増加していた。
明のテープ(実施例1〜2)あるいはディスク(実施例
3)の動摩擦係数路はそれぞれの比較例の2/3程度に
減少していた。また100回往復時の動摩擦係数芦の値
も実施例1〜3においては最初の終の値に比べほとんど
変化していなかった。これに対し、比較例1〜3では動
摩擦係数路は100回往復時では大幅に増加していた。
一方、走行耐久性としてのスチル再生寿命(実施例1−
2)および画像出力が半減するまでの走行回数パス(実
施例3)においても、本発明の記録媒体にはそれぞれの
比較例より大幅な改善が認められた。
2)および画像出力が半減するまでの走行回数パス(実
施例3)においても、本発明の記録媒体にはそれぞれの
比較例より大幅な改善が認められた。
図面は、本発明の磁気記録媒体の実施例の部分断面図で
ある。 l・・・非磁性支持体、2・・・金属磁性薄膜、3・・
・炭化クロミウム薄膜。
ある。 l・・・非磁性支持体、2・・・金属磁性薄膜、3・・
・炭化クロミウム薄膜。
Claims (1)
- 非磁性支持体上に、金属磁性薄膜および炭化クロミウム
の薄膜を、この順序で形成してなることを特徴とする磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7158985A JPS61229229A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7158985A JPS61229229A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61229229A true JPS61229229A (ja) | 1986-10-13 |
Family
ID=13465010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7158985A Pending JPS61229229A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61229229A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6218624A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-01-27 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0276195A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-15 | Toshiba Corp | 半導体メモリ装置 |
EP1324043A4 (en) * | 2000-09-06 | 2006-05-17 | Toyo Kohan Co Ltd | SOLID SUPPORTS COMPRISING A TREATED SURFACE LAYER |
-
1985
- 1985-04-04 JP JP7158985A patent/JPS61229229A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6218624A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-01-27 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0276195A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-15 | Toshiba Corp | 半導体メモリ装置 |
EP1324043A4 (en) * | 2000-09-06 | 2006-05-17 | Toyo Kohan Co Ltd | SOLID SUPPORTS COMPRISING A TREATED SURFACE LAYER |
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