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JPS61224430A - Wafer transfer device - Google Patents

Wafer transfer device

Info

Publication number
JPS61224430A
JPS61224430A JP6543985A JP6543985A JPS61224430A JP S61224430 A JPS61224430 A JP S61224430A JP 6543985 A JP6543985 A JP 6543985A JP 6543985 A JP6543985 A JP 6543985A JP S61224430 A JPS61224430 A JP S61224430A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier
wafers
transfer
quartz boat
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6543985A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuo Oketa
桶田 立夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP6543985A priority Critical patent/JPS61224430A/en
Publication of JPS61224430A publication Critical patent/JPS61224430A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67778Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
    • H01L21/67781Batch transfer of wafers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)

Abstract

PURPOSE:To automatize completely the process to cover to such an extent that carriers, wherein wafers are housed, are loaded, the wafers are transferred on the quartz port CONSTITUTION:When carriers 1, wherein wafers are housed, are placed on a loading position (a) by the robot andso forth, a loading mechanism 10 effects index-feeding.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野) 本発明はウェハ移替装置に関するもので、特にウェハキ
ャリアのウェハを石英ボートに移し替えて半導体処理(
例えば熱処理)工程に送り、かつ半導体処理工程を経て
きた石英ボートからキャリアにウェハを移し替えて搬出
するものに使用される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a wafer transfer device, and particularly to a wafer transfer device for transferring wafers from a wafer carrier to a quartz boat for semiconductor processing (
For example, it is used to transfer wafers from a quartz boat that has been sent to a heat treatment process and then transferred to a carrier after undergoing a semiconductor processing process.

(発明の技術的背景) 半導体装置の製造の際には、熱処理、エツチング処理、
洗浄処理あるいはホトレジスト処理等の工程が繰り返し
て実行される。そのため、ウェハキャリアと石英ボート
との間で半導体ウェハを移し替える機会が数多くあった
(Technical Background of the Invention) When manufacturing semiconductor devices, heat treatment, etching treatment,
Processes such as cleaning treatment or photoresist treatment are repeatedly performed. Therefore, there were many opportunities to transfer semiconductor wafers between the wafer carrier and the quartz boat.

ウェハを収納するためのウェハキャリアは、例えば添付
図面の第2図のような構造になっている。
A wafer carrier for storing wafers has a structure as shown in FIG. 2 of the accompanying drawings, for example.

寸なわら、キャリア1の内面にはウェハガイド溝2が数
多く切設され、ここにウェハ3が立てられるようになっ
ている。また、半導体処理工程で用いられる石英ボート
は、例えば第3図のような椙造になっている。すなわち
、石英ボート4の上面には溝5が数多く切設され、ここ
にウェハ3が立てられるようになっている。
However, a large number of wafer guide grooves 2 are cut into the inner surface of the carrier 1, and the wafer 3 can be placed in these grooves. Further, the quartz boat used in the semiconductor processing process is, for example, of a cylindrical shape as shown in FIG. That is, a large number of grooves 5 are cut into the upper surface of the quartz boat 4, in which the wafers 3 can be placed.

このようなキャリアと石英ボートとの間のウェハの移し
替えは、通常はビンセット等を用いて人手を介して行な
っている。しかし、人手によると不純物が混入し易く、
またウェハが傷つき易(、従って製品の歩留りを低下さ
せてしまう。
Wafers are normally transferred between the carrier and the quartz boat manually using a bottle set or the like. However, if it is done manually, impurities easily get mixed in,
In addition, the wafer is easily damaged (thereby reducing the product yield).

そこで従来、例えば特開昭57−126128号公報の
如きウェハ移替装置が提案されている。
Therefore, a wafer transfer apparatus has been proposed, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-126128.

この装置によれば、キt1リアと石英ボートとの間のウ
ェハの移し替えを、人手を介さないで自動的に行なうこ
とができる。しかしながら、キャリアのロードおよびア
ンロードから石英ボートによる半導体処理工程までを、
−mして自動的に行うものではない。このため、製品の
歩留りの向上やコストの低下を十分に達成することはで
きない。
According to this device, wafers can be automatically transferred between the kit rear and the quartz boat without human intervention. However, from the loading and unloading of carriers to the semiconductor processing process using quartz boats,
-m is not automatically performed. For this reason, it is not possible to sufficiently improve product yield or reduce costs.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記の従来技術の問題点に鑑みてなされたもの
で、ウェハを収納したキレリアをロードして石英ボート
に移し替え、熱処理等の処理工程の後に再びウェハをキ
ャリアに移し替え、処理済みのウェハを収納したキャリ
アをアンロードするまでの工程を完全に自動化すること
のできるウェハ移替装置を提供するものである。
The present invention was made in view of the above-mentioned problems of the prior art.The wafers are loaded into a Kyrelia and transferred to a quartz boat, and after processing steps such as heat treatment, the wafers are transferred to a carrier again and the wafers are processed. The present invention provides a wafer transfer device that can completely automate the process up to unloading a carrier containing wafers.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

上記の目的を達成するため本発明は、ローディング機構
と、アンローディング機構と、ローディング機構により
受渡し位置に送られたキャリアを移替位置に移入し、か
つ移替位置に戻されたキャリアをアンローディング機構
に移出する手段と、移替位置においてキャリアと石英ボ
ートの間でウェハを移し替える手段と、自己のホーム位
置と半導体処理装置との間で石英ボートを移送するエレ
ベータ機構と、移替位置とエレベータ機構のホーム位置
との間で石英ボートを移動させるステージとを備えるウ
ェハ移替装置を提供するものである。
In order to achieve the above object, the present invention includes a loading mechanism, an unloading mechanism, and a loading mechanism that transfers carriers sent to a delivery position by the loading mechanism to a transfer position, and unloads carriers returned to the transfer position. means for transferring the wafers to the transfer mechanism; means for transferring the wafers between the carrier and the quartz boat at the transfer position; an elevator mechanism for transferring the quartz boat between its own home position and the semiconductor processing equipment; A wafer transfer device is provided that includes a stage for moving a quartz boat to and from a home position of an elevator mechanism.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、添付図面の第1図を参照して本発明の一実施例を
説明する。第1図は同実施例の斜視図である。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1 of the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of the same embodiment.

ローディング機構10はキャリア1を移送するためのも
ので、ローディング位置aに図示しないロボット等によ
って載置されたキャリア1は、順次位@bまでインデッ
クス送りされる。0−ディング機構10に隣接する位置
には、位置すのキャリア1を受渡し位置cに移送する移
入機構12が設けられている。この移入機構12は、位
置すがら受渡し位置cまで延びるガイド部材12aと、
このガイド部材12aに案内されて図示しないモータに
より移動するスライダ12bと、このスライダ12bに
取り付けられてキャリア1を持ち上げるためのりフタ1
2cを備えている。
The loading mechanism 10 is for transporting the carriers 1, and the carriers 1 placed at a loading position a by a robot or the like (not shown) are sequentially index-fed to a position @b. A transfer mechanism 12 is provided adjacent to the loading mechanism 10 for transferring the carrier 1 to the delivery position c. This transfer mechanism 12 includes a guide member 12a that extends to the delivery position c while in position;
A slider 12b guided by this guide member 12a and moved by a motor (not shown), and a lid 1 attached to this slider 12b for lifting the carrier 1.
It is equipped with 2c.

移入機構12に隣接する位置には、受渡し位置Cを切り
換えるキャリア移動ステージ13が設けられている。こ
のキャリア移動ステート13は、通常の石英ボートのウ
ェハ容量がキャリア1のウェハ容ωの複数倍あるため必
要になるものである。
A carrier moving stage 13 for switching the delivery position C is provided at a position adjacent to the transfer mechanism 12. This carrier movement state 13 is necessary because the wafer capacity of a normal quartz boat is multiple times the wafer capacity ω of the carrier 1.

キャリア移動ステージ13は、図示しないモータにより
ねじ棒14aが回転°するときに、ガイドレール14b
に沿って図中の矢印方向に移動し、受渡し位置Cと移替
位置の間でキャリアを運ぶ。
The carrier moving stage 13 moves along the guide rail 14b when the threaded rod 14a is rotated by a motor (not shown).
The carrier is moved in the direction of the arrow in the figure along the arrow to transport the carrier between the delivery position C and the transfer position.

ウェハを収納したキャリア1が受渡し位Mcから所定の
移替位置に来たときは、図示しないキャリアホルダ等が
作動してキャリア1が回動しながら持ち上げられ、ウェ
ハ受20の作用によってボート移動ステージ18上の石
英ボート4にセットされる。なお、このキャリア1から
石英ボート4へのウェハの移し換え動作は、例えば特開
昭57−126128号公報の方法によってなされる。
When the carrier 1 containing the wafers comes from the delivery position Mc to a predetermined transfer position, a carrier holder (not shown) etc. is operated to rotate and lift the carrier 1, and the action of the wafer holder 20 moves the carrier 1 to the boat moving stage. It is set in the quartz boat 4 on the top 18. The wafer transfer operation from the carrier 1 to the quartz boat 4 is performed, for example, by the method disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 126128/1983.

ボート移動ステージ18は石英ボート4を移替位[dと
エレベータ15のホーム位置eとの間で、石英ボート4
を移動させる。なお、その駆動l1eaはキャリア移動
ステージ13の機構と同様になっている。
The boat moving stage 18 moves the quartz boat 4 between the position [d] and the home position e of the elevator 15.
move. Note that the drive l1ea is similar to the mechanism of the carrier moving stage 13.

エレベータ機構15は図示しない駆動機構によって昇降
駆動および回転駆動させられる作動杆15aと、これに
連結される平行な2本のリンク杆15bと、リンク杆に
連結され作動杆15aに平行な支持杆15Cと、支持杆
15Cの先端に固設されて石英ボートの取手載置するよ
う構成された支持具15dとを備えている。このエレベ
ータ機構15の働きによって、ボート移動ステージ18
上の位置e(エレベータ機構15のホーム位置)と、石
英チューブ25の入口位@fの間で石英ボートが移送さ
れる。石英フォーク24は入口位置fに来た石英ボート
を、拡散炉の石英チューブ25内に入れるためのもので
ある。
The elevator mechanism 15 includes an operating rod 15a that is driven up and down and rotated by a drive mechanism (not shown), two parallel link rods 15b connected to this, and a support rod 15C connected to the link rod and parallel to the operating rod 15a. and a support 15d which is fixed to the tip of the support rod 15C and configured to be placed on the handle of a quartz boat. By the action of this elevator mechanism 15, the boat moving stage 18
The quartz boat is transferred between the upper position e (home position of the elevator mechanism 15) and the entrance position @f of the quartz tube 25. The quartz fork 24 is for inserting the quartz boat that has come to the inlet position f into the quartz tube 25 of the diffusion furnace.

移入機構12に相対する位置には、移替位置Cから受渡
し位置すに戻されたキャリア1を、アンローディング機
構23まで移送するための移出機構22が設けられてい
る。移出機構22はガイド部材22aと、図示しないス
ライダと、スライダに固設され伸縮可能なりフタ22C
とを備えている。アンローディング機構23はローディ
ング機構10と同様の構成をしており、キャリア1をア
ンローディング位置Qまでインデックス送りする。
A transfer mechanism 22 is provided at a position facing the transfer mechanism 12 for transferring the carrier 1 returned from the transfer position C to the delivery position to an unloading mechanism 23. The transfer mechanism 22 includes a guide member 22a, a slider (not shown), and a cover 22C that is fixed to the slider and is extendable and retractable.
It is equipped with The unloading mechanism 23 has the same configuration as the loading mechanism 10, and index-feeds the carrier 1 to the unloading position Q.

次に、上記実施例の装置の作動を説明する。なお、石英
ボート4はキャリア1の4杯分の容量があり、石英ボー
ト1杯分のウェアのみを処理するものとする。
Next, the operation of the apparatus of the above embodiment will be explained. It is assumed that the quartz boat 4 has a capacity for four cups of the carrier 1 and processes only one quartz boat's worth of wear.

まず、図示しないロボット等により、ローディング位置
aにウェハを収納したキャリア1が載置されると、ロー
ディング機構10はこれを順次受渡し位置すにインデッ
クス送りする。受渡し位置すに来た1個目のキャリア1
は、移入機構12によって移替位置Cの第1の位@(ウ
ェハ移動ステージ13が1番手前にあるときの位置)に
移送される。そして、ウェハ受20等の作用によって、
キャリア1に収納されたウェハはボート移動ステージ1
8上の移替位置dにある石英ボート4の一番手前側に移
し換えられる。
First, when a carrier 1 containing wafers is placed at a loading position a by a robot (not shown) or the like, the loading mechanism 10 sequentially indexes the carrier 1 to a delivery position. The first carrier 1 that came to the delivery position
is transferred by the transfer mechanism 12 to the first position @ of the transfer position C (the position when the wafer movement stage 13 is at the frontmost position). Then, due to the action of the wafer holder 20,
The wafers stored in carrier 1 are moved to boat moving stage 1
The quartz boat 4 is transferred to the frontmost side of the quartz boat 4 at the transfer position d above the quartz boat 8.

ウェハの移し換えによって空になってキャリア −1は
、移入機構12および移出機構22の作用によってアン
ロー1機構23に移送される。以下、キャリア移動ステ
ージ13が1/4づつ移動しながら上記の動作が4回だ
け繰り返される。
Carrier-1, which has been emptied by the transfer of the wafer, is transferred to the unloading mechanism 23 by the action of the transfer mechanism 12 and the transfer mechanism 22. Thereafter, the above operation is repeated four times while the carrier moving stage 13 moves by 1/4.

このようにしてウェハが収納された石英ボート4は、ボ
ート移動ステージ18によってエレベータ機構15のホ
ーム位置eまで移送される。そして、エレベータ機構1
5によって石英ボート4は石英チューブ25の入口位置
fまで持ち上げられる。入口位置fに来た石英ボート4
は、石英フォーク24の作用によって石英チューブ25
内に送られ、所定の処理(例えば拡散処理)がなされる
The quartz boat 4 containing the wafers in this manner is transported by the boat moving stage 18 to the home position e of the elevator mechanism 15. And elevator mechanism 1
5 lifts the quartz boat 4 to the entrance position f of the quartz tube 25. Quartz boat 4 arrives at entrance position f
The quartz tube 25 is opened by the action of the quartz fork 24.
and undergoes predetermined processing (for example, diffusion processing).

上記の処理が終了すると、石英ボート4は石英フォーク
の作用によって入口位Ifまで戻され、エレベータ機構
15に支持されてボート移動ステージ18に載置される
。そして、ボート移動ステージ18によってボート側の
移替位置dまで運ばれる。このとき、空のキャリア1を
ローディング機構10によってキャリア側の移替位置C
まで移入しておく。
When the above processing is completed, the quartz boat 4 is returned to the entrance position If by the action of the quartz fork, supported by the elevator mechanism 15, and placed on the boat moving stage 18. Then, it is carried by the boat moving stage 18 to the transfer position d on the boat side. At this time, the empty carrier 1 is transferred to the carrier side position C by the loading mechanism 10.
Import until.

次に、ウェハ受20等によって石英ボート4の処理済み
ウェハを1/4づつ4個のキャリアに順次移し換えなが
ら、移出機構22およびアンロープインク機構23によ
り処理済みウェハを収納したキャリアを順次搬出する。
Next, while the processed wafers in the quartz boat 4 are sequentially transferred to four carriers in 1/4 increments using the wafer receiver 20 etc., the carriers containing the processed wafers are sequentially transferred by the transfer mechanism 22 and the unrope ink mechanism 23. do.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の如く本発明によれば、処理前のウェハを収納した
キャリアをロードして石英ボートに移し換え、熱処理等
の処理工程の後に再び処理済みのウェハをキャリアに移
し換え、処理済みのウェハを収納したキャリアをアンロ
ードするまでの工程を完全に自動化できるウェハ移替位
置を得ることができる。このため、ウェハへの不純物の
混入や損傷を低く押えることができ、従って製品の歩留
りの向上とコストの低減を図ることができる。
As described above, according to the present invention, a carrier containing unprocessed wafers is loaded and transferred to a quartz boat, and after processing steps such as heat treatment, the processed wafers are transferred to the carrier again, and the processed wafers are transferred to the carrier. It is possible to obtain a wafer transfer position that can completely automate the process up to unloading the stored carrier. Therefore, contamination of impurities and damage to the wafer can be suppressed, thereby improving product yield and reducing costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図はウェハを
収納したキャリアの斜視図、第3図はウェハを収納した
石英ボートの斜視図である。 1・・・ウェハキャリア、3・・・ウェハ、4・・・石
英ボート、10・・・ローディング機構、12・・・移
入機構、13・・・キャリア移動ステージ、15・・・
エレベータ機構、18・・・ボート移動ステージ、24
・・・石英フォーク、25・・・石英チューブ、a・・
・口・−ディング位置、b・・・受渡し位置、C・・・
キャリア側の移鼓位置、d・・・石英ボー1〜側の移替
位置、e・・・エレベータ機構のホーム位置、f・・・
石英チューブの入口位置。 出願人代理人  猪  股    清 第2図 第3図 手続ネ…正書訪刻 昭和60年7月2日 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 1、事件の表示 昭和60年 特許願 第65439号 2、発明の名称 ウェハ移替装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 (307)  株式会社東芝 4、代 理 人 (郵便番号100) 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 電話東京(211)2321大代表 昭 和 60年 6 月 10日 (発送日 昭和60年6月25日) 6、補正の対象
FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a carrier containing wafers, and FIG. 3 is a perspective view of a quartz boat containing wafers. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Wafer carrier, 3... Wafer, 4... Quartz boat, 10... Loading mechanism, 12... Transfer mechanism, 13... Carrier movement stage, 15...
Elevator mechanism, 18... Boat movement stage, 24
...Quartz fork, 25...Quartz tube, a...
・Opening position, B...Delivery position, C...
Transfer position on carrier side, d... Transfer position on quartz bow 1~ side, e... Home position of elevator mechanism, f...
Inlet position of quartz tube. Applicant's agent Kiyoshi Inomata Figure 2 Figure 3 Proceedings...Authentic visit dated July 2, 1985 Michibe Uga, Commissioner of the Patent Office 1, Indication of case 1985 Patent Application No. 65439 2, Name of the invention: Wafer transfer device 3, relationship with the amended person case Patent applicant (307) Toshiba Corporation 4, agent (zip code 100) Telephone Tokyo, 3-2-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo ( 211) 2321 Representative June 10, 1988 (shipment date June 25, 1985) 6. Subject to amendment

Claims (1)

【特許請求の範囲】  複数枚の半導体ウェハを収納するキャリアと、半導体
処理装置中で使用される石英ボートとの間で、半導体ウ
ェハの移し替えをするウェハ移替装置において、 ローディングされる前記キャリアが載置されるローディ
ング機構と、アンローディングされる前記キャリアが載
置されるアンローディング機構と、前記ローディング機
構により受渡し位置にインデックス送りされた前記キャ
リアを移替位置に移入し、かつこの移替位置に戻された
前記キャリアを前記アンローディング機構に移出する手
段と、前記移替位置にある前記キャリアと前記石英ボー
トの間でウェハの移し替えをする手段と、ホーム位置と
前記半導体処理装置の搬出入位置との間で前記石英ボー
トを移送するエレベータ機構と、前記石英ボートを前記
移替位置と前記エレベータ機構のホーム位置の間で移送
する移動ステージとを備えるウェハ移替装置。
[Scope of Claims] A wafer transfer device that transfers semiconductor wafers between a carrier that stores a plurality of semiconductor wafers and a quartz boat used in a semiconductor processing device, the carrier being loaded. a loading mechanism on which the carrier to be unloaded is placed; an unloading mechanism on which the carrier to be unloaded is placed; and a loading mechanism for transferring the carrier index-fed to the delivery position by the loading mechanism to a transfer position, and transferring the carrier to a transfer position. means for transferring the carrier returned to the position to the unloading mechanism; means for transferring wafers between the carrier at the transfer position and the quartz boat; A wafer transfer apparatus comprising: an elevator mechanism that transfers the quartz boat between the transfer position and a home position of the elevator mechanism; and a movement stage that transfers the quartz boat between the transfer position and a home position of the elevator mechanism.
JP6543985A 1985-03-29 1985-03-29 Wafer transfer device Pending JPS61224430A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6543985A JPS61224430A (en) 1985-03-29 1985-03-29 Wafer transfer device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6543985A JPS61224430A (en) 1985-03-29 1985-03-29 Wafer transfer device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61224430A true JPS61224430A (en) 1986-10-06

Family

ID=13287158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6543985A Pending JPS61224430A (en) 1985-03-29 1985-03-29 Wafer transfer device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61224430A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310442A (en) * 1991-05-13 1994-05-10 Nitto Denko Corporation Apparatus for applying and removing protective adhesive tape to/from semiconductor wafer surfaces

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310442A (en) * 1991-05-13 1994-05-10 Nitto Denko Corporation Apparatus for applying and removing protective adhesive tape to/from semiconductor wafer surfaces

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