JPS61217925A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS61217925A JPS61217925A JP60059191A JP5919185A JPS61217925A JP S61217925 A JPS61217925 A JP S61217925A JP 60059191 A JP60059191 A JP 60059191A JP 5919185 A JP5919185 A JP 5919185A JP S61217925 A JPS61217925 A JP S61217925A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
- C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒
体に関するものである。
体に関するものである。
磁気記録において高密度記録が行なえるようにするには
、磁気記録媒体の磁気特性中保磁力の高いことが必要で
ある。
、磁気記録媒体の磁気特性中保磁力の高いことが必要で
ある。
ところが、従来より例えばスパッタリング等のフィジカ
ルペーパーデポジション法によって作られている金属薄
膜型磁気記録媒体は、その保磁力、モジュレーションノ
イズ、耐食性等の点において問題が残されており、高密
度記録用のものとしては不充分なものである。
ルペーパーデポジション法によって作られている金属薄
膜型磁気記録媒体は、その保磁力、モジュレーションノ
イズ、耐食性等の点において問題が残されており、高密
度記録用のものとしては不充分なものである。
本発明者は、金属薄膜型の磁気記録媒体の研究を続けて
いるうちに、特にCo−Ni−Cr系合金磁性膜の磁気
記録媒体の研究を続けているうちに、このCo−Ni−
Cr系合金磁性膜の下地層にCr膜を構成し、かつCo
−Ni−Cr系合金磁性膜としてCrが約3〜17原子
%含まれたものであって、そしてこの磁性膜の厚みが約
400〜2000Aであるものを用いた場合、この磁性
膜の保磁力Hcは高く、ノイズレベルの小さな高S/N
のものとなり、さらには磁性膜の耐食性が高まり、高性
能な磁気記録媒体を得ることが出来ることを見い出した
。
いるうちに、特にCo−Ni−Cr系合金磁性膜の磁気
記録媒体の研究を続けているうちに、このCo−Ni−
Cr系合金磁性膜の下地層にCr膜を構成し、かつCo
−Ni−Cr系合金磁性膜としてCrが約3〜17原子
%含まれたものであって、そしてこの磁性膜の厚みが約
400〜2000Aであるものを用いた場合、この磁性
膜の保磁力Hcは高く、ノイズレベルの小さな高S/N
のものとなり、さらには磁性膜の耐食性が高まり、高性
能な磁気記録媒体を得ることが出来ることを見い出した
。
すなわち、Co−Ni−Cr系合金の下地層としてCr
層を構成しておくことにより、Co−Ni−Cr系合金
磁性膜の面内方向の配向性が高くなることを見い出した
のである。つまり、Co−Ni−Cr系合金磁性膜の下
地層としてCr層がない場合には面内配向性°が悪くな
るのである。尚、この下地層としてのCr層は、その厚
みが約1000λ〜1μm1より望ましくは約2000
〜5000A程度であることが好ましい。
層を構成しておくことにより、Co−Ni−Cr系合金
磁性膜の面内方向の配向性が高くなることを見い出した
のである。つまり、Co−Ni−Cr系合金磁性膜の下
地層としてCr層がない場合には面内配向性°が悪くな
るのである。尚、この下地層としてのCr層は、その厚
みが約1000λ〜1μm1より望ましくは約2000
〜5000A程度であることが好ましい。
又、Co−Ni−Cr系合金磁性膜中のCrの組成を制
御することにより、すなわちCrを約3〜17原子%の
範囲内のものとすることにより、この磁性膜の保磁力H
cは高く、又、ノイ′ルレペルも小さく、さらには耐食
性が良いことを見い出したのである。
御することにより、すなわちCrを約3〜17原子%の
範囲内のものとすることにより、この磁性膜の保磁力H
cは高く、又、ノイ′ルレペルも小さく、さらには耐食
性が良いことを見い出したのである。
つまり、Cr量が少なすぎると、保磁力Hcは低下する
傾向があり、又、ノイズレベルの低下が図れに<<、さ
らには耐食性も低下する傾向があり、逆にCr量が多く
なりすぎると、保磁力Hcが低下し始めることを見い出
したのである。尚、これは、Crを添加することによっ
て、例えばフイジカ・ルベーバーデポジションによって
形成される磁性膜構成粒子の微細化及び磁気異方性が向
上し、その結果Heが向上するものと思われ、又、磁化
過程が磁化回転型に近ずく結果ノイズレベルは低下する
ものと思われ、又、CrがCr5Osを形成する結果耐
食性が向上するものと思われる。
傾向があり、又、ノイズレベルの低下が図れに<<、さ
らには耐食性も低下する傾向があり、逆にCr量が多く
なりすぎると、保磁力Hcが低下し始めることを見い出
したのである。尚、これは、Crを添加することによっ
て、例えばフイジカ・ルベーバーデポジションによって
形成される磁性膜構成粒子の微細化及び磁気異方性が向
上し、その結果Heが向上するものと思われ、又、磁化
過程が磁化回転型に近ずく結果ノイズレベルは低下する
ものと思われ、又、CrがCr5Osを形成する結果耐
食性が向上するものと思われる。
又、上記特長はCo −N i −Cr系合金磁性膜の
厚さを制御することに裏って一層高められることもわか
った。すなわち、Co−Ni−Cr系合金磁性膜が厚く
なるにつれて保磁力Heは低下する傾向にあり、又、ノ
イズレベルも高くなる傾向にあることより、Co−Ni
−Cr系合金磁性膜は厚すぎない方が望ましいのである
が、逆に薄すぎると耐食性は低下し、又、出力も低下す
ることより、Co−Ni−Cr系合金磁性膜の厚みは約
400〜2000A厚が望ましいこともわかった。
厚さを制御することに裏って一層高められることもわか
った。すなわち、Co−Ni−Cr系合金磁性膜が厚く
なるにつれて保磁力Heは低下する傾向にあり、又、ノ
イズレベルも高くなる傾向にあることより、Co−Ni
−Cr系合金磁性膜は厚すぎない方が望ましいのである
が、逆に薄すぎると耐食性は低下し、又、出力も低下す
ることより、Co−Ni−Cr系合金磁性膜の厚みは約
400〜2000A厚が望ましいこともわかった。
〔実施例1〕
例えばN1−Pメッキされたアルミニウム製基板上に、
8インチ径のCrをターゲットとしてPAr5ミリTo
rrの条1件でDCマグネトロンスパッタを行ない、N
1−Pメッキ膜上に約2500^厚のCr層を形成する
。
8インチ径のCrをターゲットとしてPAr5ミリTo
rrの条1件でDCマグネトロンスパッタを行ない、N
1−Pメッキ膜上に約2500^厚のCr層を形成する
。
次に、上記Cr層の形成された基板に対して、7×71
rILのNiチップ及び7×7罰のCrチップを置いた
8インチ径のCOをターゲットとしてPAr5ミリ゛T
orrの条件でDCマグネトロンスパッタを行ない、上
記Cr層上にCo−Ni−Crr系金磁性膜層CoyN
i+5Crx%x+y+18=100 )を形成し、磁
気ディスクを得る。
rILのNiチップ及び7×7罰のCrチップを置いた
8インチ径のCOをターゲットとしてPAr5ミリ゛T
orrの条件でDCマグネトロンスパッタを行ない、上
記Cr層上にCo−Ni−Crr系金磁性膜層CoyN
i+5Crx%x+y+18=100 )を形成し、磁
気ディスクを得る。
〔実施例2〕
実施例1において、Co −7’J i −Cr合金磁
性薄膜形成時のPArを8ミリTorrで行ない、Cr
層上にC0ts’N、tls Crsの磁性薄膜層を形
成して磁気ディスクを得る。 ・ 〔特性〕 上記実施例1で得た磁気ディスクについて、その保磁力
Hcを調べた結果を第1図に示す。
性薄膜形成時のPArを8ミリTorrで行ない、Cr
層上にC0ts’N、tls Crsの磁性薄膜層を形
成して磁気ディスクを得る。 ・ 〔特性〕 上記実施例1で得た磁気ディスクについて、その保磁力
Hcを調べた結果を第1図に示す。
これによれば、Co−Ni−Cr合金磁性薄膜層中のC
rの量によって保磁力Hcは大きな影響を受け、すなわ
ち第1図より明らかな如く保磁力HcはCrが添加され
るとCrが全くない場合よりも高く、特にCrが約7〜
13原子%の範囲内の値をピークにしていることがわか
り、又、Co−Ni−Cr合金磁性薄膜層の厚みが薄い
程保磁力Hcは高いことがわかり、さらに磁性薄膜層中
のCrが約3〜17原子%であって、かつ磁性薄膜層の
厚みが約2000X以下のものであれば、この磁性薄膜
の保磁力は高いことがわかる。
rの量によって保磁力Hcは大きな影響を受け、すなわ
ち第1図より明らかな如く保磁力HcはCrが添加され
るとCrが全くない場合よりも高く、特にCrが約7〜
13原子%の範囲内の値をピークにしていることがわか
り、又、Co−Ni−Cr合金磁性薄膜層の厚みが薄い
程保磁力Hcは高いことがわかり、さらに磁性薄膜層中
のCrが約3〜17原子%であって、かつ磁性薄膜層の
厚みが約2000X以下のものであれば、この磁性薄膜
の保磁力は高いことがわかる。
又、実施例1で得た磁気ディスクについて、そのノイズ
レベルを調べた結果を第2図に示す。
レベルを調べた結果を第2図に示す。
これによれば、Co−Ni−Cr合金磁性薄膜層中のC
rの量−が増すこ、又、磁性薄膜層の厚みが薄くなると
ノイズレベルは低下しており、Co−Ni−Cr合金磁
性薄膜層中のCrが約3原子%以上の場合にはノイズレ
ベルの小さいことがわかる。
rの量−が増すこ、又、磁性薄膜層の厚みが薄くなると
ノイズレベルは低下しており、Co−Ni−Cr合金磁
性薄膜層中のCrが約3原子%以上の場合にはノイズレ
ベルの小さいことがわかる。
又、実施例2で得た磁気ディスクについて、そのノイズ
レベルを調べた結果を第3図に示す。
レベルを調べた結果を第3図に示す。
これによれば、Co−Ni−Cr合金磁性薄膜層が薄く
なるにつれてノイズレベルは低下しており、特にCo−
Ni−Cr合金磁性薄膜層が約2000A以下ではノイ
ズレベルの小さなものであることがわかる。
なるにつれてノイズレベルは低下しており、特にCo−
Ni−Cr合金磁性薄膜層が約2000A以下ではノイ
ズレベルの小さなものであることがわかる。
又、実施例1で得た磁気ディスクについて、その耐食性
をテスト(温度60℃、湿度80%RH1120時間放
置)した結果を表に示す。
をテスト(温度60℃、湿度80%RH1120時間放
置)した結果を表に示す。
×錆発生、△錆がわずか認められる、
○変化なし
これによれば、Co−Ni−Cr合金磁性薄膜層の厚み
が約400〜20GOAであって、かつこの磁性薄膜層
中におけるCrが約3〜17原子%の範囲内のものであ
れば、その耐食性が良好なことがわかる。
が約400〜20GOAであって、かつこの磁性薄膜層
中におけるCrが約3〜17原子%の範囲内のものであ
れば、その耐食性が良好なことがわかる。
高保磁力で、ノイズレベルが小さく、高S/Nであり、
しかも耐食性に富む磁気記録媒体が得られる。
しかも耐食性に富む磁気記録媒体が得られる。
第1〜3図は、磁気記録媒体の特性を示すグラフである
。 →′:Fm 手続補正簀(自発ン 昭和60年5月73日
。 →′:Fm 手続補正簀(自発ン 昭和60年5月73日
Claims (1)
- 非磁性支持体のCr層上に、Crを約3〜17原子%含
有するCo−Ni−Cr系合金磁性薄膜層を約400〜
2000Å厚をもつて形成したことを特徴とする磁気記
録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60059191A JPS61217925A (ja) | 1985-03-23 | 1985-03-23 | 磁気記録媒体 |
US06/842,647 US4753852A (en) | 1985-03-23 | 1986-03-21 | Magnetic recording medium comprising a magnetic Co-Ni-Cr alloy thin layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60059191A JPS61217925A (ja) | 1985-03-23 | 1985-03-23 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61217925A true JPS61217925A (ja) | 1986-09-27 |
Family
ID=13106276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60059191A Pending JPS61217925A (ja) | 1985-03-23 | 1985-03-23 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4753852A (ja) |
JP (1) | JPS61217925A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6339122A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-19 | Hitachi Ltd | 面内磁気記録媒体 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5162158A (en) * | 1989-07-24 | 1992-11-10 | Magnetic Peripherals Inc. | Low noise magnetic thin film longitudinal media |
TW342136U (en) * | 1993-12-14 | 1998-10-01 | Ibm | Thin film magnetic transducer having a stable soft film for reducing asymmetry variations |
DE19607197B4 (de) * | 1996-02-26 | 2005-05-12 | Siemens Ag | Schichtaufbau mit einem hartmagnetischen Nd-Fe-B-Dünnfilm auf einem Substrat und Verfahren zur Herstellung des Schichtaufbaus |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4277540A (en) * | 1971-05-03 | 1981-07-07 | Aine Harry E | Thin film magnetic recording medium |
DE2556755C2 (de) * | 1975-12-17 | 1982-04-15 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Mehrschichtiger magnetischer Aufzeichnungsträger |
US4079169A (en) * | 1976-11-15 | 1978-03-14 | International Business Machines Corporation | Cobalt base alloy as protective layer for magnetic recording media |
US4236946A (en) * | 1978-03-13 | 1980-12-02 | International Business Machines Corporation | Amorphous magnetic thin films with highly stable easy axis |
US4245008A (en) * | 1978-10-30 | 1981-01-13 | International Business Machines Corporation | Corrosion resistant magnetic recording media |
JPS57109127A (en) * | 1980-12-05 | 1982-07-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
DE3114740A1 (de) * | 1981-04-11 | 1982-10-28 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur herstellung einer metallischen duennfilm-magnetplatte und anordnung zur durchfuehrung dieses verfahrens |
JPS59119532A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS59119534A (ja) * | 1982-12-26 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS59160828A (ja) * | 1983-03-01 | 1984-09-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
US4599280A (en) * | 1983-04-25 | 1986-07-08 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
US4552820A (en) * | 1984-04-25 | 1985-11-12 | Lin Data Corporation | Disc media |
-
1985
- 1985-03-23 JP JP60059191A patent/JPS61217925A/ja active Pending
-
1986
- 1986-03-21 US US06/842,647 patent/US4753852A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6339122A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-19 | Hitachi Ltd | 面内磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4753852A (en) | 1988-06-28 |
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