JPS61214134A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS61214134A JPS61214134A JP5536285A JP5536285A JPS61214134A JP S61214134 A JPS61214134 A JP S61214134A JP 5536285 A JP5536285 A JP 5536285A JP 5536285 A JP5536285 A JP 5536285A JP S61214134 A JPS61214134 A JP S61214134A
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- JP
- Japan
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- roll
- substrate
- guide
- distance
- cylindrical
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒
体の製造方法に関し、その目的とするところは強磁性金
属薄膜層形成時に発生するしわを抑制して、しわのない
前記の磁気記録媒体を製造する方法を提供することにあ
る。
体の製造方法に関し、その目的とするところは強磁性金
属薄膜層形成時に発生するしわを抑制して、しわのない
前記の磁気記録媒体を製造する方法を提供することにあ
る。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、ポリエステルフィルムなどの基板を真空槽内に配設し
た種々のガイドロールを介して円筒状キャンの周側面に
沿って案内走行させ、この基板上に強磁性材を真空蒸着
するなどしてつ（られている。
、ポリエステルフィルムなどの基板を真空槽内に配設し
た種々のガイドロールを介して円筒状キャンの周側面に
沿って案内走行させ、この基板上に強磁性材を真空蒸着
するなどしてつ（られている。
ところが、この製造方法では、強磁性材蒸発源からの輻
射熱により基板が伸びたり、或いは極めて平滑な基板と
各ロール間の摩擦や強磁性材を溶融するのに使用する電
子銃の二次電子などによる帯電等で基板の走行に支障が
生じたり゛して、走行中の基板にしわが発生し易く、特
に原反ロール、円筒状キャンおよび巻き取りロール等の
各周側面と、これらの間を移動する基板がこれら原反ロ
ールの直後、円筒状キャンの直前直後、および巻き取り
ロールの直前で接する各ガイドロールの周側面との距離
が離れすぎていたり、これらのガイドロールに接する基
板の接触角が変化したりすると、基板が振動したり、適
度な張力で基板が走行されなくなるためしわの発生が顕
著になる。このため各ロール間の機械的精度を向上させ
たり、又は基板及びガイドロールの表面粗度を適度にし
、さらには基板の裏面に潤滑剤を塗布するなどして、基
板にかかる張力のアンバランスの解消や、基板と各ロー
ル間の摩擦力およびこれによって発生する帯電などを低
減し、しわの発生を抑制することが試みられているが、
未だ充分にしわの発生を抑制することができず、特にこ
れらの方法では、原反ロール、円筒状キャンおよび巻き
取りロール等の各周側面と、これらの間を移動する基板
がこれら原反ロールの直後、円筒状キャンの直前直後、
および巻き取りロールの直前で接する各ガイドロールの
周側面との距離の離れすぎや、これらのガイドロールに
接する基板の接触角の変化によって生じるしわを効果的
に抑制することができない。
射熱により基板が伸びたり、或いは極めて平滑な基板と
各ロール間の摩擦や強磁性材を溶融するのに使用する電
子銃の二次電子などによる帯電等で基板の走行に支障が
生じたり゛して、走行中の基板にしわが発生し易く、特
に原反ロール、円筒状キャンおよび巻き取りロール等の
各周側面と、これらの間を移動する基板がこれら原反ロ
ールの直後、円筒状キャンの直前直後、および巻き取り
ロールの直前で接する各ガイドロールの周側面との距離
が離れすぎていたり、これらのガイドロールに接する基
板の接触角が変化したりすると、基板が振動したり、適
度な張力で基板が走行されなくなるためしわの発生が顕
著になる。このため各ロール間の機械的精度を向上させ
たり、又は基板及びガイドロールの表面粗度を適度にし
、さらには基板の裏面に潤滑剤を塗布するなどして、基
板にかかる張力のアンバランスの解消や、基板と各ロー
ル間の摩擦力およびこれによって発生する帯電などを低
減し、しわの発生を抑制することが試みられているが、
未だ充分にしわの発生を抑制することができず、特にこ
れらの方法では、原反ロール、円筒状キャンおよび巻き
取りロール等の各周側面と、これらの間を移動する基板
がこれら原反ロールの直後、円筒状キャンの直前直後、
および巻き取りロールの直前で接する各ガイドロールの
周側面との距離の離れすぎや、これらのガイドロールに
接する基板の接触角の変化によって生じるしわを効果的
に抑制することができない。
この発明はかかる欠点を改善するため、原反ロール、円
筒状キャンおよび巻き取りロールと、これらの間に基板
を走行案内するガイドロールとの関係について種々検討
を行った結果、しわの発生は、原反ロール、円筒状キャ
ンおよび巻き取りロールとこれらの間を移動する基板が
これら原反ロールの直後、円筒状キャンの直前直後、お
よび巻き取りロールの直前で接する各ガイドロールとの
距離、およびこれらのガイドロールに接する基板の接触
角に大きく影響され、これらのガイドロールの周側面と
原反ロール、円筒状キャンおよび巻き取りロールの周側
面との距離を３０ｍ５＋以内にするとともに、これらの
ガイドロールに接する基板の接触角を３０度〜２４０度
の範囲内にして走行させるようにすると、基板が振動し
たりすることもなく適度な張力で円滑に走行されて、し
わの発生が効果的に抑制され、巻き取りロールに取り込
まれるしわを完全に防止することができることを見いだ
した結果なされたもので、真空槽内で、基板を原反ロー
ルからガイドロールを介して円筒状キャンの周側面に沿
って移動させ、さらにガイドロールを介して巻き取りロ
ールに巻き取る間に、強磁性材蒸発源から強磁性材の蒸
気流を差し向けて強磁性金属薄膜層を形成する磁気記録
媒体の製造方法において、原反ロール、円筒状キャンお
よび巻き取りロールの各周側面と、これらの間を移動す
る基板がこれら原反ロールの直後、円筒状キャンの直前
直後、および巻き取りロールの直前で接する各ガイドロ
ールの周側面との距離を３０ｍｍ以内にするとともに、
これらのガイドロールに接する基板の接触角を３０度〜
２４０度の範囲内にして走行させるようにしたことを特
徴とするものである。
筒状キャンおよび巻き取りロールと、これらの間に基板
を走行案内するガイドロールとの関係について種々検討
を行った結果、しわの発生は、原反ロール、円筒状キャ
ンおよび巻き取りロールとこれらの間を移動する基板が
これら原反ロールの直後、円筒状キャンの直前直後、お
よび巻き取りロールの直前で接する各ガイドロールとの
距離、およびこれらのガイドロールに接する基板の接触
角に大きく影響され、これらのガイドロールの周側面と
原反ロール、円筒状キャンおよび巻き取りロールの周側
面との距離を３０ｍ５＋以内にするとともに、これらの
ガイドロールに接する基板の接触角を３０度〜２４０度
の範囲内にして走行させるようにすると、基板が振動し
たりすることもなく適度な張力で円滑に走行されて、し
わの発生が効果的に抑制され、巻き取りロールに取り込
まれるしわを完全に防止することができることを見いだ
した結果なされたもので、真空槽内で、基板を原反ロー
ルからガイドロールを介して円筒状キャンの周側面に沿
って移動させ、さらにガイドロールを介して巻き取りロ
ールに巻き取る間に、強磁性材蒸発源から強磁性材の蒸
気流を差し向けて強磁性金属薄膜層を形成する磁気記録
媒体の製造方法において、原反ロール、円筒状キャンお
よび巻き取りロールの各周側面と、これらの間を移動す
る基板がこれら原反ロールの直後、円筒状キャンの直前
直後、および巻き取りロールの直前で接する各ガイドロ
ールの周側面との距離を３０ｍｍ以内にするとともに、
これらのガイドロールに接する基板の接触角を３０度〜
２４０度の範囲内にして走行させるようにしたことを特
徴とするものである。
以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。
第１図は真空蒸着装置の断面図を示したものであり、１
は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２によって真空
に保持される。３は真空槽１の中央部に配設された円筒
状キャンであり、ポリエステルフィルム等の基板４は原
反ロール５より、ガイドロール６、テンションロール７
およびガイドロール８を介してこの円筒状キャン３の周
側面に沿って移動し、ガイドロール９、テンションロー
ルＩＯおよびガイドロール１１を介して巻き取りロール
１２に巻き取られる。この間円筒状キャン３の周側面に
沿って移動する基板４に対向して真空槽１の下部に配設
された強磁性材蒸発源１３で強磁性材１４が加熱蒸発さ
れ、この蒸気流が基板４に差し向けられて蒸着が行われ
る。
は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２によって真空
に保持される。３は真空槽１の中央部に配設された円筒
状キャンであり、ポリエステルフィルム等の基板４は原
反ロール５より、ガイドロール６、テンションロール７
およびガイドロール８を介してこの円筒状キャン３の周
側面に沿って移動し、ガイドロール９、テンションロー
ルＩＯおよびガイドロール１１を介して巻き取りロール
１２に巻き取られる。この間円筒状キャン３の周側面に
沿って移動する基板４に対向して真空槽１の下部に配設
された強磁性材蒸発源１３で強磁性材１４が加熱蒸発さ
れ、この蒸気流が基板４に差し向けられて蒸着が行われ
る。
ここで、原反ロール５の周側面とこの原反ロールから基
板４が巻き出されて直後に接するガイドロール６の周側
面との距離、円筒状キャン３の周側面とこの円筒状キャ
ン３の周側面に沿って移動する基板４がその直前および
直後に接するガイドロール８および９の周側面との距離
、および巻き取りロール１２の周側面とこの巻き取りロ
ール１２に巻き取られる基板４がその直前で接するガイ
トロール１１の周側面との距離は３０ｍｍ以下の範凹円
に近接され、また各ガイドロール６．８．９．１１が基
板４と接する接触角θ１、θ２、θ３、θ斗はいずれも
３０度〜２４０度の範囲内となるように配設されている
。
板４が巻き出されて直後に接するガイドロール６の周側
面との距離、円筒状キャン３の周側面とこの円筒状キャ
ン３の周側面に沿って移動する基板４がその直前および
直後に接するガイドロール８および９の周側面との距離
、および巻き取りロール１２の周側面とこの巻き取りロ
ール１２に巻き取られる基板４がその直前で接するガイ
トロール１１の周側面との距離は３０ｍｍ以下の範凹円
に近接され、また各ガイドロール６．８．９．１１が基
板４と接する接触角θ１、θ２、θ３、θ斗はいずれも
３０度〜２４０度の範囲内となるように配設されている
。
従って、原反口〜ル５とガイドロール６、円筒状キャン
３とガイドロール８および９、および巻キ取すロール１
２とガイドロール１１等の距離カ離れすぎて、この間で
基板４が振動したりすることもな（、また基板４の各ガ
イドロール６．８．９．１１に接する接触角も大きすぎ
たり、小さすぎたりして基板４にかかる張力が強すぎた
り、弱すぎたすせず、適度な張力で円滑に走行されるた
め、基板４のしわの発生が効果的に抑制され、巻き取り
ロール１２に取り込まれるしわを完全に防止することが
できる。このように、原反ロール５の周側面とガイドロ
ール６の周側面間の距離、円筒状キャン３の周側面とガ
イドロール８および９の周側面間の距離、および巻き取
りロール１２の周側面とガイドロール１１の周側面間の
距離は、３０ｍｍ以下であることが好ましく、これより
離れすぎるとこれら原反ロール５とガイドロール６間、
円筒状キャン３とガイドロール８および９間、および巻
き取りロール１２とガイドロール１１間で基板４が振動
し、しわが発生するおそれがある。またガイドロール６
と８の周側面間の距離およびガイドロール９と１１の周
側面間の距離は、この間での基板４が振動したりしない
ように３０ｃｏ＋以下にするのが好ましい。さらに基板
４の各ガイドロール６．８．９．１１に接する接触角は
、３０度より小さくなると基板にかかる張力が弱くなり
すぎてしわが発生するおそれがあり、２４０度より大き
くなると基板４にかかる張力が強くなりすぎて基板４上
に形成された強磁性金属薄膜層に亀裂がはいるおそれが
あるため、３０度〜２４０度の範囲内にするのが好まし
く、９０度〜１８０度の範囲内にするのがより好ましい
。
３とガイドロール８および９、および巻キ取すロール１
２とガイドロール１１等の距離カ離れすぎて、この間で
基板４が振動したりすることもな（、また基板４の各ガ
イドロール６．８．９．１１に接する接触角も大きすぎ
たり、小さすぎたりして基板４にかかる張力が強すぎた
り、弱すぎたすせず、適度な張力で円滑に走行されるた
め、基板４のしわの発生が効果的に抑制され、巻き取り
ロール１２に取り込まれるしわを完全に防止することが
できる。このように、原反ロール５の周側面とガイドロ
ール６の周側面間の距離、円筒状キャン３の周側面とガ
イドロール８および９の周側面間の距離、および巻き取
りロール１２の周側面とガイドロール１１の周側面間の
距離は、３０ｍｍ以下であることが好ましく、これより
離れすぎるとこれら原反ロール５とガイドロール６間、
円筒状キャン３とガイドロール８および９間、および巻
き取りロール１２とガイドロール１１間で基板４が振動
し、しわが発生するおそれがある。またガイドロール６
と８の周側面間の距離およびガイドロール９と１１の周
側面間の距離は、この間での基板４が振動したりしない
ように３０ｃｏ＋以下にするのが好ましい。さらに基板
４の各ガイドロール６．８．９．１１に接する接触角は
、３０度より小さくなると基板にかかる張力が弱くなり
すぎてしわが発生するおそれがあり、２４０度より大き
くなると基板４にかかる張力が強くなりすぎて基板４上
に形成された強磁性金属薄膜層に亀裂がはいるおそれが
あるため、３０度〜２４０度の範囲内にするのが好まし
く、９０度〜１８０度の範囲内にするのがより好ましい
。
強磁性金属薄膜層を形成する基板としては、ポリエステ
ル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている高
分子成形物からなるプラスチックフィルムおよび銅など
の非磁性金属板が使用され、強磁性金属薄膜層の形成は
、コバルト、ニッケル、鉄などの金属単体の他、これら
の合金あるいは酸化物、およびＣｏ−Ｐ、Ｇｏ−Ｎｉ
−Ｐなど一般に使用される強磁性材を真空蒸着すること
によって形成される。
ル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている高
分子成形物からなるプラスチックフィルムおよび銅など
の非磁性金属板が使用され、強磁性金属薄膜層の形成は
、コバルト、ニッケル、鉄などの金属単体の他、これら
の合金あるいは酸化物、およびＣｏ−Ｐ、Ｇｏ−Ｎｉ
−Ｐなど一般に使用される強磁性材を真空蒸着すること
によって形成される。
［実施例〕
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１
第１図に示す真空蒸着装置を使用し、厚さが１０μのポ
リエステルフィルム４ （表面粗度０．００２Ｓ、ヤン
グ率５００ ｋｇ／ｍｎ２）を原反ロール５よリガイド
ロール６、テンションロール７、ガイドロール８を介し
て円筒状キャン３の周側面に沿って移動させ、ガイドロ
ール９、テンションロール１０、ガイドロール１１を介
して巻き取りロール１２に巻き取るようにセットすると
ともに強磁性材蒸発源１３にコバルト１４をセットした
。次いで、排気系２で真空槽１内を５×１０°５トール
にまで真空排気し、原反ロール５、巻き取りロール１２
、ガイドロール８および９を左右上下に平行移動して、
各ガイドロール６．８．９．１１に接するポリエステル
フィルム４の接触角を３０度〜２４０度の範囲内に保持
しながら、原反ロール５の周側面とガイドロール６の周
側面との間の距離、および巻き取りロール１２の周側面
とガイドロール１１の周側面との間の距離を下記第１表
に示すように種々に変え、同時に円筒状キャン３の周側
面とガイドロール８および９の周側面との間の距離を下
記第１表に示すように種々に変えて、ポリエステルフィ
ルム４の走行速度５ｍ／分で、コバルト１４を加熱藤発
させ、ポリエステルフィルム４上に厚さが１０００人の
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。しかる
後、これを所定の巾に裁断して磁気テープをつくった。
リエステルフィルム４ （表面粗度０．００２Ｓ、ヤン
グ率５００ ｋｇ／ｍｎ２）を原反ロール５よリガイド
ロール６、テンションロール７、ガイドロール８を介し
て円筒状キャン３の周側面に沿って移動させ、ガイドロ
ール９、テンションロール１０、ガイドロール１１を介
して巻き取りロール１２に巻き取るようにセットすると
ともに強磁性材蒸発源１３にコバルト１４をセットした
。次いで、排気系２で真空槽１内を５×１０°５トール
にまで真空排気し、原反ロール５、巻き取りロール１２
、ガイドロール８および９を左右上下に平行移動して、
各ガイドロール６．８．９．１１に接するポリエステル
フィルム４の接触角を３０度〜２４０度の範囲内に保持
しながら、原反ロール５の周側面とガイドロール６の周
側面との間の距離、および巻き取りロール１２の周側面
とガイドロール１１の周側面との間の距離を下記第１表
に示すように種々に変え、同時に円筒状キャン３の周側
面とガイドロール８および９の周側面との間の距離を下
記第１表に示すように種々に変えて、ポリエステルフィ
ルム４の走行速度５ｍ／分で、コバルト１４を加熱藤発
させ、ポリエステルフィルム４上に厚さが１０００人の
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。しかる
後、これを所定の巾に裁断して磁気テープをつくった。
実施例２
実施例１において、原反ロール５の周側面とガイドロー
ル６の周側面との間の距離、円筒状キャン３の周側面と
ガイドロール８および９の周側面との間の距離、および
巻き取りロール１２の周側面とガイドロール１１の周側
面との間の距離を３０ｍｍ以内に保持しながら、原反ロ
ール５、巻き取りロール１２、ガイドロール８および９
を左右上下に平行移動して、下記第２表に示すようにガ
イドロール６および１１の接触角を種々に変え、同時に
ガイドロール８および９の接触角を下記第２表に示すよ
うに種々に変えた以外は実施例１と同様にして磁気テー
プをつくった。
ル６の周側面との間の距離、円筒状キャン３の周側面と
ガイドロール８および９の周側面との間の距離、および
巻き取りロール１２の周側面とガイドロール１１の周側
面との間の距離を３０ｍｍ以内に保持しながら、原反ロ
ール５、巻き取りロール１２、ガイドロール８および９
を左右上下に平行移動して、下記第２表に示すようにガ
イドロール６および１１の接触角を種々に変え、同時に
ガイドロール８および９の接触角を下記第２表に示すよ
うに種々に変えた以外は実施例１と同様にして磁気テー
プをつくった。
第１表
第２表
〔発明の効果〕
上記第１表および第２表から明らかなように、原反ロー
ル５の周側面とガイドロール６の周側面との間の距離、
円筒状キャ７３の周側面とガイドロール８および９の周
側面との間の距離、および巻き取りロール１２の周側面
とガイドロール１１の周側面との間の距離を３０ｍｍ以
内とし、かつ各ガイドロール６．８．９．１１に接する
ポリエステルフィルム４の接触角を３０度〜２４０度の
範囲内にした場合はしわの発生が認められず、このこと
からこの発明の製造方法によれば、しわの発生が効果的
に抑制され、しわのない磁気記録媒体が得られるのがわ
かる。
ル５の周側面とガイドロール６の周側面との間の距離、
円筒状キャ７３の周側面とガイドロール８および９の周
側面との間の距離、および巻き取りロール１２の周側面
とガイドロール１１の周側面との間の距離を３０ｍｍ以
内とし、かつ各ガイドロール６．８．９．１１に接する
ポリエステルフィルム４の接触角を３０度〜２４０度の
範囲内にした場合はしわの発生が認められず、このこと
からこの発明の製造方法によれば、しわの発生が効果的
に抑制され、しわのない磁気記録媒体が得られるのがわ
かる。
第１図は、この発明の製造方法を実施するために使用す
る真空蒸着装置の１例を示す概略断面図である。 １・・・真空槽、３・・・円筒状キャン、４・・・基板
、５・・・原反ロール、６．８．９．１１・・・ガイド
ロール、１２・・・巻き取りロール、１３・・・強磁性
材蒸発源、１４・・・強磁性材、θ１．θ２．θ３．θ
４・・・接触角 特許出願人 日立マクセル株式会社 第１図
る真空蒸着装置の１例を示す概略断面図である。 １・・・真空槽、３・・・円筒状キャン、４・・・基板
、５・・・原反ロール、６．８．９．１１・・・ガイド
ロール、１２・・・巻き取りロール、１３・・・強磁性
材蒸発源、１４・・・強磁性材、θ１．θ２．θ３．θ
４・・・接触角 特許出願人 日立マクセル株式会社 第１図
Claims (1)
- １、真空槽内で、基板を原反ロールからガイドロールを
介して円筒状キャンの周側面に沿って移動させ、さらに
ガイドロールを介して巻き取りロールに巻き取る間に、
強磁性材蒸発源から強磁性材の蒸気流を差し向けて強磁
性金属薄膜層を形成する磁気記録媒体の製造方法におい
て、原反ロール、円筒状キャンおよび巻き取りロールの
各周側面と、これらの間を移動する基板がこれら原反ロ
ールの直後、円筒状キャンの直前直後、および巻き取り
ロールの直前で接する各ガイドロールの周側面との距離
を３０ｍｍ以内にするとともに、これらのガイドロール
に接する基板の接触角を３０度〜２４０度の範囲内にし
て走行させるようにしたことを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5536285A JPH0626018B2 (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5536285A JPH0626018B2 (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61214134A true JPS61214134A (ja) | 1986-09-24 |
| JPH0626018B2 JPH0626018B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=12996375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5536285A Expired - Lifetime JPH0626018B2 (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0626018B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03292629A (ja) * | 1990-04-11 | 1991-12-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPH03292628A (ja) * | 1990-04-11 | 1991-12-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPH05109066A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JP2000051767A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-22 | Tdk Corp | 塗布装置および塗布方法 |
| JP2016003354A (ja) * | 2014-06-16 | 2016-01-12 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺樹脂フィルムの表面処理装置 |
-
1985
- 1985-03-19 JP JP5536285A patent/JPH0626018B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03292629A (ja) * | 1990-04-11 | 1991-12-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPH03292628A (ja) * | 1990-04-11 | 1991-12-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPH05109066A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JP2000051767A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-22 | Tdk Corp | 塗布装置および塗布方法 |
| JP2016003354A (ja) * | 2014-06-16 | 2016-01-12 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺樹脂フィルムの表面処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0626018B2 (ja) | 1994-04-06 |
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