JPS61212766A - 分析装置 - Google Patents
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- JPS61212766A JPS61212766A JP61042775A JP4277586A JPS61212766A JP S61212766 A JPS61212766 A JP S61212766A JP 61042775 A JP61042775 A JP 61042775A JP 4277586 A JP4277586 A JP 4277586A JP S61212766 A JPS61212766 A JP S61212766A
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- G01N35/02—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は液体処理装置、及び流体試料の分析のための
装置に関するものであって、血液のような生物学的流体
の成分の分析のための装置に特に適用することができる
。
装置に関するものであって、血液のような生物学的流体
の成分の分析のための装置に特に適用することができる
。
発明の背景及び従来技術
多くの化学分析は関連の化学反応が温度に敏感であるの
で制御でれた安定な温度で行われなければならない。例
えば、通常の臨床医学的分析装置においては、生の又は
希釈した試料が分析のための一つ以上の反応物と混合さ
れ、そしてその結果生じる混合物は定温領域において維
持されて、この混合物の温度は所望の温度、例えば、試
料物質及び試薬物質が通常蓄積される温度よりも相当に
高い温度である３７℃に安定化される。
で制御でれた安定な温度で行われなければならない。例
えば、通常の臨床医学的分析装置においては、生の又は
希釈した試料が分析のための一つ以上の反応物と混合さ
れ、そしてその結果生じる混合物は定温領域において維
持されて、この混合物の温度は所望の温度、例えば、試
料物質及び試薬物質が通常蓄積される温度よりも相当に
高い温度である３７℃に安定化される。
臨床医学的分析装置は、吸収、光散乱、及び／又は螢光
のような技術による、動態分析及び終点分析を含む押挿
の分析を行うのに有効である。そのような分析装置は一
般的には直列形式（連続流式若しくは離散式）のもの又
は並列形式のものであって、通常多キュベツト回転体（
時には転送円板と呼ばれる）を使用しており、この回転
体は隔置された細長い半径方向に延びた複数の室キュベ
ツトの円周配列を備えていて、この各キュベツトには第
１反応物（しばしば血液又はその他の生物学的流体の試
料）を最初に保持するための第１室と、一つ以上の異な
った反応物を最初に保持するための第２室とがある。通
常、ピ（ットモジュールを用いて回転体の幾つかのキュ
ベツトに装てんが行われるが、典型的には少量の試料（
例えば２〜２０マイクロリツトル）が一方の室に装てん
され且つより多い量（例えば約２００マイクロリツトル
まで）の反応物が他方の室に装てんされる。
のような技術による、動態分析及び終点分析を含む押挿
の分析を行うのに有効である。そのような分析装置は一
般的には直列形式（連続流式若しくは離散式）のもの又
は並列形式のものであって、通常多キュベツト回転体（
時には転送円板と呼ばれる）を使用しており、この回転
体は隔置された細長い半径方向に延びた複数の室キュベ
ツトの円周配列を備えていて、この各キュベツトには第
１反応物（しばしば血液又はその他の生物学的流体の試
料）を最初に保持するための第１室と、一つ以上の異な
った反応物を最初に保持するための第２室とがある。通
常、ピ（ットモジュールを用いて回転体の幾つかのキュ
ベツトに装てんが行われるが、典型的には少量の試料（
例えば２〜２０マイクロリツトル）が一方の室に装てん
され且つより多い量（例えば約２００マイクロリツトル
まで）の反応物が他方の室に装てんされる。
装てん後、各回転体はこの回転体及びこれの幾つ刀、の
キュベツトにおける反応物を分析温度に平衡ざぜるため
に通常定温状態におかれる。装てんされた回転体が所望
の分析温度に達した後、回転体は分析モジュールに入れ
られて、ここで反応物が遠心力によってキュベツトの外
方端部にある分析領域に転送されて、混合及び反応が行
われ、そして測光又はその他の適当な分析技術による分
析が行われる。代表的な分析順序においそば、回転体は
まず１００ ｒｐｍで回転させられ、次に反応物を内側
室から転送するために約１秒間約４００゜ｒｐｍに加速
され、矢に試料及び反応物を混合するために制動され、
ぞして次に分析のために分析速度（典型的には５００〜
１００ ｒｐｍ） １で上げられる。
キュベツトにおける反応物を分析温度に平衡ざぜるため
に通常定温状態におかれる。装てんされた回転体が所望
の分析温度に達した後、回転体は分析モジュールに入れ
られて、ここで反応物が遠心力によってキュベツトの外
方端部にある分析領域に転送されて、混合及び反応が行
われ、そして測光又はその他の適当な分析技術による分
析が行われる。代表的な分析順序においそば、回転体は
まず１００ ｒｐｍで回転させられ、次に反応物を内側
室から転送するために約１秒間約４００゜ｒｐｍに加速
され、矢に試料及び反応物を混合するために制動され、
ぞして次に分析のために分析速度（典型的には５００〜
１００ ｒｐｍ） １で上げられる。
そのような分析装置は普通、血液、血しよう又は血清成
分のような生物学的流体の分析に使用されて、クルコー
ス、コンステロール、クレアチニン、総たん白質、カル
シウム、りん、酵素などに対する吸収度様式の分析、及
びダルコース、胆汁酸、フェニトイン、フェオフィリン
（ｐｈｅｏｐｈ’／−１１ｉｎｅ）、ゲンタマイシンな
どに対する螢光又は光散乱様式の分析を行う。
分のような生物学的流体の分析に使用されて、クルコー
ス、コンステロール、クレアチニン、総たん白質、カル
シウム、りん、酵素などに対する吸収度様式の分析、及
びダルコース、胆汁酸、フェニトイン、フェオフィリン
（ｐｈｅｏｐｈ’／−１１ｉｎｅ）、ゲンタマイシンな
どに対する螢光又は光散乱様式の分析を行う。
発明の要約
この発明の一態様に従えば、試料物質及び試薬物質が適
当な蓄積温度で蓄積される第１蓄積領域、及び分析が行
われるべき温度である、制御され且つ安定化でれたより
高い温度に維持される第２（分析）領域を備えた分析装
置が与えられる。長い熱時定数の材料からなる複数の分
析キュベツトは、これらの分析キュベツトが分析温度に
平衡させられるのに十分な時間の間第２蓄積領域の近く
に蓄積される。前記の第２領域における移送機構は、熱
平衡した分析キュベツトを順次供給場所から装てん場所
へ、次に分析場所へ、そして次に使用済みキュベツト場
所へ移送するように構成され、又転送機講は第１及び第
２の両苔積領域間で移動可能に構成されていて、ある量
の試料及び試某を第１蓄積領域刀）ら転送して第２蓄積
領域における装てん場所にある熱平衡した分析キュベツ
トに装てんすることができる。
当な蓄積温度で蓄積される第１蓄積領域、及び分析が行
われるべき温度である、制御され且つ安定化でれたより
高い温度に維持される第２（分析）領域を備えた分析装
置が与えられる。長い熱時定数の材料からなる複数の分
析キュベツトは、これらの分析キュベツトが分析温度に
平衡させられるのに十分な時間の間第２蓄積領域の近く
に蓄積される。前記の第２領域における移送機構は、熱
平衡した分析キュベツトを順次供給場所から装てん場所
へ、次に分析場所へ、そして次に使用済みキュベツト場
所へ移送するように構成され、又転送機講は第１及び第
２の両苔積領域間で移動可能に構成されていて、ある量
の試料及び試某を第１蓄積領域刀）ら転送して第２蓄積
領域における装てん場所にある熱平衡した分析キュベツ
トに装てんすることができる。
別の実施態様に従えば、長い熱時定数の材料からなる複
数の分析キュベツトのための蓄積領域、装てん場所、保
有する分析キュベツトを検出することのできる測定装置
を有する分析場所、及びキュベツトを順次前記の蓄積場
所から前記の装てん場所へ移送して試料物質と反応物質
の装てんを行い、続いて前記の分析場所へ移送して化学
分析を行うようにするための転送機構を備えた熱絶縁区
画が与えられる。制御され安定化された分析温度の気体
が蓄積領域に通して循環させられて蓄積されたキュベツ
トとの間で有効な熱交換が行われ、これらの蓄積された
キュベツトの温度が試料物質及び反応物質の装てんのた
めの蓄積領域刀・ら装てん場所への転送に先宜って分析
温度は安定化される。
数の分析キュベツトのための蓄積領域、装てん場所、保
有する分析キュベツトを検出することのできる測定装置
を有する分析場所、及びキュベツトを順次前記の蓄積場
所から前記の装てん場所へ移送して試料物質と反応物質
の装てんを行い、続いて前記の分析場所へ移送して化学
分析を行うようにするための転送機構を備えた熱絶縁区
画が与えられる。制御され安定化された分析温度の気体
が蓄積領域に通して循環させられて蓄積されたキュベツ
トとの間で有効な熱交換が行われ、これらの蓄積された
キュベツトの温度が試料物質及び反応物質の装てんのた
めの蓄積領域刀・ら装てん場所への転送に先宜って分析
温度は安定化される。
特定実施例においては、分析装置は遠心分析器形式のも
のであって、多キュベツト回転体が区画において隔置さ
れ且つ積み重ねられて配置されていて、第１空気流がそ
の積重ねの下方部分にある１、ｉ置された回転体を通し
て導かれ、且つ第２空気流が回転体積重ねの下で区画領
域を通し且つ装てん場所及び分析場所を横切らせて流さ
れる。
のであって、多キュベツト回転体が区画において隔置さ
れ且つ積み重ねられて配置されていて、第１空気流がそ
の積重ねの下方部分にある１、ｉ置された回転体を通し
て導かれ、且つ第２空気流が回転体積重ねの下で区画領
域を通し且つ装てん場所及び分析場所を横切らせて流さ
れる。
更に別の実施態様によれば、異なった温度の二つの空気
流を与える環境制御装置は、第１及び第２の並列回路部
分を持った冷媒回路、この二つの並列回路部分を通して
冷媒を流すための装置、及び各並列回路を通る冷媒の流
れを制御するための流れ制御装置を備えている。第１空
気流循環装置は第１並列回路部分と熱交換関係にある第
１再循環ループを通して第１空気流を流し、そしてこの
第１空気流の温度に応答する制御装置は第１並列回路部
分の流れ制御装置を制御して第１空気流と第１並列回路
部分との間の熱エネルギー交換を制御し、且つ又、第２
空気流循環装置は第２並列回路部分と熱交換関係にある
第２再循環ループを通して第２空気Ｒ，全流し、そして
この第２空気流の温度に応答する制御装置は第２並列回
路部分の流れ制御装置を制御して第２空気流と第２並列
回路部分との間の熱エネルギー交換を制御する。
流を与える環境制御装置は、第１及び第２の並列回路部
分を持った冷媒回路、この二つの並列回路部分を通して
冷媒を流すための装置、及び各並列回路を通る冷媒の流
れを制御するための流れ制御装置を備えている。第１空
気流循環装置は第１並列回路部分と熱交換関係にある第
１再循環ループを通して第１空気流を流し、そしてこの
第１空気流の温度に応答する制御装置は第１並列回路部
分の流れ制御装置を制御して第１空気流と第１並列回路
部分との間の熱エネルギー交換を制御し、且つ又、第２
空気流循環装置は第２並列回路部分と熱交換関係にある
第２再循環ループを通して第２空気Ｒ，全流し、そして
この第２空気流の温度に応答する制御装置は第２並列回
路部分の流れ制御装置を制御して第２空気流と第２並列
回路部分との間の熱エネルギー交換を制御する。
採択実施例では、第１空気流は分析装置が収容されてい
る第１熱絶縁区画を通して流されてこの区画を分析が行
われるべき、制御され且つ安定化された温度に維持し、
又第２空気流は試料物質及び試薬物質が蓄積されている
第２熱絶縁区画を通して流てれてこれに蓄積された試料
物質及び試薬物質を分析温度よりも低い適当な蓄積温度
に維持する。流れ制御装置は制御温度範囲にわたって空
気流温度に比較的ゆっくりした直線的な変化を与える依
ので、システムの安定性が高められる。補助加熱器装置
（特定実施例では電気抵抗式加熱器の形態をしている）
は第１空気循環路にあり、そして制御装置は第１センサ
（サーミスタ）に応答して補助加熱器装置をも制御して
、所望の分析区画温度を維持するように要求された第１
空気流の温度の一層急速な調整を与える。二つの区画の
間で移動可能に配置され且つ分析温度に維持される二つ
のピ被ット及び関連の蓄積室を備えている転送機構は計
量された量の試料及び試薬を第１区画から転送して第２
区画の装てん場所において熱平衡の分析キュベツトに装
てんする。試料物質及び試薬物質がキュベツトにおいて
一緒にされる前に熱平衡が確立されるので、分析温度の
可制御性及び確認の改善、並びにシステムの確度及び処
理量の増大が得られる。
る第１熱絶縁区画を通して流されてこの区画を分析が行
われるべき、制御され且つ安定化された温度に維持し、
又第２空気流は試料物質及び試薬物質が蓄積されている
第２熱絶縁区画を通して流てれてこれに蓄積された試料
物質及び試薬物質を分析温度よりも低い適当な蓄積温度
に維持する。流れ制御装置は制御温度範囲にわたって空
気流温度に比較的ゆっくりした直線的な変化を与える依
ので、システムの安定性が高められる。補助加熱器装置
（特定実施例では電気抵抗式加熱器の形態をしている）
は第１空気循環路にあり、そして制御装置は第１センサ
（サーミスタ）に応答して補助加熱器装置をも制御して
、所望の分析区画温度を維持するように要求された第１
空気流の温度の一層急速な調整を与える。二つの区画の
間で移動可能に配置され且つ分析温度に維持される二つ
のピ被ット及び関連の蓄積室を備えている転送機構は計
量された量の試料及び試薬を第１区画から転送して第２
区画の装てん場所において熱平衡の分析キュベツトに装
てんする。試料物質及び試薬物質がキュベツトにおいて
一緒にされる前に熱平衡が確立されるので、分析温度の
可制御性及び確認の改善、並びにシステムの確度及び処
理量の増大が得られる。
特定の分析装置実施例においては、制御装置は各区画に
対する所望の温度信号を発生しく各所望温度はキーボー
ドにより操作員選択可能である）、各並列回路部分には
蒸発器装置、蒸発器圧力調整装置、毛管部分及び毛管加
熱器装置がある。各毛管及びこれの加熱器は冷媒流がそ
の流れ制御によって決して阻止されないように釣り合わ
せられていて、分析区画流においては約７０から４）０
０ワツトまで又蓄積区画流においては約５０７１・ら２
００ワツトまで、滑らかで実質上直線的な熱交換容量範
囲を与える。望ましくは、各毛管は１ミリメートル未満
の内径及び１メートル未満の長さを持っている。比較装
置は各所望温度信号及びこれに対応する実際の空気流温
度に応答して誤差信号全発生し、そして各毛管加熱器へ
の電力はこの誤差信号に応答して負荷時間率変調すれる
。この特定実流側では、冷媒回路は温度こう配を最小に
するために逆流回路式蒸発器を備えたＥＰＲ弁を使用し
ていて、これにより可制御性及び可製造性が改善される
。分析区画において空気流を循環さぜるためのモータは
別個に冷却されていて、これにより熱負荷を減少さぞ、
温度こう配を減小させ且つ効率全増大させる。
対する所望の温度信号を発生しく各所望温度はキーボー
ドにより操作員選択可能である）、各並列回路部分には
蒸発器装置、蒸発器圧力調整装置、毛管部分及び毛管加
熱器装置がある。各毛管及びこれの加熱器は冷媒流がそ
の流れ制御によって決して阻止されないように釣り合わ
せられていて、分析区画流においては約７０から４）０
０ワツトまで又蓄積区画流においては約５０７１・ら２
００ワツトまで、滑らかで実質上直線的な熱交換容量範
囲を与える。望ましくは、各毛管は１ミリメートル未満
の内径及び１メートル未満の長さを持っている。比較装
置は各所望温度信号及びこれに対応する実際の空気流温
度に応答して誤差信号全発生し、そして各毛管加熱器へ
の電力はこの誤差信号に応答して負荷時間率変調すれる
。この特定実流側では、冷媒回路は温度こう配を最小に
するために逆流回路式蒸発器を備えたＥＰＲ弁を使用し
ていて、これにより可制御性及び可製造性が改善される
。分析区画において空気流を循環さぜるためのモータは
別個に冷却されていて、これにより熱負荷を減少さぞ、
温度こう配を減小させ且つ効率全増大させる。
採択実施例においては、分析装置は温度安定性を維持す
るために実際に必要とされる熱エネルギーの量だけが加
熱器装置によって加えられるが熱効率が改善されている
。キュベツトと試料物質及び試薬物質とが両方ともキュ
ベツト装てん前に分析温度に平衡させられており、その
際各反応に使用されるべき少量の試料物質及び試薬物質
だけが各キュベツトの装てん順序の期間中に（蓄積温度
力・ら分析温度へ）加熱されるのでシステム確度が高め
られる。分析装置は、熱交換流体が加熱要求を最少にす
る熱絶縁再循環路において再循環させられるので、小ざ
い温度こう配を持っている。回転体は、その長い熱時定
数のために、各区画が回転体の追加、使用済み回転体の
除去、試薬及び試料の追加などのために開かれた場合で
ざえも温度安定性を維持する。システム制御装置はシス
テムソフトウェアによって監視される自己校正システム
において特定の分析温度の選択を可能にする。
るために実際に必要とされる熱エネルギーの量だけが加
熱器装置によって加えられるが熱効率が改善されている
。キュベツトと試料物質及び試薬物質とが両方ともキュ
ベツト装てん前に分析温度に平衡させられており、その
際各反応に使用されるべき少量の試料物質及び試薬物質
だけが各キュベツトの装てん順序の期間中に（蓄積温度
力・ら分析温度へ）加熱されるのでシステム確度が高め
られる。分析装置は、熱交換流体が加熱要求を最少にす
る熱絶縁再循環路において再循環させられるので、小ざ
い温度こう配を持っている。回転体は、その長い熱時定
数のために、各区画が回転体の追加、使用済み回転体の
除去、試薬及び試料の追加などのために開かれた場合で
ざえも温度安定性を維持する。システム制御装置はシス
テムソフトウェアによって監視される自己校正システム
において特定の分析温度の選択を可能にする。
この発明のその他の特徴及び利点は特定実施例について
次の説明が図面に関連して進むにつれて理解されるであ
ろう。
次の説明が図面に関連して進むにつれて理解されるであ
ろう。
特定実施例の説明
第１図に示された分析装置１０は遠心分析装置形式のも
のであって、加熱冷却器１６及び電気回路板１８を収容
している下方部分１手、駆動モータなどを収容している
中間部分２０、並びに熱絶縁された放射線源区画２４、
熱絶縁された分析区画２６、及び熱絶縁された試料・試
薬物質蓄積区画２８を規定している（第２図及び第３図
参照）上方部分２２？持った基部ハウジングｌｚを備え
ている。基部ハウジング１２の後部に直立しているのは
パネル構造物であって、これには、表示装置３０、丁番
式接近扉３６の後ろに収容された試薬計量供給ポンプ装
置３２及び試料計量供給ポンプ装置３４、丁番式接近扉
４ｚの窓４０の後ろに収容されたキュベツト供給構造物
３８、並びに磁気テープ読取器装置４４が配置されてい
る。基部フレーム１２の上面にある滑り浮式接近パネル
は蓄積区画２８への接近を与え、又手動入力制御キーボ
ード４８は接近扉４６の近くにある。
のであって、加熱冷却器１６及び電気回路板１８を収容
している下方部分１手、駆動モータなどを収容している
中間部分２０、並びに熱絶縁された放射線源区画２４、
熱絶縁された分析区画２６、及び熱絶縁された試料・試
薬物質蓄積区画２８を規定している（第２図及び第３図
参照）上方部分２２？持った基部ハウジングｌｚを備え
ている。基部ハウジング１２の後部に直立しているのは
パネル構造物であって、これには、表示装置３０、丁番
式接近扉３６の後ろに収容された試薬計量供給ポンプ装
置３２及び試料計量供給ポンプ装置３４、丁番式接近扉
４ｚの窓４０の後ろに収容されたキュベツト供給構造物
３８、並びに磁気テープ読取器装置４４が配置されてい
る。基部フレーム１２の上面にある滑り浮式接近パネル
は蓄積区画２８への接近を与え、又手動入力制御キーボ
ード４８は接近扉４６の近くにある。
源、分析及び蓄積の各区画２４．２６及び２８の更なる
詳細事項は第２図及び第３図・１１参照して理解するこ
とができる。部分２２は熱絶縁周囲壁５０によって、絶
縁カバー壁５４によって、且つ機械的処理機構を支持し
ている絶縁床５６によって境界をつけられている。仕切
り壁５８は放射線源区画２４を分析区画２６から分離し
、又同様の隔離壁６０は分析区画２６を蓄積区画２８か
ら分離している。分析区画２６内には供給場所６２、装
てん場所６４、分析場所６６、及び使用済み回転体場所
６８が配置されている。回転体移送機構７０は（回転体
８０をその周縁部でつ刀・むように構成された）キャリ
パアーム構造物７２及び駆動機構７４．７６（第３図）
を備えており、又分析場所６６は駆動機構７８を備えて
おり、装てん場所にはキュベツト回転体位置指定用駆動
機構が配置されている。使用済み回転体場所６８にある
柱構造物９８は内容物が分析された後の回転体８０を一
時的蓄積及び接近扉４２を通しての除去のために受は取
る。源、分析及び蓄積の各区画の更なる詳細事項につい
ては、この出願と同時に出願された同時出願係属中の米
国特許出願第７０６０７３号、発明の名称［キュベツト
処理（ｃｖｖＥｒＴＥ ＨＡＮＤＬＩＮＧ）Ｊを参照
すればよい。この米国特許出願の開示４項をこの出願に
援用する。
詳細事項は第２図及び第３図・１１参照して理解するこ
とができる。部分２２は熱絶縁周囲壁５０によって、絶
縁カバー壁５４によって、且つ機械的処理機構を支持し
ている絶縁床５６によって境界をつけられている。仕切
り壁５８は放射線源区画２４を分析区画２６から分離し
、又同様の隔離壁６０は分析区画２６を蓄積区画２８か
ら分離している。分析区画２６内には供給場所６２、装
てん場所６４、分析場所６６、及び使用済み回転体場所
６８が配置されている。回転体移送機構７０は（回転体
８０をその周縁部でつ刀・むように構成された）キャリ
パアーム構造物７２及び駆動機構７４．７６（第３図）
を備えており、又分析場所６６は駆動機構７８を備えて
おり、装てん場所にはキュベツト回転体位置指定用駆動
機構が配置されている。使用済み回転体場所６８にある
柱構造物９８は内容物が分析された後の回転体８０を一
時的蓄積及び接近扉４２を通しての除去のために受は取
る。源、分析及び蓄積の各区画の更なる詳細事項につい
ては、この出願と同時に出願された同時出願係属中の米
国特許出願第７０６０７３号、発明の名称［キュベツト
処理（ｃｖｖＥｒＴＥ ＨＡＮＤＬＩＮＧ）Ｊを参照
すればよい。この米国特許出願の開示４項をこの出願に
援用する。
１９８４年５月３１日出願の同時出願係属中の米国特許
出願第６１５４０１、発明の名称「遠心分析装置用キュ
ベツト回転体（Ｃ１ＬｖｅｔｔｅＲｏｔｏｒｓ ｐｏｒ
ｃｅｒｂｔｒｉｆｒｂｇａｔ Ａｎａｉｙｚｅｒｓ）
」（これの開示事項はこの出願に援用する）に示された
形式のものであって、アクリル重合体材料で成形でれて
２つ、各回転体８０は２０分程度の熱時定数を持ってい
る。各回転体８０は、それぞれ二つの装てんポート８１
を持った３９個のキュベツトの円周配列を規定しており
、約１０センチメートルの直径及び約１センチメートル
の全本体部高を有し、約４分の１センチメートルの高ざ
の三つの血豆した弧状ス４−サリブ８２を備えている。
出願第６１５４０１、発明の名称「遠心分析装置用キュ
ベツト回転体（Ｃ１ＬｖｅｔｔｅＲｏｔｏｒｓ ｐｏｒ
ｃｅｒｂｔｒｉｆｒｂｇａｔ Ａｎａｉｙｚｅｒｓ）
」（これの開示事項はこの出願に援用する）に示された
形式のものであって、アクリル重合体材料で成形でれて
２つ、各回転体８０は２０分程度の熱時定数を持ってい
る。各回転体８０は、それぞれ二つの装てんポート８１
を持った３９個のキュベツトの円周配列を規定しており
、約１０センチメートルの直径及び約１センチメートル
の全本体部高を有し、約４分の１センチメートルの高ざ
の三つの血豆した弧状ス４−サリブ８２を備えている。
回転体８０は分析区画２６において供給塔構造物３８に
積み重ねられて蓄積され、この回転体積重ねは塔構造物
の基部にあるラッチ構造物８４によって支持されていて
最下部の回転体８０はキャリパアーム７２による把持が
可能に且つ装てん、分析、及び便用済み回転体の各場所
への順次移送のだめに積重ねから個別に取出し可能に配
置されている。
積み重ねられて蓄積され、この回転体積重ねは塔構造物
の基部にあるラッチ構造物８４によって支持されていて
最下部の回転体８０はキャリパアーム７２による把持が
可能に且つ装てん、分析、及び便用済み回転体の各場所
への順次移送のだめに積重ねから個別に取出し可能に配
置されている。
分析場所６６の隣には関連の光センサ９０及びフィルタ
車９ｚを備えた光学系区画８８がある。
車９ｚを備えた光学系区画８８がある。
熱絶縁壁５８によって区画８８から隔置されて放射線源
ハウジング９４があり、これにはキセノンランプ９５の
ような放射線源が収容でれている。
ハウジング９４があり、これにはキセノンランプ９５の
ような放射線源が収容でれている。
使用済み回転体（放棄）場所６８にある取外し可能な蓄
積機構９６には柱９８があって、これに内容物が分析で
れた後の回転体８０が移送機構７゜によって挿入される
。
積機構９６には柱９８があって、これに内容物が分析で
れた後の回転体８０が移送機構７゜によって挿入される
。
操作員区画２８には試薬台１００（第２図）が配置され
ていて、これには扇形成形試薬容器１０２の配列が配置
されており、この容器のそれぞれには転送ポート１０４
及び吸込みポート１０６がある。位置指定機構（図示さ
れていない）は試薬場所１０８を通過させて試薬容器１
０２を位置指定する。試料移送リング１１０は試薬台１
００を取り囲んでおり且つ試料カップ１１２を備えてい
る。
ていて、これには扇形成形試薬容器１０２の配列が配置
されており、この容器のそれぞれには転送ポート１０４
及び吸込みポート１０６がある。位置指定機構（図示さ
れていない）は試薬場所１０８を通過させて試薬容器１
０２を位置指定する。試料移送リング１１０は試薬台１
００を取り囲んでおり且つ試料カップ１１２を備えてい
る。
位置指定機構（図示されていない）は順次試料場所１１
４を通過ｇ−ｇで試料カップ１１２を位置指定する。
４を通過ｇ−ｇで試料カップ１１２を位置指定する。
移送組立体１２０は、その前端にあるピペット管１２２
及び１２４に接続された（約１００及び２５０マイクロ
リツトルの容積の）加熱蓄積室１１８を備えているが、
これの更なる詳細事項については、この出願と同時に出
願された同時出願係属中の米国特許出願第７０６０７０
号、発明の名称「液体処理（ＬＩＱＵＩＤ ＨＡＮＤＬ
ＩＮＧ ）Ｊを参照すればよい。これの開示事項もこの
出願に援用する。組立体１２０は試料場所１１４、試薬
場所１０８、隔置壁６０に配置ぜれた洗浄場所、及び装
てん場所６４の間で移動される。隔置室構造部１２６は
ピ（ットアーム組立体１２０を収容しており且つそれの
下方板に、ピＲット１２２．１２４が蓄積区画２８の試
薬場所１０８及び試料場所１１４に出入りできるように
するポートを備えており、ピペットアーム組立体１２０
はほぼ分析区画２６の温度に維持きれる。
及び１２４に接続された（約１００及び２５０マイクロ
リツトルの容積の）加熱蓄積室１１８を備えているが、
これの更なる詳細事項については、この出願と同時に出
願された同時出願係属中の米国特許出願第７０６０７０
号、発明の名称「液体処理（ＬＩＱＵＩＤ ＨＡＮＤＬ
ＩＮＧ ）Ｊを参照すればよい。これの開示事項もこの
出願に援用する。組立体１２０は試料場所１１４、試薬
場所１０８、隔置壁６０に配置ぜれた洗浄場所、及び装
てん場所６４の間で移動される。隔置室構造部１２６は
ピ（ットアーム組立体１２０を収容しており且つそれの
下方板に、ピＲット１２２．１２４が蓄積区画２８の試
薬場所１０８及び試料場所１１４に出入りできるように
するポートを備えており、ピペットアーム組立体１２０
はほぼ分析区画２６の温度に維持きれる。
下方部分１４から中間部分２０を経由して上方部分２２
までの間には三つの空気流路が与えられる。第４図にお
いて、放射線源区画２４に向７）−う空気流は陰の付い
た矢印１３０で示され、分析区画２６に向かう空気流は
輪郭だけの矢印１３２で示され、又蓄積区画２８に自力
・う空気流は塗りっぷされた矢印１３４で示されている
。
までの間には三つの空気流路が与えられる。第４図にお
いて、放射線源区画２４に向７）−う空気流は陰の付い
た矢印１３０で示され、分析区画２６に向かう空気流は
輪郭だけの矢印１３２で示され、又蓄積区画２８に自力
・う空気流は塗りっぷされた矢印１３４で示されている
。
空気流１３０は再循環せず、電子回路区画１８の底部を
通って入って（矢印１３０Ａ）上向きの流れとなり、こ
の区画を通り出口貫通ポート１４０を通り且つ入口貫通
ポート１４４を通って中間部分ｚＯに達する。傾斜壁１
４４は空気流１３０を放射線源ハウジング９４０周りに
側方へ導き且つ区画２４を通して上方へ導き、そして空
気流１３０は吸込ファン１４８により吸引されるなどし
てボー ト１４．６を通って下方へ向けられ、中間部分
２０の後部へ排出される（矢印１３０Ｂ）。
通って入って（矢印１３０Ａ）上向きの流れとなり、こ
の区画を通り出口貫通ポート１４０を通り且つ入口貫通
ポート１４４を通って中間部分ｚＯに達する。傾斜壁１
４４は空気流１３０を放射線源ハウジング９４０周りに
側方へ導き且つ区画２４を通して上方へ導き、そして空
気流１３０は吸込ファン１４８により吸引されるなどし
てボー ト１４．６を通って下方へ向けられ、中間部分
２０の後部へ排出される（矢印１３０Ｂ）。
分析区画２６を通る空気流１３２は加熱冷却器ユニット
１６（これのモータ１５０Ｍは別個に収容されている）
におけるファン１５０によってポート１５２を通して上
方へ流されて中間部分２０における通路１５４を通り、
この通路の基部に配置された加熱器構造物１５６を通り
、サーミスタセンサ１９０を通過して上方部分２２の通
路延長部１５８に入る。通路１５８には、第３図及び第
４図に示されたように、空気流１３２を下方流１３２Ａ
と上方流１３２Ｂとして分離する下方導風板１６０及び
上方導風板１６２が配置てれている。上方導風板１６２
は熱調節された突気流１３２の部分１３２Ｂをほぼ水平
な流れにおいて、供給塔８６における（弧状ス４−サリ
プ８２によって垂直に隔置きれている）回転体８０の積
重ねの下方部分を通して導き、空気流が積重ねの底部に
接近するとぎに空気流１３２とそれらの回転体との間に
有効な熱交換を与えて積重ねの底部にある各回転体が熱
的に平衡させられるようにし、又下方導風板１６０は空
気流１３２の残りの部分１３２Ａを導いて、これが回転
体積重ねの下を流れ且つ分析区画２６の底面５６を装て
ん場所６４及び分析場所６６における回転体８０のほぼ
高でにおいて横切るようにするので、これらの場所は同
様に熱的に平衡させられる。回転体８０の熱時定数は塔
の底部回転体が約２０分で熱平衡する（０．３℃未満の
こう配）ような１直である。回転体８０ば接近扉４２を
通し且つ塔８６の頂部を通して再供給されるが、積重ね
の下方部分にある回転体は、区画２６の上壁５４の下の
空気流１３２Ａ及び１３２Ｂの方向性流れはもとより回
転体の長い熱時定数のために、扉が開いている間も平衡
温度に保たれる。空気流１３２は光学系ハウジング８８
の両側にあるボート１６４を通って区画ｚ６から排出さ
れ、中間部分２０を通り整列した開口１６６及び１６８
を通って下方へ流れて、加熱冷却器ユニット１６に戻り
、熱処理されてボート１５２経由で再循環させられる。
１６（これのモータ１５０Ｍは別個に収容されている）
におけるファン１５０によってポート１５２を通して上
方へ流されて中間部分２０における通路１５４を通り、
この通路の基部に配置された加熱器構造物１５６を通り
、サーミスタセンサ１９０を通過して上方部分２２の通
路延長部１５８に入る。通路１５８には、第３図及び第
４図に示されたように、空気流１３２を下方流１３２Ａ
と上方流１３２Ｂとして分離する下方導風板１６０及び
上方導風板１６２が配置てれている。上方導風板１６２
は熱調節された突気流１３２の部分１３２Ｂをほぼ水平
な流れにおいて、供給塔８６における（弧状ス４−サリ
プ８２によって垂直に隔置きれている）回転体８０の積
重ねの下方部分を通して導き、空気流が積重ねの底部に
接近するとぎに空気流１３２とそれらの回転体との間に
有効な熱交換を与えて積重ねの底部にある各回転体が熱
的に平衡させられるようにし、又下方導風板１６０は空
気流１３２の残りの部分１３２Ａを導いて、これが回転
体積重ねの下を流れ且つ分析区画２６の底面５６を装て
ん場所６４及び分析場所６６における回転体８０のほぼ
高でにおいて横切るようにするので、これらの場所は同
様に熱的に平衡させられる。回転体８０の熱時定数は塔
の底部回転体が約２０分で熱平衡する（０．３℃未満の
こう配）ような１直である。回転体８０ば接近扉４２を
通し且つ塔８６の頂部を通して再供給されるが、積重ね
の下方部分にある回転体は、区画２６の上壁５４の下の
空気流１３２Ａ及び１３２Ｂの方向性流れはもとより回
転体の長い熱時定数のために、扉が開いている間も平衡
温度に保たれる。空気流１３２は光学系ハウジング８８
の両側にあるボート１６４を通って区画ｚ６から排出さ
れ、中間部分２０を通り整列した開口１６６及び１６８
を通って下方へ流れて、加熱冷却器ユニット１６に戻り
、熱処理されてボート１５２経由で再循環させられる。
別の熱処理された空気流１３４はファン１７２によって
引き出されてボート１７０を通って加熱冷却ユニット１
６から出て、隔離通路１７４を通りサーミスタセンサ１
９２を通過して上方へ流れてボート１７６を通って蓄積
区画２８に流入する。
引き出されてボート１７０を通って加熱冷却ユニット１
６から出て、隔離通路１７４を通りサーミスタセンサ１
９２を通過して上方へ流れてボート１７６を通って蓄積
区画２８に流入する。
区画２８では、空気流１３４は計量供給ボ／プ３２．３
４０周りを上方へ流れて試薬容器１０２及び試料容器１
１２ｆｃ横切り、開口１フ８全通して排出されて中間部
分ｚＯにおける領域１８０及び下方ボート１８２を通っ
て下方へ流れて、加熱冷却ユニット１６の土壁にあるボ
ート１８４を通って戻り、熱処理されてボート１７０経
由で再循環ざぜられる。
４０周りを上方へ流れて試薬容器１０２及び試料容器１
１２ｆｃ横切り、開口１フ８全通して排出されて中間部
分ｚＯにおける領域１８０及び下方ボート１８２を通っ
て下方へ流れて、加熱冷却ユニット１６の土壁にあるボ
ート１８４を通って戻り、熱処理されてボート１７０経
由で再循環ざぜられる。
加熱冷却モジュール１６並びに区画２６及び２白の線図
が第５図に示されている。モジュール１６は分析区画ｚ
６及び蓄積区画ｚ８に環境制御入力を与える。分析区画
ｚ８を通る空気流１３２（約ｚＯＯｃＦＭの流量率及び
水柱約２センチメートルの全ループ圧力低下）は（第３
図に示されたように通路１５４における導風板１６０，
１６２のすぐ下に配置された）監視用サーミスタ１９０
に５答して区画２６における温度を使用者選択温度（例
えば３７℃）のプラス又はマイナス０．３℃以内に調整
するように制御され、又蓄積区画２８を通る空気光１３
４（約１２０ＣＦＭの流量率及び水柱的０．４センチメ
ートルの全ループ圧力低下）は監視用サーミスタ１９２
によって検出されて区画２８における温度を所望蓄積温
度（例えば１５℃）のプラス又はマイナス２℃以内に調
整する。
が第５図に示されている。モジュール１６は分析区画ｚ
６及び蓄積区画ｚ８に環境制御入力を与える。分析区画
ｚ８を通る空気流１３２（約ｚＯＯｃＦＭの流量率及び
水柱約２センチメートルの全ループ圧力低下）は（第３
図に示されたように通路１５４における導風板１６０，
１６２のすぐ下に配置された）監視用サーミスタ１９０
に５答して区画２６における温度を使用者選択温度（例
えば３７℃）のプラス又はマイナス０．３℃以内に調整
するように制御され、又蓄積区画２８を通る空気光１３
４（約１２０ＣＦＭの流量率及び水柱的０．４センチメ
ートルの全ループ圧力低下）は監視用サーミスタ１９２
によって検出されて区画２８における温度を所望蓄積温
度（例えば１５℃）のプラス又はマイナス２℃以内に調
整する。
第５図に線図で示された基本的冷凍回路は、（関連の循
環ファン２０４を備えた）ひれ付き熱交換凝縮器２０２
及びろ過乾燥器２０６全通して接合部２０８に冷＆Ｗ
（フレオン１２）を循環させる３分の１馬力４０００Ｂ
ＴＵ毎時圧縮機２００（テクムセ・モデル（Ｔｐｒｑｔ
、ｍＱｐｈ、 Ａｌｎｄｐ ｉ ）４ｉ４）１Ａ）を備
えた共通の回路部分を有している。二つの並列回路が接
合部２０８から圧縮機２００の入力２１０に延びている
。各並列回路には加熱器２１４、ひれ付き熱交換蒸発器
２１６及び蒸発器圧力調整弁２１８を備えた毛管部分２
１２がある。
環ファン２０４を備えた）ひれ付き熱交換凝縮器２０２
及びろ過乾燥器２０６全通して接合部２０８に冷＆Ｗ
（フレオン１２）を循環させる３分の１馬力４０００Ｂ
ＴＵ毎時圧縮機２００（テクムセ・モデル（Ｔｐｒｑｔ
、ｍＱｐｈ、 Ａｌｎｄｐ ｉ ）４ｉ４）１Ａ）を備
えた共通の回路部分を有している。二つの並列回路が接
合部２０８から圧縮機２００の入力２１０に延びている
。各並列回路には加熱器２１４、ひれ付き熱交換蒸発器
２１６及び蒸発器圧力調整弁２１８を備えた毛管部分２
１２がある。
各毛管２１２及びその加熱器２１４は比例しているので
、冷媒流が加熱器制御によって決して妨げられず、各管
２１２は約０．８ミリメートルの内径を持っており、管
２１２Ａは約３６センチメードルの長ざを持っており、
又管２１２Ｂは約８０センチメートルの長はを持ってい
る。蒸発器２１６は温度こう配を最小にするために逆流
回路を形成しており、蒸発器の圧力は二つの回路間の冷
媒流の減結合を与え且つ蒸発器２１６を横切る熱こう配
を最小にするように調整される。ＥＰＲ弁２１８Ｂは、
加熱器２１４Ｂｉ完全にオンにして（周囲の空気温度３
５℃のとき）２００ワツトの熱負荷及び約５０ワツトの
残留冷却レベルで蒸発器２１６Ｂｆ完全にあふれブせて
維持するように調整される。空気光１３２は第４図及び
第５図に示された閉ループ循環路においてファン１５０
により蒸発器２１ｆ３４７ｔ”ら加熱器１５６を通りサ
ーミ、スタ１９０を通過して上方へ流され、導風板１６
０．１６２によりそらでれて回転体積重ね８０を横切り
分析区画２６を通って蒸発器２１６Ａに戻り、又空気流
１３４は同様の閉ループ循環路においてファン１７２に
より上方へ流されてサーミスタ１９２を通過し蓄積区画
ｚ８を通って蒸発器２１６Ｂに戻る。
、冷媒流が加熱器制御によって決して妨げられず、各管
２１２は約０．８ミリメートルの内径を持っており、管
２１２Ａは約３６センチメードルの長ざを持っており、
又管２１２Ｂは約８０センチメートルの長はを持ってい
る。蒸発器２１６は温度こう配を最小にするために逆流
回路を形成しており、蒸発器の圧力は二つの回路間の冷
媒流の減結合を与え且つ蒸発器２１６を横切る熱こう配
を最小にするように調整される。ＥＰＲ弁２１８Ｂは、
加熱器２１４Ｂｉ完全にオンにして（周囲の空気温度３
５℃のとき）２００ワツトの熱負荷及び約５０ワツトの
残留冷却レベルで蒸発器２１６Ｂｆ完全にあふれブせて
維持するように調整される。空気光１３２は第４図及び
第５図に示された閉ループ循環路においてファン１５０
により蒸発器２１ｆ３４７ｔ”ら加熱器１５６を通りサ
ーミ、スタ１９０を通過して上方へ流され、導風板１６
０．１６２によりそらでれて回転体積重ね８０を横切り
分析区画２６を通って蒸発器２１６Ａに戻り、又空気流
１３４は同様の閉ループ循環路においてファン１７２に
より上方へ流されてサーミスタ１９２を通過し蓄積区画
ｚ８を通って蒸発器２１６Ｂに戻る。
加熱冷却器制御回路部が第６図に示でれている。
この回路部には、（それぞれ分析区画２６及び蓄積区画
２８のすぐ下に配置された）検出用サーミスタ１９０及
び１９２、冷媒流制御のだめの毛管加熱器２１４Ａ及び
２１４Ｂ、空気流１３２のための高速応答形加熱器１５
６、並びにファンモータ２０４Ｍがある。制御回路部は
中央制御器２４８からケーブル２７０Ａ、２７０Ｂを通
して供給された所望の温度信号に応答して、空気流回路
１３２及び１３４における実際の検出温度の関数として
の誤差信号を発生して加熱器１５６及び２１４を制御し
、且つ又継続的な計算機制御による監視及び調整を行っ
て空気流１３２．１３４の温度を／ステム許容範囲内に
維持する。
２８のすぐ下に配置された）検出用サーミスタ１９０及
び１９２、冷媒流制御のだめの毛管加熱器２１４Ａ及び
２１４Ｂ、空気流１３２のための高速応答形加熱器１５
６、並びにファンモータ２０４Ｍがある。制御回路部は
中央制御器２４８からケーブル２７０Ａ、２７０Ｂを通
して供給された所望の温度信号に応答して、空気流回路
１３２及び１３４における実際の検出温度の関数として
の誤差信号を発生して加熱器１５６及び２１４を制御し
、且つ又継続的な計算機制御による監視及び調整を行っ
て空気流１３２．１３４の温度を／ステム許容範囲内に
維持する。
各サーミスタセンサ１９０．１９２は電流調整器２５２
を備えだ電流源２５０から給電される。
を備えだ電流源２５０から給電される。
第１温度出力がａ２５４を通し緩衝増幅器２５６及び線
２５８を通してアナログ信号として制御器２４８に加え
られ、線２６０上の第２温度出力が緩衝増幅器２６２を
通して差動増幅器２６６の入力線２６４に加えられる。
２５８を通してアナログ信号として制御器２４８に加え
られ、線２６０上の第２温度出力が緩衝増幅器２６２を
通して差動増幅器２６６の入力線２６４に加えられる。
各差動増幅器２６６はディジタル・アナログ変換器２７
２からの線２６８上の第２アナログ入力を持っている。
２からの線２６８上の第２アナログ入力を持っている。
分析区画２６のためのチャネルにおけるディジタル・ア
ナログ変換器２７２Ａは、所望の分析区画温度を指定す
る制御器２４８からのケーブル２７０Ａ上の制御信号を
受け、又制御器２４８は蓄積区画２８に対する制御チャ
ネルのためのケーブル２７０Ｂ上の同様のディジタル制
御信号を発生する。分析区画監視チャネルにおける増幅
器段２７４及び２７６は変換器２７２Ａのアナログ電圧
出力を２０℃〜４０℃の範囲にわたってサーミスタ１９
０の特性に対応するように関係づける。
ナログ変換器２７２Ａは、所望の分析区画温度を指定す
る制御器２４８からのケーブル２７０Ａ上の制御信号を
受け、又制御器２４８は蓄積区画２８に対する制御チャ
ネルのためのケーブル２７０Ｂ上の同様のディジタル制
御信号を発生する。分析区画監視チャネルにおける増幅
器段２７４及び２７６は変換器２７２Ａのアナログ電圧
出力を２０℃〜４０℃の範囲にわたってサーミスタ１９
０の特性に対応するように関係づける。
各差動増幅器２６６は線２６８上の制御器２４８からの
所望の温度アナログ電圧信号及び線２６４上の実際の温
度信号に応答して線２８０上の誤差信号全発生し、この
誤差信号は、分析区画チャネルの場合にはフィルタ増幅
器２７８を通して比較増幅器２８２Ａに加えられ且つ又
直接増幅器３００に加えられ、又蓄積区画チャネルの場
合には比較増幅器２８２Ｂに直接加えられる。差動増幅
器２６６Ａは線２６８Ａ上の制御器２４８からの所望の
温度信号を（それのマイナス入力端子に加えられた）線
２６４Ａ上の実際の空気流温度信号と比較して線２８０
Ａ上の駆動（温度誤差）信号を発生し、これは積分帰還
回路（時定数は約３０分）を備えた差動増幅器２７８に
加えられて、増幅器２８２Ａ経由で加えられる出力を与
え、蒸発器２１６に対する冷媒流制御回路における毛管
加熱器２１４Ａを制御して空気ＩＸ １ ’３２の負荷
時間率温度制御を与える。増幅器２７８の正入力におけ
る電圧は加熱器２１４Ａに対する定常状態駆動基準を確
立する。増幅器２７８の比較的遅い応答時間は動作効率
の改善を与え、全動作範囲を増大し、且つ又空気流１３
２における温度こう配を減小して品質を改善する。線２
８０Ａにおける誤差信号は又増幅器３００’？通して加
えられて抵抗式加熱器１５６を制御する。加熱器１５６
のはるかに速い応答は空気流１３２の温度の補昆的調整
を与えて、それの温度が指定の分析区画温度に正確に維
持されるようにする。
所望の温度アナログ電圧信号及び線２６４上の実際の温
度信号に応答して線２８０上の誤差信号全発生し、この
誤差信号は、分析区画チャネルの場合にはフィルタ増幅
器２７８を通して比較増幅器２８２Ａに加えられ且つ又
直接増幅器３００に加えられ、又蓄積区画チャネルの場
合には比較増幅器２８２Ｂに直接加えられる。差動増幅
器２６６Ａは線２６８Ａ上の制御器２４８からの所望の
温度信号を（それのマイナス入力端子に加えられた）線
２６４Ａ上の実際の空気流温度信号と比較して線２８０
Ａ上の駆動（温度誤差）信号を発生し、これは積分帰還
回路（時定数は約３０分）を備えた差動増幅器２７８に
加えられて、増幅器２８２Ａ経由で加えられる出力を与
え、蒸発器２１６に対する冷媒流制御回路における毛管
加熱器２１４Ａを制御して空気ＩＸ １ ’３２の負荷
時間率温度制御を与える。増幅器２７８の正入力におけ
る電圧は加熱器２１４Ａに対する定常状態駆動基準を確
立する。増幅器２７８の比較的遅い応答時間は動作効率
の改善を与え、全動作範囲を増大し、且つ又空気流１３
２における温度こう配を減小して品質を改善する。線２
８０Ａにおける誤差信号は又増幅器３００’？通して加
えられて抵抗式加熱器１５６を制御する。加熱器１５６
のはるかに速い応答は空気流１３２の温度の補昆的調整
を与えて、それの温度が指定の分析区画温度に正確に維
持されるようにする。
同様に、蓄積区画制御チャネルにおける差動増幅器２６
６Ｂはそのプラス入力端子に加えられた線２６４Ｂ上の
実際の温度信号に応答して（増幅器２６６Ｂは長い時定
数の帰還回路を備え且つ１十Ｚｖ／ Ｚ＋ の制御ル
ープ利得を持っている）熱要求信号を発生し、１ｆｇ２
８０Ｂ上のこの出力信号はゆっくり変化して、操作員苦
積区画２８を通る空気流１３４の安定な温度制御を与え
る。このようにして、区画２８の温度は毛管加熱器２１
４Ｂによって負荷時間率制御される。区画２６に対する
二重温度制御回路は補助又は補足の抵抗式加熱器１５６
及び毛管加熱器２１４Ａの負荷時間率変調式冷却流制御
回路を備えている。加熱器１５６及び２１４への制御信
号はパルス幅変調される。各比較増幅器２８２は（１キ
ロヘルツの繰返率の）のこぎり波状出力信号を発生する
発振器２８６からの線２８４上の第２人力を持っており
、従って各増幅器２８２は、線２８０上の熱要求信号の
大きさの関数として幅が変化するパルスの形態をしだ線
２９０上の出力を持っている。この出力パルスはター−
リントン対２９２を通して加えられて、スイッチ２９４
と直列に端子２９６における３３ボルト源に接続されて
いる開運の毛管加熱器２１４のパルス幅変調制御を与え
る。加熱器２１４によって発生された熱は毛管線２１２
（第５図）に流れを制限する冷媒中の泡を発生して、こ
れによりそれの蒸発器熱交換器２１６への冷媒流を制御
するが、各冷媒流制御は（前述のように）比例させられ
ているので、冷媒流は全体としては決して阻止されない
。
６Ｂはそのプラス入力端子に加えられた線２６４Ｂ上の
実際の温度信号に応答して（増幅器２６６Ｂは長い時定
数の帰還回路を備え且つ１十Ｚｖ／ Ｚ＋ の制御ル
ープ利得を持っている）熱要求信号を発生し、１ｆｇ２
８０Ｂ上のこの出力信号はゆっくり変化して、操作員苦
積区画２８を通る空気流１３４の安定な温度制御を与え
る。このようにして、区画２８の温度は毛管加熱器２１
４Ｂによって負荷時間率制御される。区画２６に対する
二重温度制御回路は補助又は補足の抵抗式加熱器１５６
及び毛管加熱器２１４Ａの負荷時間率変調式冷却流制御
回路を備えている。加熱器１５６及び２１４への制御信
号はパルス幅変調される。各比較増幅器２８２は（１キ
ロヘルツの繰返率の）のこぎり波状出力信号を発生する
発振器２８６からの線２８４上の第２人力を持っており
、従って各増幅器２８２は、線２８０上の熱要求信号の
大きさの関数として幅が変化するパルスの形態をしだ線
２９０上の出力を持っている。この出力パルスはター−
リントン対２９２を通して加えられて、スイッチ２９４
と直列に端子２９６における３３ボルト源に接続されて
いる開運の毛管加熱器２１４のパルス幅変調制御を与え
る。加熱器２１４によって発生された熱は毛管線２１２
（第５図）に流れを制限する冷媒中の泡を発生して、こ
れによりそれの蒸発器熱交換器２１６への冷媒流を制御
するが、各冷媒流制御は（前述のように）比例させられ
ているので、冷媒流は全体としては決して阻止されない
。
分析区画温度誤差信号は又比較増幅器３００に加えられ
るが、この増幅器は４ヘルツの繰返率で１ボルトから１
１ボルトまで変化するのこぎり波発振器３０４からの線
３０２上の第２人力を持っている。その結果生じる線３
０６上の比較器３００の一運の出力パルスは半導体継電
器３０ Ｅ１６０（又は５０）ヘルツの零交差で切り換
えて６００ワツトの空気加熱器１５６のパルス幅変調制
御を与えるが、差動増幅器２６６Ａからの誤差信号が大
きいほど、線３０６上の出力パルスの持続時間が長くな
る。半導体継電器３０８は線３０６上のパルスの前縁の
次にぐる印加交流信号の零交差において切り換わって６
００ワツト空気加熱器１５６を生かし、又この加熱器は
各４ヘルツパルスの終りの次にくる交流信号零交差にお
いて死なされる。
るが、この増幅器は４ヘルツの繰返率で１ボルトから１
１ボルトまで変化するのこぎり波発振器３０４からの線
３０２上の第２人力を持っている。その結果生じる線３
０６上の比較器３００の一運の出力パルスは半導体継電
器３０ Ｅ１６０（又は５０）ヘルツの零交差で切り換
えて６００ワツトの空気加熱器１５６のパルス幅変調制
御を与えるが、差動増幅器２６６Ａからの誤差信号が大
きいほど、線３０６上の出力パルスの持続時間が長くな
る。半導体継電器３０８は線３０６上のパルスの前縁の
次にぐる印加交流信号の零交差において切り換わって６
００ワツト空気加熱器１５６を生かし、又この加熱器は
各４ヘルツパルスの終りの次にくる交流信号零交差にお
いて死なされる。
ファン２０４のモータ２０４Ｍは類似の半導体継電器３
１０及び比較回路３１２によって制御されるが、この比
較回路は発振器３０４からの第１人力とプレセット式分
圧器回路網からの線３１４上の第２人力とを備えており
、従ってパルス幅変調された電力がファンモータ２０４
Ｍに加えられて、ファンを約半分の速度で回転させ、こ
れにより可聴周波雑音を低減する。
１０及び比較回路３１２によって制御されるが、この比
較回路は発振器３０４からの第１人力とプレセット式分
圧器回路網からの線３１４上の第２人力とを備えており
、従ってパルス幅変調された電力がファンモータ２０４
Ｍに加えられて、ファンを約半分の速度で回転させ、こ
れにより可聴周波雑音を低減する。
システムの動作の際には、ファン１５０が蒸発器２１６
Ａ及び加熱器１５６を通る間外循環ループにおいて空気
流１３２を循環させ、空気流の下方部分１３２Ａは導風
板１６０によって導かれて分析区画２，６の下方部分を
横切って流れ、又空気流の上方部分１３２Ｂは導風板１
６２によって溝刃１れて、供給塔３８における隔置され
た回転体を通って流れて、供給、装てん及び分析の各場
所を、キーボード４８及び制御器２４８により操作員指
定さｔした分析温度に維持するが、実際の分析区画温度
はサーミスタによって検出される。ファン１７２は冷却
器（蓄積区画温度）空気流１３４を蒸発器２１６Ｂ及び
蓄積区画２８経由の第２閉再循環ループにおいて循環は
ぜて試料及び試薬トレイ１００．１１０を横切って流す
。回転体８０は供給塔３８に蓄積され、そして供給場所
６２から（熱平衡状態で）順次供給きれて機構７０によ
り装てん場所６４に移送され、この装てん場所では（分
析温度に平衡している）回転体キュベツトに試料物質及
び試薬物質が装てんてれ、これらの物質はピにット１２
２．１２４により加熱蓄積室１１８に引き入れられ、こ
こでそれらの温度が分析温度の方へ急速に増大され、そ
してそれらの物質はほぼ熱平衡状態にあるキュベツト中
に置かれる。装てんされた回転体は装てんが（従来のシ
ステムにおけるように熱平衡のための遅延を伴わないで
）完了するやいなや分析場所６６に転送され、そして回
転体を回転させて試料物質及び試薬物質を混合し且つ同
時にその結果生じる幾つかの反応を監視することによっ
て分析を行うことができる。
Ａ及び加熱器１５６を通る間外循環ループにおいて空気
流１３２を循環させ、空気流の下方部分１３２Ａは導風
板１６０によって導かれて分析区画２，６の下方部分を
横切って流れ、又空気流の上方部分１３２Ｂは導風板１
６２によって溝刃１れて、供給塔３８における隔置され
た回転体を通って流れて、供給、装てん及び分析の各場
所を、キーボード４８及び制御器２４８により操作員指
定さｔした分析温度に維持するが、実際の分析区画温度
はサーミスタによって検出される。ファン１７２は冷却
器（蓄積区画温度）空気流１３４を蒸発器２１６Ｂ及び
蓄積区画２８経由の第２閉再循環ループにおいて循環は
ぜて試料及び試薬トレイ１００．１１０を横切って流す
。回転体８０は供給塔３８に蓄積され、そして供給場所
６２から（熱平衡状態で）順次供給きれて機構７０によ
り装てん場所６４に移送され、この装てん場所では（分
析温度に平衡している）回転体キュベツトに試料物質及
び試薬物質が装てんてれ、これらの物質はピにット１２
２．１２４により加熱蓄積室１１８に引き入れられ、こ
こでそれらの温度が分析温度の方へ急速に増大され、そ
してそれらの物質はほぼ熱平衡状態にあるキュベツト中
に置かれる。装てんされた回転体は装てんが（従来のシ
ステムにおけるように熱平衡のための遅延を伴わないで
）完了するやいなや分析場所６６に転送され、そして回
転体を回転させて試料物質及び試薬物質を混合し且つ同
時にその結果生じる幾つかの反応を監視することによっ
て分析を行うことができる。
分析後、回転体は使用済み回転体場所６８に転送されて
放棄されるか又は前の分析順序においてキュベツトが全
部は使用されていない場合には更に装てんが行われる。
放棄されるか又は前の分析順序においてキュベツトが全
部は使用されていない場合には更に装てんが行われる。
これまでこの発明の特定の実施例を図示し且つ説明して
きたが、技術に通じた者には押挿の変更例が明らかであ
り、従ってこの発明は開示された実施例又はこれの詳細
事項に限定されるべきものではなく、この発明の精神及
び範囲内において離れることができる。
きたが、技術に通じた者には押挿の変更例が明らかであ
り、従ってこの発明は開示された実施例又はこれの詳細
事項に限定されるべきものではなく、この発明の精神及
び範囲内において離れることができる。
第１図はこの発明による遠心分析装置の透視図である。
第２図は第１図に示された分析装置の源、分析及び蓄積
の各区画の上部平面図である。 第３図は第２図の線３−３に沿って取られた断面図であ
る。 第４図は空気流路を示す、第１図の分析装置の各部分の
分解式線図である。 第５図は第１図の分析装置に便用された加熱冷却器モジ
ュール及び空気流路の構成図である。 第６図は加熱冷却器制御回路部の概略図である。 これらの図面において、ｌＯは分析装置、１６は加熱冷
却器、２６は分析区画、２８は蓄積区画、３８はキュベ
ツト供給構造物、６２は供給場所、６４は装てん場所、
６６は分析場所、６８は使用済み回転体場所、７０は回
転体移送機構１，８０は回転体、１０２は試薬容器、１
１２は試料カップ、１２０は移送組立体、１２２．１２
４はピ硬ット管、１３２．１３４は空気流、１５０はフ
ァン、１５６は抵抗式加熱器、１６０．１６２は導風板
、１７２はファン、１９０．１９２はサーミスタ、２０
０は圧縮機、２１２Ａ、２１２７？は毛管部分、２１４
Ａ、２１４Ｂは毛管加熱器、２１８Ａ。 ２１８ＢはＥＰＲ弁を示す。 （外５名） ＩＧ ５
の各区画の上部平面図である。 第３図は第２図の線３−３に沿って取られた断面図であ
る。 第４図は空気流路を示す、第１図の分析装置の各部分の
分解式線図である。 第５図は第１図の分析装置に便用された加熱冷却器モジ
ュール及び空気流路の構成図である。 第６図は加熱冷却器制御回路部の概略図である。 これらの図面において、ｌＯは分析装置、１６は加熱冷
却器、２６は分析区画、２８は蓄積区画、３８はキュベ
ツト供給構造物、６２は供給場所、６４は装てん場所、
６６は分析場所、６８は使用済み回転体場所、７０は回
転体移送機構１，８０は回転体、１０２は試薬容器、１
１２は試料カップ、１２０は移送組立体、１２２．１２
４はピ硬ット管、１３２．１３４は空気流、１５０はフ
ァン、１５６は抵抗式加熱器、１６０．１６２は導風板
、１７２はファン、１９０．１９２はサーミスタ、２０
０は圧縮機、２１２Ａ、２１２７？は毛管部分、２１４
Ａ、２１４Ｂは毛管加熱器、２１８Ａ。 ２１８ＢはＥＰＲ弁を示す。 （外５名） ＩＧ ５
Claims (14)
- （１）第１の熱絶縁された区画（２８）、 前記の第１区画において試料物質（１１２）及び試薬物
質（１０２）を蓄積するための装置、 前記の第１区画（２８）から熱絶縁された第２の熱絶縁
区画（２６）、前記の第２区画における供給場所（６２
）及び装てん場所（６４）、 前記の第１区画を適当な蓄積温度（１６）に維持するた
めの装置、 前記の第２区画を前記の蓄積温度（１６）よりも高い制
御され且つ安定化された分析温度に維持するための装置
、 長い熱時定数の材料からなる複数の遠心分析器回転体を
前記の第２区画（３８）において前記の供給場所に蓄積
してこの蓄積された分析回転体（８０）が前記の分析温
度に熱的に平衡させられるようにするための装置、 熱平衡回転体（８０）を前記の供給場所（６２）から前
記の装てん場所（６４）に移送するための前記の第２区
画における移送機構（７０）、 所定量の試料物質及び試薬物質を前記の第１区画（２８
）から前記の装てん場所（６４）における熱平衡回転体
（８０）のキユベツトへの装てんのために転送するため
の加熱装置を備えた転送機構（１２０）、並びに 前記の回転体のキユベツトにおける試料物質及び試薬物
質の混合物を分析するための前記の第２区画（６６）に
おける装置、 によつて特徴づげられる遠心分析装置。 - （２）前記の第１区画（２８）を適当な蓄積温度に維持
するための前記の装置が、第１流の気体（１７２）を前
記の蓄積温度で前記の第１区画（２８）を通して循環さ
せるための装置を備えており、且つ前記の第２区画（２
６）を前記の分析温度に維持するための前記の装置が、
第２流の気体（１５０）を前記の分析温度で前記の第２
区画（２６）を通して循環させるための装置を備え、且
つ又前記の第２流の気体を前記の供給場所（６２）にお
いて前記の回転体（８０）を通るように導いて、前記の
回転体の前記の供給場所（６２）から前記の装てん場所
（６４）への転送に先立つて前記の各回転体を前記の分
析温度に平衡させるようにするための装置（１６０、１
６２）を備えている、 特許請求の範囲第１項に記載の分析装置。 - （３）第１及び第２の並列な回路部分（２１２Ａ、２１
２Ｂ）を持つた冷媒回路、前記の二つの並列回路部分（
２１２Ａ、２１２Ｂ）を通つて冷媒（２００）を流すた
めの装置、並びに前記の各並列回路部分を通る冷媒の流
れを制御するための流れ制御装置（２１８Ａ、２１８Ｂ
）からなる熱エネルギー交換装置（１６）を備えており
、 前記の第１区画（２８）を適当な蓄積温度へ維持するた
めの前記の装置が、前記の第１並列回路部分と熱交換関
係にある第１閉ループを通し且つ前記の第１区画を通し
て第１空気流（１３４）を流すための前記の第１流循環
装置と、前記の第１空気流の温度（１９２）を検査し且
つ前記の流れ制御装置（２１８Ｂ）を動作させて前記の
第１並列回路部分（２１２Ｂ）における冷媒流を制御し
前記の第１空気流の温度をほぼ前記の蓄積温度に維持す
るようにするための装置とを備えており、 前記の第２区画（２６）を前記の分析温度に維持するた
めの前記の装置が、前記の第２並列回路部分（２１２Ａ
）と熱交換関係にある第２閉再循環ループを通し且つ前
記の第２区画（２６）を通して第２空気流（１３２）を
流すための前記の第２流循環装置（２１８Ａ）と、前記
の第２空気流（１３２）の温度（１９０）を検出し且つ
前記の流れ制御装置（２１８Ａ）を動作させて前記の第
２並列回路部分（２１２Ａ）における冷媒流を制御し前
記の第２空気流の温度をほぼ前記の分析温度に維持する
ようにするための装置と、を備えている、 特許請求の範囲第２項に記載の分析装置。 - （４）前記の第２空気流循環ループ（１３２）における
補助加熱装置（１５６）、及び前記の第２空気流の空気
温度（１９０）を検出するための前記の装置に応答して
前記の補助加熱装置（１５６）を制御して前記の第２空
気流の温度の補足的調整を与えるようにする制御装置、
を備えている、特許請求の範囲第３項に記載の分析装置
。 - （５）前記の各並列回路部分（２１２Ａ、２１２Ｂ）が
毛管部分を備えており且つ前記の流れ制御装置が前記の
各毛管部分に対する加熱器（２１４Ａ、２１４Ｂ）を備
えている、特許請求の範囲第４項に記載の分析装置。 - （６）前記の冷媒を流す装置が圧縮機（２００）を備え
、前記の各並列回路部分が蒸発装置（２１６Ａ、２１６
Ｂ）、蒸発装置圧力調整装置（２１８Ａ、２１８Ｂ）、
及び毛管部分（２１２Ａ、２１２Ｂ）を備え、且つ前記
の流れ制御装置が前記の各毛管部分に対する加熱器（２
１４Ａ、２１４Ｂ）を備えている、特許請求の範囲第５
項に記載の分析装置。 - （７）所望の第１区画温度信号を発生するための装置、 前記の第１区画の実際の温度を示す実際の温度信号を発
生するための装置、 前記の所望の温度信号と実際の第１区画温度信号を比較
してこれらの両温度信号間の差に応答する第１誤差信号
を発生するための第１比較装置、前記の第１誤差信号に
応答して前記の第１区画温度維持装置の毛管加熱器を制
御するための装置、所望の分析区画温度信号を発生する
ための装置、前記の分析区画の実際の温度を示す実際の
温度信号を発生するための装置、 前記の所望の温度信号と実際の分析区画温度信号を比較
してこれらの両温度信号間の差に応答する第２誤差信号
を発生するための第２比較装置、並びに 前記の第２誤差信号に応答して前記の分析区画温度維持
装置の毛管加熱器及び前記の補助加熱装置を制御するた
めの装置、 を備えている、特許請求の範囲第６項に記載の分析装置
。 - （８）前記の各誤差信号に応答して、前記の毛管加熱器
に加えられる制御信号をパルス幅変調するための装置を
備えている、特許請求の範囲第７項に記載の分析装置。 - （９）所望の分析温度信号を発生するための装置、前記
の分析区画の実際の温度を示す実際の温度信号を発生す
るための装置、 前記の所望の温度信号と実際の温度信号を比較してこれ
らの両温度信号間の差に応答する誤差信号を発生するた
めの装置、並びに 前記の誤差信号に応答して前記の第２区画温度維持装置
を制御するための装置、 を備えている、特許請求の範囲第１項に記載の分析装置
。 - （１０）前記の比較装置が積分帰還回路を有する差動増
幅器を備えており、且つ前記の誤差信号に応答して、前
記の第２区画温度維持装置に加えられる制御信号をパル
ス幅変調するための装置が設けられている、特許請求の
範囲第９項に記載の分析装置。 - （１１）前記の転送機構が、 一対の液体処理プローブ（１２２、１２４）、前記の液
体処理プローブが取り付けられているプローブ移送キヤ
リツジ（１２０）、 前記の移送キヤリツジを前記の第１及び第２の両区画間
で移動するための駆動機構、を備えており、 前記の移送キヤリツジが、前記の液体処理プローブの一
方に接続された試薬蓄積室及び前記の液体処理プローブ
の他方に接続された試料蓄積室を備えていて、前記の各
蓄積室が１ミリリツトル未満の容積を備えており、且つ
前記の加熱装置が前記の蓄積室と熱交換関係にある熱エ
ネルギー供給装置を備えている、 特許請求の範囲第１項に記載の分析装置。 - （１２）前記の第２区画における前記の分析装置が光学
系モジユール（８８）を備えており、且つ前記の第１及
び第２の両区画とは独立に前記の光学系モジユールを冷
却する（１３２）ための装置が設けられている、特許請
求の範囲第１１項に記載の分析装置。 - （１３）第１（２１２Ａ）及び第２（２１２Ｂ）の並列
回路部分を持つた冷媒回路（１６）、前記の二つの並列
回路部分を通して冷媒（２００）を流すための装置、並
びに前記の各並列回路部分を通る冷媒の流れを制御する
ための流れ制御装置（２１８Ａ、２１８Ｂ）からなる熱
エネルギー交換装置を備えており、前記の第１区画（２
８）を適当な蓄積温度に維持するための前記の装置が、
前記の第１並列回路部分（２１２Ｂ）と熱交換関係にあ
る第１閉ループを通し且つ前記の第１区画を通して第１
空気流（１３４）を流すための前記の第１流循環装置と
、前記の第１空気流の温度（１９２）を検出し且つ前記
の流れ制御装置（２１８Ｂ）を動作させて前記の第１並
列回路部分における冷媒流を制御し前記の第１空気流の
温度をほぼ前記の蓄積温度に維持するようにするための
装置とを備えており、 前記の第２区画（２６）を前記の分析温度に維持するた
めの前記の装置が、前記の第２並列回路部分（２１２Ａ
）と熱交換関係にある第２閉再循環ループを通し且つ前
記の第２区画を通して第２空気流（１３２）を流すため
の前記の第２流循環装置と、前記の第２空気流の空気温
度（１９０）を検出し且つ前記の第２流れ制御装置（２
１８Ａ）を動作させて前記の第２並列回路部分における
冷媒流を制御し前記の第２空気流の温度をほぼ前記の分
析温度に維持するようにするための装置とを備え、且つ
又前記の第２空気流を前記の供給場所において前記の回
転体を通るように導いて、前記の回転体の前記の供給場
所（６２）から前記の装てん場所（６４）への転送に先
立つて前記の各回転体を前記の分析温度に平衡させるよ
うにするための装置（１６０、１６２）を備えている、 特許請求の範囲第１２項に記載の分析装置。 - （１４）前記の各空気流に対する所望の温度信号を発生
するための装置、 前記の各所望の温度信号及びこれに対応する空気流の実
際の温度信号に応答して誤差信号を発生するための比較
装置、前記の誤差信号に応答して前記の冷媒流れ制御装
置をパルス幅変調するための装置、前記の第１空気流循
環ループにおける補助加熱装置、並びに前記の誤差信号
に応答して前記の補助加熱装置を制御し、前記の第１空
気流の温度の補助的調整を与え且つ応答時間が前記の流
装置であつて、その応答時間が前記の流れ制御装置の応
答時間より少なくとも１０倍速い前記装置、を備えてい
る、特許請求の範囲第１３項に記載の分析装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/706,072 US4708886A (en) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | Analysis system |
| US706072 | 1985-02-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61212766A true JPS61212766A (ja) | 1986-09-20 |
| JPH0588425B2 JPH0588425B2 (ja) | 1993-12-22 |
Family
ID=24836114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61042775A Granted JPS61212766A (ja) | 1985-02-27 | 1986-02-27 | 分析装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4708886A (ja) |
| EP (1) | EP0195893B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61212766A (ja) |
| AU (1) | AU5360886A (ja) |
| CA (1) | CA1281976C (ja) |
| DE (1) | DE3664004D1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000338114A (ja) * | 1999-04-20 | 2000-12-08 | Instrumentation Lab Spa | 自動装着式光学分析装置 |
| JP2018096916A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | シスメックス株式会社 | 前処理装置及び前処理方法 |
| JP2019521356A (ja) * | 2016-07-21 | 2019-07-25 | シーメンス・ヘルスケア・ダイアグノスティックス・インコーポレーテッドＳｉｅｍｅｎｓ Ｈｅａｌｔｈｃａｒｅ Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃｓ Ｉｎｃ． | 臨床分析装置モジュール用環境制御ソリューション |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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