JPS61203444A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は光重合性組成物に関するものであり、さらに詳
しくは、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物と光重合開始剤と、必要とするならば結合剤とからな
る光重合性組成物に関し、特に感光性印刷版の感光層、
フォトレジスト等に有用な光重合性組成物に関するもの
である。
しくは、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物と光重合開始剤と、必要とするならば結合剤とからな
る光重合性組成物に関し、特に感光性印刷版の感光層、
フォトレジスト等に有用な光重合性組成物に関するもの
である。
「従来の技術」
エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と光重
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法によりIli像の複製を行なう方法は現
1知られるところである。
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法によりIli像の複製を行なう方法は現
1知られるところである。
すなわち、米国特許2.タコ7.022号、同1゜90
2.316号あルイは同3.170 、jJl号に記載
されているように、この種の感光性組成物は光照射によ
り硬化し不溶化することから、この感光性組成物を適当
な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して光照射を行な
い、適当な溶媒により未露光部のみを除去することによ
り所望の光重合性組成物の硬化画像を形成させることが
できる。
2.316号あルイは同3.170 、jJl号に記載
されているように、この種の感光性組成物は光照射によ
り硬化し不溶化することから、この感光性組成物を適当
な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して光照射を行な
い、適当な溶媒により未露光部のみを除去することによ
り所望の光重合性組成物の硬化画像を形成させることが
できる。
このタイプの感光性組成物は印刷版あるいはフォトレジ
スト等を作成するために使用されるものとして極めて有
用であることは論をまたない。
スト等を作成するために使用されるものとして極めて有
用であることは論をまたない。
従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物
のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるために光
重合開始剤を添加することが提唱されており、かかる光
重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベンゾイン
エチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラ中ノン、ア
クリジン、7エナジン、ベンゾフェノン、2−エチルア
ントラ中ノン等が用いられてきた。しかしながら、これ
らの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物の硬化
の感応度が低いので画イ象形成における1象露光に長時
間を要するため、細密な画像の場合には操作にわずかな
振動があると良好な画質の画像が再現されず、また露光
の光源のエネルギー放射量を増大しなければならないた
めにそれに伴なう多大な発熱の放散を考慮する必要があ
り、さらに熱による組成物の皮膜の変形および変質も生
じ易い等の問題があった。
のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるために光
重合開始剤を添加することが提唱されており、かかる光
重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベンゾイン
エチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラ中ノン、ア
クリジン、7エナジン、ベンゾフェノン、2−エチルア
ントラ中ノン等が用いられてきた。しかしながら、これ
らの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物の硬化
の感応度が低いので画イ象形成における1象露光に長時
間を要するため、細密な画像の場合には操作にわずかな
振動があると良好な画質の画像が再現されず、また露光
の光源のエネルギー放射量を増大しなければならないた
めにそれに伴なう多大な発熱の放散を考慮する必要があ
り、さらに熱による組成物の皮膜の変形および変質も生
じ易い等の問題があった。
またこれらの光重合開始剤は≠oonm以下の紫外領域
の光源に対する光重合能力に比較し%弘oonm以上の
可視光線領域の光源に対するそれは顕著に低く、従って
それらを含む光重合性組成物の応用範囲を著しく限定し
て来た。
の光源に対する光重合能力に比較し%弘oonm以上の
可視光線領域の光源に対するそれは顕著に低く、従って
それらを含む光重合性組成物の応用範囲を著しく限定し
て来た。
可視光線に感応する光重合系に関しては従来いくつかの
提案がなされて来た。古くは米国特許第一2rzou弘
!号によればある種の光還元性染料、例えばローズベン
ガル、エオシン、エリスロシン等が効果的な可視光感応
性を有していると報告されている。その後改良技術とし
て染料とアミンの複合開始系(特公昭参μmコ0/rタ
ノ、へ午すアリールビイミダゾールとラジカル発生剤お
よび染料の系(特公昭参7−37377)、へ中サアリ
ールビイミダゾールとP−シアルアルアミノベンジリデ
ンケトンの系(特開昭4c7−−!コl。
提案がなされて来た。古くは米国特許第一2rzou弘
!号によればある種の光還元性染料、例えばローズベン
ガル、エオシン、エリスロシン等が効果的な可視光感応
性を有していると報告されている。その後改良技術とし
て染料とアミンの複合開始系(特公昭参μmコ0/rタ
ノ、へ午すアリールビイミダゾールとラジカル発生剤お
よび染料の系(特公昭参7−37377)、へ中サアリ
ールビイミダゾールとP−シアルアルアミノベンジリデ
ンケトンの系(特開昭4c7−−!コl。
特開昭144−111−タコン、置換トリアジンとメロ
ンアニン色素の系(特開昭71−/!t10コ4c)な
どの提案がなされて来た。これらの技術は確かに可視光
線に対して有効ではあるが、未だその感光速度は充分満
足すべきものではな(さらに改良技術が望まれていた。
ンアニン色素の系(特開昭71−/!t10コ4c)な
どの提案がなされて来た。これらの技術は確かに可視光
線に対して有効ではあるが、未だその感光速度は充分満
足すべきものではな(さらに改良技術が望まれていた。
「発明が解決しようとする問題点」
したがって、本発明の目的は、高感度の光重合性組成物
を提供することである。
を提供することである。
本発明の他の目的は広く一般にエチレン性不飽和結合を
有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物の光重合
速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合性組成物
を提供することである。
有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物の光重合
速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合性組成物
を提供することである。
また本発明の他の目的はuoonm以上の可視光線、特
にArレーザーの出力に対応する一rrnm付近の光に
対しても感度の高い光重合開始剤及び光重合開始剤系を
含んだ光重合性組成物を提供することにある。
にArレーザーの出力に対応する一rrnm付近の光に
対しても感度の高い光重合開始剤及び光重合開始剤系を
含んだ光重合性組成物を提供することにある。
「問題点を解決するための手段」
本発明者は、上記目的を達成すべく精意研究を重ねてい
たが、ある特定の光重合開始剤がエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大さ
せ、またuoonm以上の可視光線に対しても高感度を
示すととを見出し、本発明に到達したものである。
たが、ある特定の光重合開始剤がエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大さ
せ、またuoonm以上の可視光線に対しても高感度を
示すととを見出し、本発明に到達したものである。
本発明は、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物と、必要とするならば結合剤と、下記一般式(1) (式中R1、R2% R7、R8はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
子り−ル基、アリル基または置換アリル基、七表わし、
R3、Ra 、Rs%R6水素原子、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原
子、カルボアルコキシ基またはアルコキシ基を表わす。
合物と、必要とするならば結合剤と、下記一般式(1) (式中R1、R2% R7、R8はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
子り−ル基、アリル基または置換アリル基、七表わし、
R3、Ra 、Rs%R6水素原子、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原
子、カルボアルコキシ基またはアルコキシ基を表わす。
またはR□とR5、R2とR3、R5とR6、R3とR
4は共にそれが結合している炭素原子と共に環を形成し
ていても良い。Xは酸素原子t7’hは硫黄原子を表わ
す。1で表わされる光重合開始剤を含有する光重合性組
成物に関するものである。
4は共にそれが結合している炭素原子と共に環を形成し
ていても良い。Xは酸素原子t7’hは硫黄原子を表わ
す。1で表わされる光重合開始剤を含有する光重合性組
成物に関するものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の組成物におけるエチレン性不飽和結合を有する
重合可能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも1
個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であって、モ
ノマー、プレポIJ −r −、スなわちλ量体、3量
体および他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれら
の共重合体などの化学的形態をもつものである。それら
の例とし℃は不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪挨多
価アルコール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化
合物とのアミド等があげられる。
重合可能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも1
個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であって、モ
ノマー、プレポIJ −r −、スなわちλ量体、3量
体および他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれら
の共重合体などの化学的形態をもつものである。それら
の例とし℃は不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪挨多
価アルコール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化
合物とのアミド等があげられる。
不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタフン酸、クロトン酸、イノクロトン酸、
マレイン酸などがある。
クリル酸、イタフン酸、クロトン酸、イノクロトン酸、
マレイン酸などがある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。
塩およびカリウム塩などがある。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルメン酸とのエ
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート。
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート。
トリエチレングリコールトリアクリレート%/IJ−ブ
タンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールエタントリアクリV−)、/、4’−シクロヘ
キサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジアクリレート、−ンタエリスリトールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、インタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリア
クリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ゾルビトールテト
ラアクリレート、ゾルビトールベンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、ホリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして
は。
タンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールエタントリアクリV−)、/、4’−シクロヘ
キサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジアクリレート、−ンタエリスリトールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、インタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリア
クリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ゾルビトールテト
ラアクリレート、ゾルビトールベンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、ホリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして
は。
テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロ
ノ冑ントリメタクリV−ト% トリメチロールエタン
トリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、1.3−ブタンジオールジメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、インタエリスリト
ールトリメタクリート、ジペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ンルビトールトリメタクリレート、ソル−
ビトールテトラメタクリレート、ビス−(p−(J−メ
タクリルオ中シーλ−ヒドロキシプロポ中シ]フェニル
〕ジメチルメタン、ビス−Cp−(アクリルオ牛ジェト
キシ)フェニルフジメチルメタン等がある。イタコン酸
エステルとしては、エチレングリコールシイタコネート
、プロピレングリコールシイタコネート、/、!−ブタ
ンジオールシイタコネート、/、4C−ブタンジオール
シイタコネート、テトラメチレングリコールシイタコネ
ート、ペンタエリスリトールシイタコネート、ンルビト
ールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステル
としては、エチレングリコールジクロトネート、テトラ
メチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリト
ールジクロトネート、ゾルビトールテトラクロトネート
等がある、インクロトン酸エステルトシテは、エチレン
グリコールジインクロトネート、インタエリスリトール
ジイノクロトネート、ソルビトールテトラインクロトネ
ート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレン
グリコールジマレー)、トIJ工fVングリコールジマ
レート、ヘンタエリスリトールシマレート、ソルビトー
ルテトラマレート等がある。
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロ
ノ冑ントリメタクリV−ト% トリメチロールエタン
トリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、1.3−ブタンジオールジメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、インタエリスリト
ールトリメタクリート、ジペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ンルビトールトリメタクリレート、ソル−
ビトールテトラメタクリレート、ビス−(p−(J−メ
タクリルオ中シーλ−ヒドロキシプロポ中シ]フェニル
〕ジメチルメタン、ビス−Cp−(アクリルオ牛ジェト
キシ)フェニルフジメチルメタン等がある。イタコン酸
エステルとしては、エチレングリコールシイタコネート
、プロピレングリコールシイタコネート、/、!−ブタ
ンジオールシイタコネート、/、4C−ブタンジオール
シイタコネート、テトラメチレングリコールシイタコネ
ート、ペンタエリスリトールシイタコネート、ンルビト
ールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステル
としては、エチレングリコールジクロトネート、テトラ
メチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリト
ールジクロトネート、ゾルビトールテトラクロトネート
等がある、インクロトン酸エステルトシテは、エチレン
グリコールジインクロトネート、インタエリスリトール
ジイノクロトネート、ソルビトールテトラインクロトネ
ート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレン
グリコールジマレー)、トIJ工fVングリコールジマ
レート、ヘンタエリスリトールシマレート、ソルビトー
ルテトラマレート等がある。
さらに、前述のエステルの混合物もあげることができる
。
。
脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の興体例としては、メチノンビス−アクリルアミド、メ
チリンビス−メタクリルアミド、/、4−へキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、/、4−ヘキサメチレンビス
−メタクリルア建ド。
の興体例としては、メチノンビス−アクリルアミド、メ
チリンビス−メタクリルアミド、/、4−へキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、/、4−ヘキサメチレンビス
−メタクリルア建ド。
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド%中シリレ
ンビスアクリルアミド、中クリノンビスメタクリルアず
ド等がある。
ンビスアクリルアミド、中クリノンビスメタクリルアず
ド等がある。
その他の例としては、特公昭4At−l−1701号会
報中に記載されている7分子に1個以上のインシアネー
ト基を有するポリインクアネート化合物に、下記の一般
式(II)で示される水酸基を含有するビニルモノマー
を付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を
含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
報中に記載されている7分子に1個以上のインシアネー
ト基を有するポリインクアネート化合物に、下記の一般
式(II)で示される水酸基を含有するビニルモノマー
を付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を
含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
CH2=C(R)COOCH2CH(R’ )0)I
CU)(ただし、RおよびR′はHあるいは
CH3を示す。] 次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
CU)(ただし、RおよびR′はHあるいは
CH3を示す。] 次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
本発明で用いられる一般式(I)
で表わされる光重合開始剤においてR1h R2、R?
、R,は同一でも異なっていても良く、メチル。
、R,は同一でも異なっていても良く、メチル。
エチル、n−フロビル、i−プロピル、n−エチル、t
−メチル等の炭素数/−/1個のアル中ル基、フェニル
基、ナフチル基等の炭素数6〜10個の1リール基、炭
素数3〜10個のアリル基、を表わす。これらのアル午
ル基、アリール基、アリル基は置換基を有していても良
く、置換基としては、メチル基、エチル基等の炭素数/
−4個のアル中ル基、メト中り基、エト午シ基等の炭素
数/−j個のアルコキシ基、塩素、美素等のハロゲン原
子、シアノ基、アばノ基、ジメチルアミノ基等の炭素数
7−φ個のアル中ル基で置換されたアミノ基、カルメメ
トキシ基等の炭素数/ #4L個のアル中ル基を有する
カルボアルコキシ基、フェニル71i、p−メト中ジフ
ェニルf、p−/ロロフェニル基等の炭素数1〜10個
の置換もしくは非置換のアリール基、カルボン酸基、ス
ルホン酸基、またはそれらの塩等を挙げることができる
。
−メチル等の炭素数/−/1個のアル中ル基、フェニル
基、ナフチル基等の炭素数6〜10個の1リール基、炭
素数3〜10個のアリル基、を表わす。これらのアル午
ル基、アリール基、アリル基は置換基を有していても良
く、置換基としては、メチル基、エチル基等の炭素数/
−4個のアル中ル基、メト中り基、エト午シ基等の炭素
数/−j個のアルコキシ基、塩素、美素等のハロゲン原
子、シアノ基、アばノ基、ジメチルアミノ基等の炭素数
7−φ個のアル中ル基で置換されたアミノ基、カルメメ
トキシ基等の炭素数/ #4L個のアル中ル基を有する
カルボアルコキシ基、フェニル71i、p−メト中ジフ
ェニルf、p−/ロロフェニル基等の炭素数1〜10個
の置換もしくは非置換のアリール基、カルボン酸基、ス
ルホン酸基、またはそれらの塩等を挙げることができる
。
Ra 、 R4、Rs % Reは水素原子、塩素、臭
素等のハロゲン原子、カルボメト中シ、カル〆エトキシ
等の炭素数2〜を個のカルボアルコキシ基、メトキシ、
エトキシ等の炭素数7〜7個のアルコキシ基の他、R,
%R2、R7、R8で挙げたものと同様のアル中ル基、
置換アル中ル基、アリール基、置換アリール基を表わす
。
素等のハロゲン原子、カルボメト中シ、カル〆エトキシ
等の炭素数2〜を個のカルボアルコキシ基、メトキシ、
エトキシ等の炭素数7〜7個のアルコキシ基の他、R,
%R2、R7、R8で挙げたものと同様のアル中ル基、
置換アル中ル基、アリール基、置換アリール基を表わす
。
またはR,とR,、R2とR3、R5とR6、R3とR
4は共にそれと結合し【いる原子と共に環を形成してい
ても良い。環としてはシクロヘキセン環などの脂肪族炭
化水素環、モルホリノ環、ジエロリジノ環なとのへテロ
環、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、中ノリ
ン環なとのへテロ芳香族環等を挙げることができる。ま
たこれらの環は置換基を臀していても良く、置換基とし
てはR1% R2% Ry s Rsの置換基として挙
げたものを同様に用いることができる。
4は共にそれと結合し【いる原子と共に環を形成してい
ても良い。環としてはシクロヘキセン環などの脂肪族炭
化水素環、モルホリノ環、ジエロリジノ環なとのへテロ
環、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、中ノリ
ン環なとのへテロ芳香族環等を挙げることができる。ま
たこれらの環は置換基を臀していても良く、置換基とし
てはR1% R2% Ry s Rsの置換基として挙
げたものを同様に用いることができる。
本発明で用いられる前記一般式(I)で表わされる光重
合開始剤は一般式(III)及び一般式(IV)で表わ
される化合物から容易に合成することができる。
合開始剤は一般式(III)及び一般式(IV)で表わ
される化合物から容易に合成することができる。
R,R。
本発明で用いられる一般式(I)で表わされる光重合開
始剤の風体例を下記に示す。
始剤の風体例を下記に示す。
本発明の一般式(I)で表わされる化合物はそのもの単
独でも高い光重合開始能を示すが、ある種の活性剤と組
み合せて、1種以上の光重合開始剤の組合せとして用い
ることにより、更に高い光重合開始能を発現することが
可能となる。
独でも高い光重合開始能を示すが、ある種の活性剤と組
み合せて、1種以上の光重合開始剤の組合せとして用い
ることにより、更に高い光重合開始能を発現することが
可能となる。
本発明の化合物と組み合せて、高い光重合開始能を示す
活性剤として以下の様なものがある。
活性剤として以下の様なものがある。
(1) カルゼニル化合物
ベンジル、ベンゾイン、ベンジルケタール類。
ベンゾインエーテル類等。ベンジルケタールの例として
はジメトキシーコーフェニルアセト7Zノンを挙げるこ
とができその他の例は特開昭uy−ダコtjJ号、特開
昭μターPF/弘7号及び特公昭20−22230号公
報に記載されている。
はジメトキシーコーフェニルアセト7Zノンを挙げるこ
とができその他の例は特開昭uy−ダコtjJ号、特開
昭μターPF/弘7号及び特公昭20−22230号公
報に記載されている。
ベンゾインエーテルとしては0−メチルベンゾイン、0
−エチルベンゾイン等がありその他の例はジャーナル
オプ アメリカン ケミカル ソサイアテイー(Jou
rnal of AmerIcanChemical
5ociety3F7巻、1s−it頁(lり7!
年2に記載がある。
−エチルベンゾイン等がありその他の例はジャーナル
オプ アメリカン ケミカル ソサイアテイー(Jou
rnal of AmerIcanChemical
5ociety3F7巻、1s−it頁(lり7!
年2に記載がある。
その他カルボニル化合物としてはジェノキシアセトフェ
ノン等のアセトフェノン誘導体、ベンゾイル−/−シフ
はヘキサノール等のヨーロツ/彎特許第0/コ!206
AI号会報記載の化合物、米国特許第≠37t7り7号
明細書記載のコーモルホリノー2−メチルーp−メチル
チオプロピオフェノン等の芳香族脂肪疾ケトンおよびコ
ーヒドロ中シーコーメチルーp−クロロプロピオフェノ
ン等のヒドロ争ジアセトフェノン誘導体などカする。
ノン等のアセトフェノン誘導体、ベンゾイル−/−シフ
はヘキサノール等のヨーロツ/彎特許第0/コ!206
AI号会報記載の化合物、米国特許第≠37t7り7号
明細書記載のコーモルホリノー2−メチルーp−メチル
チオプロピオフェノン等の芳香族脂肪疾ケトンおよびコ
ーヒドロ中シーコーメチルーp−クロロプロピオフェノ
ン等のヒドロ争ジアセトフェノン誘導体などカする。
(2) スルホニルオキシム化合物
例として特開昭17−777447号公報、西独特許C
0LS)JailJrtAI号公11および米国特許第
蓼コ!rlJ1号明細書記載のスルホニルオキシム化合
物が挙げられる。
0LS)JailJrtAI号公11および米国特許第
蓼コ!rlJ1号明細書記載のスルホニルオキシム化合
物が挙げられる。
K体NとL”CJ−フェニル−3−フェニルスルホニル
オ争シーμ(j)l)*ナゾリノン、コースチリル−3
−フェニルスルホニルオ中シー≠(3H)キナゾリン、
ヘーヒドロキシー/、I−ナフタルイミドインゼンスル
ホン酸エステル等がある。
オ争シーμ(j)l)*ナゾリノン、コースチリル−3
−フェニルスルホニルオ中シー≠(3H)キナゾリン、
ヘーヒドロキシー/、I−ナフタルイミドインゼンスル
ホン酸エステル等がある。
(3) アシルオ中シム化合物
例トしてl−フェニル−/、2−プロパンシオンーコー
(0−エトキシカルボオ午シム]等プログリスイ/ オ
ルガニック コーチインクズ(Progress i
n Organic CoatingsJ3巻、17
5頁(lり73年)記載の化合物がある。
(0−エトキシカルボオ午シム]等プログリスイ/ オ
ルガニック コーチインクズ(Progress i
n Organic CoatingsJ3巻、17
5頁(lり73年)記載の化合物がある。
(4)ヘキサアリールビイミダゾール化合物好ましいヘ
キサアリールビイミダゾールの具体例トシテx 、 !
’−ヒス(0−クロロフェニル]−μ、ψI、!、!’
−テトラフェニルビイミダゾール、コ、−′−ヒス(o
、p−’)?ロロフェニルンーμ、μ’、!、!’−テ
トラフェニルビイミダゾール等があり、その他の例は特
公昭係!−37377号公報に記載されている。
キサアリールビイミダゾールの具体例トシテx 、 !
’−ヒス(0−クロロフェニル]−μ、ψI、!、!’
−テトラフェニルビイミダゾール、コ、−′−ヒス(o
、p−’)?ロロフェニルンーμ、μ’、!、!’−テ
トラフェニルビイミダゾール等があり、その他の例は特
公昭係!−37377号公報に記載されている。
(5)ハロゲン化合物
英国特許1.23ダ、44CJr号、英国特許2032
0738号、米国特許3tコアj26号、米国特許3.
りoj、xi3号、特開昭j!−2Viii号、特開昭
1t−/jに03号公報中に記載のハロゲン化合物、こ
の代表例としてはコ、6−ジ(トリクロロメチル) −
4’ −(p−メト争ジフェニル)−/、J、j−)リ
アジン、−一トリクロロメチル−!−(p−メトキシス
チリル]−7,3,μmオキサジアゾール、アントラキ
ノン−/−スルホニルクロリドおよびコ、2.コートリ
クロロアセトフエノン等を挙げることができる。
0738号、米国特許3tコアj26号、米国特許3.
りoj、xi3号、特開昭j!−2Viii号、特開昭
1t−/jに03号公報中に記載のハロゲン化合物、こ
の代表例としてはコ、6−ジ(トリクロロメチル) −
4’ −(p−メト争ジフェニル)−/、J、j−)リ
アジン、−一トリクロロメチル−!−(p−メトキシス
チリル]−7,3,μmオキサジアゾール、アントラキ
ノン−/−スルホニルクロリドおよびコ、2.コートリ
クロロアセトフエノン等を挙げることができる。
(6)アミノ化合物
エム・アール・サングー等著「ジャーナル オブ ポリ
・マー ノサイアテイーJ (M、R。
・マー ノサイアテイーJ (M、R。
5ander ら著[Journal of Po
lymerSocietyJ )第10看 年)、特開昭ziーtJtoコ号、特開昭!コーt3u
6y2号公報中に記載のアはノ化合物。
lymerSocietyJ )第10看 年)、特開昭ziーtJtoコ号、特開昭!コーt3u
6y2号公報中に記載のアはノ化合物。
この代表例とし【はトリメチルアミン、トリエタノール
アミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
p−シアノジメチルアニリン及びp−ホルミルジメチル
アニリン等を挙げることができる。
アミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
p−シアノジメチルアニリン及びp−ホルミルジメチル
アニリン等を挙げることができる。
その他のアミノ化合物としてp−アミノ置換ベンゾフェ
ノン誘導体及びp−アミノ置換カルコン鍔導体があり,
その代表例としてはミヒラーズケトン、p−ジメチルア
ミノベンジリデンアセトフェノン、参,参/ージメチル
アミノカルコン等を挙げることができる。
ノン誘導体及びp−アミノ置換カルコン鍔導体があり,
その代表例としてはミヒラーズケトン、p−ジメチルア
ミノベンジリデンアセトフェノン、参,参/ージメチル
アミノカルコン等を挙げることができる。
(7) アミノ酸
特に好ましいアミノ酸の風体例としてはN−フェニルグ
リシンが挙げられる。
リシンが挙げられる。
(8)イオウ化合物
米国特許コ4cぶ0101号、米国特許コ,77J,r
ココ号明細書に記載のイオウ化合物が挙げられる。この
代表例としてジベンゾチアゾイルジスルフィド、ジエチ
ル中すントゲンジスルフイド、コーメルカブトベンズチ
アゾール、コーメルカブトベンズイミダゾール%j−メ
チルチオーコーメルカブトチアジアゾール等を挙げるこ
とができる。
ココ号明細書に記載のイオウ化合物が挙げられる。この
代表例としてジベンゾチアゾイルジスルフィド、ジエチ
ル中すントゲンジスルフイド、コーメルカブトベンズチ
アゾール、コーメルカブトベンズイミダゾール%j−メ
チルチオーコーメルカブトチアジアゾール等を挙げるこ
とができる。
(9)過酸化物
代表的な過酸化物としてジベ/ゾイルノ屹ーオ中サイド
、31”’#”#”′ーテトラ(t−プチルパーオキシ
カルボニルノペンゾフエノン等がある。
、31”’#”#”′ーテトラ(t−プチルパーオキシ
カルボニルノペンゾフエノン等がある。
これらの活性剤のうち特に有効なものはカルメシル化合
物、スルホニルオ中シム化合物、アシルオキシム化合物
、・・ロゲン化合物、へ中サアリールビイミダゾール化
合物である。
物、スルホニルオ中シム化合物、アシルオキシム化合物
、・・ロゲン化合物、へ中サアリールビイミダゾール化
合物である。
本発明の重合性組成物には必g!!により結合剤を用い
るが,結合剤としては、重合可能な(II,合エチレン
性不飽和結合化合物および光重合開始剤に対する相溶性
が組成物の塗布液の調製,塗布および乾燥に至る感光材
料の製造工程の全てにおいて脱混合を起さない程度に良
好であること、感光層あるいはレジスト層として例えば
溶液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現像処理が可
能であること、感光層あるいはレジスト層として強靭な
皮膜を形成し得ることなどの特性を有することが要求さ
れ、通常線状有機高分子重合体より適宜、選択される。
るが,結合剤としては、重合可能な(II,合エチレン
性不飽和結合化合物および光重合開始剤に対する相溶性
が組成物の塗布液の調製,塗布および乾燥に至る感光材
料の製造工程の全てにおいて脱混合を起さない程度に良
好であること、感光層あるいはレジスト層として例えば
溶液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現像処理が可
能であること、感光層あるいはレジスト層として強靭な
皮膜を形成し得ることなどの特性を有することが要求さ
れ、通常線状有機高分子重合体より適宜、選択される。
結合剤の風体的な例としては、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル
(アルキル基としては、メチル基,エチル基、n−ブチ
ル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エチル
ヘキシル基など)、アクリル酸アル中ルエステル(アル
キル基は同上)とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少
な(とも一種との共重合体,ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ルとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデンとアクリロニトリルとの共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロ
ニトリル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体、
アクリロニトリルとブタジェンおよびスチレンとの共重
合体、ポリメタアクリル酸アルキルエステル(アル中ル
基としては、メチル基、エチル基、n−ブ四ピル基、n
−ブチル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル基、シク
ロヘキシル基、2−エチルヘキシル基など]、メタアク
リル酸アル中ルエステル(アル中ル基は同上)とアクリ
ロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、
ブタジェンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合
体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ボリア
〉ド(t−ナイa7,4.6−ナイロンなど]、メチル
セルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、
ポリビニルフォルマール、aリビニルブチラールなどが
挙げられる。さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機
高分子重合体を用いると水あるいはアルカリ水現像が可
能となる。このような高分子重合体としては側鎖にカル
ボン酸を臂する付加重合体、たとえばメタクリル酸共重
合体(たとえば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸と
の共重合体、メタクリル酸エチルとメタクリル酸との共
重合体、メタクリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合
体、メタクリル酸ベンジルとメタクリル酸との共重合体
、アクリル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸とスチレンおよびメタクリル酸との共重合体な
ど)、アクリル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリ
ル酸との共重合体、アクリル酸ブチルとアクリル酸との
共重合体、アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル
酸との共重合体などン、さらにはイタコン酸共重合体、
クロトン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合
体などがあり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸
性セルロース誘導体がある。
素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル
(アルキル基としては、メチル基,エチル基、n−ブチ
ル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エチル
ヘキシル基など)、アクリル酸アル中ルエステル(アル
キル基は同上)とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少
な(とも一種との共重合体,ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ルとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデンとアクリロニトリルとの共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロ
ニトリル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体、
アクリロニトリルとブタジェンおよびスチレンとの共重
合体、ポリメタアクリル酸アルキルエステル(アル中ル
基としては、メチル基、エチル基、n−ブ四ピル基、n
−ブチル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル基、シク
ロヘキシル基、2−エチルヘキシル基など]、メタアク
リル酸アル中ルエステル(アル中ル基は同上)とアクリ
ロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、
ブタジェンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合
体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ボリア
〉ド(t−ナイa7,4.6−ナイロンなど]、メチル
セルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、
ポリビニルフォルマール、aリビニルブチラールなどが
挙げられる。さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機
高分子重合体を用いると水あるいはアルカリ水現像が可
能となる。このような高分子重合体としては側鎖にカル
ボン酸を臂する付加重合体、たとえばメタクリル酸共重
合体(たとえば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸と
の共重合体、メタクリル酸エチルとメタクリル酸との共
重合体、メタクリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合
体、メタクリル酸ベンジルとメタクリル酸との共重合体
、アクリル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸とスチレンおよびメタクリル酸との共重合体な
ど)、アクリル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリ
ル酸との共重合体、アクリル酸ブチルとアクリル酸との
共重合体、アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル
酸との共重合体などン、さらにはイタコン酸共重合体、
クロトン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合
体などがあり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸
性セルロース誘導体がある。
これらの高分子重合体は、単独で結合剤として用いても
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液の調製から
塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程度に
良い高分子重合体を適合な比で混合して結合剤として用
いることができる。
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液の調製から
塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程度に
良い高分子重合体を適合な比で混合して結合剤として用
いることができる。
結合剤として用いられる高分子重合体の分子量は、重合
体の種!ljIにより広範な値をと9うるが、一般には
!千〜−200万、より好ましくは1万〜100万の範
囲のものが好適である。
体の種!ljIにより広範な値をと9うるが、一般には
!千〜−200万、より好ましくは1万〜100万の範
囲のものが好適である。
さらに1本発明の組成物の製造中あるいは保存中におい
てエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤とし【はヒドロキノ
ン、p−メト争ジフェノール、ジーt−iチルーp−ク
レゾール、ヒロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノ7、 塩化第−鋼、フェノチアジン、クロラニル
、ナフチルアきン、β−ナフトール、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼンなどがある。
てエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤とし【はヒドロキノ
ン、p−メト争ジフェノール、ジーt−iチルーp−ク
レゾール、ヒロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノ7、 塩化第−鋼、フェノチアジン、クロラニル
、ナフチルアきン、β−ナフトール、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼンなどがある。
また場合によっては着色を目的として染料もしくは顔料
、例えばメチレンブルー、クリスpルバイオレット、ロ
ーダミンB1フクシン、オークずン、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、酸化チタン、カーメンブラック、酸
化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えて
もよい。
、例えばメチレンブルー、クリスpルバイオレット、ロ
ーダミンB1フクシン、オークずン、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、酸化チタン、カーメンブラック、酸
化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えて
もよい。
さらに、本発明の光重合性組成物には必要に応じて可塑
性を添加することができる。可塑性の例としては、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、シトリゾクルフタレートなどの7タル酸エステル類
、ジメチルクリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリプレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート
、1フエニルホスフエートなどのリン酸エステル類、ジ
インブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジブチ
ルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基酸
エステル類などがある。
性を添加することができる。可塑性の例としては、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、シトリゾクルフタレートなどの7タル酸エステル類
、ジメチルクリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリプレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート
、1フエニルホスフエートなどのリン酸エステル類、ジ
インブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジブチ
ルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基酸
エステル類などがある。
本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
Kl解せしめ、適当な支持体状に会知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物100重量部に対する重量部で表わす。
Kl解せしめ、適当な支持体状に会知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物100重量部に対する重量部で表わす。
構成成分 好ましい添加範囲 (特に好ましい添加
間1!l)光重合開始剤 0.01−10重量部 (0
,7〜10重量部)結 合 剤 0−1000’(
0〜!00 # ン活 性 剤 o−too
(o〜コQ I)熱重合防止剤 0−/II(0
〜! I )染料もしくは顔料 0−10(0〜2
0 # ]可 塑 剤 Q−200(0−JO
#)本発明の光重合性組成物を塗布するときに用いられ
る溶媒としては、エチレンジクロリド、シクロへ中学ノ
ン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ、酢酸メチルセロソルブ%七ノクロルベンゼン
、−トルエン、キシレン。
間1!l)光重合開始剤 0.01−10重量部 (0
,7〜10重量部)結 合 剤 0−1000’(
0〜!00 # ン活 性 剤 o−too
(o〜コQ I)熱重合防止剤 0−/II(0
〜! I )染料もしくは顔料 0−10(0〜2
0 # ]可 塑 剤 Q−200(0−JO
#)本発明の光重合性組成物を塗布するときに用いられ
る溶媒としては、エチレンジクロリド、シクロへ中学ノ
ン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ、酢酸メチルセロソルブ%七ノクロルベンゼン
、−トルエン、キシレン。
酢酸エチル、酢酸ブチルなとである。これらの溶媒は単
独または混合して使用される。
独または混合して使用される。
感光性平版印刷版を製造する場合の塗布量は、一般に固
形分として0.1−10.0Iil隅 が適当であり、
特に好ましくは0.2〜z、op、^2である。
形分として0.1−10.0Iil隅 が適当であり、
特に好ましくは0.2〜z、op、^2である。
本発明の光重合性組成物は感光性平版印刷版の感光層と
して好適である。感光性平版印刷版に適した支持体とし
ては、親水化処理したアルミニウム板、たとえばシリケ
ート処理アルミニウム板、陽極改化アルミニウム板、シ
リフート電着したアルばニウム板があり、その他亜鉛板
、ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプ
ラスチックフィルムや紙を挙げることができる。
して好適である。感光性平版印刷版に適した支持体とし
ては、親水化処理したアルミニウム板、たとえばシリケ
ート処理アルミニウム板、陽極改化アルミニウム板、シ
リフート電着したアルばニウム板があり、その他亜鉛板
、ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプ
ラスチックフィルムや紙を挙げることができる。
また本発明の組成物を7オトレジストとして使用する場
合には鋼板または鋼メッキ板、ステンレス板、ガラス板
等の種々のものを支持体として用いることができる。
合には鋼板または鋼メッキ板、ステンレス板、ガラス板
等の種々のものを支持体として用いることができる。
「実施例」
以下、本発明に使用される光重合開始剤の合成例と本発
明の実施例を記すが1本発明はこれに限定されるもので
はない。
明の実施例を記すが1本発明はこれに限定されるもので
はない。
合成例
化合物/16/fの製造方法
p−ジメチルアξノベンズアルデヒ)’371及tF
N −n −7’チル−N′−フェニルチオバルビッル
酸tデyをメタノール14中一時間加熱還流した。
N −n −7’チル−N′−フェニルチオバルビッル
酸tデyをメタノール14中一時間加熱還流した。
反応溶液を放冷後生じた結晶なろ取し、乾燥した。メタ
ノールとベンゼンの混合溶媒を用いて再結晶を行いJコ
lの結晶を得た。
ノールとベンゼンの混合溶媒を用いて再結晶を行いJコ
lの結晶を得た。
融点 コ!P、J−コルo、z”c
元素分析 c23 H25N3023 として計算値
C:47.72慢 )11./rl N:/7.J/
慢測定値 c:tr、oコ% H:t、o4q4 P4:to
、5tqk電子ス(クトル(テトラヒドロフラン(T)
IFJ中) 2rrlH14’r7nm log g嵩参、tj 実施例1〜3、比較例1〜9 ナイロンブラシで砂目型て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回@塗布機を用いて回転速度コ00r、pm
m−にて第1表に示す光重合開始剤を用いた下記感光液
を塗布し100ehCJ分間乾燥し、乾燥膜厚約−2ム
の感光層を形成させ感光板を作成した。
慢測定値 c:tr、oコ% H:t、o4q4 P4:to
、5tqk電子ス(クトル(テトラヒドロフラン(T)
IFJ中) 2rrlH14’r7nm log g嵩参、tj 実施例1〜3、比較例1〜9 ナイロンブラシで砂目型て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回@塗布機を用いて回転速度コ00r、pm
m−にて第1表に示す光重合開始剤を用いた下記感光液
を塗布し100ehCJ分間乾燥し、乾燥膜厚約−2ム
の感光層を形成させ感光板を作成した。
ベンジルメタクリレート−メタ
アクリル酸(モル比73/2
7)共重合体 s、op(ンタエリ
スリトールテトラア クリレート 3.ルI光重合
開始剤 モノマーに対してjモル係メチルエチルケ
トン 209メチルセルソルブアセテ
ート 20/i露先は真空焼枠装置を用いて1
作製した感光板上にステップ・ウェッジ(濃度段差0.
/J、濃度段数/!tljjl)を置き、JKWの超高
圧水銀灯を30秒間照射し、露光後下記処方の現像液を
用いて現像した。
スリトールテトラア クリレート 3.ルI光重合
開始剤 モノマーに対してjモル係メチルエチルケ
トン 209メチルセルソルブアセテ
ート 20/i露先は真空焼枠装置を用いて1
作製した感光板上にステップ・ウェッジ(濃度段差0.
/J、濃度段数/!tljjl)を置き、JKWの超高
圧水銀灯を30秒間照射し、露光後下記処方の現像液を
用いて現像した。
(現像液)
リン酸三ナトリウム コjIリン酸−
ナトリウA 71/ブチルセル
ンルブ 70Il界面活性剤
コd水
/11現出した画像の対応す
るステップ・ウェッジの最高段数を試料の感度として第
1表に示した。段数が高いほど感度も高いことを意味す
る。
ナトリウA 71/ブチルセル
ンルブ 70Il界面活性剤
コd水
/11現出した画像の対応す
るステップ・ウェッジの最高段数を試料の感度として第
1表に示した。段数が高いほど感度も高いことを意味す
る。
また比較のために光重合開始剤として本発明の化合物に
替えて比較例に示す化合物を各々モノマーに対し!モル
esff&加した時の感度を第2表に示した。
替えて比較例に示す化合物を各々モノマーに対し!モル
esff&加した時の感度を第2表に示した。
第7表
第1表および@2表に示したように、本発明の光重合開
始剤を用いた場合、比較例1〜りに比較してより高い感
度を示し、本発明の所期の効果が十分に認められた。
始剤を用いた場合、比較例1〜りに比較してより高い感
度を示し、本発明の所期の効果が十分に認められた。
実施例4〜6 比較例10
実施例1〜3の方法において本発明の光重合開始剤とし
て化合物例17の化合物なモノマーに対して!そル慢、
また活性剤として下記第3表に示した化合物を!モル慢
添加し、露光時間なis秒にした以外実施例1〜3と同
様の方法で塗布液を調液し、同じ方法を用いて感光板を
作成し、露光現1象を行なった。現出した画像の対応す
るステップウェッジの最高段数を試料の感度として第3
表に示した。また比較として活性剤を加えないときの感
度を比較例10に示した。
て化合物例17の化合物なモノマーに対して!そル慢、
また活性剤として下記第3表に示した化合物を!モル慢
添加し、露光時間なis秒にした以外実施例1〜3と同
様の方法で塗布液を調液し、同じ方法を用いて感光板を
作成し、露光現1象を行なった。現出した画像の対応す
るステップウェッジの最高段数を試料の感度として第3
表に示した。また比較として活性剤を加えないときの感
度を比較例10に示した。
実施例7〜9
実施例1〜3の方法において、本発明の光重合開始剤と
して化合物例3.14,15の化合物をモノマーに対し
て!モル慢また活性剤としてコースチリル−J−フェニ
ルスルホニルオ中シー≠(jH)*ナゾリノンをモノマ
ーに対してjモルチ加えた以外は実施例1〜3と同様の
方法で感光板を作成した。
して化合物例3.14,15の化合物をモノマーに対し
て!モル慢また活性剤としてコースチリル−J−フェニ
ルスルホニルオ中シー≠(jH)*ナゾリノンをモノマ
ーに対してjモルチ加えた以外は実施例1〜3と同様の
方法で感光板を作成した。
作成した感光板上にステップクエツジを置き更にその上
に富士フィルターSC4AO(4AOOnm以上の光を
透過するフィルター、富士写真フィルム■製〕富±フィ
ルターBPBj17(7001m付近の光を透過するフ
ィルター、半値幅$jnm、富士写真フィルム■Il)
を重ね、実施例1〜3と同様の装置で20秒間照射し実
施例1〜3と同様の方法に現僚した。
に富士フィルターSC4AO(4AOOnm以上の光を
透過するフィルター、富士写真フィルム■製〕富±フィ
ルターBPBj17(7001m付近の光を透過するフ
ィルター、半値幅$jnm、富士写真フィルム■Il)
を重ね、実施例1〜3と同様の装置で20秒間照射し実
施例1〜3と同様の方法に現僚した。
得られた画筆の最高ステップウェッジ段数を第参表に示
す。
す。
第参表
第4c表、第j表の結果から明らかなごとく本発明の光
重合開始剤はuoonm以上の可視光線及びj OO1
1m付近の光に対しても高感度であることが明らかであ
ることが示された。
重合開始剤はuoonm以上の可視光線及びj OO1
1m付近の光に対しても高感度であることが明らかであ
ることが示された。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社1、事件の表示
昭和60年特願第4c弘022号2、発明の名
称 光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番カ号富士写真フィルム
株式会社東京本社 電話(406) 2537 表 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。
昭和60年特願第4c弘022号2、発明の名
称 光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番カ号富士写真フィルム
株式会社東京本社 電話(406) 2537 表 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。
第32頁の第3表の実施例tの化合物
「
」を
「
」
と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する付加
重合可能な化合物および光重合開始剤を含む光重合性組
成物において、該光重合開始剤として少なくとも下記一
般式( I )で表わされる化合物を1種含有することを
特徴とする光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中R_1、R_2、R_7、R_8はそれぞれ独立に
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、アリル基または置換アリル基、を表わ
し、R_3、R_4、R_5、R_6はそれぞれ独立に
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ハロゲン原子、カルボアルコキシ基ま
たはアルコキシ基を表わす。 またはR_1とR_5、R_2とR_3、R_5と6、
R_3とR_4は共にそれが結合している原子と共に環
を形成していても良い。Xは酸素原子または硫黄原子を
表わす。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4402985A JPS61203444A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 光重合性組成物 |
| US06/836,942 US4636459A (en) | 1985-03-06 | 1986-03-06 | Photopolymerizable compositions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4402985A JPS61203444A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61203444A true JPS61203444A (ja) | 1986-09-09 |
| JPH0547096B2 JPH0547096B2 (ja) | 1993-07-15 |
Family
ID=12680212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4402985A Granted JPS61203444A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61203444A (ja) |
-
1985
- 1985-03-06 JP JP4402985A patent/JPS61203444A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0547096B2 (ja) | 1993-07-15 |
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Legal Events
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