JPH0255446B2 - - Google Patents
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- JPH0255446B2 JPH0255446B2 JP55095865A JP9586580A JPH0255446B2 JP H0255446 B2 JPH0255446 B2 JP H0255446B2 JP 55095865 A JP55095865 A JP 55095865A JP 9586580 A JP9586580 A JP 9586580A JP H0255446 B2 JPH0255446 B2 JP H0255446B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- acid
- examples
- group
- photopolymerizable composition
- Prior art date
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
本発明は光重合性組成物に関するものである。
特に可視領域の光源に対し高感度を示す光重合性
組成物に関するものである。 従来、光重合系利用の画像形成法は多数知られ
ており、例えば付加重合可能なエチレン性二重結
合を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望によ
り用いられる有機高分子結合剤、熱重合禁止剤、
着色剤、可塑剤等からなる光重合性組成物を調製
し、この光重合性組成物を無溶媒または溶液とな
し支持体上に塗布して光重合性組成物の層を設け
た感光材料を作成し所望画像を像露光して露光部
分を重合硬化させ未露光部分を溶解除去すること
により硬化レリーフ画像を形成する方法や上述感
光材料が少なくとも一方が透明である2枚の支持
体間に光重合性組成物層を設けたものであり透明
支持体側より像露光し光による接着強度の変化を
惹起させた後支持体を剥離することにより画像を
形成する方法その他光重合性組成物層の光による
トナー附着性の変化を利用した画像作成方法等が
ある。か様な方法に応用される光重合性組成物の
光重合開始剤としては従来、ベンゾイン、ベンゾ
インアルキルエーテル、ベンゾフエノン、アント
ラキノン、ベンジル、あるいはミヒラーケトンな
どが用いられてきた。しかしながら、これらの光
重合開始剤は400nm以下の紫外線領域の光源に
対する光重合開始能力に比較し、400nm以上の
可視光線領域の光源に対するそれは顕著に低く、
従つてそれらを含む光重合性組成物の応用範囲を
著しく限定してきた。 可視光線に感応する光重合系に関しては従来い
くつかの提案がなされてきた。古くは米国特許第
2850445号によればある種の光還元性染料、例え
ばローズベンガル、エオシン、エリスロシン、リ
ボフラビン等が効果的な可視光感応性を有してい
ると報告している。その后改良技術として染料と
脂肪族アミンの複合開始系(特公昭44−20189)、
ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤
および染料の系(特公昭45−37377)、ヘキサアリ
ールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベン
ジリデン)ケトンの系(特開昭47−2528、特開昭
54−155292)、環状シス−α−ジカルボニル化合
物と染料の系(特開昭48−84183)、置換トリアジ
ンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024)
などの提案がなされてきた。これら技術は確かに
可視光線に対し有効ではあるが、未だその感光速
度は充分満足すべきものではなくさらに改良技術
が望まれていた。 本発明者は、上記従来技術の問題点を改良すべ
く鋭意検討した結果、特定の組合せから成る光重
合開始系を使用することによつて所期の目的が達
成されることを見い出し、本発明を完成するに到
つた。 すなわち、本発明の要旨は、エチレン性不飽和
二重結合を少なくとも1個有する付加重合可能な
化合物および光重合開始系から成る光重合性組成
物において、該光重合開始系が、(a)一般式、 〔式中、R1はアルキル基を示し、Yは−O−、−
S−、−Se−、−CH=CH−および−NR2−より
選ばれた2価原子または原子団であつて3価窒素
原子と共に複素芳香環Bを形成しており、R2は
水素原子またはアルキル基を示し、環Aは置換基
を有していてもよいベンゼン環またはナフタリン
環であつて環Bと縮合している。〕で表わされる
p−ジアルキルアミノスチレン誘導体、および、
(b)ヘキサアリールビイミダゾールから成ることを
特徴とする光重合性組成物に存する。 以下本発明について詳細に説明する。 本発明の光重合性組成物において第一の必須成
分として含まれるエチレン性不飽和二重結合を少
くとも1個有する付加重合可能な化合物は、光重
合性組成物が活性光線の照射を受けた場合、第二
の必須成分である光重合開始系の光分解生成物の
作用により付加重合することにより硬化し実質的
に不溶化をもたらすようなエチレン性不飽和二重
結合を有する単量体、または、側鎖もしくは主鎖
にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体であ
る。なお、本発明における単量体の意味するとこ
ろは、所謂高分子物質に相対する概念であつて、
従つて、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オ
リゴマーをも包含するものである。 エチレン性不飽和結合を有する単量体としては
例えば不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂
肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和
カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエ
ステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び
前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリ
ヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物との
エステル化反応により得られるエステル等が挙げ
られる。 不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マ
レイン酸などがある。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物としては例えばエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、プロピレングリコ
ール、1,2−ブタンジオール等の二価アルコー
ル類、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、グリセロール等の三価アルコール、ペン
タエリスリトール、トリペンタエリスリトール等
の四価以上のアルコール類、ジヒドロキシマレイ
ン酸等の多価ヒドロキシカルボン酸類がある。 芳香族ポリヒドロキシ化合物としてはハイドロ
キノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール
等がある。 多価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、ト
リメリツト酸、ピロメリツト酸、ベンゾフエノン
ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン
酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、テ
トラヒドロフタル酸等がある。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルの具体例としては、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラメチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリト
ールオクタアクリレート、グリセロールジアクリ
レート等のアクリル酸エステル、トリエチレング
リコールジメタクリレート、テトラメチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリ
レート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、
1,2−ブタンジオールジメタクリレート、ソル
ビトールテトラメタクリレート等のメタクリル酸
エステル、エチレングリコールジイタコネート、
プロピレングリコールジイタコネート、1,2−
ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレン
グリコールジイタコネート、ペンタエリスリトー
ルトリイタコネート等のイタコン酸エステル、エ
チレングリコールジクロトネート、ジエチレング
リコールジクロトネート、ペンタエリスリトール
テトラクロトネート等のクロトン酸エステル、エ
チレングリコールジマレエート、トリエチレング
リコールジマレエート、ペンタエリスリトールジ
マレエート等のマレイン酸エステルがある。 芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアク
リレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レ
ゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリ
レート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げ
られる。 不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒ
ドロキシ化合物とのエステル化反応により得られ
るエステルとしては必ずしも単一物では無いが代
表的な具体例を表1に記す。表中のZはアクリロ
イル基またはメタクリロイル基を示す。
特に可視領域の光源に対し高感度を示す光重合性
組成物に関するものである。 従来、光重合系利用の画像形成法は多数知られ
ており、例えば付加重合可能なエチレン性二重結
合を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望によ
り用いられる有機高分子結合剤、熱重合禁止剤、
着色剤、可塑剤等からなる光重合性組成物を調製
し、この光重合性組成物を無溶媒または溶液とな
し支持体上に塗布して光重合性組成物の層を設け
た感光材料を作成し所望画像を像露光して露光部
分を重合硬化させ未露光部分を溶解除去すること
により硬化レリーフ画像を形成する方法や上述感
光材料が少なくとも一方が透明である2枚の支持
体間に光重合性組成物層を設けたものであり透明
支持体側より像露光し光による接着強度の変化を
惹起させた後支持体を剥離することにより画像を
形成する方法その他光重合性組成物層の光による
トナー附着性の変化を利用した画像作成方法等が
ある。か様な方法に応用される光重合性組成物の
光重合開始剤としては従来、ベンゾイン、ベンゾ
インアルキルエーテル、ベンゾフエノン、アント
ラキノン、ベンジル、あるいはミヒラーケトンな
どが用いられてきた。しかしながら、これらの光
重合開始剤は400nm以下の紫外線領域の光源に
対する光重合開始能力に比較し、400nm以上の
可視光線領域の光源に対するそれは顕著に低く、
従つてそれらを含む光重合性組成物の応用範囲を
著しく限定してきた。 可視光線に感応する光重合系に関しては従来い
くつかの提案がなされてきた。古くは米国特許第
2850445号によればある種の光還元性染料、例え
ばローズベンガル、エオシン、エリスロシン、リ
ボフラビン等が効果的な可視光感応性を有してい
ると報告している。その后改良技術として染料と
脂肪族アミンの複合開始系(特公昭44−20189)、
ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤
および染料の系(特公昭45−37377)、ヘキサアリ
ールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベン
ジリデン)ケトンの系(特開昭47−2528、特開昭
54−155292)、環状シス−α−ジカルボニル化合
物と染料の系(特開昭48−84183)、置換トリアジ
ンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024)
などの提案がなされてきた。これら技術は確かに
可視光線に対し有効ではあるが、未だその感光速
度は充分満足すべきものではなくさらに改良技術
が望まれていた。 本発明者は、上記従来技術の問題点を改良すべ
く鋭意検討した結果、特定の組合せから成る光重
合開始系を使用することによつて所期の目的が達
成されることを見い出し、本発明を完成するに到
つた。 すなわち、本発明の要旨は、エチレン性不飽和
二重結合を少なくとも1個有する付加重合可能な
化合物および光重合開始系から成る光重合性組成
物において、該光重合開始系が、(a)一般式、 〔式中、R1はアルキル基を示し、Yは−O−、−
S−、−Se−、−CH=CH−および−NR2−より
選ばれた2価原子または原子団であつて3価窒素
原子と共に複素芳香環Bを形成しており、R2は
水素原子またはアルキル基を示し、環Aは置換基
を有していてもよいベンゼン環またはナフタリン
環であつて環Bと縮合している。〕で表わされる
p−ジアルキルアミノスチレン誘導体、および、
(b)ヘキサアリールビイミダゾールから成ることを
特徴とする光重合性組成物に存する。 以下本発明について詳細に説明する。 本発明の光重合性組成物において第一の必須成
分として含まれるエチレン性不飽和二重結合を少
くとも1個有する付加重合可能な化合物は、光重
合性組成物が活性光線の照射を受けた場合、第二
の必須成分である光重合開始系の光分解生成物の
作用により付加重合することにより硬化し実質的
に不溶化をもたらすようなエチレン性不飽和二重
結合を有する単量体、または、側鎖もしくは主鎖
にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体であ
る。なお、本発明における単量体の意味するとこ
ろは、所謂高分子物質に相対する概念であつて、
従つて、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オ
リゴマーをも包含するものである。 エチレン性不飽和結合を有する単量体としては
例えば不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂
肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和
カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエ
ステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び
前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリ
ヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物との
エステル化反応により得られるエステル等が挙げ
られる。 不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マ
レイン酸などがある。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物としては例えばエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、プロピレングリコ
ール、1,2−ブタンジオール等の二価アルコー
ル類、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、グリセロール等の三価アルコール、ペン
タエリスリトール、トリペンタエリスリトール等
の四価以上のアルコール類、ジヒドロキシマレイ
ン酸等の多価ヒドロキシカルボン酸類がある。 芳香族ポリヒドロキシ化合物としてはハイドロ
キノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール
等がある。 多価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、ト
リメリツト酸、ピロメリツト酸、ベンゾフエノン
ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン
酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、テ
トラヒドロフタル酸等がある。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルの具体例としては、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラメチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリト
ールオクタアクリレート、グリセロールジアクリ
レート等のアクリル酸エステル、トリエチレング
リコールジメタクリレート、テトラメチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリ
レート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、
1,2−ブタンジオールジメタクリレート、ソル
ビトールテトラメタクリレート等のメタクリル酸
エステル、エチレングリコールジイタコネート、
プロピレングリコールジイタコネート、1,2−
ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレン
グリコールジイタコネート、ペンタエリスリトー
ルトリイタコネート等のイタコン酸エステル、エ
チレングリコールジクロトネート、ジエチレング
リコールジクロトネート、ペンタエリスリトール
テトラクロトネート等のクロトン酸エステル、エ
チレングリコールジマレエート、トリエチレング
リコールジマレエート、ペンタエリスリトールジ
マレエート等のマレイン酸エステルがある。 芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアク
リレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レ
ゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリ
レート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げ
られる。 不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒ
ドロキシ化合物とのエステル化反応により得られ
るエステルとしては必ずしも単一物では無いが代
表的な具体例を表1に記す。表中のZはアクリロ
イル基またはメタクリロイル基を示す。
【表】
【表】
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二
重結合を有する化合物の例としてはアクリルアミ
ド、エチレンビスアクリルアミド、ヘキサメチレ
ンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類、エ
チレンビスメタクリルアミド、ヘキサメチレンビ
スメタクリルアミド等のメタクリルアミド類、フ
タル酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フマル酸ジ
アリル、トリアリルイソシアヌレート等のアリル
エステル類、ジビニルアジペート、ジビニルフタ
レート、エチレングリコールジビニルエーテル等
のビニール含有化合物が挙げられる。 主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は
例えば不飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合
物との重縮合反応により得られるポリエステル、
不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応
により得られるポリアミド等がある。本発明で使
用するこれら重合体は、通常、10000〜100000の
分子量を有する。不飽和二価カルボン酸としては
マレイン酸、フマール酸などが挙げられる。側鎖
にエチレン性不飽和結合を有する重合体は側鎖に
不飽和結合をもつ二価カルボン酸例えばイタコン
酸、α−メチルイタコン酸、γ−メチルイタコン
酸、プロピリデンコハク酸、α−エチリデングル
タル酸、エチリデンマロン酸、プロピリデンマロ
ン酸等とジヒドロキシ化合物との重縮合反応によ
り得られるポリエステル、ジアミンとの重縮合反
応により得られるポリアミド等がある。また側鎖
にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反応
活性を有する官能基をもつ重合体と(メタ)アク
リル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との
高分子反応により得られるポリマーも好適に使用
し得る。前記の反応活性を有する官能基をもつ重
合体としてはポリビニルアルコール、ビニルアル
コールと酢酸ビニルとの共重合体、ビニルアルコ
ールとアクリロニトリル、スチレン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン等との共重合体、ポリエピク
ロルヒドリン、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートとアクリロニトリル、メチルメタクリレー
ト、ブチルメタクリレート、スチレン、塩化ビニ
リデン、酢酸ビニル等との共重合体、エピクロル
ヒドリンと2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)−プロパンとの反応により得られるポリエー
テル、ポリ(4−ヒドロキシスチレン)、ポリ
(N−メチロールアクリルアミド)などが挙げら
れる。 以上記載したエチレン性不飽和二重結合を少く
とも1個有する付加重合可能な化合物の内、アク
リル酸エステル類またはメタクリル酸エステル類
の単量体が特に好適に使用できる。 次に本発明の光重合性組成物の第2の必須成分
である光重合開始系について説明する。光重合開
始系は活性光線の照射によりラジカルを発生し前
述のエチレン性不飽和結合を有する単量体の付加
重合反応をもたらすものである。本発明の光重合
開始系は2種類の成分の組合せより成つておりそ
の第1の成分(a)は前記一般式()で表わされる
p−ジアルキルアミノスチレン誘導体である。式
中、R1がメチル基またはエチル基を示し、Yが
−O−、−S−および−CH=CH−より選ばれた
2価原子または原子団であつて3価窒素原子と共
に複素芳香環Bを形成しており、環Aがベンゼン
環またはナフタリン環であつて環Bと縮合してい
るものが好適に使用できる。 具体例を挙げると2−(p−ジメチルアミノス
チリル)−ベンゾチアゾール、2−(p−ジエチル
アミノスチリル)−ベンゾチアゾール、2−(p−
ジメチルアミノスチリル)−ベンゾオキサゾール、
2−(p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾオキ
サゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾ〔4,5〕ベンゾチアゾール、2−(p−
ジエチルアミノスチリル)−ベンゾ〔4,5〕ベ
ンゾチアゾール、2−(p−ジエチルアミノスチ
リル)−ベンゾ〔6,7〕ベンゾチアゾール、2
−(p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾ〔4,
5〕ベンゾセレナゾール、2−(p−ジメチルア
ミノスチリル)−キノリン、2−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−キノリン、2−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−1−エチル−ベンズイミダゾー
ル、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾ
〔4,5〕ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチ
ルアミノスチリル)−6−クロロ−ベンゾオキサ
ゾール、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−5
−メトキシ−ベンゾチアゾール等がある。これら
は相当するp−ジアルキルアミノベンズアルデヒ
ドと2−メチル−複素環との縮合反応例えば
「Zhur.Obshchei Khim.、26、2891〜6(1956)」
記載の方法により合成し得る。 第2の成分(b)はヘキサアリールビイミダゾール
である。これは2,4,5−トリアリールイミダ
ゾリル二量体ともいわれるもので2個のイミダゾ
ールが1個の共有結合で結合した構造を有し、一
般式 (式中、R3、R4、R5はアリール基を示し、点線
の円はイミダゾリル環の構成原子の原子価を満足
する芳香族性非局在化電子を示す。)で表わされ
る。 前記アリール基の例としてはフエニル基、ビフ
エニル基、ナフチル基、ピリジル基、チエニル
基、フリル基を挙げることができる。これらアリ
ール基は光解離反応を防害せずかつ安定性を増加
させる様な置換基を有していてもよく、例えば、
2位および2′位のアリール基がオルト置換された
フエニル基であつてオルト置換基として弗素原
子、塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基
を有するものが挙げられる。これらのオルト置換
基の効果によりビイミダゾール類の安定性が増加
する。最も好ましいヘキサアリールビイミダゾー
ルを具体的に挙げれば、2,2′−ビス(o−クロ
ロフエニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニル
ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフエ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシ
フエニル)ビイミダゾールである。これらのヘキ
サアリールビイミダゾール類は例えばBull.
Chem.Soc.Japan、33、565(1960)およびJ.Org.
Chem.、36〔16〕2265(1971)に開示されている
方法により容易に合成することができる。 本発明の光重合開始系は前述の二成分の組合せ
によりはじめて顕著な効果を発揮し得るが、その
使用割合は重量比で1:10ないし10:1の範囲、
好ましくは1:4ないし4:1までの範囲であ
る。また本発明の光重合性組成物に含まれる光重
合開始系は、エチレン性不飽和二重結合を少くと
も1個有する付加重合可能な化合物に対して重量
比率で0.1%ないし30%であり、好ましくは0.5%
ないし20%の範囲である。 本発明の光重合性組成物は前記したエチレン性
不飽和結合を有する化合物と光重合開始系とを必
須成分として含有するが、本組成物の改質、光硬
化後の物性改善の為に結合剤として有機高分子物
質を更に添加することができる。結合剤は相溶
性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応
じて適宜選択すればよい。具体的には例えば水系
現像性改善には(メタ)アクリル酸共重合体、イ
タコン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共
重合体、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セル
ロース変性物、ポリエチレンオキシド、ポリビニ
ルピロリドン等があり、皮膜強度、接着性の改善
にはエピクロロヒドリンとビスフエノールAとの
ポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリメチルメタ
クリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポ
リアクリル酸アルキル、メタクリル酸アルキルと
アクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共
重合体、アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビ
ニリデンとの共重合体、塩化ビニリデン、塩素化
ポリオレフイン、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共
重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルとス
チレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジ
エン、スチレンとの共重合体、ポリビニルアルキ
ルエーテル、ポリビニルアルキルケトン、ポリス
チレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレ
ンテレフタレートイソフタレート、アセチルセル
ローズポリビニルブチラール等を挙げることがで
きる。これらの結合剤はエチレン結合を有する化
合物に対し重量比率で500%以下、好ましくは200
%以下の範囲で添加混合することができる。 本発明の光重合性組成物は必要に応じ更に熱重
合防止剤、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑
剤、塗布助剤等添加することができる。 熱重合防止剤としては例えばハイドロキノン、
p−メトキシフエノール、ピロガロール、カテコ
ール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、β−ナフトールなどがあり着色剤としては例
えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボ
ンブラツク、酸化チタンなどの顔料、エチルバイ
オレツト、クリスタルバイオレツト、アゾ系染
料、アントラキノン系染料、シアニン系染料があ
る。これら熱重合防止剤や着色剤の添加量はエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤と
の合計重量に対し熱重合防止剤が0.01%ないし3
%、着色剤0.1%ないし20%が好ましい。可塑剤
としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシ
ルフタレート、ジブチルフタレート、ブチルベン
ジルフタレート、トリエチレングリコールジカプ
リレート、ジメチルグリコールフタレート、トリ
クレジルホスフエート、ジオクチルアジペート、
ジブチルアジペート、ジブチルセバケート、ジブ
チルマレエート、トリアセチルグリセリン等があ
りエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物と
結合剤との合計重量に対し5%以下添加すること
ができる。 本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光材料
を形成するかまたは適当な溶剤に溶解して溶液と
なしこれを支持体上に塗布、乾燥して感光材料を
調製する。溶剤としては例えばメチルエチルケト
ン、アセトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、
トルエン、キシレン、ベンゼン、モノクロロベン
ゼン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエ
チレン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミ
ド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テト
ラヒドロフラン、ペントキソン等がある。 本発明の光重合性組成物を用いて感光材料を調
製する際に適用される支持体としては例えばアル
ミニウム、マグネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニ
ツケル、鉄等の金属またはそれらを主成分とした
合金のシート、上質紙、アート紙、剥離紙の様な
紙類、ガラス、セラミツクスの如き無機シート、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リメチルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6
−ナイロン、6,6−ナイロン、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート、セルロー
スアセテートブチレートの様なポリマーシートな
どがある。これらの支持体は感光層の両側に適用
する場合もあり、また接着強度を調節する為に表
面処理を施してもよい。 また本発明の光重合性組成物はさらに酸素によ
る感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止
する為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能
な透明カバーシートを設けたり酸素透過性の小さ
いロウ状物質、水溶性ポリマー等による被覆層を
設けることもできる。 本発明の組成物に適用し得る露光光源としては
カーボンアーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、
メタルハライドランプ、螢光ランプ、タングステ
ンランプ、アルゴンレーザー等180nm以上の紫
外線、可視光線を含む汎用の光源を好適に使用し
得る。 本発明の光重合性組成物は広範囲な応用分野に
有用であつて例えば平板、凹板、凸板等印刷板の
作成、プリント配線やICの作成の為のフオトレ
ジスト、レリーフ像や画像複製などの画像形成、
光硬化のインク、塗料、接着剤等に利用できるが
特に可視光線の光源を用いる応用分野に有効であ
る。 以下本発明を実施例ならびに比較例、参考例に
より具体的に説明するが本発明はこれら実施例に
限定されるものではない。 なお光重合開始系の成分は次の略号により記載
した。 −a……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾチアゾール −b……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾ〔4,5〕ベンゾチアゾール −c……2−(p−ジエチルアミノスチリル)−
ベンゾ〔4,5〕ベンゾチアゾール −d……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾオキサゾール −e……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
キノリン −r……2−(p−ジエチルアミノベンジリデ
ン)−1−インダノン −a……2,2′−ビス(o−クロロフエニル)
−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾ
ール 参考例 1 試料Aの調製 ポリメチルメタクリレートBR−83(三菱レー
ヨン社製)を常法により30mol%部分加水分解し
て得たメチルメタクリレート/メタクリル酸共重
合体(結合剤)0.8gおよびペンタエリスリトー
ルトリアクリレート(大阪有機化学工業社製)
3.2g、p−メトキシフエノール12mg、エチルバ
イオレツト24mgをメチルエチルケトン44gに溶解
し感光液原液を調製した。この感光液原液に表2
または表3に示す一定量の光重合開始試料を添加
し、これを砂目立てかつ陽極酸化を施したアルミ
ニウムシート上にホワラーを用い乾燥膜厚1.5μm
となる様に塗布し、次いで80℃、5分間乾燥し
た。その表面に更にポリビニルアルコール水溶液
を塗布し乾燥膜厚3.0μmのオーバーコート層を設
け試料Aを作成した。 参考例 2 試料Bの調製 参考例1において結合剤重量を1.2gとしペン
タエリスリトールトリアクリレートに代えてトリ
メチロールプロパントリメタクリレート(ボクス
イ・ブラウン社製)2.8gとなした以外は同一条
件にて試料Bを作成した。 参考例 3 試料Cの調製 1,1,2,2−テトラクロロエタン30c.c.中に
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール40mgお
よびメタクリレートターポリマー(ヒドロキシエ
チルメタクリレート/メチルメタクリレート/ア
クリロニトリルで各モル分率0.5/0.3/0.2、
DMF中の還元比粘度0.21dl/g)2.0g、アクリ
ロイルクロライド2.0gを溶解し100℃にて4時間
反応后室温に冷却した後メタノール中300c.c.中へ
撹拌しつつ排出した。析出したポリマーを真空乾
燥すれば側鎖にアクリロイル基を有するポリマー
2.2gを得る。本ポリマー0.3g、p−メトキシフ
エノール2mg、銅フタロシアニン顔料15mgをメチ
ルエチルケトン7g中に溶解または分散させて感
光液原液を調製する。これに表4に示す光重合開
始系試料の一定量を溶解した后ホワラーを用い参
考例1と同様のアルミニウムシート上に乾燥膜厚
1.5μとなる様に塗布し試料Cを作成した。 実施例1〜5および比較例1〜4 試料AまたはBの上にステツプタブレツト(イ
ーストマンコダツク社製)を重ね真空焼枠中にて
露光し、次いで、イソプロパノール20重量%、ケ
イ酸ソーダ1重量%を含む水溶液にて現像を行な
い得られた光硬化画像の段数により感度を測定し
た。露光条件は高圧水銀燈の光源から色ガラスフ
イルターC−40AおよびY−43(共に東芝ガラス
社製)の両者を通して得られる436nmの光線
(光強度7.0mW/cm2)を40秒間照射した。結果を
表2に示した。 尚、表中添加量は(メタ)アクリレート単量体
と結合剤の合計重量に対するものである。
重結合を有する化合物の例としてはアクリルアミ
ド、エチレンビスアクリルアミド、ヘキサメチレ
ンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類、エ
チレンビスメタクリルアミド、ヘキサメチレンビ
スメタクリルアミド等のメタクリルアミド類、フ
タル酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フマル酸ジ
アリル、トリアリルイソシアヌレート等のアリル
エステル類、ジビニルアジペート、ジビニルフタ
レート、エチレングリコールジビニルエーテル等
のビニール含有化合物が挙げられる。 主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は
例えば不飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合
物との重縮合反応により得られるポリエステル、
不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応
により得られるポリアミド等がある。本発明で使
用するこれら重合体は、通常、10000〜100000の
分子量を有する。不飽和二価カルボン酸としては
マレイン酸、フマール酸などが挙げられる。側鎖
にエチレン性不飽和結合を有する重合体は側鎖に
不飽和結合をもつ二価カルボン酸例えばイタコン
酸、α−メチルイタコン酸、γ−メチルイタコン
酸、プロピリデンコハク酸、α−エチリデングル
タル酸、エチリデンマロン酸、プロピリデンマロ
ン酸等とジヒドロキシ化合物との重縮合反応によ
り得られるポリエステル、ジアミンとの重縮合反
応により得られるポリアミド等がある。また側鎖
にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反応
活性を有する官能基をもつ重合体と(メタ)アク
リル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との
高分子反応により得られるポリマーも好適に使用
し得る。前記の反応活性を有する官能基をもつ重
合体としてはポリビニルアルコール、ビニルアル
コールと酢酸ビニルとの共重合体、ビニルアルコ
ールとアクリロニトリル、スチレン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン等との共重合体、ポリエピク
ロルヒドリン、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートとアクリロニトリル、メチルメタクリレー
ト、ブチルメタクリレート、スチレン、塩化ビニ
リデン、酢酸ビニル等との共重合体、エピクロル
ヒドリンと2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)−プロパンとの反応により得られるポリエー
テル、ポリ(4−ヒドロキシスチレン)、ポリ
(N−メチロールアクリルアミド)などが挙げら
れる。 以上記載したエチレン性不飽和二重結合を少く
とも1個有する付加重合可能な化合物の内、アク
リル酸エステル類またはメタクリル酸エステル類
の単量体が特に好適に使用できる。 次に本発明の光重合性組成物の第2の必須成分
である光重合開始系について説明する。光重合開
始系は活性光線の照射によりラジカルを発生し前
述のエチレン性不飽和結合を有する単量体の付加
重合反応をもたらすものである。本発明の光重合
開始系は2種類の成分の組合せより成つておりそ
の第1の成分(a)は前記一般式()で表わされる
p−ジアルキルアミノスチレン誘導体である。式
中、R1がメチル基またはエチル基を示し、Yが
−O−、−S−および−CH=CH−より選ばれた
2価原子または原子団であつて3価窒素原子と共
に複素芳香環Bを形成しており、環Aがベンゼン
環またはナフタリン環であつて環Bと縮合してい
るものが好適に使用できる。 具体例を挙げると2−(p−ジメチルアミノス
チリル)−ベンゾチアゾール、2−(p−ジエチル
アミノスチリル)−ベンゾチアゾール、2−(p−
ジメチルアミノスチリル)−ベンゾオキサゾール、
2−(p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾオキ
サゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾ〔4,5〕ベンゾチアゾール、2−(p−
ジエチルアミノスチリル)−ベンゾ〔4,5〕ベ
ンゾチアゾール、2−(p−ジエチルアミノスチ
リル)−ベンゾ〔6,7〕ベンゾチアゾール、2
−(p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾ〔4,
5〕ベンゾセレナゾール、2−(p−ジメチルア
ミノスチリル)−キノリン、2−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−キノリン、2−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−1−エチル−ベンズイミダゾー
ル、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾ
〔4,5〕ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチ
ルアミノスチリル)−6−クロロ−ベンゾオキサ
ゾール、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−5
−メトキシ−ベンゾチアゾール等がある。これら
は相当するp−ジアルキルアミノベンズアルデヒ
ドと2−メチル−複素環との縮合反応例えば
「Zhur.Obshchei Khim.、26、2891〜6(1956)」
記載の方法により合成し得る。 第2の成分(b)はヘキサアリールビイミダゾール
である。これは2,4,5−トリアリールイミダ
ゾリル二量体ともいわれるもので2個のイミダゾ
ールが1個の共有結合で結合した構造を有し、一
般式 (式中、R3、R4、R5はアリール基を示し、点線
の円はイミダゾリル環の構成原子の原子価を満足
する芳香族性非局在化電子を示す。)で表わされ
る。 前記アリール基の例としてはフエニル基、ビフ
エニル基、ナフチル基、ピリジル基、チエニル
基、フリル基を挙げることができる。これらアリ
ール基は光解離反応を防害せずかつ安定性を増加
させる様な置換基を有していてもよく、例えば、
2位および2′位のアリール基がオルト置換された
フエニル基であつてオルト置換基として弗素原
子、塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基
を有するものが挙げられる。これらのオルト置換
基の効果によりビイミダゾール類の安定性が増加
する。最も好ましいヘキサアリールビイミダゾー
ルを具体的に挙げれば、2,2′−ビス(o−クロ
ロフエニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニル
ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフエ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシ
フエニル)ビイミダゾールである。これらのヘキ
サアリールビイミダゾール類は例えばBull.
Chem.Soc.Japan、33、565(1960)およびJ.Org.
Chem.、36〔16〕2265(1971)に開示されている
方法により容易に合成することができる。 本発明の光重合開始系は前述の二成分の組合せ
によりはじめて顕著な効果を発揮し得るが、その
使用割合は重量比で1:10ないし10:1の範囲、
好ましくは1:4ないし4:1までの範囲であ
る。また本発明の光重合性組成物に含まれる光重
合開始系は、エチレン性不飽和二重結合を少くと
も1個有する付加重合可能な化合物に対して重量
比率で0.1%ないし30%であり、好ましくは0.5%
ないし20%の範囲である。 本発明の光重合性組成物は前記したエチレン性
不飽和結合を有する化合物と光重合開始系とを必
須成分として含有するが、本組成物の改質、光硬
化後の物性改善の為に結合剤として有機高分子物
質を更に添加することができる。結合剤は相溶
性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応
じて適宜選択すればよい。具体的には例えば水系
現像性改善には(メタ)アクリル酸共重合体、イ
タコン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共
重合体、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セル
ロース変性物、ポリエチレンオキシド、ポリビニ
ルピロリドン等があり、皮膜強度、接着性の改善
にはエピクロロヒドリンとビスフエノールAとの
ポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリメチルメタ
クリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポ
リアクリル酸アルキル、メタクリル酸アルキルと
アクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共
重合体、アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビ
ニリデンとの共重合体、塩化ビニリデン、塩素化
ポリオレフイン、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共
重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルとス
チレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジ
エン、スチレンとの共重合体、ポリビニルアルキ
ルエーテル、ポリビニルアルキルケトン、ポリス
チレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレ
ンテレフタレートイソフタレート、アセチルセル
ローズポリビニルブチラール等を挙げることがで
きる。これらの結合剤はエチレン結合を有する化
合物に対し重量比率で500%以下、好ましくは200
%以下の範囲で添加混合することができる。 本発明の光重合性組成物は必要に応じ更に熱重
合防止剤、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑
剤、塗布助剤等添加することができる。 熱重合防止剤としては例えばハイドロキノン、
p−メトキシフエノール、ピロガロール、カテコ
ール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、β−ナフトールなどがあり着色剤としては例
えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボ
ンブラツク、酸化チタンなどの顔料、エチルバイ
オレツト、クリスタルバイオレツト、アゾ系染
料、アントラキノン系染料、シアニン系染料があ
る。これら熱重合防止剤や着色剤の添加量はエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤と
の合計重量に対し熱重合防止剤が0.01%ないし3
%、着色剤0.1%ないし20%が好ましい。可塑剤
としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシ
ルフタレート、ジブチルフタレート、ブチルベン
ジルフタレート、トリエチレングリコールジカプ
リレート、ジメチルグリコールフタレート、トリ
クレジルホスフエート、ジオクチルアジペート、
ジブチルアジペート、ジブチルセバケート、ジブ
チルマレエート、トリアセチルグリセリン等があ
りエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物と
結合剤との合計重量に対し5%以下添加すること
ができる。 本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光材料
を形成するかまたは適当な溶剤に溶解して溶液と
なしこれを支持体上に塗布、乾燥して感光材料を
調製する。溶剤としては例えばメチルエチルケト
ン、アセトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、
トルエン、キシレン、ベンゼン、モノクロロベン
ゼン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエ
チレン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミ
ド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テト
ラヒドロフラン、ペントキソン等がある。 本発明の光重合性組成物を用いて感光材料を調
製する際に適用される支持体としては例えばアル
ミニウム、マグネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニ
ツケル、鉄等の金属またはそれらを主成分とした
合金のシート、上質紙、アート紙、剥離紙の様な
紙類、ガラス、セラミツクスの如き無機シート、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リメチルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6
−ナイロン、6,6−ナイロン、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート、セルロー
スアセテートブチレートの様なポリマーシートな
どがある。これらの支持体は感光層の両側に適用
する場合もあり、また接着強度を調節する為に表
面処理を施してもよい。 また本発明の光重合性組成物はさらに酸素によ
る感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止
する為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能
な透明カバーシートを設けたり酸素透過性の小さ
いロウ状物質、水溶性ポリマー等による被覆層を
設けることもできる。 本発明の組成物に適用し得る露光光源としては
カーボンアーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、
メタルハライドランプ、螢光ランプ、タングステ
ンランプ、アルゴンレーザー等180nm以上の紫
外線、可視光線を含む汎用の光源を好適に使用し
得る。 本発明の光重合性組成物は広範囲な応用分野に
有用であつて例えば平板、凹板、凸板等印刷板の
作成、プリント配線やICの作成の為のフオトレ
ジスト、レリーフ像や画像複製などの画像形成、
光硬化のインク、塗料、接着剤等に利用できるが
特に可視光線の光源を用いる応用分野に有効であ
る。 以下本発明を実施例ならびに比較例、参考例に
より具体的に説明するが本発明はこれら実施例に
限定されるものではない。 なお光重合開始系の成分は次の略号により記載
した。 −a……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾチアゾール −b……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾ〔4,5〕ベンゾチアゾール −c……2−(p−ジエチルアミノスチリル)−
ベンゾ〔4,5〕ベンゾチアゾール −d……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
ベンゾオキサゾール −e……2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
キノリン −r……2−(p−ジエチルアミノベンジリデ
ン)−1−インダノン −a……2,2′−ビス(o−クロロフエニル)
−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾ
ール 参考例 1 試料Aの調製 ポリメチルメタクリレートBR−83(三菱レー
ヨン社製)を常法により30mol%部分加水分解し
て得たメチルメタクリレート/メタクリル酸共重
合体(結合剤)0.8gおよびペンタエリスリトー
ルトリアクリレート(大阪有機化学工業社製)
3.2g、p−メトキシフエノール12mg、エチルバ
イオレツト24mgをメチルエチルケトン44gに溶解
し感光液原液を調製した。この感光液原液に表2
または表3に示す一定量の光重合開始試料を添加
し、これを砂目立てかつ陽極酸化を施したアルミ
ニウムシート上にホワラーを用い乾燥膜厚1.5μm
となる様に塗布し、次いで80℃、5分間乾燥し
た。その表面に更にポリビニルアルコール水溶液
を塗布し乾燥膜厚3.0μmのオーバーコート層を設
け試料Aを作成した。 参考例 2 試料Bの調製 参考例1において結合剤重量を1.2gとしペン
タエリスリトールトリアクリレートに代えてトリ
メチロールプロパントリメタクリレート(ボクス
イ・ブラウン社製)2.8gとなした以外は同一条
件にて試料Bを作成した。 参考例 3 試料Cの調製 1,1,2,2−テトラクロロエタン30c.c.中に
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール40mgお
よびメタクリレートターポリマー(ヒドロキシエ
チルメタクリレート/メチルメタクリレート/ア
クリロニトリルで各モル分率0.5/0.3/0.2、
DMF中の還元比粘度0.21dl/g)2.0g、アクリ
ロイルクロライド2.0gを溶解し100℃にて4時間
反応后室温に冷却した後メタノール中300c.c.中へ
撹拌しつつ排出した。析出したポリマーを真空乾
燥すれば側鎖にアクリロイル基を有するポリマー
2.2gを得る。本ポリマー0.3g、p−メトキシフ
エノール2mg、銅フタロシアニン顔料15mgをメチ
ルエチルケトン7g中に溶解または分散させて感
光液原液を調製する。これに表4に示す光重合開
始系試料の一定量を溶解した后ホワラーを用い参
考例1と同様のアルミニウムシート上に乾燥膜厚
1.5μとなる様に塗布し試料Cを作成した。 実施例1〜5および比較例1〜4 試料AまたはBの上にステツプタブレツト(イ
ーストマンコダツク社製)を重ね真空焼枠中にて
露光し、次いで、イソプロパノール20重量%、ケ
イ酸ソーダ1重量%を含む水溶液にて現像を行な
い得られた光硬化画像の段数により感度を測定し
た。露光条件は高圧水銀燈の光源から色ガラスフ
イルターC−40AおよびY−43(共に東芝ガラス
社製)の両者を通して得られる436nmの光線
(光強度7.0mW/cm2)を40秒間照射した。結果を
表2に示した。 尚、表中添加量は(メタ)アクリレート単量体
と結合剤の合計重量に対するものである。
【表】
実施例6〜7および比較例5〜7
実施例1において露光条件としてキセノン燈光
源から色ガラスフイルターY−47および干渉フイ
ルターKL−49(共に東芝ガラス社製)の両者を通
して得られる490nm前後の波長の光線(光強度
3.6mW/cm2)を60秒間照射した以外は同実施例
の方法により評価した。結果を表3に示す。
源から色ガラスフイルターY−47および干渉フイ
ルターKL−49(共に東芝ガラス社製)の両者を通
して得られる490nm前後の波長の光線(光強度
3.6mW/cm2)を60秒間照射した以外は同実施例
の方法により評価した。結果を表3に示す。
【表】
実施例8〜12および比較例8〜10
試料Cの上に実施例1記載のステツプタブレツ
トを重ね真空焼枠中にて露光し、次いでγ−ブチ
ロラクトンにて現像し、得られた光硬化画像の段
数により感度を測定した。露光時間182秒間に変
更した以外は実施例1の露光条件にて行なつた。
結果を表4に示す。
トを重ね真空焼枠中にて露光し、次いでγ−ブチ
ロラクトンにて現像し、得られた光硬化画像の段
数により感度を測定した。露光時間182秒間に変
更した以外は実施例1の露光条件にて行なつた。
結果を表4に示す。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個
有する付加重合可能な化合物および光重合開始系
から成る光重合性組成物において、該光重合開始
系が、(a)一般式、 〔式中、R1はアルキル基を示し、Yは−O−、−
S−、−Se−、−CH=CH−および−NR2−より
選ばれた2価原子または原子団であつて3価窒素
原子と共に複素芳香環Bを形成しており、R2は
水素原子またはアルキル基を示し、環Aは置換基
を有していてもよいベンゼン環またはナフタリン
環であつて環Bと縮合している。〕で表わされる
p−ジアルキルアミノスチレン誘導体、および、
(b)ヘキサアリールビイミダゾールから成ることを
特徴とする光重合性組成物。 2 p−ジアルキルアミノスチレン誘導体が、一
般式、 〔式中、R1はメチル基またはエチル基を示し、
Yは−O−、−S−および−CH=CH−より選ば
れた2価原子または原子団であつて3価窒素原子
と共に複素芳香環Bを形成しており、環Aはベン
ゼン環またはナフタリン環であつて環Bと縮合し
ている。〕で表わされる化合物である特許請求の
範囲第1項記載の組成物。 3 p−ジアルキルアミノスチレン誘導体が、2
−(p−ジメチルアミノスチリル)−ベンゾ〔4,
5〕ベンゾチアゾールまたは2−(p−ジエチル
アミノスチリル)−ベンゾ〔4,5〕ベンゾチア
ゾールである特許請求の範囲第1項記載の組成
物。 4 ヘキサアリールビイミダゾールが、2,2′−
ビス(o−クロロフエニル)−4,4′,5,5′−
テトラフエニルビイミダゾールである特許請求の
範囲第1項記載の組成物。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP9586580A JPS5721401A (en) | 1980-07-14 | 1980-07-14 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9586580A JPS5721401A (en) | 1980-07-14 | 1980-07-14 | Photopolymerizable composition |
Publications (2)
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JPS5721401A JPS5721401A (en) | 1982-02-04 |
JPH0255446B2 true JPH0255446B2 (ja) | 1990-11-27 |
Family
ID=14149248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9586580A Granted JPS5721401A (en) | 1980-07-14 | 1980-07-14 | Photopolymerizable composition |
Country Status (1)
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-
1980
- 1980-07-14 JP JP9586580A patent/JPS5721401A/ja active Granted
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