JPS6117146A - レ−ザマ−キング用マスク - Google Patents
レ−ザマ−キング用マスクInfo
- Publication number
- JPS6117146A JPS6117146A JP59137822A JP13782284A JPS6117146A JP S6117146 A JPS6117146 A JP S6117146A JP 59137822 A JP59137822 A JP 59137822A JP 13782284 A JP13782284 A JP 13782284A JP S6117146 A JPS6117146 A JP S6117146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- marked
- mask
- mask body
- length
- face
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は文字や記号等をスリット状に配列し、このス
リン（・を透過するレーザビームによってマーキングす
るレーザマーキング用マスクに関する。
リン（・を透過するレーザビームによってマーキングす
るレーザマーキング用マスクに関する。
たとえば第２図に示すように電池などの円筒状物品の外
周面に社名、ロフト番号などをマーキングする場合、従
来のスタンプマーキングに代わってレーザビームによる
マーキング方法が知られている。このレーザマーキング
法は、第３図に示すようになっている。すなわち、１は
ＴＥＡＧＯ２レーザ発振器で、このレーザ発振器１から
発振されたレーザビーム２はマスク３に照射される。こ
のマスク３には文字や記号等がスリット状に穿設され、
前記レーザビーム２はこのスリット４を透過し、この透
過レーザビーム２は結像光学系である集光レンズ５を介
して電池などの円筒状物品の外周面からなる被マーキン
グ面６に照射される。
周面に社名、ロフト番号などをマーキングする場合、従
来のスタンプマーキングに代わってレーザビームによる
マーキング方法が知られている。このレーザマーキング
法は、第３図に示すようになっている。すなわち、１は
ＴＥＡＧＯ２レーザ発振器で、このレーザ発振器１から
発振されたレーザビーム２はマスク３に照射される。こ
のマスク３には文字や記号等がスリット状に穿設され、
前記レーザビーム２はこのスリット４を透過し、この透
過レーザビーム２は結像光学系である集光レンズ５を介
して電池などの円筒状物品の外周面からなる被マーキン
グ面６に照射される。
したがって、被マーキング面６には前記マスク３に形成
されたスリット４からなる文字や記号がマーキングされ
る。ところで、この場合、マスク３と集光レンズ５、集
光レンズ５と被マーキング面６との距離をそれぞれａＳ
ｂとすると、縮小率ｎはｎ＝ｂ／ａとなる。したがって
、被マーキング面６が電池などのように円筒状をなして
いると、集光レンズ５を通過後のレーザビーム２に各部
によって光路差が生じる。このため、像のぼけや縮小率
ｎの変化が起り、適正なマーキングができないという欠
点がある。
されたスリット４からなる文字や記号がマーキングされ
る。ところで、この場合、マスク３と集光レンズ５、集
光レンズ５と被マーキング面６との距離をそれぞれａＳ
ｂとすると、縮小率ｎはｎ＝ｂ／ａとなる。したがって
、被マーキング面６が電池などのように円筒状をなして
いると、集光レンズ５を通過後のレーザビーム２に各部
によって光路差が生じる。このため、像のぼけや縮小率
ｎの変化が起り、適正なマーキングができないという欠
点がある。
この発明は、前記事情に着目してなされたもので、その
目的とするところは、被マーキング面が電池などのよう
に円筒状をなしていても、像のぼけや縮小率の変化がな
（均一にマーキングができるレーザマーキング用マスク
を提供しようとするものである。
目的とするところは、被マーキング面が電池などのよう
に円筒状をなしていても、像のぼけや縮小率の変化がな
（均一にマーキングができるレーザマーキング用マスク
を提供しようとするものである。
この発明は、前記目的を達成するために、レーザビーム
を透過させるマスクを曲面形状の被マーキング面に合せ
て曲成し、マスクと集光レンズ、集光レンズと被マーキ
ング面との距離の比率をそれぞれ一致させたことにある
。
を透過させるマスクを曲面形状の被マーキング面に合せ
て曲成し、マスクと集光レンズ、集光レンズと被マーキ
ング面との距離の比率をそれぞれ一致させたことにある
。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図面にもとすいて説明する
。
。
第１図中１１はレーザマーキング用のマスク本体である
。このマスク本体１１は薄肉の金属板によって形成され
、この板面にはスリット１２・・・によって文字、記号
等が配列されている。このマスク本体１１は被マーキン
グ面６の曲面形状に対応して円弧状に曲成されている。
。このマスク本体１１は薄肉の金属板によって形成され
、この板面にはスリット１２・・・によって文字、記号
等が配列されている。このマスク本体１１は被マーキン
グ面６の曲面形状に対応して円弧状に曲成されている。
そして、マスク本体１１と集光レンズ５、集光レンズ５
と被マーキング面との距離の比率を一致させている。す
なわち、マスク本体１１と集光レンズ５との間をａ（ａ
ｌ）、集光レンズ５と被マーキング面６との間をｂ（ｂ
ｌ）とすると、 ｂ ／ ａ ＝ ｂ １／ ａ １＝一定とする。
と被マーキング面との距離の比率を一致させている。す
なわち、マスク本体１１と集光レンズ５との間をａ（ａ
ｌ）、集光レンズ５と被マーキング面６との間をｂ（ｂ
ｌ）とすると、 ｂ ／ ａ ＝ ｂ １／ ａ １＝一定とする。
ただし１／ａ＋１／ｂ＝１／ｆ（ｆはレンズ焦点距離）
となる関係を満足する形状である。
となる関係を満足する形状である。
しかして、このように構成されたマスク本体１１を用い
てマーキングを行なうと、レーザビームはスリット１２
を透過して被マーキング面６に照射される。このとき、
マスク本体１１が被マーキング面６の曲面形状に合せて
円弧上に形成されているため、はぼ均一に被マーキング
面６に照射されるとともに縮小率にバラツキがなくマー
クのむら、かすれ、ぼけ等を生じることなく均一にマー
キングされる。
てマーキングを行なうと、レーザビームはスリット１２
を透過して被マーキング面６に照射される。このとき、
マスク本体１１が被マーキング面６の曲面形状に合せて
円弧上に形成されているため、はぼ均一に被マーキング
面６に照射されるとともに縮小率にバラツキがなくマー
クのむら、かすれ、ぼけ等を生じることなく均一にマー
キングされる。
以上説明したように、この発明によれば、レーザビーム
を透過させるマスクを曲面形状の被マーキング面に合せ
て曲成し、マスクと結像光学系、結像光学系と被マーキ
ング面との距離の比率をそれぞれ一致させたから、被マ
ーキング面が曲面形状であっても、均一なマーキングが
できるという効果がある。
を透過させるマスクを曲面形状の被マーキング面に合せ
て曲成し、マスクと結像光学系、結像光学系と被マーキ
ング面との距離の比率をそれぞれ一致させたから、被マ
ーキング面が曲面形状であっても、均一なマーキングが
できるという効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を示す説明図、第２歯は被
マーキング面を示す斜視図、第３図は従来のレーザマー
キング法を示す構成図である。 ５・・・集光レンズ（結像光学系）、６・・・被マーキ
ング面、１１・・・マスク本体、１２・・・スリット。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図
マーキング面を示す斜視図、第３図は従来のレーザマー
キング法を示す構成図である。 ５・・・集光レンズ（結像光学系）、６・・・被マーキ
ング面、１１・・・マスク本体、１２・・・スリット。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図
Claims (1)
- マスク本体に文字や記号等をスリット状に配列し、マス
ク本体に照射されたレーザビームを前記スリットから透
過したのち結像光学系によって曲面形状の被マーキング
面に結像し、マーキングするレーザマーキング用マスク
において、前記マスク本体を曲面形状の被マーキング面
に合せて曲成し、マスク本体と前記結像光学系との間と
、結像光学系と被マーキング面との間の距離の比率を一
致させたことを特徴とするレーザマーキング用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59137822A JPS6117146A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | レ−ザマ−キング用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59137822A JPS6117146A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | レ−ザマ−キング用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6117146A true JPS6117146A (ja) | 1986-01-25 |
Family
ID=15207655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59137822A Pending JPS6117146A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | レ−ザマ−キング用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6117146A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS649382A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Victor Company Of Japan | Magnetic sensor |
| US6838701B2 (en) | 2000-02-16 | 2005-01-04 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor laser device |
-
1984
- 1984-07-03 JP JP59137822A patent/JPS6117146A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS649382A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Victor Company Of Japan | Magnetic sensor |
| US6838701B2 (en) | 2000-02-16 | 2005-01-04 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor laser device |
| US7167497B2 (en) * | 2000-02-16 | 2007-01-23 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor laser device |
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