JPS61162842A - 光デイスクメモリ - Google Patents
光デイスクメモリInfo
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- JPS61162842A JPS61162842A JP60002427A JP242785A JPS61162842A JP S61162842 A JPS61162842 A JP S61162842A JP 60002427 A JP60002427 A JP 60002427A JP 242785 A JP242785 A JP 242785A JP S61162842 A JPS61162842 A JP S61162842A
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- JP
- Japan
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- optical disk
- substrate
- optical
- recording
- disk memory
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- Pending
Links
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はキャスト重合法によりプラスチックからなる保
護層を形成した光デイスクメモリの構造に関する。
護層を形成した光デイスクメモリの構造に関する。
光ディスクはレーザ光束を直径1〜2μmの微少スポッ
トに絞り込み、レーザ光を情報信号に従って変調するこ
とにより記録材料上に直接に穴の形でビット情報を記録
し、再生時には記録ビットを順次レーザ光で読み取るこ
とにより情報を再生するものである。
トに絞り込み、レーザ光を情報信号に従って変調するこ
とにより記録材料上に直接に穴の形でビット情報を記録
し、再生時には記録ビットを順次レーザ光で読み取るこ
とにより情報を再生するものである。
かかる光ディスクの特徴は記録密度が非常に高いこと、
非接触で記録と再生ができること、ランダムアクセスが
できること、ビット当たりのコストが他のメモリに較べ
て安いことなどである。
非接触で記録と再生ができること、ランダムアクセスが
できること、ビット当たりのコストが他のメモリに較べ
て安いことなどである。
然し、このような光ディスクは情報の記録を穴の形で行
うために書替えができないと云う問題があり、光記録の
用途を狭めている。
うために書替えができないと云う問題があり、光記録の
用途を狭めている。
一方、このように光記録方式をとる光デイスクメモリと
は別に光・熱磁気記録方式を用いた光デイスクメモリの
実用化が進められている。
は別に光・熱磁気記録方式を用いた光デイスクメモリの
実用化が進められている。
この方式は光源として従来と同様にレーザ光を用い、磁
性膜上の照射領域での温度上昇による磁化の反転が情報
の記録と消去に用いられ、磁性膜からの透過光或いは反
射光の偏向面での回転を利用して情報の読み出しが行わ
れている。
性膜上の照射領域での温度上昇による磁化の反転が情報
の記録と消去に用いられ、磁性膜からの透過光或いは反
射光の偏向面での回転を利用して情報の読み出しが行わ
れている。
かかる用途には高密度記録に適した垂直磁性膜が用いら
れている。
れている。
この記録方式は外部磁界により予め一方向に飽和磁化し
ている磁性膜にレーザ光を照射する。
ている磁性膜にレーザ光を照射する。
そしてレーザ照射部の温度がキューリ一温度を越すと磁
化を失い、照射が終わって温度が降下し磁化が回復して
くるとき周囲の磁化による反磁界或いは外部バイアス磁
界によって反転した磁区となるのを利用する。
化を失い、照射が終わって温度が降下し磁化が回復して
くるとき周囲の磁化による反磁界或いは外部バイアス磁
界によって反転した磁区となるのを利用する。
かかる記録方式をとると外部バイアス磁界により記録ビ
ット径の制御ができ、また外部バイアス磁界を反対方向
に加えることによって情報の消去を行うことができる。
ット径の制御ができ、また外部バイアス磁界を反対方向
に加えることによって情報の消去を行うことができる。
このような光・熱磁気記録方式をとる光デイスクメモリ
は記録情報の書替えが可能なため用途が格段に増加する
。
は記録情報の書替えが可能なため用途が格段に増加する
。
本発明はかかる光デイスクメモリの保護層に関するもの
である。
である。
本発明に係る光ディスクの記録媒体はガドニウム・コバ
ルト(G’dCo)、マンガン・銅・ビスマス(Mnc
uBi) +ガドニウム・鉄・コバルト(GdFeCo
)など厚さ約1000人の磁性膜から形成されていが、
長期使用を可能とするためには湿度および酸化雰囲気か
ら遮断する必要があり、そのために保護層を設ける必要
がある。
ルト(G’dCo)、マンガン・銅・ビスマス(Mnc
uBi) +ガドニウム・鉄・コバルト(GdFeCo
)など厚さ約1000人の磁性膜から形成されていが、
長期使用を可能とするためには湿度および酸化雰囲気か
ら遮断する必要があり、そのために保護層を設ける必要
がある。
ここで保護層の必要条件は耐湿性の優れた材料で構成さ
れていると共に使用するレーザ光の波長に対して透明で
あることが必要条件となる。
れていると共に使用するレーザ光の波長に対して透明で
あることが必要条件となる。
第2図は従来の光ディスクの断面構造を示すものである
。
。
すなわち記録媒体1を上部に層形成したアルミニウム(
AI)合金、チタン(Ti)合金からなるディスク状の
基板2の内周部と外周部にプラスチック或いは金属から
なるスペーサリング3を置き、ごの上にアクリル樹脂な
どの透明樹脂からなる保護カバー4を設ける構造がとら
れている。
AI)合金、チタン(Ti)合金からなるディスク状の
基板2の内周部と外周部にプラスチック或いは金属から
なるスペーサリング3を置き、ごの上にアクリル樹脂な
どの透明樹脂からなる保護カバー4を設ける構造がとら
れている。
そして記録媒体1がある基板2と保護カバー4との隙間
に窒素(N2)などの不活性ガスを封入する方法がとら
れている。
に窒素(N2)などの不活性ガスを封入する方法がとら
れている。
かかる構造は光記録方式をとる従来の光ディスクと類似
しているが、スペーサリング3の基板2および保護カバ
ー4との接触面積が少ないために充分な接着を保持する
ことが困難で、使用中に気密が破れやすく、場合によっ
ては基板2と保護カバー4との剥離が生じて光ディスク
の寿命が低下すると云う問題がある。
しているが、スペーサリング3の基板2および保護カバ
ー4との接触面積が少ないために充分な接着を保持する
ことが困難で、使用中に気密が破れやすく、場合によっ
ては基板2と保護カバー4との剥離が生じて光ディスク
の寿命が低下すると云う問題がある。
光・熱磁気記録方式をとる光ディスクの記録媒体は磁性
薄膜で形成されており、この記録、再生特性を一定に保
持するには耐湿、耐酸化などを目的として保護外装を施
す必要があるが、従来の外装方法では信頬性の保持が不
充分であることが問題である。
薄膜で形成されており、この記録、再生特性を一定に保
持するには耐湿、耐酸化などを目的として保護外装を施
す必要があるが、従来の外装方法では信頬性の保持が不
充分であることが問題である。
上記の問題は軽金属を基板材料として使用し、該基板上
に書替えが可能な記録層を形成した後、該基板に透明な
プラス−ツク材料をキャスト重合して全面被覆してなる
ことを特徴とする光デイスクメモリにより解決すること
ができる。
に書替えが可能な記録層を形成した後、該基板に透明な
プラス−ツク材料をキャスト重合して全面被覆してなる
ことを特徴とする光デイスクメモリにより解決すること
ができる。
本発明は光・熱磁気記録方式をとる光ディスクにおいて
は光記録方式をとる従来の光ディスクと異なり情報の記
録或いは消去処理に当たって記録媒体に形状変化が起こ
らぬことに着目し、隙間を残すことなく記録媒体を透明
樹脂で全面被覆することにより完全な耐湿および耐酸化
外装を行うものである。
は光記録方式をとる従来の光ディスクと異なり情報の記
録或いは消去処理に当たって記録媒体に形状変化が起こ
らぬことに着目し、隙間を残すことなく記録媒体を透明
樹脂で全面被覆することにより完全な耐湿および耐酸化
外装を行うものである。
なおこのように基板と一体化した外装方法をとることに
より、基板の両面に記録媒体を形成することが可能とな
る。
より、基板の両面に記録媒体を形成することが可能とな
る。
本発明はキャスト重合法により表裏面を包みこんでプラ
スチック材料からなる透明な保護層を設けるもので、第
1図(A)は本発明を実施した光ディスクの断面図、ま
た同図(B)は平面図である。
スチック材料からなる透明な保護層を設けるもので、第
1図(A)は本発明を実施した光ディスクの断面図、ま
た同図(B)は平面図である。
その方法として重合用容器の中に記録媒体5を表裏に設
けた基板6を位置決めし、これにポリメチル・メタ・ク
リレイト(略称PMM^)のプレポリマーを注入してキ
ャスト成型を行う。
けた基板6を位置決めし、これにポリメチル・メタ・ク
リレイト(略称PMM^)のプレポリマーを注入してキ
ャスト成型を行う。
このようにし”ζできた成型体は次に旋盤などにより内
径と外径出しの加工を行うことによって一定厚の樹脂層
7を被覆した光ディスクを得ることができる。
径と外径出しの加工を行うことによって一定厚の樹脂層
7を被覆した光ディスクを得ることができる。
なお使用する樹脂としてはエポキシ樹脂など使用するレ
ーザ波長に対し透明で吸収が少なく、耐湿性の優れた樹
脂であれば何れでもよい。
ーザ波長に対し透明で吸収が少なく、耐湿性の優れた樹
脂であれば何れでもよい。
本発明は記録媒体を設けた光デイスク基板にキャスト重
合法によりプラスチックの保護層を密着して設けるもの
で、本発明の実施により耐湿性と耐酸化性が完全となり
、光デイスクメモリの信頼性を向上することができる。
合法によりプラスチックの保護層を密着して設けるもの
で、本発明の実施により耐湿性と耐酸化性が完全となり
、光デイスクメモリの信頼性を向上することができる。
第1図は本発明に係る光ディスクの構造を示すもので、
同図(A)は断面図、同図(B)は平面図、 第2図は従来の構造を示す断面図、 である。 図において、 ■、5は記録媒体、 2.6は基板、3はスペーサ
リング、 4は保護カバー、7は樹脂層、 Y−1昭 番2呵
同図(A)は断面図、同図(B)は平面図、 第2図は従来の構造を示す断面図、 である。 図において、 ■、5は記録媒体、 2.6は基板、3はスペーサ
リング、 4は保護カバー、7は樹脂層、 Y−1昭 番2呵
Claims (1)
- 軽金属を基板材料として使用し、該基板上に書替えが可
能な記録層を形成した後、該基板に透明なプラスチック
材料をキャスト重合して全面被覆してなることを特徴と
する光ディスクメモリ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60002427A JPS61162842A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 光デイスクメモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60002427A JPS61162842A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 光デイスクメモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61162842A true JPS61162842A (ja) | 1986-07-23 |
Family
ID=11528955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60002427A Pending JPS61162842A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 光デイスクメモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61162842A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6423435A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Canon Kk | Optical recording medium with protective member and optical recording and reading system thereof |
-
1985
- 1985-01-10 JP JP60002427A patent/JPS61162842A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6423435A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Canon Kk | Optical recording medium with protective member and optical recording and reading system thereof |
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