JPS61162014A - 平行レ−ザ−ビ−ム用光源装置 - Google Patents
平行レ−ザ−ビ−ム用光源装置Info
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- JPS61162014A JPS61162014A JP60002476A JP247685A JPS61162014A JP S61162014 A JPS61162014 A JP S61162014A JP 60002476 A JP60002476 A JP 60002476A JP 247685 A JP247685 A JP 247685A JP S61162014 A JPS61162014 A JP S61162014A
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B7/008—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
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- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/023—Mount members, e.g. sub-mount members
- H01S5/02325—Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
- H01S5/02326—Arrangements for relative positioning of laser diodes and optical components, e.g. grooves in the mount to fix optical fibres or lenses
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- H—ELECTRICITY
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
この発明は、平行レーザービーム用光源装置、詳しくは
、半導体レーザーを用いる、平行レーザービーム用光源
装置に関する。
、半導体レーザーを用いる、平行レーザービーム用光源
装置に関する。
(従来技術)
半導体レーザーは小型で手軽なレーザー光源として知ら
れているが、半導体レーザーから放射されるレーザー光
は発散性であるので、一般に1コリメーターレンズを用
いて平行レーザービームに変換して用いられる。このた
め、半導体レーザーを用いる、平行レーザービーム用光
源装置は、一般に、半導体レーザーと、コリメーターレ
ンズと、これら両者を位置決めして保持する保持部材と
を有する。
れているが、半導体レーザーから放射されるレーザー光
は発散性であるので、一般に1コリメーターレンズを用
いて平行レーザービームに変換して用いられる。このた
め、半導体レーザーを用いる、平行レーザービーム用光
源装置は、一般に、半導体レーザーと、コリメーターレ
ンズと、これら両者を位置決めして保持する保持部材と
を有する。
ところで、このような平行レーザービーム用光源装置に
おいて、コリメーターレンズかう射出するレーザービー
ムの平行性を損なう2つの要因が ・ある。
おいて、コリメーターレンズかう射出するレーザービー
ムの平行性を損なう2つの要因が ・ある。
その第1は、光源装置における温度変化により、保持部
材が熱的に膨張ないし収縮することである。
材が熱的に膨張ないし収縮することである。
保持部材は、コリメーターレンズと半導体レーザーを位
置決めするものでちるから、これが膨張したり収縮した
りすると、コリメーターレンズと半導体レーザーとの間
の距離が変化し、コリメーターレンズは、半導体レーザ
ーからのレーザー光を正しく平行光束化できなくなって
しまう。
置決めするものでちるから、これが膨張したり収縮した
りすると、コリメーターレンズと半導体レーザーとの間
の距離が変化し、コリメーターレンズは、半導体レーザ
ーからのレーザー光を正しく平行光束化できなくなって
しまう。
その第2は、半導体レーザーから放射されるレーザー光
の発振波長が、温度とともに変化することである。レー
ザー光の発振波長が変化すると、コリメーターレンズの
硝材の分散性(波長に応じて屈折率が変化する性質)に
より、コリメーターレンズの焦点距離が実質的に変化す
ることKなシ、コリメーターレンズから射出するレーザ
ービームは平行光束でなくなってしまう。
の発振波長が、温度とともに変化することである。レー
ザー光の発振波長が変化すると、コリメーターレンズの
硝材の分散性(波長に応じて屈折率が変化する性質)に
より、コリメーターレンズの焦点距離が実質的に変化す
ることKなシ、コリメーターレンズから射出するレーザ
ービームは平行光束でなくなってしまう。
上記第1の要因に対処する方法としては、保持部材を、
互いに線膨張係数の異なる材料で複合的Km成し、各材
料における熱変形量が互いに相殺するようにして、温度
変化に拘らず、コリメーターレンズと半導体レーザーと
の間の距離を一定に保つ方法が知られている(特開昭5
9−15206号公報)。
互いに線膨張係数の異なる材料で複合的Km成し、各材
料における熱変形量が互いに相殺するようにして、温度
変化に拘らず、コリメーターレンズと半導体レーザーと
の間の距離を一定に保つ方法が知られている(特開昭5
9−15206号公報)。
しかし、この方法は、保持部材を複合的に構成しなけれ
ばならないため、光源装置が複雑化するという問題を有
している。
ばならないため、光源装置が複雑化するという問題を有
している。
第2の要因に対処する方法としては、半導体レーザーの
温度を、常に、一定温度に制御することが考えられるが
、そのためには複雑な温度制御機構が必要となシ、光源
装置が大型化、複雑化すること罠なってしまう。
温度を、常に、一定温度に制御することが考えられるが
、そのためには複雑な温度制御機構が必要となシ、光源
装置が大型化、複雑化すること罠なってしまう。
(目 的)
この発明は、上述の如き事情に鑑みてなされたものであ
って、その目的とするところは、複雑な温度制御機構を
要せず、光源装置を複雑化させることもない、新規な、
平行レーザービーム用光源装置の提供にある。
って、その目的とするところは、複雑な温度制御機構を
要せず、光源装置を複雑化させることもない、新規な、
平行レーザービーム用光源装置の提供にある。
(構 成)
以下、本発明を説明する。
本発明の平行レーザービーム用光源装置は、半導体レー
ザーと、コリメーターレンズと、これら両者を位置決め
して保持する保持部材とを有する。
ザーと、コリメーターレンズと、これら両者を位置決め
して保持する保持部材とを有する。
半導体レーザーにおける発振波長の温度に対する変化率
をΔλ(n?/c0)、コリメーターレンズにおける分
散率をν−1、保持部材を構成する材料の線膨張係数を
αとすると、これらΔλ、ν−1.αは、α#Δλ・ν
−1(1) なる関係を満足する。
をΔλ(n?/c0)、コリメーターレンズにおける分
散率をν−1、保持部材を構成する材料の線膨張係数を
αとすると、これらΔλ、ν−1.αは、α#Δλ・ν
−1(1) なる関係を満足する。
半導体レーザーが定まれば、Δλが定まり、コリメート
レンズの硝材が定まればν−1が定まる。そこで、これ
らΔλ、ν−1について(1)を満足させるような線膨
張係数αを有する材料で保持部材を形成する。
レンズの硝材が定まればν−1が定まる。そこで、これ
らΔλ、ν−1について(1)を満足させるような線膨
張係数αを有する材料で保持部材を形成する。
ちるいは、半導体レーザーと、保持部材の材料とを定め
、このようにして定まるΔλ、αに対して(1)を満足
するように、コリメーターレンズの硝材を選択してもよ
く、保持部材の材料とコリメーターの硝材を定め、この
ようにして定まるν−1.αに対して(1)を満足する
ように、半導体レーザーを選択するようKしてもよい。
、このようにして定まるΔλ、αに対して(1)を満足
するように、コリメーターレンズの硝材を選択してもよ
く、保持部材の材料とコリメーターの硝材を定め、この
ようにして定まるν−1.αに対して(1)を満足する
ように、半導体レーザーを選択するようKしてもよい。
第1図は、本発明の1実施例を示している。図中、符号
10は半導体レーザー、符号12はサブマウント、符号
14はヒートシンク、符号16は保持部材、符号18は
レンズホルダー、符号20はコリメーターレンズを、そ
れぞれ示している。図に示すようK、半導体レーザーl
Oは、保持部材16の右端部に固設されたヒートシンク
14の頂部にサブマウント12を介して固設されている
。またコリメーターレンズ20は、保持部材16の左端
部に固設されたレンズホルダー18に保持されている。
10は半導体レーザー、符号12はサブマウント、符号
14はヒートシンク、符号16は保持部材、符号18は
レンズホルダー、符号20はコリメーターレンズを、そ
れぞれ示している。図に示すようK、半導体レーザーl
Oは、保持部材16の右端部に固設されたヒートシンク
14の頂部にサブマウント12を介して固設されている
。またコリメーターレンズ20は、保持部材16の左端
部に固設されたレンズホルダー18に保持されている。
さて、この平行レーザービーム用光源装置において、装
置設計上の条件として定まる標準としての温度をToと
し、このとき、コリメーターレンズ20の焦点距離をf
oとする。半導体レーザー10は、Toにおいてλ0な
る波長のレーザー光を発し、上記焦点距離foは、この
波長λ0の光に対するものである。また、保持部材16
の線膨張係数をαとする。すると、温度Toのとき、コ
リメーターレンズ20と半導体レーザー10との間の距
離は10であり、半導体レーザー10から、波長λ0の
レーザー光を放射させれば、コリメーターレンズ20か
ら平行光束りが射出する。
置設計上の条件として定まる標準としての温度をToと
し、このとき、コリメーターレンズ20の焦点距離をf
oとする。半導体レーザー10は、Toにおいてλ0な
る波長のレーザー光を発し、上記焦点距離foは、この
波長λ0の光に対するものである。また、保持部材16
の線膨張係数をαとする。すると、温度Toのとき、コ
リメーターレンズ20と半導体レーザー10との間の距
離は10であり、半導体レーザー10から、波長λ0の
レーザー光を放射させれば、コリメーターレンズ20か
ら平行光束りが射出する。
さて、温度がToからδTだけ変化した状態を考えてみ
る。この温度変化にもとづき、保持部材16は熱変形し
、その熱変廟量δ2(コリメーターレンズ20と半導体
レーザーlOとの間の長さの変形量)は、δ2=α・f
o・δT で与えられる。この熱変形(説明の蘭単のた
め熱膨張であるとする)δ2のために、コリメーターレ
ンズ20と半導体レーザー】0との間の距離はfoから
fo+δ2へと変化する。
る。この温度変化にもとづき、保持部材16は熱変形し
、その熱変廟量δ2(コリメーターレンズ20と半導体
レーザーlOとの間の長さの変形量)は、δ2=α・f
o・δT で与えられる。この熱変形(説明の蘭単のた
め熱膨張であるとする)δ2のために、コリメーターレ
ンズ20と半導体レーザー】0との間の距離はfoから
fo+δ2へと変化する。
一方、この温度変化δTにより、半導体レーザー10の
発振波長はλ0からδλだけ変化する。δTの正の向き
を温度上昇の向きとするとδTが正のとき、δλも正で
ある。このとき、発振波長の温度に対する変化率Δλは
、 で与えられる。
発振波長はλ0からδλだけ変化する。δTの正の向き
を温度上昇の向きとするとδTが正のとき、δλも正で
ある。このとき、発振波長の温度に対する変化率Δλは
、 で与えられる。
また、コリメーターレンズの硝材の屈折率は、典型的な
場合を第2図に示すように、光の波長とともに変化し、
一般に波長の増加とともに、屈折率も減少する。もちろ
ん、硝材が異なれば、この曲線も異なったものとなる、
第2図の曲線は、ライト7リントガラスに関するもので
ある。
場合を第2図に示すように、光の波長とともに変化し、
一般に波長の増加とともに、屈折率も減少する。もちろ
ん、硝材が異なれば、この曲線も異なったものとなる、
第2図の曲線は、ライト7リントガラスに関するもので
ある。
このように、コリメーターレンズにおける屈折率が、波
長に応じて変化すると、それに応じて、コリメーターレ
ンズの焦点距離も変化する。すなわち、一般に波長が長
くなると、焦点距離も長くなる。そこで、この焦点距離
の変化をafとする。
長に応じて変化すると、それに応じて、コリメーターレ
ンズの焦点距離も変化する。すなわち、一般に波長が長
くなると、焦点距離も長くなる。そこで、この焦点距離
の変化をafとする。
すると、コリメーターレンズ20における分散率ν−1
は、 で定義される。
は、 で定義される。
従って、分散性による焦点距離の変化δfは、δf=ν
−1・foδλ (3)で与えられる
。一方、保持部材16の熱膨張による変形量δ2は、前
述の通り、δ2=α・δT−fo である。そこでも
し、δ2=δfでちるならば、分散性による焦点距離の
変化が、熱膨張による、コリメーターレンズ、半導体レ
ーザー間の距離の変化で相殺されることとなり、温度変
化にも拘らず、コリメーターレンズ20からは、常に平
行光束が射出することになる。
−1・foδλ (3)で与えられる
。一方、保持部材16の熱膨張による変形量δ2は、前
述の通り、δ2=α・δT−fo である。そこでも
し、δ2=δfでちるならば、分散性による焦点距離の
変化が、熱膨張による、コリメーターレンズ、半導体レ
ーザー間の距離の変化で相殺されることとなり、温度変
化にも拘らず、コリメーターレンズ20からは、常に平
行光束が射出することになる。
δl = af を具体的に書くと、α・foδT=
ν−1・fo・δλ であるから、δ゛λ=Δλ・δT
((2)式参照)を用いると α・fo・δT=ν−1・fO・Δλ・δT(4)とな
り、これから、直ちに1 α=ν−1・Δλ が得られる。従って、前述の(1)式を成立させるよう
にすることにより、温度変化にも拘らず、常に実質的な
平行レーザービームを得ることができる。
ν−1・fo・δλ であるから、δ゛λ=Δλ・δT
((2)式参照)を用いると α・fo・δT=ν−1・fO・Δλ・δT(4)とな
り、これから、直ちに1 α=ν−1・Δλ が得られる。従って、前述の(1)式を成立させるよう
にすることにより、温度変化にも拘らず、常に実質的な
平行レーザービームを得ることができる。
以下、具体的な例に即して説明する。
例として、平行レーザービーム用光源装置を、第3図に
示す如きレーザープリンターに用いる場合をとりあげて
見る。第3図において、符号10゜20は、第1図にお
けると同じく、それぞれ、半導体レーザーおよびコリメ
ーターレンズを示し、図示されない保持部材等とともに
、光源装置を構成する。符号22は多面鏡を示す。この
多面鏡22は、モーター24により矢印方向へ等速で高
速度回転され、スキャナーとして、レーザービームを偏
向させる。多面fi!!、22による反射光はfθレン
ズ26、平面鏡29.30を介して感光体32上へ導か
れ、fθン/ズ26の作用により感光体表面にスポット
状に集束する。モーター2I1.により多面鏡22を回
転させると、このスポットは感光体32上を直線的に移
動して感光体を走査する。感光体32を回動させつつ、
半導体レーザー100発光を画像信号で変調すれば、画
像信号に応じた潜像が感光体32に形成される。
示す如きレーザープリンターに用いる場合をとりあげて
見る。第3図において、符号10゜20は、第1図にお
けると同じく、それぞれ、半導体レーザーおよびコリメ
ーターレンズを示し、図示されない保持部材等とともに
、光源装置を構成する。符号22は多面鏡を示す。この
多面鏡22は、モーター24により矢印方向へ等速で高
速度回転され、スキャナーとして、レーザービームを偏
向させる。多面fi!!、22による反射光はfθレン
ズ26、平面鏡29.30を介して感光体32上へ導か
れ、fθン/ズ26の作用により感光体表面にスポット
状に集束する。モーター2I1.により多面鏡22を回
転させると、このスポットは感光体32上を直線的に移
動して感光体を走査する。感光体32を回動させつつ、
半導体レーザー100発光を画像信号で変調すれば、画
像信号に応じた潜像が感光体32に形成される。
この潜傷を可視化し転写紙上に転写・定着することKよ
って、画像信号に応じた記録画像が得られる。
って、画像信号に応じた記録画像が得られる。
さて、説明の具体性のために1コリメーターレンズ20
の焦点距離を、正常な状態(設計上の値)においてfo
=9mmとし、fθレンズ26の焦点距離fcを300
mmとしよう。感光体32に集束するスポットの径は
、画素密度400ドント/インチの場合で80μm程度
でちり、ビームの深度は±2rrLm程度である。この
場合、半導体レーザー10とコリメーターレンズ20と
の間の間隔精度δ2としては、とすることができる。
の焦点距離を、正常な状態(設計上の値)においてfo
=9mmとし、fθレンズ26の焦点距離fcを300
mmとしよう。感光体32に集束するスポットの径は
、画素密度400ドント/インチの場合で80μm程度
でちり、ビームの深度は±2rrLm程度である。この
場合、半導体レーザー10とコリメーターレンズ20と
の間の間隔精度δ2としては、とすることができる。
さらに、コリメーターレンズの硝材として、波長780
nm近傍の領域で分散率ν = 8.I X 10
のFDS 3を用いるものとし、半導体レーザー10
として、GatJks / Gaps ダブルへテロ
構造のもので発振波長780nmのものを用いるものと
する。
nm近傍の領域で分散率ν = 8.I X 10
のFDS 3を用いるものとし、半導体レーザー10
として、GatJks / Gaps ダブルへテロ
構造のもので発振波長780nmのものを用いるものと
する。
第3図に示すようなレーザープリンターでは、平行レー
ザービーム用光源装置の温度は、使用環境と使用による
装置内温度上昇を考えあわせて、おおよそ0℃〜50℃
の範囲で変動する。前述した設計上の標準の温度Toは
通常20℃であるから、光源装置の温度変動の幅として
は±30℃を考えればよい。
ザービーム用光源装置の温度は、使用環境と使用による
装置内温度上昇を考えあわせて、おおよそ0℃〜50℃
の範囲で変動する。前述した設計上の標準の温度Toは
通常20℃であるから、光源装置の温度変動の幅として
は±30℃を考えればよい。
上記半導体レーザーにおけるΔλは、0.22 nm/
’Cであることが知られている。
’Cであることが知られている。
して見ると、今、半導体レーザー10の温度が、標準の
温度から30℃変化したとするならば、この温度変化に
より発振波長は、δλ= 0.22 X 30 = 6
.6xmだけ変化する。この波長変化にもとづく、コリ
メーターレンズ20の焦点距離の変化δfは、(3)式
に従ッテ、8.I X 1O−5X 9″”’X 6.
6xm= 4.8ttm トfzる。
温度から30℃変化したとするならば、この温度変化に
より発振波長は、δλ= 0.22 X 30 = 6
.6xmだけ変化する。この波長変化にもとづく、コリ
メーターレンズ20の焦点距離の変化δfは、(3)式
に従ッテ、8.I X 1O−5X 9″”’X 6.
6xm= 4.8ttm トfzる。
一方、保持部材の熱変形量δ2は、30℃ の温度変化
に対して、9 X 30 Xα= 270−α(−rI
L)である・従って、δ2=δfなる条件が満足される
ためには、保持部材の材料の線膨張係数αは、1.7X
10’であればよい。
に対して、9 X 30 Xα= 270−α(−rI
L)である・従って、δ2=δfなる条件が満足される
ためには、保持部材の材料の線膨張係数αは、1.7X
10’であればよい。
実際にけ、コリメーターレンズと半導体レーザーとの間
の間隔精度は前述の如く1.8μm程度であとδfとの
差の許容範囲として δ/−Tδf≦1δ2−δf1≦δf十了δfとすると
、αに対する許容領域として、1.2 X 10 ≦
α≦2.7 X 1O−5(5)あるいは、分散率ν−
1を用いると 0.15ν−1≦α≦0.33ν−1(6)を得る。
の間隔精度は前述の如く1.8μm程度であとδfとの
差の許容範囲として δ/−Tδf≦1δ2−δf1≦δf十了δfとすると
、αに対する許容領域として、1.2 X 10 ≦
α≦2.7 X 1O−5(5)あるいは、分散率ν−
1を用いると 0.15ν−1≦α≦0.33ν−1(6)を得る。
従って、保持部材を形成すべき材料は、線膨張率が上記
(5)の条件を満足するもののなかから選べばよい。条
件(5)を満足する材料をいくつかあげてみると、アル
ミニウム(α= 2.4X10 ’ ) 、黄銅(α=
1.8 X 1O−5)、5os(ts−s)(’α
= 1.6X10 ’ )、アルミダイキャストADC
12(α= 2x 1O−5)等がある。特に、黄銅と
、5Os(18−8)とは、αの値が、理想値1.7X
10 に近い。
(5)の条件を満足するもののなかから選べばよい。条
件(5)を満足する材料をいくつかあげてみると、アル
ミニウム(α= 2.4X10 ’ ) 、黄銅(α=
1.8 X 1O−5)、5os(ts−s)(’α
= 1.6X10 ’ )、アルミダイキャストADC
12(α= 2x 1O−5)等がある。特に、黄銅と
、5Os(18−8)とは、αの値が、理想値1.7X
10 に近い。
保持部材を、アルミダイキャストADC12で作製する
と、δ2の値は、9mxX2X10 X30℃=5.
4μmとなり、δfとの差は0.6μmとなる。
と、δ2の値は、9mxX2X10 X30℃=5.
4μmとなり、δfとの差は0.6μmとなる。
(効 果)
以上、本発明によれば、新規な、平行レーザービーム用
光源装置を提供できる。この光源装置では、半導体レー
ザーの温度変化にもとづく発振波長変化による、コリメ
ーターレンズの焦点距離の変動と、保持部材の熱変形に
もとづく、焦点位置すれとが互いに相殺し合うので、半
導体レーザーに対し、正確な温度制御を行なわなくても
、常に実質的な平行レーザービームを得ることができる
。
光源装置を提供できる。この光源装置では、半導体レー
ザーの温度変化にもとづく発振波長変化による、コリメ
ーターレンズの焦点距離の変動と、保持部材の熱変形に
もとづく、焦点位置すれとが互いに相殺し合うので、半
導体レーザーに対し、正確な温度制御を行なわなくても
、常に実質的な平行レーザービームを得ることができる
。
また、保持部材は、これを複合的に構成する必要がない
から、光源装置が複雑化することもない。
から、光源装置が複雑化することもない。
第1図は、本発明の1実施例を示す側面図、第2図は、
コリメーターレンズの硝材における分散性を説明するだ
めの図、第3図は、平行レーザービーム用光源装置を用
いたプリンターの1例を示す図である。 10・・・半導体レーザー、12・・・サブマウント、
14・・・ヒートシンク、16・・・保持部材、18・
・・レンズホルダー、20・・・コリメーターレンズ。
コリメーターレンズの硝材における分散性を説明するだ
めの図、第3図は、平行レーザービーム用光源装置を用
いたプリンターの1例を示す図である。 10・・・半導体レーザー、12・・・サブマウント、
14・・・ヒートシンク、16・・・保持部材、18・
・・レンズホルダー、20・・・コリメーターレンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体レーザーと、この半導体レーザーからの発散性の
レーザー光束を平行レーザービームに変換するコリメー
ターレンズと、上記半導体レーザーとコリメーターレン
ズとを、位置決めして保持する保持部材とを有し、 半導体レーザーの発振波長の温度に対する変化率をΔλ
(nm/℃)、コリメーターレンズの硝材における分散
率をν^−^1とするとき、 上記保持部材を、その線膨張係数αが、α≒Δλ−ν^
−^1を満足する材料で形成することを特徴とする、平
行レーザービーム用光源装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP60002476A JPS61162014A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 平行レ−ザ−ビ−ム用光源装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP60002476A JPS61162014A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 平行レ−ザ−ビ−ム用光源装置 |
Publications (1)
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JPS61162014A true JPS61162014A (ja) | 1986-07-22 |
Family
ID=11530385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP60002476A Pending JPS61162014A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 平行レ−ザ−ビ−ム用光源装置 |
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