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JPS61140802A - 裏面反射光を防止した光波干渉装置 - Google Patents

裏面反射光を防止した光波干渉装置

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Publication number
JPS61140802A
JPS61140802A JP59262734A JP26273484A JPS61140802A JP S61140802 A JPS61140802 A JP S61140802A JP 59262734 A JP59262734 A JP 59262734A JP 26273484 A JP26273484 A JP 26273484A JP S61140802 A JPS61140802 A JP S61140802A
Authority
JP
Japan
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light
reflected light
beam splitter
interference device
reflected
Prior art date
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Granted
Application number
JP59262734A
Other languages
English (en)
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JPH0650243B2 (ja
Inventor
Koji Nakazawa
中沢 宏治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP59262734A priority Critical patent/JPH0650243B2/ja
Publication of JPS61140802A publication Critical patent/JPS61140802A/ja
Publication of JPH0650243B2 publication Critical patent/JPH0650243B2/ja
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02056Passive reduction of errors
    • G01B9/02059Reducing effect of parasitic reflections, e.g. cyclic errors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明のオU用分野〕 本発明は光波干渉装置の光学系において、対・物レンズ
等光学部品の裏面反射光を防止し、か・つ直交光学系を
維持した光学装置に関する。 ・〔発明の背景〕 従来、試料の形状を非接触で光学的に紬足す、)る方法
としてトワイマン干渉計が仰られている。
(例えば、山田;光字の知識、東京電機大学出。
版局P256〜257(昭和46−5)がある。)。。
ここで試料の形状の木ならず表面粗さを干渉縞。
により測足しようとすると対物レンズを試料及1゜び参
照面に対向して設げる必要があると考えら。
れるが、従来このような対物レンズを組込んだ。
光波干渉装置及びそれによって生ずる問題点に。
ついては全く検討されていなかった。
〔発明9目的〕 本発明の目的は試料、参照ミラに対向して対。
物レンズまたはその他の光学部品を設けるよ5゜にした
光波干渉装置において、これら光学部品。
の裏面反射光によって生ずる干渉縞を除去でき“る光波
干渉装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明では、上記対物レンズの裏面反射光が。
王にビームスグリツタの出射面における反射光゛と干渉
して干渉縞像を形成し、本来検出しよう。
としている試料と参照ミラの干渉縞像に重畳し・・)て
検出される不都合さを改善するために、ビー・ムスブリ
ツタの入射面、出射面を照明光光軸と・直交させないよ
うにして、上記元軸と直交して・設けられた対物レンズ
裏面との干渉を回避したb〔発明の実施例〕 試料の表面粗さを光字的に非接触測定するた。
めの光波干渉装置を第1図に示す。光源1から。
出た光は照明レンズ2を通過後ビームス1リツ。
り4により2分割され1反射光は対物レンズ7゜を通っ
てステージ12にのっている試料1oに集光2.。
サレる。一方ビームスグリツタにおける透過光。
は対物レンズ8を通って参照ミラ11に集光され。
る。これら試料と参照ミラからの反射光13は再。
びビームスグリツタ4で合成されて干渉し、そ。
の干渉縞像を結像レンズ14により受光部15に投−・
影する。16はモニタ用TVである。このTV画゛面1
9には例えば第3図に示すように試料と参照゛ミラの反
射光の干渉縞像26の他に対物レンズの・Am反射光と
他の光学部品の反射光の干渉縞像“27−1 、27−
2等が検出されるため、本来検出し11ようとしている
干渉縞像26を検出し日動的に信・勺処理しようとする
際に大きな障害となり正確・な試料の表面粗さ、うねり
等の測定が不可能に・なる。試料の反射率が低くなる程
この傾向は強・(なり1例えば試料10が対物レンズと
四じガラ15ス材質であるような場合は、27−1 、
27−2の干。
渉縞のノイズ成分の強度の方が、26の信号成分。
の干渉縞強度よりも大きくなってしまうため、。
試料10の表面粗さ、うねりの開示は全く不可能。
となる。
このノイズ成分の干渉縞27−t 、 27−2が生ず
る原因を調べてみると、対物レンズ7.9の裏。
圓反射元が関与していることがわかる。対物し。
ンズは例えば第1図に示すように複数枚のレン。
ズ群でMH,されており、これら各レンズの表裏面で反
射かわずかながら生する。これらをまと。
めて対物レンズの裏面反射光9で表わす。一方゛ビーム
ス1リッタ4の出射面4−1 、4−2におい″ても反
射光5.6が生ずる。検討した結果、試。
R1jl対物レンズの裏面反射光9とビームスプリ・・
・ツタ出射[lI]4−1の反射光5が干渉縞を形成し
て・おり、lrl+1様のことが参照ミラ側対物レンズ
でも・生じていることがわかった。これらの干渉縞ノ・
イズ成分が第3図27−1 、27−2に相当している
そこで、上記干渉縞ノイズ成分を除去する方1゜末とし
ては%元軸と直交している対物レンズ7.98に対して
ビームスプリッタの各面が平行とな。
らないように第4図4′に示すように傾けてやれ。
ばよいことが考えられる。しかるにこの場合、。
対物レンズ7に向5元は垂直方向からずれ、試11,1
科からの反射光も13に示すように垂直方向から。
ずれてしまい、光学系の光軸が縦・横直交する゛ような
直交光学系とはならな(なるため装置と。
して不都合が生ずる。
従来のw4微鏡では照明系に平板状ハーフミラ)が用い
られているが、これを第2図17に示すよ・うに干渉装
置に組込んだ場曾、参照ミラからの・反射光は18に示
すようにハーフミラの裏面でも・着干反射され、正規の
反射光13に対して横ずれ・を生じてしまうので干渉縞
像がだぶってしまい・([不具合である。
本発明では上記問題点を解決し、光学部品の・裏面反射
光による干渉物ノイズ成分の発生を防・止しかつ直交光
学系となるような光波干渉装置。
を可能とするものである。本発明をW、5〜8図1゜で
説明する。
第6図は断面形状が長方形のビームス1リッ、□り20
′でその対角線方向に反射01121を有する。。
このビームスプリッタ20′の左右を削って短く。
し、断面形状を正方彰にしたのが第5図のビー、。
ムス1リッタ20であり、θ、〜θ、である。
第5図において照明光3と試料反射光13とが゛直交す
るための条件はα1−偽であり2γ+θ1+θ2゜ミπ
、θ1+θ、=ヲからγ=7であれば上記直交。
条件が満足される。
ビームスグリツタ20の出射面20−1 、20−2で
反射された照面光は破線5.6で承すようになり、試料
及び参照ミラかもの反射光13からそれていくため、受
光部には入射せず干渉縞のノイズ成分とならない。そし
てビームスプリッタ20″または20′の傾斜角α、を
大きくすればする根皮・射光5.6のそれは大きくなる
ことがわかる。
すなわち従来用いられているビームスプリツ・り(第1
図、4)は2等辺3角形を2個組合せ・たものであるた
め断面形状は正方形で、第5図・。
においてθ1=θ、となっている。このためビーム。
スプリッタを傾けると直交光学系にならな(なる。これ
に対し本発明では、第5図に示すようにθ−〇、として
いるため従来の問題点を解決す。
ることができる。
第7図は本発明の別例である。断面形状が平。
行四辺形または菱形のビームスプリッタ22にお。
いて対角線方向に反射面25を有している。この゛よう
にすることにより、ビームスプリッタ出射゛面における
反射光は同図破線で示すごと(、試−科及び参照ミラか
らの反射光13から大きくそれ。
るため受光部に入射せず、干渉縞のノイズ成分・となら
ない。また入射光30元軸とビームスプ・リッタ反射面
23との成す角度を45°にすると、・入射光3と試料
からの反射光13とは直交する。(・第8図は余り望ま
しい例ではないが1本発明。
の−物である。断面形状が楔形のビームスプリ。
ツタ24の一面が反射[&I25である。入射光3に対
し試料、参照ミラからの反射光13は直交はしな。
いで楔角夏に応じて傾(が、対物レンズ7に向1・。
かう元は入射光3と直交する。また対物し/ズ。
8から戻ってまた参照ミラの反射光がビームス。
プリンタ24の裏面で反射した光18は、目的とす。
る反射光13からそれていくので梗出すべき干渉。
縞のノイズ成分とはならない。従って、従来の第2.4
図に示す方法よりは優れている。  ゛また本発明第5
〜8図においては、ビームス。
1リツタ入射而は入射光5に対して傾いている゛ので該
入射口における反射光は光源の方には戻゛らず、レーザ
等のコヒーレント元諒の出力を不安定にするという問題
は生じない。
上述したように1本発明においては光学部品の裏面反射
光は受光部に戻らないため、゛第3図゛において27−
1 、27−2のごとき裏面反射光に起因した干渉縞ノ
イズ成分は除去され、検出すべき試料と参照εうの干渉
縞26のみを明瞭に検出゛し、試料の微細な表面形状を
高精度に測定できる。しかも直交光学系を維持できるの
で光学系・が容易に構成でき、従来の光学顕微鏡をその
ま・まオυ用することができる。□ 〔発明の効果〕 本発明により、従来の顕微跳のビームスプリッタ(葉た
はハーフミラ)を本発明の形状に変更するだけで、容易
に尚精度な光波干渉装置を。
作ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るビームスプリッタを示。 す図、第2図から第4図は本発明に係る他のビ。 −ムスグリツタを示す図、第5図は、従来の干。 渉計分牌能を向上させた新しい光波干渉計を示−す図、
第6図は、従来の顕微鏡ハーフミラの間゛題点説四図、
第7図は第5図光波干渉計の干渉“鍋パターン説明図、
第8図は従来のビームス1゛リツタを傾斜させた場合の
問題点説明図であるgl・・・光源      2・・
・照明レンズ系  ・3・・・照明光 4・・・プリズムのビームスプリッタ 4−1 、4−2・・・出射面 5.6・・・出射面からの反射光 7.8・・・対物レンズ           ・9・
・・対物レンズ裏面反射光 10・・・試料      11・・・参照ミラ12・
・・ステージ 13・・・試料及び参照ミラからの反射光14・・・結
像レンズ   15・・・受光部16・・・TVモニタ 17・・・平板形状のハーフミラ 18・・・裏面反射光   19・・・7’ V画面 
   。 20・・・台形プリズムのビームスプリッタ   ・2
0′・・・長方形状のビームスグリツタ21.23.2
5・・・反射間 22・・・平行四辺形状のビームスプリッタ24・・・
楔形状のビームスプリッタ 第1Y i 力?7 第3区 箔4図 第5区 第6V Ir′

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.照明光をビームスプリッタにより試料側と参照面側
    に導くようにした干渉装置において、ビームスプリツタ
    の入射面,出射面を照明光光軸に対して垂直にならない
    ような形状のビームスプリツタを設けたことを特徴とす
    る裏面反射光を防止した光波干渉装置。
  2. 2.特許請求の範囲第1項において、ビームスプリツタ
    の断面形状が長方形、平行四辺形もしくは菱形で、その
    対角線上に反射面を有しており、かつ上記ビームスプリ
    ツタの全体または部分形状が光路中に設けられているこ
    とを特徴とする裏面反射光を防止した光波干渉装置。
  3. 3.特許請求の範囲第1項において、ビームスプリツタ
    の断面形状が楔形で、その一面に反射面を有しており、
    かつ上記ビームスプリツタの全体または部分形状が光路
    中に設けられていることを特徴とする裏面反射光を防止
    した光波干渉装置。
JP59262734A 1984-12-14 1984-12-14 光波干渉装置 Expired - Lifetime JPH0650243B2 (ja)

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JP59262734A JPH0650243B2 (ja) 1984-12-14 1984-12-14 光波干渉装置

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JPH0650243B2 JPH0650243B2 (ja) 1994-06-29

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01206205A (ja) * 1988-02-12 1989-08-18 Keyence Corp スペックルパターン干渉計
US6636317B2 (en) 2000-02-18 2003-10-21 Ando Electric Co., Ltd. Optical interferometer
JP2008046162A (ja) * 2006-08-10 2008-02-28 Canon Inc 反射光学素子および撮像装置
JP2009162539A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Fujinon Corp 光波干渉測定装置
JP2009244227A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujinon Corp 光波干渉測定装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5184267A (en) * 1975-01-21 1976-07-23 Konishiroku Photo Ind Kanshosochi
JPS59171038A (ja) * 1983-03-18 1984-09-27 Hitachi Ltd ビデオデイスクプレ−ヤ用偏光ビ−ムスプリツタ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5184267A (en) * 1975-01-21 1976-07-23 Konishiroku Photo Ind Kanshosochi
JPS59171038A (ja) * 1983-03-18 1984-09-27 Hitachi Ltd ビデオデイスクプレ−ヤ用偏光ビ−ムスプリツタ

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01206205A (ja) * 1988-02-12 1989-08-18 Keyence Corp スペックルパターン干渉計
US6636317B2 (en) 2000-02-18 2003-10-21 Ando Electric Co., Ltd. Optical interferometer
JP2008046162A (ja) * 2006-08-10 2008-02-28 Canon Inc 反射光学素子および撮像装置
JP2009162539A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Fujinon Corp 光波干渉測定装置
JP2009244227A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujinon Corp 光波干渉測定装置

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JPH0650243B2 (ja) 1994-06-29

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