JPH04278408A - 物体表面の高さを光学的に測定する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、軸線に沿う物体の表面
の高さを光学的に測定するための装置であって、該装置
が放射ビームを発生すると共に走査すべき物体の表面上
に走査スポットを形成するための放射源と、走査スポッ
トの像を平面に形成するための結像系と、前記平面にお
ける像の位置を測定するための手段とを具えている物体
表面の高さを光学的に測定するための装置に関するもの
である。

【０００２】斯種の装置は、例えば表面が所望な外形を
しているかどうか、例えば平板が実際に平らであり、溝
又は突起のいずれもないかどうかを三角測量でチェック
するのに用いられる。上記装置は穴及び突起が基板上の
正しい位置に設けられているか、否かをチェックしたり
、又例えば導電性の金属細条及び電子部品を設けた電気
的に絶縁性の平板を具えている電子回路を調べたりする
のにも用いることができる。

【０００３】

【従来の技術】冒頭にて述べたような装置は特に欧州特
許出願公開明細書第０，１３４，５９７　号から既知で
ある。これには物体の表面と基準レベルとの間の距離を
求めるように三角測量を行なうための装置が開示されて
いる。この従来装置は放射源を具えており、この放射源
からの狭い放射ビームは物体表面に入射して、そこに放
射スポットを形成する。放射スポットは１個以上の対物
レンズによって線形の放射−検知検出器の表面上に集束
される。放射スポットが検出器の表面上に結像される位
置は、表面に入射する放射ビームが物体表面に当る場所
、従ってこの物体表面の高さを示す。検出器表面を横切
る放射スポットの位置の変位は、測定すべき物体の表面
高さの変化に関係する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】高さ測定の感度、即ち
表面高さの変化と検出器表面を横切る入射放射の位置の
変位との間の比は特に、入射放射ビーム又は結像系の光
軸に対する位置−検知放射検出系の表面の傾斜度に依存
する。しかし、最大感度を得るために小角度を選定する
場合には、放射が検出器の表面をかすめて、放射の殆ど
大部分が検出器の表面で反射され、ごく僅かの放射しか
測定することができない。従って、高さ測定の感度を高
めるために検出器表面の傾きを利用することは制約され
る。本発明の目的は上述したような制約を克服すること
にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、軸線に沿う物
体の表面の高さを光学的に測定するための装置であって
、該装置が、放射ビームを発生すると共に走査すべき物
体の表面上に走査スポットを形成するための放射源と、
スクリーンと、このスクリーン上に走査スポットの像を
形成し、スクリーン上におけるこの像の位置が測定表面
の高さの目安となるようにする第１光学結像系と、第２
光学結像系と、放射−検知面を有している位置−検知放
射検出系とを具え、前記放射−検知面が、前記走査スポ
ットの像をこの放射−検知面上に再結合させる前記第２
光学結像系を介して前記スクリーンと共役関係にあるよ
うに構成したことを特徴とする物体の表面の高さを光学
的に測定する装置にある。

【０００６】スクリーンを、それにすれすれに入射する
放射の大部分が第２結像系の方へと、好ましくはスクリ
ーンの表面に対してほぼ垂直の方向へと反射されるよう
に形成することにより、高さの変化に対する感度がかな
り高くなり、さらに放射も位置−検知放射検出系の放射
−検知面にほぼ垂直に入射するようになる。さらに、感
度を放射検出器の幅に適合させるために第２結像系によ
りスクリーンを検出器表面上に拡大又は場合によっては
縮小形態で結像させることができる。

【０００７】本発明による装置の好適例では、前記スク
リーンを平坦なスクリーンとし、このスクリーンを配置
する平面と、前記第１光学結像系の第２主平面とが互い
に交差する点が、前記装置の軸線と前記第１光学結像系
の第１主平面とが交差する点の共役点とほぼ一致するよ
うにする。このようにすれば、第１結像系及びスクリー
ンが所謂シャインフラッグ（Ｓｃｈｅｉｍｐｆｌｕｇ）
　条件に従って、先ずは物体の表面上の放射スポットが
表面の高さに無関係にスクリーン上にピントが合って結
像されるようになる。薄いレンズを用いる場合には、上
記共役点がほぼ一致する。

【０００８】特に、シャインフラッグ条件を満足する装
置にはスクリーンを用いるのが極めて有利である。表面
上の急勾配の高さの変化を満足に測定し得るようにする
ためには、第１結像系の光軸が表面に入射する放射ビー
ムの方向に対して、即ち表面の高さを測定する軸線方向
に対して小角度で延在するようにするだけでよい。この
ようにするには、表面上の陰影効果を最小にすべきであ
る。従って、レンズの主平面は前記軸線にほぼ垂直とす
ると共に交差個所をレンズに近い所に位置させる。こう
した状況で高さ測定の感度を十分とするためには、表面
上の放射スポットの像をこの表面の種々の高さにて集束
させる平面が第１結像系の光軸に対して幾分鋭角で延在
し、放射がこの平面にすれすれの小角度で入射するよう
にする。

【０００９】なお、シャインフラッグ条件を満足する三
角測量原理に従う光学測定系は前記欧州特許出願公開明
細書第０，１３４，５９７　号から既知である。しかし
、この欧州特許からは高さの変化に対する感度を高める
ために位置−検知検出器の位置を利用したり、三角測量
角度が小さい場合におけるシャインフラッグ条件の欠点
をなくすためにスクリーンを用いることは知られていな
い。

【００１０】本発明の他の好適例では、スクリーンの表
面を弯曲させる。スクリーンは、例えば放射スポットの
集束像が表面に形成される正確なライン又は近似ライン
に従って弯曲させる。

【００１１】本発明の他の好適例では、前記第１結像系
の光軸に対する前記軸線の角度が、前記スクリーンの平
面に対する前記第１結像系の光軸の角度よりも大きくな
るようにする。この状態での表面高さの変化はスクリー
ン上の像の変位となり、この変位は第１結像系の横方向
の拡大（又は縮小）により増大される高さの変化よりも
大きい。

【００１２】さらに本発明の他の適例では、前記第１及
び第２光学結像系を前記スクリーンの同じ側に配置し、
これらを配置する側のスクリーンが拡散反射又は発光す
る表面層を有するようにする。拡散反射する表面層はス
クリーンに対して入射放射の角度にほぼ無関係に入射放
射を散乱させるため、スクリーンが傾斜している場合で
もスクリーン上のスポット位置は第２結像系を介して位
置−検知放射検出系の上に十分な光強度で再結像される
。スクリーンの表面にはＢａＳＯ４　の如き白色の拡散
反射材料を被着するか、その表面に発光被膜を設けるの
が好適である。

【００１３】さらに本発明の他の例では、前記第１及び
第２光学結像系を前記スクリーンの同じ側に配置し、且
つ前記スクリーンが多数の線形要素から成る反射構体を
有し、前記多数の線形要素が前記第１及び第２光学結像
系の光軸により画成される平面に対してほぼ垂直の方向
に平行に延在するようにする。この場合、前記要素は２
つの光軸の平面内における放射の反射が影響されるよう
に配置する。これは例えば、基板の片面を細かく粗くし
た一方向の狭いスクラッチによるか、又は格子ラインが
前記平面に対して垂直な格子によって実現することがで
きる。このような格子は多数の反射性ファセットを具え
ており、これらのファセットの表面はスクリーンの平面
に対して或る角度で延在させる。

【００１４】スクリーンには内部に反射面を有している
要素を設けることもできる。このようなスクリーンは例
えば透明ファイバの反射層又はプリズムを有し、このス
クリーンではそれらの前側で反射が起るだけでなく、ス
クリーン材料の内部でも放射が屈折して反射する。

【００１５】さらに本発明の好適例では、前記第１及び
第２光学結像系をスクリーンの両側に配置し、該スクリ
ーンを透過形スクリーンとする。透過形スクリーンは例
えば、ガラス又はポリメチルメタクリレートの如き透明
材料で構成し、このスクリーンが反射性ファセット、透
過格子又はホログラムを有するようにする。透過形スク
リーンを用いることにより高さ測定装置の構成がコンパ
クトになる。凸側が第１結像系に面している弯曲スクリ
ーンを用いると、透過形スクリーンを平坦な位置−検知
検出系上に一層簡単に結像させることができる。

【００１６】本発明は、放射ビームを発生すると共に走
査すべき物体の表面上に走査スポットを形成するための
放射源ユニット及び前記走査スポット及び物体を互いに
相対的に変位させる手段を具えており、さらに走査すべ
き任意位置における物体の高さを測定するために前述し
たような表面の高さ測定装置も具えている走査形光学高
さ測定計にも関するものである。

【００１７】本発明は特に、前記走査スポットを前記物
体の表面上にて直線に沿って変位させる偏向手段及び走
査スポットのまわりの表面部分の空間的な像を形成する
ための光学系も具え、前記表面部分を前記偏向系を介し
て選択するようにした走査形光学高さ測定計に関するも
のである。この場合の表面の高さを測定する装置は、実
際に測定すべき表面の方向でなく、他の光学系によって
形成される像に向けられる第１結像系を具えている。表
面は偏向系が常に像を形成する別の表面部分を選択する
ように走査される。このような像を得ることのできる走
査装置については未公開のオランダ国特許願第９０００
１００　号に記載されている。

【００１８】

【実施例】図１は本発明による装置の第１実施例を示す
。放射源ユニット１、例えばレーザは狭い放射ビーム２
を発生し、このビームは例えばミラー３を介して物体表
面１０にほぼ垂直に入射して、そこに放射スポット１１
を形成する。放射ビーム２が表面１０に入射する方向を
軸Ａ−Ａ′と称し、この軸に沿う表面１０の高さを測定
する。 表面１０は多数の突起及びくぼみを有しており、基準点
Ｏに対するこれらの高さΔＺを測定する。

【００１９】表面１０における放射スポット１１は第１
結像系２０によってスクリーン３０にスポット３１とし
て結像される。次いでスクリーン３０は第２結像系４０
を介して位置−検知放射検出系５０に結像される。スク
リーン３０は、すれすれの角度でこのスクリーンに入射
する放射のかなりの部分をスクリーンの表面にほぼ垂直
に反射するように形成されるため、放射検出系５０に形
成される像は、この放射検出系５０上に再結像されるス
ポット３１の像５１の位置、従ってスクリーン３０にお
けるスポット３１の位置を規定するのに十分な光強度を
有する。スポット３１の位置は表面１０における放射ス
ポット１１の位置に直接関連している。 放射スポット１１の空間位置は軸Ａ−Ａ′上にあるため
、スクリーン３０におけるスポット３１の位置及び検出
系５０に再結像されるスポット３１の像５１は、表面１
０が軸Ａ−Ａ′と交差する個所の高さを明瞭に規定する
。表面１０の距離ΔＺにわたる変位はスクリーン３０を
横切るスポット３１、従ってスポット５１の対応する位
置変位を必然的に伴なう。スポット５１の位置は位置−
検知放射検出系５０の出力信号から処理ユニット５２に
て求められて、高さ信号に変換され、この高さ信号が処
理ユニット５２の出力端子５３に得られる。

【００２０】図１では第１及び第２結像系を単一レンズ
として示してあるが、これらは複合レンズとすることも
できることは勿論である。結像系の倍率を図面では１：
１としているが、これらの結像像の倍率を変えることに
よって測定範囲を大きくしたり、感度を高めたりするこ
とができる。

【００２１】スクリーン３０は、このスクリーンを位置
させる平面と第１結像系２０の第２主平面Ｈ２とが、第
１主平面Ｈ１と軸Ａ−Ａ′の交点Ｐ１の共役点である点
Ｐ２にて互いに交差するように配置するのが好適である
。第１結像系として薄いレンズを用いると、第１及び第
２主平面がほぼ一致して、点Ｐ１とＰ２もほぼ一致する
ようになる。斯かる条件、つまり１９１５年にオースト
リア人の大佐がこれを発見した後に名付けられたシャイ
ンフラッグ（Ｓｃｈｅｉｍｐｆｉｕｇ）　条件は、先ず
は光軸Ａ−Ａ′の点がスクリーン３０上にピントが合っ
て結像されることを意味する。従って、表面１０の高さ
に無関係に放射スポット１１はスクリーン３０に良好に
規定されたスポットを形成する。

【００２２】位置−検知放射検出系はＣＣＤ素子又は一
連のホトダイオードで構成することができるが、例えば
両端に電極を有しており、これら２つの電極における光
電流の差が、放射検知面に放射が当る位置の目安となる
拡張ホトダイオードで構成することもできる。例えば、
入射放射の位置が放射伝導量の尽きる個所での放射強度
から求められるような放射伝導量を呈する放射検出系を
用いることもできる。このような位置−検知放射検出系
はオランダ国特許出願第９００２２１１　号明細書に記
載されている。

【００２３】図２は表面の高さを測定する装置の第２実
施例を示す。この例でも放射源ユニット１にて発生され
た狭い放射ビーム２は測定すべき表面１０上に放射スポ
ット１１を形成する。この放射スポットは第１結像系２
０を経てスクリーン３０上にスポット３１として結像さ
れる。図１に示した実施例と対比するに、この例におけ
るスクリーン３０は平坦でなく、僅かに弯曲させて、い
ずれの位置の放射スポット１１もスクリーン上に正確に
ピントが合った像として形成されるようにする。図面を
簡単にするために、第１結像系２０の主平面が一致し、
光軸Ａ−Ａ′と単一点Ｐで交差するように図示してある
。

【００２４】この第２実施例におけるスクリーン３０は
反射性のスクリーン（この場合には２つの結像系をスク
リーンの同じ側に配置する）でなく、透過形のスクリー
ンである。第２結像系４０はスクリーン３０を挟んで第
１結像系２０とは反対側に配置し、放射が透明スクリー
ンを透過するようにする。このような配置では、結像系
４０によりスクリーン３０の曲率を検出系５０上の平坦
像面に比較的簡単に整合させることができる。この実施
例も全光学系が一方向に組立てられるために大きな自由
作業範囲を有している。

【００２５】図３ａ，３ｂ及び３ｃは本発明による装置
に使用するスクリーンを示す。図３ａは表面に拡散反射
材料１３２　を設けた平坦な基板１３１　から成るスク
リーン１３０　を示す。反射材料は放射源ユニットが発
生する放射波長に対して高い反射係数を有するものとす
べきであり、これは例えばＢａＳＯ４　の如き白色の拡
散反射材料とするか、又は使用する放射の色のものとす
ることができる。 スクリーンの表面に入射する放射ビーム１０１　は拡散
反射面により散乱し、これにより散乱放射１０２の大部
分が表面からほぼ垂直方向に出る。受動的な反射材料と
は別に、スクリーンの表面層は発光層とすることもでき
る。 この場合には放射検出系として、放射源ユニットにて発
生される放射の波長とは異なる波長の放射に感応するも
のを用いるようにする。

【００２６】図３ｂはスクリーン１３０　の第２の例を
示す。この例では基板１３３　の前側に多数の細かなス
クラッチ（かき傷）１３４　を設け、これらのスクラッ
チを主として入射放射ビーム１０１　の方向に対して垂
直な方向に延在させる。このようなスクリーンでも入射
放射は散乱し、入射放射ビーム１０１　の方向に向う散
乱放射１０３　はごく僅かである。一方向のスクラッチ
を使用できる理由は、入射ビーム１０１　がスクリーン
上の種々の位置に突き当ることができるも、その入射ビ
ームの方向は少ししか変化せず、しかも入射ビーム１０
１　はスクラッチ方向に対して垂直の平面内にしか位置
させないからである。

【００２７】入射ビームの方向の同様な制約は図３ｃに
示すスクリーンでも利用される。この例では基板１３５
　の前側が多数のファセット１３６　を有しており、こ
れらのファセットはビーム１０４　が第２結像系の方向
を向くように入射放射ビーム１０１　を反射させるよう
な方向に向ける。 測定すべき表面上の放射スポットはスクリーン上にピン
トが合って結像されるため、スクリーンの前側は例えば
アルミニウム製の鏡のような反射層とする。同じような
方向性の効果は、前側に格子を設けて、干渉により放射
の大部分が第２結像系の方へと反射されるようにしても
得られる。格子は平坦とするが、これは焼付けるのが好
適である。

【００２８】図４ａ及び４ｂは内部に反射面を有してい
る２つのスクリーンを示す。図４ａのスクリーンでは多
数の光学ファイバ２３２　を基板２３１　に平行に配置
する。スクリーンに入射する放射ビーム２０１　は、そ
の一部が２０２　で示すように直接反射される。入射放
射の一部は透明ファイバ２３２　内に入り、その内部で
数回反射されて、例えばファイバから２０３　で示す方
向に出射する。入射ビームはファイバ内で繰返し屈折及
び反射するため、スクリーンから到来する放射の方向は
入射ビーム２０１　の方向にほぼ無関係となる。反射性
を高めるために、基板２３１　の表面２３３　に反射層
を設けて、ファイバから来る放射が基板２３１　にて吸
収されないようにするのが好適である。

【００２９】図４ｂは内部反射面を有しているスクリー
ンの他の例を示す。スクリーン２３０は透明材料の平板
で構成し、この平板の前側は断面が三角形のリッジ２３
４　を有している。入射放射ビーム２０１　の一部はリ
ッジのファセットで反射され、他の一部は透明材料中に
て屈折される。この屈折放射はファセットの内側と平板
の裏側にて数回反射されて、前側から再び出射する。平
板の裏側２３５　には反射層を設けるのが好適である。

【００３０】図５ａは透明平板３３０　から成る透過形
スクリーンを示し、このスクリーンの前側３３１　は透
過格子、例えば位相又は振幅格子を有している。この格
子は入射放射ビーム３０１　を主として第２結像系に向
う方向３０２　に出射させるようにする。平板の前側に
は反射防止被膜を設けるのも好適である。平板の裏側３
３４　の表面は粗くして、この平板から出る放射が或る
程度広がるようにすることができる。

【００３１】図５ｂに示す透過形スクリーンも透明平板
で構成する。これは前側に断面が三角形をしているリッ
ジを有しており、これらリッジの第１ファセット３３３
　は、これらが入射放射ビーム３０１　の方向に対して
ほぼ垂直となるように向ける。従って、これらのファセ
ットで生ずる屈折及び反射は最小である。第２ファセッ
ト３３２は入射ビーム３０１　を第２結像系に向けて反
射させるように向ける。入射放射ビーム３０１　は第２
ファセットで例えば全内部反射により反射されてビーム
３０２　として出射する。スクリーンの裏側３３４　は
ビーム３０２　を第２結像系の方へと広げるために粗く
することができる。

【００３２】図６は例えばＰＣＢ（プリント回路基板）
を走査するための本発明による走査形光学高さ測定計を
示す。放射源ユニットはコリメートレーザビーム２を発
生するレーザ１を具えている。レーザビーム２はレンズ
１４に入射し、このレンズはレーザビームを仮想平面１
９に集束させる。次いでレーザビームは円柱レンズ１３
を通って折返しミラー３及び４により反射されてから、
結像レンズ又はレンズ５及び６を具えている結像系を通
って、回転多角形ミラー７を経て走査すべき表面１０の
方へと偏向される。多角形ミラー７と走査すべき表面１
０との間には、走査すべき表面の幅全体にわたって延在
する補正ミラー８，９及び別の円柱レンズ１２を配置す
る。最終的にレーザビームは表面１０の上に走査スポッ
トを形成し、この走査スポットは多角形ミラー７の回転
により矢印１５で示す方向に表面を横切って移動する。 表面にて反射された放射は光学系を逆方向に進んで、仮
想平面１９の上、又はその近くに像１１を形成する。こ
の像を前述したような高さ測定装置により検出する。全
表面１０はＰＣＢを走査方向に対して直角の方向に動か
すことにより走査される。

【００３３】高さ測定装置は、より正確な測定をするた
め及び陰影をなくすために２重の構造を有している。こ
の高さ測定装置は２つの第１結像系２１及び２２を具え
ており、これらの結像系の光軸は仮想平面にて、レーザ
ビーム２の主光線がこの仮想平面を通過する点にて交差
する。第１結像系２１及び２２はそれぞれスクリーン３
３及び３４上にスポット１１の再結像−像を形成する。 第２結像系４１及び４２はスクリーン３３及び３４を位
置−検知放射検出系５４及び５５上に結像させ、これら
の検出系の出力信号は放射スポット１１の瞬時的な高さ
、従ってＰＣＢの表面における回路部品の有無を示す。

【００３４】円柱レンズ１２及び１３の開口数は十分大
きくして、検出系５４及び５５に走査スポット１１の像
を十分な光強度で形成し得るようにする。走査装置及び
円柱レンズに関するもっと詳しいことは未公開のオラン
ダ国特許願第９０００１００　号に記載されている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による装置の実施例を示す図である。

【図２】本発明による装置の他の実施例を示す図である
。

【図３】本発明による装置に使用する外部に反射面を有
しているスクリーンの例をそれぞれ示す図である。

【図４】内部に反射層を有しているスクリーンの例をそ
れぞれ示す図である。

【図５】透過形スクリーンの例をそれぞれ示す図である
。

【図６】本発明による走査形光学高さ測定計の実施例を
示す図である。

【符号の説明】

１　　放射源ユニット ２　　放射ビーム ３，４　　ミラー ５，６　　結像レンズ ７　　多角形ミラー ８，９　　補正レンズ １０　　物体表面 １１　　放射スポット １２，　１３　　円柱レンズ １４　　集束レンズ ２０，　２１，　２２　　第１結像系 ３０，　３３，　３４　　スクリーン ３１　　スポット ４０，　４１，　４２　　第２結像系 ５０，　５４，　５５　　位置−検知放射検出系５２　
　信号処理ユニット

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　軸線に沿う物体の表面の高さを光学的
   に測定するための装置であって、該装置が、放射ビーム
   を発生すると共に走査すべき物体の表面上に走査スポッ
   トを形成するための放射源と、スクリーンと、このスク
   リーン上に走査スポットの像を形成し、スクリーン上に
   おけるこの像の位置が測定表面の高さの目安となるよう
   にする第１光学結像系と、第２光学結像系と、放射−検
   知面を有している位置−検知放射検出系とを具え、前記
   放射−検知面が、前記走査スポットの像をこの放射−検
   知面上に再結合させる前記第２光学結像系を介して前記
   スクリーンと共役関係にあるように構成したことを特徴
   とする物体の表面の高さを光学的に測定する装置。
2. 【請求項２】　　前記スクリーンを平坦なスクリーンと
   し、このスクリーンを配置する平面と、前記第１光学結
   像系の第２主平面とが互いに交差する点が、前記装置の
   軸線と前記第１光学結像系の第１主平面とが交差する点
   の共役点とほぼ一致するようにしたことを特徴とする請
   求項１に記載の装置。
3. 【請求項３】　　前記スクリーンが弯曲面を有している
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
4. 【請求項４】　　前記第１結像系の光軸に対する前記軸
   線の角度が、前記スクリーンの平面に対する前記第１結
   像系の光軸の角度よりも大きくなるようにしたことを特
   徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
5. 【請求項５】　　前記第１及び第２光学結像系を前記ス
   クリーンの同じ側に配置し、これらを配置する側のスク
   リーンが拡散反射又は発光する表面層を有することを特
   徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
6. 【請求項６】　　前記第１及び第２光学結像系を前記ス
   クリーンの同じ側に配置し、且つ前記スクリーンが多数
   の線形要素から成る反射構体を有し、前記多数の線形要
   素が前記第１及び第２光学結像系の光軸により画成され
   る平面に対してほぼ垂直の方向に平行に延在するように
   したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記
   載の装置。
7. 【請求項７】　　前記要素が内部反射面を有することを
   特徴とする請求項６に記載の装置。
8. 【請求項８】　　前記第１及び第２光学結像系をスクリ
   ーンの両側に配置し、該スクリーンを透過形スクリーン
   としたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に
   記載の装置。
9. 【請求項９】　　放射ビームを発生すると共に走査すべ
   き物体の表面上に走査スポットを形成するための放射源
   ユニット及び前記走査スポット及び物体を互いに相対的
   に変位させる手段を具えており、さらに走査すべき任意
   位置における物体の高さを測定するために前記請求項１
   〜８のいずれか一項に記載の装置も具えている走査形光
   学高さ測定計。
10. 【請求項１０】　　前記走査スポットを前記物体の表面
    上にて直線に沿って変位させる偏向手段及び走査スポッ
    トのまわりの表面部分の空間的な像を形成するための光
    学系も具え、前記表面部分を前記偏向系を介して選択す
    るようにしたことを特徴とする請求項９に記載の走査形
    光学高さ測定計。