JPS609924Y2 - レコ−ド - Google Patents
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- JPS609924Y2 JPS609924Y2 JP12074378U JP12074378U JPS609924Y2 JP S609924 Y2 JPS609924 Y2 JP S609924Y2 JP 12074378 U JP12074378 U JP 12074378U JP 12074378 U JP12074378 U JP 12074378U JP S609924 Y2 JPS609924 Y2 JP S609924Y2
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はピックアップの寿命を向上させることができる
レコードを提供しようとするものである。
レコードを提供しようとするものである。
映像信号の様な高周波信号を収録したレコードにピック
アップを接触させて信号の抽出を行なう電気機械変換方
式のものでは、その摺接時にレコード及びピックアップ
が摩耗変形する。
アップを接触させて信号の抽出を行なう電気機械変換方
式のものでは、その摺接時にレコード及びピックアップ
が摩耗変形する。
これを軽減ないし防止するために、レコード表面に潤滑
性を有する物質を塗布するものが知られている。
性を有する物質を塗布するものが知られている。
ところでこの潤滑剤には液状、固体、あるいは半固体状
のものがあるが、それらはいずれも薄膜状にすることが
困難であり、溶剤で希釈化した薄膜化すべくしている。
のものがあるが、それらはいずれも薄膜状にすることが
困難であり、溶剤で希釈化した薄膜化すべくしている。
ところが、レコードの基材である塩化ビニールの如き樹
脂を化学的に侵食してはならない条件を考慮すると使用
できる溶剤は著しく制約を受けるものである。
脂を化学的に侵食してはならない条件を考慮すると使用
できる溶剤は著しく制約を受けるものである。
一方において、潤滑性を有する物質として表面活性剤が
良く知られている。
良く知られている。
これは、液体に溶かすとその液体の表面張力を著しく減
少させる物質であり、これがごく希薄な濃度で存在する
ときでさえも表面に吸着して液の表面張力を低下せしめ
ることができるものである。
少させる物質であり、これがごく希薄な濃度で存在する
ときでさえも表面に吸着して液の表面張力を低下せしめ
ることができるものである。
したがってこの表面活性剤は均一化された薄膜化に有効
であり、また希釈化するには水その他の溶剤と良く混合
するので簡単に所望のコーテイング材を安価に得ること
ができる。
であり、また希釈化するには水その他の溶剤と良く混合
するので簡単に所望のコーテイング材を安価に得ること
ができる。
しかもこの表面活性剤はこれを塗布したものを導電性と
することができ帯電除去効果をも有している。
することができ帯電除去効果をも有している。
なお表面活性剤としては、陰イオン系としてカルボン酸
、硫酸エステル、スルホン酸、燐酸エステル型などが、
陽イオン系として脂肪族アミン塩、第4級アンモニウム
塩等が、両性系としてカルボン酸型等が、更に非イオン
系としてはエーテル型、アミノエーテル型、エーテルエ
ステル型などがあり、成分や製法により液状、半固体状
(グリース状)、固体状、粉末状などのものがある。
、硫酸エステル、スルホン酸、燐酸エステル型などが、
陽イオン系として脂肪族アミン塩、第4級アンモニウム
塩等が、両性系としてカルボン酸型等が、更に非イオン
系としてはエーテル型、アミノエーテル型、エーテルエ
ステル型などがあり、成分や製法により液状、半固体状
(グリース状)、固体状、粉末状などのものがある。
本考案はかかる表面活性剤からなる薄膜層を表面に形成
してピックアップの寿命を向上させることができるレコ
ードを提供しようとするものである。
してピックアップの寿命を向上させることができるレコ
ードを提供しようとするものである。
そして薄膜層は非イオン系表面活性剤と陽イオン系表面
活性剤を重量比にして同率で混合した表面活性剤により
形成してピックアップの寿命を延長せしめんとするもの
である。
活性剤を重量比にして同率で混合した表面活性剤により
形成してピックアップの寿命を延長せしめんとするもの
である。
第1図は本考案のレコードをその信号溝に直交する方向
に切断した断面図であり、1は塩化ビニールで形成した
レコード基台、2はこの基台上に形成した信号溝、3は
この基台の信号溝を持つ表面に塗布した薄膜層である。
に切断した断面図であり、1は塩化ビニールで形成した
レコード基台、2はこの基台上に形成した信号溝、3は
この基台の信号溝を持つ表面に塗布した薄膜層である。
信号溝2はその延在方向(紙面に直交する方向)に0.
1〜0.3μ風の範囲にわたってその高さを変化してお
り、前記薄膜層3は信号溝の凹部においてその層厚が大
きくなる傾向を示すが、その層厚は凹部が埋まらない範
囲であれば信号の再生に支障はない。
1〜0.3μ風の範囲にわたってその高さを変化してお
り、前記薄膜層3は信号溝の凹部においてその層厚が大
きくなる傾向を示すが、その層厚は凹部が埋まらない範
囲であれば信号の再生に支障はない。
この薄膜層を形成する方法としてはたとえば浸漬法、ス
プレー法、刷毛塗り法、あるいは蒸着法があり、このう
ち真空蒸着法が有利に均一化できる方法として知られて
いる。
プレー法、刷毛塗り法、あるいは蒸着法があり、このう
ち真空蒸着法が有利に均一化できる方法として知られて
いる。
第2図は真空蒸着法を適用する装置を例示しており、図
において4は気密性を有するガラス製ペルジャー、5は
このペルジャーの支持台、6は試料支持体7を支持する
支持部、8は試料(レコード)、9は支持台に設けた加
熱部、10は被覆物質の入った容器である。
において4は気密性を有するガラス製ペルジャー、5は
このペルジャーの支持台、6は試料支持体7を支持する
支持部、8は試料(レコード)、9は支持台に設けた加
熱部、10は被覆物質の入った容器である。
この容器10の中の被覆物質は加熱部9により加熱され
、それが一定温度に達した時点で試料支持体7に試料8
を固定し、しかる後ペルジャー4を支持台5にセットし
てペルジャー内に排気して1Q−3Torr程度の真空
度とする。
、それが一定温度に達した時点で試料支持体7に試料8
を固定し、しかる後ペルジャー4を支持台5にセットし
てペルジャー内に排気して1Q−3Torr程度の真空
度とする。
加熱された被覆物質は蒸発しレコードの表面に堆積され
る。
る。
被膜の厚さは時間及び加熱温度を主な要因として容易に
所定の厚みに制御することができる。
所定の厚みに制御することができる。
たとえば、表面活性剤のアルキルエーテル系、アルキル
アミン系、脂肪酸エステル系材料では加熱温度80〜1
10℃、真空時間10分で、5000〜7000Aある
いは真空時間5分で2000A以下の膜厚が得られた。
アミン系、脂肪酸エステル系材料では加熱温度80〜1
10℃、真空時間10分で、5000〜7000Aある
いは真空時間5分で2000A以下の膜厚が得られた。
なお、塩化ビニール等のプラスチックでは50℃以上の
温度で軟化し、反ったり或いは信号部の変形などを招く
ことがあるため、装置内に挿入されるレコードは可能な
限り50′C以下、有利には室温に近い状態に保つ必要
があり、高温が懸念される場合にはたとえば試料支持体
7を冷却するような構造にすべく配慮しなければならな
い。
温度で軟化し、反ったり或いは信号部の変形などを招く
ことがあるため、装置内に挿入されるレコードは可能な
限り50′C以下、有利には室温に近い状態に保つ必要
があり、高温が懸念される場合にはたとえば試料支持体
7を冷却するような構造にすべく配慮しなければならな
い。
一般に表面活性剤は分子量が大きくなる程固体化する傾
向があるが、半固体、固体状のものはその融点が50〜
70℃なのでこの蒸着法によりレコードに塗布すること
ができる。
向があるが、半固体、固体状のものはその融点が50〜
70℃なのでこの蒸着法によりレコードに塗布すること
ができる。
第3図は第2図に示す反応系に高周波を印加することに
より蒸発飛行中の被覆物質粒子にグロー放電を適用せし
め飛行中の被覆物質雰囲気をプラズマ状態にせしめんと
する機構を示したもので、第2図と同−構成要素につい
ては同一図番を付している。
より蒸発飛行中の被覆物質粒子にグロー放電を適用せし
め飛行中の被覆物質雰囲気をプラズマ状態にせしめんと
する機構を示したもので、第2図と同−構成要素につい
ては同一図番を付している。
第3図において、11は電極、12は蒸発飛行中の被覆
物質粒子、13は高周波発生器である。
物質粒子、13は高周波発生器である。
この装置では、プラズマを形成する微細粒子は高エネル
ギー状態におかれるため粒子はさらに微細化しかつ活性
化されてレコードの表面に堆積される。
ギー状態におかれるため粒子はさらに微細化しかつ活性
化されてレコードの表面に堆積される。
かくして被覆物質は均一で薄い層状となって塗布され、
さらに活性エネルギーを保有した微粒子は単分子領域で
レコード表面と反応しより強固に密着する。
さらに活性エネルギーを保有した微粒子は単分子領域で
レコード表面と反応しより強固に密着する。
この方法によれば第2図のものよりも短時間の反応で所
望の膜厚が得られより効率的である。
望の膜厚が得られより効率的である。
なお高周波発生器13はその出力が0.2〜3KW1周
波数13.56MHzを用いると良好な結果が得られる
。
波数13.56MHzを用いると良好な結果が得られる
。
一方、他の被覆方法たとえば浸漬、スプレー法も適用で
きる。
きる。
この場合被覆物質を薄膜化する為に表面活性剤を水、4
塩化炭素、1−1−1トIJクロルエタンあるいは1−
1−2)リクロルー1−2−2 トリフルオルエタン、
イソプロピルアルコール、エチルエーテル、シクロヘキ
サン、n−へキサンの如き塩化ビニールに悪影響を及ぼ
さない溶剤により希釈して被覆すると所望の膜厚を得る
のに有利となる。
塩化炭素、1−1−1トIJクロルエタンあるいは1−
1−2)リクロルー1−2−2 トリフルオルエタン、
イソプロピルアルコール、エチルエーテル、シクロヘキ
サン、n−へキサンの如き塩化ビニールに悪影響を及ぼ
さない溶剤により希釈して被覆すると所望の膜厚を得る
のに有利となる。
たとえば表面活性剤の1〜10%水溶液中に浸漬するか
、この水溶液を用いてスプレーにより被覆すると充分乾
燥した後は100OA以下の膜厚が得られる。
、この水溶液を用いてスプレーにより被覆すると充分乾
燥した後は100OA以下の膜厚が得られる。
このように形成した薄膜層ヲ、更にフェルト地あるいは
ビロード地などのきめの細かいクリーナで払拭すること
により該層を均一化することができる。
ビロード地などのきめの細かいクリーナで払拭すること
により該層を均一化することができる。
第4図はレコード上に形成した薄膜層の材料を種々変化
させた場合の、該薄膜層を形成しない場合に対する相対
寿命を示したものである。
させた場合の、該薄膜層を形成しない場合に対する相対
寿命を示したものである。
図中、Aは従来方法である潤滑剤たるシリコン油で形成
した場合、Bは非イオン系表面活性剤(ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル又はポリオキシエチレンアルキル
フェノール)で形成した場合、Cは陽イオン系表面活性
剤であるアルキルアミン塩で形成した場合、Dは非イオ
ン系のポリエチレングリコール及びノニルフェニールエ
ーテルを組成とするもので形成した場合、Eは上記Bと
Cとを重量パーセントで1対1で混合したもので形成し
た場合、更にFは陰イオン系のアルキルリン酸塩で形成
した場合を示している。
した場合、Bは非イオン系表面活性剤(ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル又はポリオキシエチレンアルキル
フェノール)で形成した場合、Cは陽イオン系表面活性
剤であるアルキルアミン塩で形成した場合、Dは非イオ
ン系のポリエチレングリコール及びノニルフェニールエ
ーテルを組成とするもので形成した場合、Eは上記Bと
Cとを重量パーセントで1対1で混合したもので形成し
た場合、更にFは陰イオン系のアルキルリン酸塩で形成
した場合を示している。
なお図中のドツト数はサンプル数に対応する。
これは、周速20m/Secで回転するレコードに針圧
80■のピックアップを関係付けて再生実験をしたもの
であり、実施例Eでは何ら被膜を形成しない場合に比し
寿命を5倍以上とすることができた。
80■のピックアップを関係付けて再生実験をしたもの
であり、実施例Eでは何ら被膜を形成しない場合に比し
寿命を5倍以上とすることができた。
本考案はレコードの表面に表面活性剤からなる薄膜層を
設けたので再生針の寿命を著しく向上させることができ
、またこの表面活性剤の難揮発性に基づき前記薄膜層の
効果を長期間にわたって持続させることができる。
設けたので再生針の寿命を著しく向上させることができ
、またこの表面活性剤の難揮発性に基づき前記薄膜層の
効果を長期間にわたって持続させることができる。
単に再生針レコードの間に表面活性剤が薄く介在するこ
とにより、レコード表面が滑らかとなってレコードの表
面粗さに起因するS/Nの低下が軽減でき、良好なS/
Nを得ることができる。
とにより、レコード表面が滑らかとなってレコードの表
面粗さに起因するS/Nの低下が軽減でき、良好なS/
Nを得ることができる。
第1図は本考案のレコードの断面図、第2図及び第3図
は薄膜層を形成するための異なる装置の模型図、第4図
は各種薄膜層の寿命特性を示す図である。 1・・・・・・レコード、3・・・・・・薄膜層。
は薄膜層を形成するための異なる装置の模型図、第4図
は各種薄膜層の寿命特性を示す図である。 1・・・・・・レコード、3・・・・・・薄膜層。
Claims (2)
- (1)非イオン系表面活性剤と陽イオン系表面活性剤を
重量比にして同率で混合した表面活性剤よりなる薄膜層
を表面に形成してなるレコード。 - (2)前記非イオン系表面活性剤はポリオキシエチレン
アルキルエーテル又はポリオキシエチレンアルキルフェ
ノールであり、前記陽イオン系表面活性剤はアルキルア
ミン塩である実用新案登録請求の範囲第1項記載のレコ
ード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12074378U JPS609924Y2 (ja) | 1978-08-31 | 1978-08-31 | レコ−ド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12074378U JPS609924Y2 (ja) | 1978-08-31 | 1978-08-31 | レコ−ド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5536496U JPS5536496U (ja) | 1980-03-08 |
JPS609924Y2 true JPS609924Y2 (ja) | 1985-04-06 |
Family
ID=29077241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12074378U Expired JPS609924Y2 (ja) | 1978-08-31 | 1978-08-31 | レコ−ド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS609924Y2 (ja) |
-
1978
- 1978-08-31 JP JP12074378U patent/JPS609924Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5536496U (ja) | 1980-03-08 |
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