JPS6067663A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPS6067663A JPS6067663A JP17477483A JP17477483A JPS6067663A JP S6067663 A JPS6067663 A JP S6067663A JP 17477483 A JP17477483 A JP 17477483A JP 17477483 A JP17477483 A JP 17477483A JP S6067663 A JPS6067663 A JP S6067663A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- particles
- thin film
- photosensitive
- evaporation source
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｌ、産業上の利用分野
本発明は薄膜形成装置化量するものである。
２、従来技術
従来、多数の開口（特に、微細なメツシュ状開口）を有
する感光性スクリーンに静電荷像を形成し、この静電荷
像によりイオン流（例えば正イオン粒子）の通過を制御
して、帯電可能な層（例えば感光体ドラムの感光層）に
所定の静電荷像な形成する多色電子写真複写方式が知ら
れている。
する感光性スクリーンに静電荷像を形成し、この静電荷
像によりイオン流（例えば正イオン粒子）の通過を制御
して、帯電可能な層（例えば感光体ドラムの感光層）に
所定の静電荷像な形成する多色電子写真複写方式が知ら
れている。
第１図には１例えば白地圧点色画像部と赤色画像部とか
らなる２色原稿から画像を再現するための２色刷り用複
写機が示されている。 この装置本体の上部には往復動
する原稿台４工が設けられており、この原稿台４１上に
載置された原稿２５は照明ランプ４２忙より照明される
。 ４３．４４はミラー、４５は固定レンズ−４６は光
路中に出入れし得るように構成された可動の赤色フィル
ター、４７は赤色光を反射させ、赤色と補色関係にある
シアン色は通過させる可動式のダイクルイックフィルタ
ーであり、光路中に出入れし得るように＃＆成されてい
る。 第５図では赤色フィルター４６は光路からはずれ
、ダイクルイックフィルター４７は光路中に配置されて
いる状態を示している。 ドラム状をなした感光体５３
の表面に感光層１８が設けられ、感光体５３が時開方向
に回転すると感光層１８がコｐす帯電器２４によって均
一に帯電される。 感光層１８はセレンあるいは有機半
導体など九より作られる。 感光体５３の周送洗は、感
光＋１１ｔ１８を均−忙帯電する帯電器５４と、正に帯
電された黒色トナーを有する点色現像器４８と、正に帯
電された赤色トナーを有する赤色現像器４９と、！ｆ＆
光層ｌＢ上に残留するトナーおよび電荷を除去するクリ
ーニング装置３０とが配置されている。 ３１は感光体
５３と同径で。
らなる２色原稿から画像を再現するための２色刷り用複
写機が示されている。 この装置本体の上部には往復動
する原稿台４工が設けられており、この原稿台４１上に
載置された原稿２５は照明ランプ４２忙より照明される
。 ４３．４４はミラー、４５は固定レンズ−４６は光
路中に出入れし得るように構成された可動の赤色フィル
ター、４７は赤色光を反射させ、赤色と補色関係にある
シアン色は通過させる可動式のダイクルイックフィルタ
ーであり、光路中に出入れし得るように＃＆成されてい
る。 第５図では赤色フィルター４６は光路からはずれ
、ダイクルイックフィルター４７は光路中に配置されて
いる状態を示している。 ドラム状をなした感光体５３
の表面に感光層１８が設けられ、感光体５３が時開方向
に回転すると感光層１８がコｐす帯電器２４によって均
一に帯電される。 感光層１８はセレンあるいは有機半
導体など九より作られる。 感光体５３の周送洗は、感
光＋１１ｔ１８を均−忙帯電する帯電器５４と、正に帯
電された黒色トナーを有する点色現像器４８と、正に帯
電された赤色トナーを有する赤色現像器４９と、！ｆ＆
光層ｌＢ上に残留するトナーおよび電荷を除去するクリ
ーニング装置３０とが配置されている。 ３１は感光体
５３と同径で。
感光層１８と接触して従動するか又は反時耐方向に回転
する転写ドラムである。 ６３はコｐす放電器からなる
映写電極、３２は複写紙給紙皿、３３は複写紙給紙皿３
２に収納された複写紙５２を一枚ずつ給紙する給紙ｐ−
ラ、３４は複写紙を転写ドラム３１に搬送する第１搬送
−−ラ、３５は転写後に複写紙をドラム３１から分離し
易くするための除電な行なう静電分離器、３６は複写紙
をドラム３１から強制的に分離する分離爪である。
する転写ドラムである。 ６３はコｐす放電器からなる
映写電極、３２は複写紙給紙皿、３３は複写紙給紙皿３
２に収納された複写紙５２を一枚ずつ給紙する給紙ｐ−
ラ、３４は複写紙を転写ドラム３１に搬送する第１搬送
−−ラ、３５は転写後に複写紙をドラム３１から分離し
易くするための除電な行なう静電分離器、３６は複写紙
をドラム３１から強制的に分離する分離爪である。
また、３７はヒーター内蔵の定着装置である。
但、実際には複写紙５２を案内するガイド板を設けるが
、この図示は省略されている。
、この図示は省略されている。
一方、感光層１Ｂの外側には、光導電層が面するように
円筒状をなした感光性スクリーンドラムエフが配され、
このドラム１７は原稿台４１および感光層１８と同期し
て反時計方向に回転し得るように配置されている。 ま
症、このドラム１７の外側周辺には、スクリーン帯電器
２８と、感光スクリーンドラム１７上に残留する電荷を
除去するＥＬ（エレクトロルミネセンス）板またはＡＣ
コロナ除電器などで作ったスクリーン除電器３９と、感
光性スクリーンドラム１７の内側で感光体５３に対向す
る位置に荷電粒子を投射する荷電粒子源（コｐす放電器
）１９とが設げられている。
円筒状をなした感光性スクリーンドラムエフが配され、
このドラム１７は原稿台４１および感光層１８と同期し
て反時計方向に回転し得るように配置されている。 ま
症、このドラム１７の外側周辺には、スクリーン帯電器
２８と、感光スクリーンドラム１７上に残留する電荷を
除去するＥＬ（エレクトロルミネセンス）板またはＡＣ
コロナ除電器などで作ったスクリーン除電器３９と、感
光性スクリーンドラム１７の内側で感光体５３に対向す
る位置に荷電粒子を投射する荷電粒子源（コｐす放電器
）１９とが設げられている。
この感光性スクリーン１７は、第２図に示す如く、多数
の微細開口１０を有しかつ一方の面が露出したドラム状
導電性スクリーン１１と、この導電性スクリーンの少な
くとも他方の面に設けられた（図示の例では開口１０内
の壁面にも設けられている）絶縁層１３と、この絶縁層
上に設けられたバイアス用のＡｌ等の導電膜１４と、光
導電性（感光）層１５と、電荷輸送層１６とによって構
成されている。 導電性スクＩＪ−ン１１はステンＶス
、ＡＪ等の金属メツシュで、絶縁層１３はポリエチンン
等で、感光＋１１５及び電荷輸送層１６は有機光半導体
で夫々形成される。
の微細開口１０を有しかつ一方の面が露出したドラム状
導電性スクリーン１１と、この導電性スクリーンの少な
くとも他方の面に設けられた（図示の例では開口１０内
の壁面にも設けられている）絶縁層１３と、この絶縁層
上に設けられたバイアス用のＡｌ等の導電膜１４と、光
導電性（感光）層１５と、電荷輸送層１６とによって構
成されている。 導電性スクＩＪ−ン１１はステンＶス
、ＡＪ等の金属メツシュで、絶縁層１３はポリエチンン
等で、感光＋１１５及び電荷輸送層１６は有機光半導体
で夫々形成される。
この感光性スクリーン１７の製作に際し、特に上記導電
膜１４は第３図に示す如＜ＡＩ蒸発源２０の蒸着によっ
て形成される。 ところがこの場、合。
膜１４は第３図に示す如＜ＡＩ蒸発源２０の蒸着によっ
て形成される。 ところがこの場、合。
蒸発源２０からのＡＩ蒸気２１のうち、スフＩＪ ＝ン
基体１１へ向かう部分２１′は基体のメツシュ状開口１
０を通して反対側へ飛翔して、基体１１の裏側へ刈り込
み易いか、或いは基体１１の裏面へ直接付着してしまう
。 この結果、第４図のように裏面に付着また１１部分
によって導電膜１４と基体１１とが導通（短絡）してし
まうことになり。
基体１１へ向かう部分２１′は基体のメツシュ状開口１
０を通して反対側へ飛翔して、基体１１の裏側へ刈り込
み易いか、或いは基体１１の裏面へ直接付着してしまう
。 この結果、第４図のように裏面に付着また１１部分
によって導電膜１４と基体１１とが導通（短絡）してし
まうことになり。
不適当である。
３、発明の目的
本発明の目的は、基体の裏面への粒子の利殖な充二分に
防止できる装置を提供することにある。
防止できる装置を提供することにある。
４、発明の構成及びその作用効果
即ち１本発明は、薄膜構成物質の粒子（例えばＡＡ’や
絶縁材料）を飛翔させ、対向配置された基体上に堆積さ
せる薄膜形成装置において、前記基体に関し前記粒子の
飛翔源（例えば蒸発源やスプレーノズル）とは反対側に
、この反対側へ飛翔してきた粒子を前記基体に対して除
去するための除去手段（例えば後述のマンドンル）が設
けられていることを特徴とする薄膜形成装置に係るもの
である。
絶縁材料）を飛翔させ、対向配置された基体上に堆積さ
せる薄膜形成装置において、前記基体に関し前記粒子の
飛翔源（例えば蒸発源やスプレーノズル）とは反対側に
、この反対側へ飛翔してきた粒子を前記基体に対して除
去するための除去手段（例えば後述のマンドンル）が設
けられていることを特徴とする薄膜形成装置に係るもの
である。
木兄１３１１よれば、基体の反対側に粒子除去手段によ
る付着も含む）や直接付着することを効果的に防止する
ことができる。
る付着も含む）や直接付着することを効果的に防止する
ことができる。
５％実施例
以下１本発明の実施例を第５図〜第１１図について説明
する。
する。
第５図には、既述した感光性スクリーンの導電性スクリ
ーン基体１１（実際にはその表面又は外面１忙絶縁層１
３が既に形成されている。）と−ＡＡ’蒸発源２０とを
１０−’ 〜１０−’ Ｔｏｒｒの真空度に引かれたベ
ルンヤー（図示省略）内に配し、基体上にＡｌｌ蒸着膜
（既述の１４）を形成する真空蒸着方法又はその装置を
示す。 スクリーン基体１１は、″Ｖンドンル２２の周
りにセットされ、共に例えば１５ ｒｐｍの速度で回転
し得るように配されている。 この場合、基体１１と蒸
発源２０との間の領域において、基体１１の近傍にスリ
ット２３付きの遮蔽板２４を設けることが考えられる。
ーン基体１１（実際にはその表面又は外面１忙絶縁層１
３が既に形成されている。）と−ＡＡ’蒸発源２０とを
１０−’ 〜１０−’ Ｔｏｒｒの真空度に引かれたベ
ルンヤー（図示省略）内に配し、基体上にＡｌｌ蒸着膜
（既述の１４）を形成する真空蒸着方法又はその装置を
示す。 スクリーン基体１１は、″Ｖンドンル２２の周
りにセットされ、共に例えば１５ ｒｐｍの速度で回転
し得るように配されている。 この場合、基体１１と蒸
発源２０との間の領域において、基体１１の近傍にスリ
ット２３付きの遮蔽板２４を設けることが考えられる。
この場合には、第６図に明示する如く、蒸発源２０から
のＡＪ蒸気は、一点＠綜２１’で示す斜め方向の成分は
遮蔽板２４によって完全に遮断され、基体１１に対して
規制された粒子流２１のみがスリット２３を通して導び
かれ、絶縁層１３上に屓次堆積するように構成している
。 また実際には。
のＡＪ蒸気は、一点＠綜２１’で示す斜め方向の成分は
遮蔽板２４によって完全に遮断され、基体１１に対して
規制された粒子流２１のみがスリット２３を通して導び
かれ、絶縁層１３上に屓次堆積するように構成している
。 また実際には。
スリット２３の幅を５ ｎ＋＋ｎとすれば、このスリッ
ト幅内には第６図に示すように基体１１のメッシ瓢構成
部分が多数個（例えば２０個）分収まるよう忙構成され
る。
ト幅内には第６図に示すように基体１１のメッシ瓢構成
部分が多数個（例えば２０個）分収まるよう忙構成され
る。
このように、スリット２３付きの遮蔽板２４によって、
ＡＡｔ蒸気（又は分子）の規制された粒子２１のみを選
択して基体１１上に導びゆば一基体１１の表面又は外面
上にのみＡｌを堆積させることが期待できる。 しかし
、既述した如＜−Ａ１粒子には基体１１のメッシエ状開
口を通過して基体裏面側へ飛翔する部分もあるので、そ
のままでは裏面への粒子付着は防止できない。 この事
態は１本例による上記マンドレル２２の配置によって効
果的に阻止される。
ＡＡｔ蒸気（又は分子）の規制された粒子２１のみを選
択して基体１１上に導びゆば一基体１１の表面又は外面
上にのみＡｌを堆積させることが期待できる。 しかし
、既述した如＜−Ａ１粒子には基体１１のメッシエ状開
口を通過して基体裏面側へ飛翔する部分もあるので、そ
のままでは裏面への粒子付着は防止できない。 この事
態は１本例による上記マンドレル２２の配置によって効
果的に阻止される。
即ち、基体裏面側へ飛翔してきた粒子２１′は第６図に
明示する如く、マンドレル２２上に当たり。
明示する如く、マンドレル２２上に当たり。
ここで付着せしめられるために一基体１１の裏面へはも
はや付着できなくなるのである。 また。
はや付着できなくなるのである。 また。
既述した廻り込みについても、裏面側で浮遊する粒子が
マンドレル２２上に付着されるために、かなり減少させ
ることができる。
マンドレル２２上に付着されるために、かなり減少させ
ることができる。
上述したマンドレル２２について、第７図を用いてより
詳細−に説明する。
詳細−に説明する。
このマンドレル２２は、基体１１の内周に近接して設け
られているので、基体１１のメツシュを通過した０粒子
はマンドレル２２で阻止され一基体１１の他の内面への
付着が効果的に防止される。 この場合、マンドレル２
２は実際には、その本体２２′が追加のスリーブ２５と
接合、一体化され、このスリーブ２５上の両端に嵌め込
まれたリング２６に対し上述した基体１１が固定される
。
られているので、基体１１のメツシュを通過した０粒子
はマンドレル２２で阻止され一基体１１の他の内面への
付着が効果的に防止される。 この場合、マンドレル２
２は実際には、その本体２２′が追加のスリーブ２５と
接合、一体化され、このスリーブ２５上の両端に嵌め込
まれたリング２６に対し上述した基体１１が固定される
。
ここでは１本体２２′とスリーブ２５との組合せを「マ
ンドレル」と称する。 マンドレル２２と基体１１との
間隔ｄは１ ｍｍ以上あればよく、１０〜２０ｍｍとす
ることも可能である。 この間隔が存在することによっ
て、製膜後に基体１１をマンドレルから取外し易くなり
、またマンドレル２２に対しセットもし易くなる。
ンドレル」と称する。 マンドレル２２と基体１１との
間隔ｄは１ ｍｍ以上あればよく、１０〜２０ｍｍとす
ることも可能である。 この間隔が存在することによっ
て、製膜後に基体１１をマンドレルから取外し易くなり
、またマンドレル２２に対しセットもし易くなる。
但、構造的にみて、上記のスリーブ２５は必ずしも設け
なくてもよい。
なくてもよい。
第８図は、他の蒸着装置を示すが、この場合には、基体
１１にバイアス電圧２７をかけ、蒸発源２０からの粒子
２１を電子銃２８からの電子釦よって活性化若しくはイ
オン化することにより１粒子２１の基体ｌｌ上への吸着
効率を高めている。
１１にバイアス電圧２７をかけ、蒸発源２０からの粒子
２１を電子銃２８からの電子釦よって活性化若しくはイ
オン化することにより１粒子２１の基体ｌｌ上への吸着
効率を高めている。
第９図は、コイル電極２９に高周波３８を加え。
公知のＲＦイオンブレーティングと同様の原理で。
Ａｒガスを導入しながら蒸着を行なう例である。
第１０図は、スパッタ法によりＡＩ！膜を形成する例を
示し、ＡＪメタ−ット４０をＡｒガスによるプラズマで
スパッタし、叩き出されたＡＩ粒子又はクラスターをス
リット２３を介して基体１１上にほぼ垂直に入射させ、
上述したＡＩ導電膜１４を形成する。
示し、ＡＪメタ−ット４０をＡｒガスによるプラズマで
スパッタし、叩き出されたＡＩ粒子又はクラスターをス
リット２３を介して基体１１上にほぼ垂直に入射させ、
上述したＡＩ導電膜１４を形成する。
第１１図は、上述した各側とは違って、ＡＩ等の金属以
外の物質を製膜する装置を示す。
外の物質を製膜する装置を示す。
例えば、容器５０に収容した絶縁材料５１をスプンーガ
ン５５によって基体１１に吹付け、これによって上述し
た絶縁層１３を形成することも−できる。 この場合に
も、マンドレル２２の存在によって、絶縁材料の飛翔粒
子（実際には溶媒との混合物）が基体１１の裏側へ付着
することを防止することができる。
ン５５によって基体１１に吹付け、これによって上述し
た絶縁層１３を形成することも−できる。 この場合に
も、マンドレル２２の存在によって、絶縁材料の飛翔粒
子（実際には溶媒との混合物）が基体１１の裏側へ付着
することを防止することができる。
なお１本発明は、上述の感光性スクリーンに限らず、他
の薄膜１例えば垂直磁気記録層（例えばＣｏ−Ｃｒ膜）
の形成にも適用可能であり、その用途は広範である。
また、上述の遮蔽板は複数板組合せてよいし、スリット
に対し粒子流が収束するような電界又は磁界を作用させ
てもよい。 また、上述のマンドレル２２は種々に形状
を変更してよいし、或いはマンドレルに代る他の粒子除
去手段５例えば基体の内側を強制的忙排気する手段（プ
ｐワを含む。）を設けてもよい。 また、基体の断面形
状は矩形状等、他の形状であってよい。
の薄膜１例えば垂直磁気記録層（例えばＣｏ−Ｃｒ膜）
の形成にも適用可能であり、その用途は広範である。
また、上述の遮蔽板は複数板組合せてよいし、スリット
に対し粒子流が収束するような電界又は磁界を作用させ
てもよい。 また、上述のマンドレル２２は種々に形状
を変更してよいし、或いはマンドレルに代る他の粒子除
去手段５例えば基体の内側を強制的忙排気する手段（プ
ｐワを含む。）を設けてもよい。 また、基体の断面形
状は矩形状等、他の形状であってよい。
第１図〜第４図は従来例を示すものであって。
第１図は２色刷り用電子写真複写機の概略断面図。
第２図は感光性スクリーンの一部拡大断面図。
第３図は蒸着時の断面図。
第４図は蒸着後の感光性スクリーンの断面図である。
第５図〜第１１図は本発明の実施例を示すものであって
、 第５図は蒸着時の断面図。 第６図は第５図の要部拡大図。 第７図は基体保持構造を示す断面図２ 第８図、第９図、第１Ｏ図、第１１図は他の製造装置の
各概略図 である。 なお１図面に示した符号下おいて。 １１−−−−−−−−７−−−・・・・−−−−−ｍ−
導電性スクリーン基体１３−・−−−−・・−−−・−
・−−−−−−一絶縁層１４−・−・−・−−−−、−
−−−（Ａｌ１＞導電膜１５−−−−−・−−一・−・
−−−一−−−−−−感光層１６ ＝−−−−−−−−
−−−−一・−・−−−−−ｍ−電荷輸送層１７−−−
−−−−−−−−−−−−感光性スクリーン２０−−−
−−一一一一−−蒸発源 ２１−−−−−・−・・−、−、−−−−−−−−Ａ
Ｊ蒸気２２ ＝−−−−−−−−−・−−−−−−−−
−−−−−マンドレル２３−−−−＝−−＝−一・−ス
リット２４−−−−−−・−−−−−−−−−−一遮蔽
板である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 （他１名）第１図 第２０ 第４図 第５図 第６図 １ 一７図 第８図 第９図 第１０図 ↓ 第１１図
、 第５図は蒸着時の断面図。 第６図は第５図の要部拡大図。 第７図は基体保持構造を示す断面図２ 第８図、第９図、第１Ｏ図、第１１図は他の製造装置の
各概略図 である。 なお１図面に示した符号下おいて。 １１−−−−−−−−７−−−・・・・−−−−−ｍ−
導電性スクリーン基体１３−・−−−−・・−−−・−
・−−−−−−一絶縁層１４−・−・−・−−−−、−
−−−（Ａｌ１＞導電膜１５−−−−−・−−一・−・
−−−一−−−−−−感光層１６ ＝−−−−−−−−
−−−−一・−・−−−−−ｍ−電荷輸送層１７−−−
−−−−−−−−−−−−感光性スクリーン２０−−−
−−一一一一−−蒸発源 ２１−−−−−・−・・−、−、−−−−−−−−Ａ
Ｊ蒸気２２ ＝−−−−−−−−−・−−−−−−−−
−−−−−マンドレル２３−−−−＝−−＝−一・−ス
リット２４−−−−−−・−−−−−−−−−−一遮蔽
板である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 （他１名）第１図 第２０ 第４図 第５図 第６図 １ 一７図 第８図 第９図 第１０図 ↓ 第１１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ、薄膜構成物質の粒子を飛翔させ、対向配置された基
体上に堆積させる薄膜形成装置において。 前記基体に関し前記粒子の飛翔源とは反対側に。 この反対側へ飛翔してきた粒子を前記基体忙対して除去
するための除去手段が設けられていることを特徴とする
薄膜形成装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17477483A JPS6067663A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 薄膜形成装置 |
| US06/649,858 US4601922A (en) | 1983-09-21 | 1984-09-12 | Method of forming a layer of thin film on a substrate having a multiplicity of mesh-like holes |
| DE19843434433 DE3434433A1 (de) | 1983-09-21 | 1984-09-19 | Verfahren und vorrichtung zum erzeugen einer duennen schicht auf einem substrat |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17477483A JPS6067663A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 薄膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6067663A true JPS6067663A (ja) | 1985-04-18 |
| JPH0346545B2 JPH0346545B2 (ja) | 1991-07-16 |
Family
ID=15984429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17477483A Granted JPS6067663A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6067663A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100764185B1 (ko) * | 2000-03-06 | 2007-10-08 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 박막 형성 방법 및 ｅｌ 표시장치 제작방법 |
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1983
- 1983-09-21 JP JP17477483A patent/JPS6067663A/ja active Granted
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