JPS6056061A - 耐摩耗部品 - Google Patents
耐摩耗部品Info
- Publication number
- JPS6056061A JPS6056061A JP16330083A JP16330083A JPS6056061A JP S6056061 A JPS6056061 A JP S6056061A JP 16330083 A JP16330083 A JP 16330083A JP 16330083 A JP16330083 A JP 16330083A JP S6056061 A JPS6056061 A JP S6056061A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- base material
- treatment
- coating layer
- nitride
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は基材とその表面を複機する耐摩耗性の被覆層と
から成る耐摩耗部品に関し、更に詳しくは、該被覆層の
有用性を一層高度に発揮できるようにした耐隷粍部品に
関する。
から成る耐摩耗部品に関し、更に詳しくは、該被覆層の
有用性を一層高度に発揮できるようにした耐隷粍部品に
関する。
コンプレッサーのブレードなど各種の摺動部品の特性と
しては耐摩耗性が要求される。この要求を満たすために
、ステンレス鋼などで構成した基材の表面に窒化処理１
次炭処坦、ホウ化処理などを施して表面−の硬度を高め
ることが行なわれてきた。しかしながら、この場合の表
面硬化層はグイツカース硬さくＨｖ）で５００〜１００
０程度であシ、必ずしも充分な硬度とはいえず耐摩耗性
の点で満足すべき結果を与えることがなかった。
しては耐摩耗性が要求される。この要求を満たすために
、ステンレス鋼などで構成した基材の表面に窒化処理１
次炭処坦、ホウ化処理などを施して表面−の硬度を高め
ることが行なわれてきた。しかしながら、この場合の表
面硬化層はグイツカース硬さくＨｖ）で５００〜１００
０程度であシ、必ずしも充分な硬度とはいえず耐摩耗性
の点で満足すべき結果を与えることがなかった。
そのため、最近では基材の表面に直接ＴｉＮ 。
ＴｉＣ； ＳｉＣなどのセラミックス材を数μｍコーテ
ィングして被覆層を形成することが行なわれている。こ
の場合には、形成されたセラミックス被覆層の硬度はＨ
ｖで約２０００と高いので耐摩耗性という点では充分に
満足のいくものである。
ィングして被覆層を形成することが行なわれている。こ
の場合には、形成されたセラミックス被覆層の硬度はＨ
ｖで約２０００と高いので耐摩耗性という点では充分に
満足のいくものである。
しかしながら、この場合、応々にして基材とセラミック
ス被覆層との熱膨張率が異なるため両者間の密着性に難
点が生じ剥離等の現象が起き易くなる。また、被覆層の
厚みは数μｍと極めて薄く、しかも基材は例えば鉄の場
合Ｈｖで約２００と極めて軟らかいので、被覆層に外力
が印加されたとき基材が該外力に抵抗し得す結局は損壊
等の現象が起こシ、耐摩耗性という点では極めて有用な
被覆層の効果が充分に発揮されないという問題があった
。
ス被覆層との熱膨張率が異なるため両者間の密着性に難
点が生じ剥離等の現象が起き易くなる。また、被覆層の
厚みは数μｍと極めて薄く、しかも基材は例えば鉄の場
合Ｈｖで約２００と極めて軟らかいので、被覆層に外力
が印加されたとき基材が該外力に抵抗し得す結局は損壊
等の現象が起こシ、耐摩耗性という点では極めて有用な
被覆層の効果が充分に発揮されないという問題があった
。
本発明は、上記した欠点を解消し、セラミックス被覆層
の効果全充分に発揮し得る耐摩耗部品の提供を目的とす
る。
の効果全充分に発揮し得る耐摩耗部品の提供を目的とす
る。
本発明者は上記目的全達成すべく鋭意研究を重ねる中で
、基材の表面に直接セラミックス被覆層を形成するので
はなく、基材の表面に一旦、表面硬化処理を施して該表
面を硬化し、しかる後にこの硬化層の上にセラミックス
被覆層を形成すれば、たとえ該被覆層に外力が印加され
ても、該硬化層は硬℃のでいわば軟かい基材本体に対す
る防！！壁として作用することによフ、得られた耐摩耗
部品は損壊しないということ全着想し、本発明の耐摩耗
部品を開発するに到った。
、基材の表面に直接セラミックス被覆層を形成するので
はなく、基材の表面に一旦、表面硬化処理を施して該表
面を硬化し、しかる後にこの硬化層の上にセラミックス
被覆層を形成すれば、たとえ該被覆層に外力が印加され
ても、該硬化層は硬℃のでいわば軟かい基材本体に対す
る防！！壁として作用することによフ、得られた耐摩耗
部品は損壊しないということ全着想し、本発明の耐摩耗
部品を開発するに到った。
すなわち、本発明の耐摩耗部品は、基材と、該基材の表
面に表面硬化処理を施して形成した硬化層と、該硬化層
を被＆して形成した被覆層とがら構成されることを％徴
とＴ心。
面に表面硬化処理を施して形成した硬化層と、該硬化層
を被＆して形成した被覆層とがら構成されることを％徴
とＴ心。
まず、基材としては、その表面に後述する表面硬化処理
を施すことのできる材質であれば何であってもよいが、
通常、鉄（Ｆｅ）若しくはステンレススチールなどのＦ
ｅ系合金；チタン（Ｔｉ ）若しくはＴｉ−６Ａｔ−４
ＶなどのＴｉ系合金：アルば二つ、ム（Ａｔ）若しくは
Ａｔ−Ｃｕ系、 Ａｔ −Ｍｇ系などのＡｔ系合金が好
ましい。これら材質のうち、Ｆｅ若しくはＦｅ系合金は
その表面への硬化層形成が容易なのでとくに好ましい。
を施すことのできる材質であれば何であってもよいが、
通常、鉄（Ｆｅ）若しくはステンレススチールなどのＦ
ｅ系合金；チタン（Ｔｉ ）若しくはＴｉ−６Ａｔ−４
ＶなどのＴｉ系合金：アルば二つ、ム（Ａｔ）若しくは
Ａｔ−Ｃｕ系、 Ａｔ −Ｍｇ系などのＡｔ系合金が好
ましい。これら材質のうち、Ｆｅ若しくはＦｅ系合金は
その表面への硬化層形成が容易なのでとくに好ましい。
上記した基材の表面には表面硬化処理が施されて所定厚
みの硬化層が形成される。
みの硬化層が形成される。
表面硬化処理としては、表面硬化法として常用されてい
る窒化処理、浸炭処理、ホウ化処理のいずれか全適宜に
選定して行なう。このとき、どの処理方法を採択するか
ということは、基材の種類（表面硬化処理が可能か否か
）、後刻に形成する被覆層の種類（得られた硬化層の上
に被覆層を密着して形成できるのか否か）Ｋ関係する問
題や、また、得られるであろう硬化層は硬くかつその熱
膨張係数が基材と被栓−のそれの中間の値になるのか否
かに関する問題、などを考慮して決めればよい。とくに
、窒化処理の場合、得られる硬化層の硬度は浸炭処理、
ホウ化処理の場合よシも幾分小さいが、処理時の温度は
５００〜６００ ’Ｃ（９炭処理の場合的９００℃、ホ
ウ化処理の場合的１０００℃）と低く処理時におけるエ
ネルギー効率が大であるので、好ましい。硬化層の厚み
は、通常、表面から５０〜２００μｍ程度であればよい
。
る窒化処理、浸炭処理、ホウ化処理のいずれか全適宜に
選定して行なう。このとき、どの処理方法を採択するか
ということは、基材の種類（表面硬化処理が可能か否か
）、後刻に形成する被覆層の種類（得られた硬化層の上
に被覆層を密着して形成できるのか否か）Ｋ関係する問
題や、また、得られるであろう硬化層は硬くかつその熱
膨張係数が基材と被栓−のそれの中間の値になるのか否
かに関する問題、などを考慮して決めればよい。とくに
、窒化処理の場合、得られる硬化層の硬度は浸炭処理、
ホウ化処理の場合よシも幾分小さいが、処理時の温度は
５００〜６００ ’Ｃ（９炭処理の場合的９００℃、ホ
ウ化処理の場合的１０００℃）と低く処理時におけるエ
ネルギー効率が大であるので、好ましい。硬化層の厚み
は、通常、表面から５０〜２００μｍ程度であればよい
。
なお、基材としてＦｅ若しくはＦｅ系合金を用いたとき
、窒化処理時、硬化層の表面には、硬くて脆いＦ ｅ
２〜３Ｎ相（ε相）が選択的に形成されるので、次のセ
ラミックス被覆層形成に先立ってこの相を研磨、研削の
ような方法で除去することあるいけ体積率を減少させる
ことが好ましい。
、窒化処理時、硬化層の表面には、硬くて脆いＦ ｅ
２〜３Ｎ相（ε相）が選択的に形成されるので、次のセ
ラミックス被覆層形成に先立ってこの相を研磨、研削の
ような方法で除去することあるいけ体積率を減少させる
ことが好ましい。
この硬化層の上にセラミックス被覆層が形成される。用
いるセラミックスとしては、周期律表■ａ族、 Ｖａ族
＋ Ｍａ族に属するいずれかの元素又はＳｔ若しくはＢ
の窒化物、災化物、ホウ化物のいずれかである。こｃ／
）′Ｉｋａ合、セラミックスとしては、硬化層が窒化処
理による層であれば窒化物を、硬化層が浸炭処理による
層であれば炭化物を、硬化層がホウ化処理による層であ
ればホウ化物全それぞれ用いることが好ましい。
いるセラミックスとしては、周期律表■ａ族、 Ｖａ族
＋ Ｍａ族に属するいずれかの元素又はＳｔ若しくはＢ
の窒化物、災化物、ホウ化物のいずれかである。こｃ／
）′Ｉｋａ合、セラミックスとしては、硬化層が窒化処
理による層であれば窒化物を、硬化層が浸炭処理による
層であれば炭化物を、硬化層がホウ化処理による層であ
ればホウ化物全それぞれ用いることが好ましい。
窒化物としては、例えは、窒化チタン（ＴｉＮ）。
窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、 窒化ノーフニウム（Ｈ
ｆＮ）。
ｆＮ）。
窒化バナジウム（ＶＮ）、窒化ニオブ（ＮｂＮ） 、窒
化タンタル（ＴａＮ） ＋窒化クロム（ＣｒＮ、Ｃｒｚ
Ｎ） ｌ窒化モリブデン（ＭｏｇＮ Ｉ ＭｏＮ ）
＊窒化タングステン（Ｗ２Ｎ 、 ＷＮｔ ＋ ＷｚＮ
ｓ ） ｒ窒化シリコン（Ｓ ｉｘＮ＜ ） ＋窒化ポ
ロン（ＢＮ）があげられ；炭化物としては、炭化チタン
（Ｔｉｃ） 、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフ
ニウム（ＨｆＣ） 、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニ
オブ（ＮｂＣ）、炭化タンタル（ＴａＣ）、炭化クロム
（ＣｒｘＣｚ 、Ｃｒ７Ｃ１＋ＣｒｚｓＣｓ ） ＋炭
化モリブデン（Ｍｏ２Ｃ＊ ＭＯＣ） ＋炭化タングス
テン（Ｗｚ Ｃ、ＷＣ）。
化タンタル（ＴａＮ） ＋窒化クロム（ＣｒＮ、Ｃｒｚ
Ｎ） ｌ窒化モリブデン（ＭｏｇＮ Ｉ ＭｏＮ ）
＊窒化タングステン（Ｗ２Ｎ 、 ＷＮｔ ＋ ＷｚＮ
ｓ ） ｒ窒化シリコン（Ｓ ｉｘＮ＜ ） ＋窒化ポ
ロン（ＢＮ）があげられ；炭化物としては、炭化チタン
（Ｔｉｃ） 、炭化ジルコニウム（ＺｒＣ）、炭化ハフ
ニウム（ＨｆＣ） 、炭化バナジウム（ＶＣ）、炭化ニ
オブ（ＮｂＣ）、炭化タンタル（ＴａＣ）、炭化クロム
（ＣｒｘＣｚ 、Ｃｒ７Ｃ１＋ＣｒｚｓＣｓ ） ＋炭
化モリブデン（Ｍｏ２Ｃ＊ ＭＯＣ） ＋炭化タングス
テン（Ｗｚ Ｃ、ＷＣ）。
炭化シリコン（ＳｉＣ） 、炭化ボロン（Ｂ４Ｃ，）
があげられニホウ化物としては、ホウ化チタン（ＴｔＢ
ｚ）。
があげられニホウ化物としては、ホウ化チタン（ＴｔＢ
ｚ）。
ホウ化ジルコニウム（ＺｒＩｈ ） ｅホウ化ノＳ７ニ
ウム（Ｈｆｌｈ）、ホウ化バナジウム（Ｖｌｈ）、ホウ
化ニオブ（Ｎｂ Ｂ ＊ Ｎｂａ Ｂ ４１ Ｎｂ Ｂ
２ ） ＊ホウ化タンタｋ （Ｔａ２Ｂ。
ウム（Ｈｆｌｈ）、ホウ化バナジウム（Ｖｌｈ）、ホウ
化ニオブ（Ｎｂ Ｂ ＊ Ｎｂａ Ｂ ４１ Ｎｂ Ｂ
２ ） ＊ホウ化タンタｋ （Ｔａ２Ｂ。
ＴａＢ ｒ Ｔａ５Ｂ＜ ） ＋ ホウ化りＣ１ム（Ｃ
ｒｓＢｚ 、 ＣｒＢ ） 。
ｒｓＢｚ 、 ＣｒＢ ） 。
ホウ化モリプデｙ （ＭｏＪ 、 ＭｏＢ 、 ＭＯ２
Ｂｌｌ ） ＊ホウ化タングステン（Ｗ露Ｂ 、 ＷＢ
、 Ｗ２ ＢＢ ）があげられる。
Ｂｌｌ ） ＊ホウ化タングステン（Ｗ露Ｂ 、 ＷＢ
、 Ｗ２ ＢＢ ）があげられる。
これらセラミックスのうち、被種層が比較的容易に形成
できる、入手し易すいなどの点からＬ７て、窒化物又は
炭化物は好ましい。とくにＴｉＮ 、 Ｔｉｃ。
できる、入手し易すいなどの点からＬ７て、窒化物又は
炭化物は好ましい。とくにＴｉＮ 、 Ｔｉｃ。
ＳｉＣが好ましい。
これら被覆層の形成は、薄膜形成法として常用されてい
る物理的蒸着法（ＰＶＤ法）、物理化学的蒸着法（ＰＣ
ＶＤ法）のいずれかの方法を適用して行なわれる。すな
わち、窒化物の破＆層を例にとった場合、ＰＶＤ法は、
基材を陰極とし、Ｎ３又ｕ Ｎｚ ＋ Ｈｚの低圧（０
，０１Ｔｏｒｒ 、 ５００℃〜６００℃）雰囲気中で
被覆すべき金属全蒸気に１−てこれを電惚的に蒸着する
方法である。また、ＰＣＶＤ法は基材全陰極とし、金属
ハロゲン化物の蒸気ガスとＮ２又ｎ Ｎｚ ＋Ｈ２の低
圧（数Ｔｏｒｒ、４００〜６００℃）の雰囲気中でグロ
ー放ｔＴｈ起し、基材表面を被覆するという１款である
。とくに、ＰＣＶＤ法は、耐摩耗性に優れた被覆層が得
られること、被種層と硬化層との密着性が良好であるこ
と、成膜操作も比較的簡単であること、などの点からし
て好ましい方法である。
る物理的蒸着法（ＰＶＤ法）、物理化学的蒸着法（ＰＣ
ＶＤ法）のいずれかの方法を適用して行なわれる。すな
わち、窒化物の破＆層を例にとった場合、ＰＶＤ法は、
基材を陰極とし、Ｎ３又ｕ Ｎｚ ＋ Ｈｚの低圧（０
，０１Ｔｏｒｒ 、 ５００℃〜６００℃）雰囲気中で
被覆すべき金属全蒸気に１−てこれを電惚的に蒸着する
方法である。また、ＰＣＶＤ法は基材全陰極とし、金属
ハロゲン化物の蒸気ガスとＮ２又ｎ Ｎｚ ＋Ｈ２の低
圧（数Ｔｏｒｒ、４００〜６００℃）の雰囲気中でグロ
ー放ｔＴｈ起し、基材表面を被覆するという１款である
。とくに、ＰＣＶＤ法は、耐摩耗性に優れた被覆層が得
られること、被種層と硬化層との密着性が良好であるこ
と、成膜操作も比較的簡単であること、などの点からし
て好ましい方法である。
被覆層の厚みは任童であるが、６ま夛厚くすると硬化層
との間で熱応力を発生して剥離し易すくなるので、通常
は２μｍ程度である。
との間で熱応力を発生して剥離し易すくなるので、通常
は２μｍ程度である。
鉄系合金として５ＵＳ３０４ 、ＳＣＭＩ 。
５４５Ｃ，ＳＡＣＭｌ金選び、チタン系合金としテＴｉ
−３Ａｔ−２，５Ｖ、Ｔｉ−６Ａｔ−４Ｖ ｋ選び、ア
ルミニウム系合金としてＡ３０８３．Ａ３０５２を選ん
だ。各試別の形状は７アレツクス試験用の丸棒であった
。
−３Ａｔ−２，５Ｖ、Ｔｉ−６Ａｔ−４Ｖ ｋ選び、ア
ルミニウム系合金としてＡ３０８３．Ａ３０５２を選ん
だ。各試別の形状は７アレツクス試験用の丸棒であった
。
各試片に適宜に下記する条件の各表面硬化処理を施し７
て硬化層を形成した。硬化層の厚み約５０〜２００μｍ
０ 窒化処理： Ｎ２とＨ：の容積混合比が１＝３で全ガス
圧が２ Ｔｏｒｒ の雰囲気中に試片？入れ、これｔ５
７０℃で２時間イ オン窒化処理した。
て硬化層を形成した。硬化層の厚み約５０〜２００μｍ
０ 窒化処理： Ｎ２とＨ：の容積混合比が１＝３で全ガス
圧が２ Ｔｏｒｒ の雰囲気中に試片？入れ、これｔ５
７０℃で２時間イ オン窒化処理した。
浸炭処理：ガス圧３ Ｔｏｒｒ のメタンガス中に試片
を置き、これ１９５０℃で１時間 ゛イオン浸炭処理し
た。
を置き、これ１９５０℃で１時間 ゛イオン浸炭処理し
た。
ホウ化処理：ボロン、フェロボロン、アルミチウム及び
塩化アンモニウムの混合粉末 中に試片を埋設したのち、全体を １０００℃で３時間加熱処理した。
塩化アンモニウムの混合粉末 中に試片を埋設したのち、全体を １０００℃で３時間加熱処理した。
形成された各硬化層の）ｌｖ’に測定し、しかる後、そ
の上に表に示したような条件のＰＣＶＤ法を適用して各
被覆層全それぞれ形成しそれらのＨｖ ｋ測定した。被
覆層の厚みはいずれも２μｍであった。
の上に表に示したような条件のＰＣＶＤ法を適用して各
被覆層全それぞれ形成しそれらのＨｖ ｋ測定した。被
覆層の厚みはいずれも２μｍであった。
比較のために、基相の表面に表面硬化処理を施さず基材
の表面に直接同一の製造条件で各被覆層を形成した部品
を製造した。
の表面に直接同一の製造条件で各被覆層を形成した部品
を製造した。
得られた各部品につき、その耐摩耗性をファレツクス試
験機を用いて調べて評価を下した。また、硬化層と被覆
層との装置性に関しては、部品を２００〜３００℃に加
崩して室温に急冷するという熱サイクル操作″ｆｔ５回
反復し、そのときの被種層の剥離の有無又はクラック発
生の有無を観察して評価した。密着性良好を○印、不可
をｘ印、その中間をΔ印で示した。
験機を用いて調べて評価を下した。また、硬化層と被覆
層との装置性に関しては、部品を２００〜３００℃に加
崩して室温に急冷するという熱サイクル操作″ｆｔ５回
反復し、そのときの被種層の剥離の有無又はクラック発
生の有無を観察して評価した。密着性良好を○印、不可
をｘ印、その中間をΔ印で示した。
〔発明の効果〕・
表かも明らかなように５本発明の耐摩耗部品は、基材に
直接セラミックス被覆層を形成する従来のものに比べて
、基材との密着性に優れると同時に基材表面の硬化層が
硬く、薄い被覆層に外力が加わった場合でも、被覆層が
陥没した９７ｊることがなく、被覆層の耐摩耗性が有効
に発揮されるので、その使用寿命が長くなるばかシでは
なく使用時における信頼性も高まって有用である。
直接セラミックス被覆層を形成する従来のものに比べて
、基材との密着性に優れると同時に基材表面の硬化層が
硬く、薄い被覆層に外力が加わった場合でも、被覆層が
陥没した９７ｊることがなく、被覆層の耐摩耗性が有効
に発揮されるので、その使用寿命が長くなるばかシでは
なく使用時における信頼性も高まって有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 基材と、該基材の表面に表面硬化処理を施して形
成した硬化層と、該硬化層を被接して形成（７た破機層
とから成ることを特徴とする耐摩耗部品。 ２、 該基材が、鉄若しくは鉄系合金、チタン若しくは
チタン系合金、アルミニウム若しくはアルミニウム系合
金のいずれかである特許請求の範囲第１項記載の耐摩耗
部品。 ３、 該表面硬化処理が、窒化処理、浸炭処理。 又はホウ化処理のいずれかである特許請求の範囲第１項
記載の耐摩耗部品。 ４、該被接層が、周期律表ＩＶａ族、 ｖａ族、 ■ａ
族に属するいずれかの元素の窒化物、炭化物。 ホウ化物のいずれかの層又は複合層；ケイ素。 ホウ素の窒化物、炭化物、ホウ化物のいずれかの層又は
複合層である特許請求の範囲第１項記載の耐摩耗部品。 ５、 該被覆層が、物理的蒸着法（ＰＶＤ法）又は物理
的化学的蒸着法ＣＰＣＶＤ法）のいずれかの方法で形成
された層である特許請求の範囲第１項、第４項のいずれ
かに記載の耐摩耗部品。 ６ 該基材がステンレス鋼であシ、該硬化層が窒化鉄を
主成分とする層であり、かつ、該被覆層が賭化チタン層
である特許請求の範囲第１項記載の耐摩耗部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16330083A JPS6056061A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 耐摩耗部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16330083A JPS6056061A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 耐摩耗部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6056061A true JPS6056061A (ja) | 1985-04-01 |
| JPH0365431B2 JPH0365431B2 (ja) | 1991-10-11 |
Family
ID=15771203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16330083A Granted JPS6056061A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 耐摩耗部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6056061A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| FR2590594A1 (fr) * | 1985-11-28 | 1987-05-29 | Toshiba Kk | Element mecanique portant un revetement ceramique anti-usure et sa fabrication. |
| JPS62218667A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 液圧ポンプ又はモ−タのピストン |
| JPS62222066A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-30 | Toshiba Corp | 高速摺動部材の製造方法 |
| JPH01211604A (ja) * | 1987-12-24 | 1989-08-24 | United Technol Corp <Utc> | ガスタービンエンジンのコーティング処理を施した圧縮機構成部品 |
| JPH02134467A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-23 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | ピストンリング |
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| JPH03247766A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-05 | Limes:Kk | プラズマｃｖｄ法による薄膜形成方法 |
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