JPS604178B2 - 芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法 - Google Patents
芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法Info
- Publication number
- JPS604178B2 JPS604178B2 JP49034776A JP3477674A JPS604178B2 JP S604178 B2 JPS604178 B2 JP S604178B2 JP 49034776 A JP49034776 A JP 49034776A JP 3477674 A JP3477674 A JP 3477674A JP S604178 B2 JPS604178 B2 JP S604178B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- anhydride
- aromatic
- acid anhydride
- dianhydride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 ether acid anhydride Chemical class 0.000 title claims description 27
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 title claims description 25
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N acetic acid anhydride Natural products CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- WWJAZKZLSDRAIV-UHFFFAOYSA-N 4-fluoro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound FC1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O WWJAZKZLSDRAIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical class CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- XVMKZAAFVWXIII-UHFFFAOYSA-N 5-fluoro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound FC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 XVMKZAAFVWXIII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical class C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CRHKVURIWVWTLH-UHFFFAOYSA-N (2-nitronaphthalene-1-carbonyl) 2-nitronaphthalene-1-carboxylate Chemical class C1=CC=C2C(C(=O)OC(=O)C3=C4C=CC=CC4=CC=C3[N+](=O)[O-])=C([N+]([O-])=O)C=CC2=C1 CRHKVURIWVWTLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMWEFKAPSRAX-UHFFFAOYSA-N (4-nitronaphthalene-1-carbonyl) 4-nitronaphthalene-1-carboxylate Chemical compound C12=CC=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC=C1C(=O)OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C2=CC=CC=C12 WPYMWEFKAPSRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 125000000174 L-prolyl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N Naphthalic anhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- UYKMUCOPNRSDQV-UHFFFAOYSA-N (2-chloronaphthalene-1-carbonyl) 2-chloronaphthalene-1-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)OC(=O)C3=C4C=CC=CC4=CC=C3Cl)=C(Cl)C=CC2=C1 UYKMUCOPNRSDQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Bisphenol F Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1O MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWEJEENSOANESC-UHFFFAOYSA-N 2,6,6-trimethyl-4-(3-methylphenyl)cyclohexa-2,4-diene-1,1-diol Chemical group CC1(C)C(O)(O)C(C)=CC(C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 JWEJEENSOANESC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVLNPXCISNPHLE-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=CC=C1O LVLNPXCISNPHLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTCWIPWLOOKDD-UHFFFAOYSA-N 2-nitronaphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=C([N+]([O-])=O)C=CC2=C1 OKTCWIPWLOOKDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKSBPFMNOJWYSB-UHFFFAOYSA-N 3,3-Bis(4-hydroxyphenyl)pentane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(CC)(CC)C1=CC=C(O)C=C1 RKSBPFMNOJWYSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UERPUZBSSSAZJE-UHFFFAOYSA-N 3-chlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O UERPUZBSSSAZJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRMCXDSWURAYFR-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxyphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O HRMCXDSWURAYFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQCACQIALULDSK-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)sulfinylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RQCACQIALULDSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRTAEHMRKDVKMS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]sulfanylphenoxy]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1SC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 MRTAEHMRKDVKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJEUBSWHCGDJQU-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-1,8-naphthalic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2=CC=CC3=C2C1=CC=C3Cl UJEUBSWHCGDJQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTTRMCQEPDPCPA-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 BTTRMCQEPDPCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C=C1 HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKOZHLXUWUBRDK-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1,8-naphthalic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C2=CC=CC3=C2C1=CC=C3[N+](=O)[O-] LKOZHLXUWUBRDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- FZTDWZQGFQIIDA-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;isoindole-1,3-dione Chemical compound CCOCC.C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 FZTDWZQGFQIIDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/54—Preparation of carboxylic acid anhydrides
- C07C51/567—Preparation of carboxylic acid anhydrides by reactions not involving carboxylic acid anhydride groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
- C07D307/89—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans with two oxygen atoms directly attached in positions 1 and 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/78—Ring systems having three or more relevant rings
- C07D311/92—Naphthopyrans; Hydrogenated naphthopyrans
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
- C08G59/4223—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof aromatic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルカリ金属ジフェノキシドとハロゲン又はニ
トロ基置換芳香族酸無水物とを接触させることによる芳
香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法に関する。
トロ基置換芳香族酸無水物とを接触させることによる芳
香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法に関する。
本願と同時出願に係り本願の譲受人に対して出願権を譲
渡されたダーレルヒース(DanelIHeath)お
よびトールタケコシ(TomuTakekoshi)に
よる特許出願明細書中に示されているように、芳香族ビ
ス(エーテル酸無水物)はN−置換芳香族ビス(エーテ
ルフタルィミド)からビスィミドの対応するテトラ酸塩
への転化、この塩のテトラ酸への酸性化およびテトラ酸
の酸二無水物への脱水を含む段階的な方法によって製造
することができる。
渡されたダーレルヒース(DanelIHeath)お
よびトールタケコシ(TomuTakekoshi)に
よる特許出願明細書中に示されているように、芳香族ビ
ス(エーテル酸無水物)はN−置換芳香族ビス(エーテ
ルフタルィミド)からビスィミドの対応するテトラ酸塩
への転化、この塩のテトラ酸への酸性化およびテトラ酸
の酸二無水物への脱水を含む段階的な方法によって製造
することができる。
この段階的な方法によれば高収率で芳香族ピス(エーテ
ル酸無水物)が得られる。この高収率が得られるのは、
N−置換ニトロフタルィミド‘こ対して著しい程度の開
環を生じさせずにアルカリジフェノキシドを直接的に用
いることができるためである。本発明は特定のジフェノ
キシドにより置換可能な官能基を有する芳香族酸無水物
、たとえばハロゲン置換無水フタル酸および無水ニトロ
ナフタル酸等に対してジフェノキシド類を直接的に接触
させてすぐれた芳香族ビス(エーテル酸無水物)の収率
を得ることもできるという発見に基いてなされたもので
ある。
ル酸無水物)が得られる。この高収率が得られるのは、
N−置換ニトロフタルィミド‘こ対して著しい程度の開
環を生じさせずにアルカリジフェノキシドを直接的に用
いることができるためである。本発明は特定のジフェノ
キシドにより置換可能な官能基を有する芳香族酸無水物
、たとえばハロゲン置換無水フタル酸および無水ニトロ
ナフタル酸等に対してジフェノキシド類を直接的に接触
させてすぐれた芳香族ビス(エーテル酸無水物)の収率
を得ることもできるという発見に基いてなされたもので
ある。
さらに詳細に述べれば、芳香族ビス(エーテル酸無水物
)をつくるための本発明の実施に際しては、次式の無水
ハロゲン置換フタル酸:および次式の無水ナフタル酸:
を用いることができる(式中、Xはフッ素、塩素、臭素
および沃素の基からなる群より選ばれたハロゲンの基で
あり、そしてYはニトロ基およびXで示す基からなる群
より選ばれた基である)。
)をつくるための本発明の実施に際しては、次式の無水
ハロゲン置換フタル酸:および次式の無水ナフタル酸:
を用いることができる(式中、Xはフッ素、塩素、臭素
および沃素の基からなる群より選ばれたハロゲンの基で
あり、そしてYはニトロ基およびXで示す基からなる群
より選ばれた基である)。
芳香族ビス(エーテル酸無水物)の収率が比較的低くて
も差し支えのないときには、Xがニトロ基であってもよ
いことが発見された。本発明によれば、芳香族ビス(エ
ーテル酸無水物)をつくるための方法が提供され、この
方法は(1}有機溶媒の存在下において次式のアルカリ
ジフエノキシド:M−0−R−0−M(m) および前記式(1)および(D)からなる群より選ばれ
た有機酸無水物とを反応させ、そして(2}上記の‘1
lから芳香族ビス(エーテル酸無水物)を回収すること
を含み、上記式中のMはナトリウム、カリウム、リチウ
ム等からなる‐群より選ばれたアルカリ金属のイオン、
Rは6〜3の固の炭素原子を有する2価の芳香族有機基
であり、そしてXおよびYは前記の定義の通りである。
も差し支えのないときには、Xがニトロ基であってもよ
いことが発見された。本発明によれば、芳香族ビス(エ
ーテル酸無水物)をつくるための方法が提供され、この
方法は(1}有機溶媒の存在下において次式のアルカリ
ジフエノキシド:M−0−R−0−M(m) および前記式(1)および(D)からなる群より選ばれ
た有機酸無水物とを反応させ、そして(2}上記の‘1
lから芳香族ビス(エーテル酸無水物)を回収すること
を含み、上記式中のMはナトリウム、カリウム、リチウ
ム等からなる‐群より選ばれたアルカリ金属のイオン、
Rは6〜3の固の炭素原子を有する2価の芳香族有機基
であり、そしてXおよびYは前記の定義の通りである。
Rによって含まれるものとしては、{a}以下の2価の
有機基からなる群より選ばれた芳香族有機基:および ならびに【b’次の一般で示される2価の有機基:(式
中、Qは式:−CyH凶−・−○−、および−S−の2
価の基から なる群より選ばれた成分であってmは0又は1であり、
そしてyは1なし、し5の整数である)が含まれる。
有機基からなる群より選ばれた芳香族有機基:および ならびに【b’次の一般で示される2価の有機基:(式
中、Qは式:−CyH凶−・−○−、および−S−の2
価の基から なる群より選ばれた成分であってmは0又は1であり、
そしてyは1なし、し5の整数である)が含まれる。
好ましくは、式(1)のX−層宅奥無水フタル酸として
は、無水3−フルオロフタル酸、および無水4ーフルオ
ロフタル酸がある。
は、無水3−フルオロフタル酸、および無水4ーフルオ
ロフタル酸がある。
式(1)の無水フタル酸としては又無水3ークロロフタ
ル酸、無水4−ク。ロフタル酸等がある。式(0)の無
水ナフタル酸としては式中のYが2又は4位置を取るこ
とのできるたとえば無水2−ニトロナフタル酸、無水4
ーニトロナフタル酸「無水2−クロロナフタル酸、無水
4−クロロナフタル酸等が含まれる。本発明の方法によ
って与えられる芳香族ビス(エーテル酸無水物)として
は次式を有する化合物が含まれる:上記式中、R,は であって、Q,は−○−、一S−、 およ び から選ばれる。
ル酸、無水4−ク。ロフタル酸等がある。式(0)の無
水ナフタル酸としては式中のYが2又は4位置を取るこ
とのできるたとえば無水2−ニトロナフタル酸、無水4
ーニトロナフタル酸「無水2−クロロナフタル酸、無水
4−クロロナフタル酸等が含まれる。本発明の方法によ
って与えられる芳香族ビス(エーテル酸無水物)として
は次式を有する化合物が含まれる:上記式中、R,は であって、Q,は−○−、一S−、 およ び から選ばれる。
式(V)に含まれる酸二無水物としてはたとえば、2.
2ービス〔4−(2・3ージカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン酸二無水物、4.4−ビス(2・3ー
ジカルポキシフエノキシ)ジフェニルェーテル酸二無水
物、1・3ーピス(2・3ージカルボキシフエノキシ)
ベンゼン酸二無水物、4.4′−ビス(2・3−ジカル
ボキシフエノキシ)ジフェニルスルフィド酸二無水物、
1.4ービス(2・3−ジカルボキシフエノキシ)ベン
ゼン酸二無水物、4.4′ービス(2・3ージカルポキ
シフエノキシ)ジフェニルスルホン酸二無水物等がある
。
2ービス〔4−(2・3ージカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン酸二無水物、4.4−ビス(2・3ー
ジカルポキシフエノキシ)ジフェニルェーテル酸二無水
物、1・3ーピス(2・3ージカルボキシフエノキシ)
ベンゼン酸二無水物、4.4′−ビス(2・3−ジカル
ボキシフエノキシ)ジフェニルスルフィド酸二無水物、
1.4ービス(2・3−ジカルボキシフエノキシ)ベン
ゼン酸二無水物、4.4′ービス(2・3ージカルポキ
シフエノキシ)ジフェニルスルホン酸二無水物等がある
。
式(W)および(抑)に含まれる酸二無水物としては、
たとえば、2.2−ビス〔4一(3・4−ジカルボキシ
フェノキシ)フヱニル〕プロパン酸二無水物、4.4′
ービス(3・4ージカルボキシフエノキシ)ジフェニル
ェーテル酸二無水物、4・4′ービス(3・4−ジカル
ボキシフエノキシ)ジフェニルスルフィド酸二無水物、
1.3−ビス(3・4−ジカルボキシフヱノキシ)ベン
ゼン酸二無水物、1.4ービス(3・4ージカルポキシ
フエノキシ)ベンゼン酸二無水物、4.4′−ビス(3
・4ージカルボキシフエノキシ)ジフェニルスルホン酸
二無水物、4一(2・3ージカルボキシフエノキシ)一
4′(3・4ージカルボキシフヱノキシ)一2・2ージ
フヱニルプロパン酸二無水物等がある。
たとえば、2.2−ビス〔4一(3・4−ジカルボキシ
フェノキシ)フヱニル〕プロパン酸二無水物、4.4′
ービス(3・4ージカルボキシフエノキシ)ジフェニル
ェーテル酸二無水物、4・4′ービス(3・4−ジカル
ボキシフエノキシ)ジフェニルスルフィド酸二無水物、
1.3−ビス(3・4−ジカルボキシフヱノキシ)ベン
ゼン酸二無水物、1.4ービス(3・4ージカルポキシ
フエノキシ)ベンゼン酸二無水物、4.4′−ビス(3
・4ージカルボキシフエノキシ)ジフェニルスルホン酸
二無水物、4一(2・3ージカルボキシフエノキシ)一
4′(3・4ージカルボキシフヱノキシ)一2・2ージ
フヱニルプロパン酸二無水物等がある。
上記の無水フタル酸の他に次のような式(刑)の無水ナ
フタル酸も含まれる。2.2−ビス〔4−(4・5−ジ
カルボキシナフトキシ)フェニル〕プロパン酸二無水物
、2.2−ビス〔4−(2・3ージカルボキシナフトキ
シ)フェニル〕プロパン酸二無水物、4.4−ビス(4
・5ージカルポキシナフトキシ)ジフェニルェーテル酸
二無水物、1.3ービス(4・5ージカルボキシナフト
キシ)ベンゼン酸二無水物、1.3−ビス(2・3ージ
カルポキシナフトキシ)ベンゼン酸二無水物、4.4−
ビス(4・5−ジカルボキシナフトキシ)ジフェニルス
ルフィド酸二無水物、4.4−ビス(4・5−ジカルボ
キシナフトキシ)ジフェニルスルホン酸二無水物、4−
(2・3−ジカルボキシナフトキシ)一4(4・5−ジ
カルボキシフエノキシ)一2・2ージフェニルプロパン
酸二無水物。
フタル酸も含まれる。2.2−ビス〔4−(4・5−ジ
カルボキシナフトキシ)フェニル〕プロパン酸二無水物
、2.2−ビス〔4−(2・3ージカルボキシナフトキ
シ)フェニル〕プロパン酸二無水物、4.4−ビス(4
・5ージカルポキシナフトキシ)ジフェニルェーテル酸
二無水物、1.3ービス(4・5ージカルボキシナフト
キシ)ベンゼン酸二無水物、1.3−ビス(2・3ージ
カルポキシナフトキシ)ベンゼン酸二無水物、4.4−
ビス(4・5−ジカルボキシナフトキシ)ジフェニルス
ルフィド酸二無水物、4.4−ビス(4・5−ジカルボ
キシナフトキシ)ジフェニルスルホン酸二無水物、4−
(2・3−ジカルボキシナフトキシ)一4(4・5−ジ
カルボキシフエノキシ)一2・2ージフェニルプロパン
酸二無水物。
上記式(m)のジフェノキシドのアルカリ金属塩として
は、以下の2価フェノール類のナトリウムおよびカリウ
ム塩が含まれる。
は、以下の2価フェノール類のナトリウムおよびカリウ
ム塩が含まれる。
2・2ービス(2ーヒドロキシフエニル)プロ/ぐン、
2・4−ジヒドロキシジフエニルメタン、ビス−(2−
ヒドロキシフエニル)メタン、以下「ビスフェ/−ルA
」又は「BPA」として記載される2・2−ビス(4−
ヒドロキシフエニル)ブロ/ぐン、1.1ービス(4ー
ヒドロキシフエニル)エタン、1・1ービス(4ーヒド
ロキシフエニル)プロ/ぐン、2・2ービス(4ーヒド
ロキシフエニル)ペンタン、3・3−ビス(4ーヒドロ
キシフエニル)ペンタン、4・4′ージヒドロキシビフ
ヱニル、 4・4−ジヒドロキシー3・3′・5・5−テトラメチ
ルビフエニル、2・4−ジヒドロキシベンゾフヱノン、 4・4′ージヒドロキシベンゾフエノン、4・4′ージ
ヒドロキシジフエニルスルホン、2・4ージヒドロキシ
ジフエニルスルホソ、4・4′ージヒドロキシジフエニ
ルスルホキシド、4・4ージヒドロキシジフエニルスル
フイド等。
2・4−ジヒドロキシジフエニルメタン、ビス−(2−
ヒドロキシフエニル)メタン、以下「ビスフェ/−ルA
」又は「BPA」として記載される2・2−ビス(4−
ヒドロキシフエニル)ブロ/ぐン、1.1ービス(4ー
ヒドロキシフエニル)エタン、1・1ービス(4ーヒド
ロキシフエニル)プロ/ぐン、2・2ービス(4ーヒド
ロキシフエニル)ペンタン、3・3−ビス(4ーヒドロ
キシフエニル)ペンタン、4・4′ージヒドロキシビフ
ヱニル、 4・4−ジヒドロキシー3・3′・5・5−テトラメチ
ルビフエニル、2・4−ジヒドロキシベンゾフヱノン、 4・4′ージヒドロキシベンゾフエノン、4・4′ージ
ヒドロキシジフエニルスルホン、2・4ージヒドロキシ
ジフエニルスルホソ、4・4′ージヒドロキシジフエニ
ルスルホキシド、4・4ージヒドロキシジフエニルスル
フイド等。
上記の「A群」の2価フェノール類の他にも、本発明に
おいては次のような「B群」の2価フェノール類のアル
カリ金属塩を用いて芳香族ビス(エーテル酸無水物)を
つくることができる。
おいては次のような「B群」の2価フェノール類のアル
カリ金属塩を用いて芳香族ビス(エーテル酸無水物)を
つくることができる。
ハイドロキノン、レゾルシン、3・4一ジヒドロキシジ
フェニ.ルメタン、および4・4−ジヒドロキシベンゾ
フエノンおよび4・4′ージヒドロキシジフェニルェー
テル等。式(m)のアルカリ金属ジフェノキシドは予め
形成して用いてもよく又はその場で生成させることもで
きる。
フェニ.ルメタン、および4・4−ジヒドロキシベンゾ
フエノンおよび4・4′ージヒドロキシジフェニルェー
テル等。式(m)のアルカリ金属ジフェノキシドは予め
形成して用いてもよく又はその場で生成させることもで
きる。
予め形成するには水酸化アルカリ、2価フェノールおよ
び炭化水素溶媒からなる水性混合物から水を共沸的に蒸
留してこの予備生成物がほとんど無水状態となるように
してつくることが好ましい。2価フェノール1当量に付
いて水酸化アルカリを化学量論的に2当量用いる。
び炭化水素溶媒からなる水性混合物から水を共沸的に蒸
留してこの予備生成物がほとんど無水状態となるように
してつくることが好ましい。2価フェノール1当量に付
いて水酸化アルカリを化学量論的に2当量用いる。
本発明の実施に当っては、以下式(1)又は(0)の有
機酸無水物およびアルカリジフェノキシドをそれゞれ意
味する「芳香族酸無水物」とアルカリジフェノキシドと
を反応させることによって芳香族ビス(エーテル酸無水
物)をつくることができる。
機酸無水物およびアルカリジフェノキシドをそれゞれ意
味する「芳香族酸無水物」とアルカリジフェノキシドと
を反応させることによって芳香族ビス(エーテル酸無水
物)をつくることができる。
約2モルの芳香族酸二無水物をアルカリジフェノキシド
の1モル当りに付いて用いられることが判明した。
の1モル当りに付いて用いられることが判明した。
ジフェノキシドと芳香族酸無水物との間の反応は、チッ
素等のような不活性雰囲気中においてほとんど無水状態
で行なうことが好ましい。
素等のような不活性雰囲気中においてほとんど無水状態
で行なうことが好ましい。
芳香族ビス(エーテル酸無水物)の形成を容易にするた
めに用いることのできる適当な有機溶媒は、中性の双極
性有機溶媒であって、たとえばジメチルホルムアミド、
スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサーメチルリン酸トリアミド等が含まれる。
使用できる温度はたとえば25o0なし、し170qo
、好ましくは100℃ないし150q○である。反応時
間は反応の行なわれる温度、蝿拝の程度、等によって5
分間又はそれ以下から1錨時間又はそれ以上にまで変え
られる。
めに用いることのできる適当な有機溶媒は、中性の双極
性有機溶媒であって、たとえばジメチルホルムアミド、
スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサーメチルリン酸トリアミド等が含まれる。
使用できる温度はたとえば25o0なし、し170qo
、好ましくは100℃ないし150q○である。反応時
間は反応の行なわれる温度、蝿拝の程度、等によって5
分間又はそれ以下から1錨時間又はそれ以上にまで変え
られる。
生成物の収率を最大にするためには、場合によってはた
とえば還流条件を与えることが好ましいことが判明した
。反応生成物の回収は反応の完結時に反応生成混合物を
塩化水素酸および氷等のような希釈鉱酸中に注入するこ
とによって行なわれる。これによって生じた沈澱物を炉
過等によって回収することができる。本発明の方法によ
って生成された芳香族酸二無水物は有機ジァミン類との
反応によってポリイミド等のようなポリマーをつくるた
めの中間体として用いることができる。
とえば還流条件を与えることが好ましいことが判明した
。反応生成物の回収は反応の完結時に反応生成混合物を
塩化水素酸および氷等のような希釈鉱酸中に注入するこ
とによって行なわれる。これによって生じた沈澱物を炉
過等によって回収することができる。本発明の方法によ
って生成された芳香族酸二無水物は有機ジァミン類との
反応によってポリイミド等のようなポリマーをつくるた
めの中間体として用いることができる。
加えて、この酸二無水物はェポキシ樹脂のための硬化剤
およびポリエステル樹脂をつくるための中間体としても
用いることができる。当該技術分野における通常の知識
を有する者によって本発明が容易に実施できるよう、以
下にその実施例を示すが、これらは説明のために記載し
たものであって本発明を限定するものではない。
およびポリエステル樹脂をつくるための中間体としても
用いることができる。当該技術分野における通常の知識
を有する者によって本発明が容易に実施できるよう、以
下にその実施例を示すが、これらは説明のために記載し
たものであって本発明を限定するものではない。
全べての部は重量部である。例1水酸化ナトリウムの5
0%水溶液0.7部およびビスフェノールAI部からな
る混合物からビスフェノールAのニナトリウム塩を調整
した。
0%水溶液0.7部およびビスフェノールAI部からな
る混合物からビスフェノールAのニナトリウム塩を調整
した。
この塩は反応混合物からベンゼンを用いて水を共織的に
除去することによってつくられた。上記の塩、2.1部
の無水4ーニトロナフタル酸および約15部の無水のジ
メチルホルムアミドからなる混合物をチッ素雰囲気下で
1時間、室温で婿拝した。
除去することによってつくられた。上記の塩、2.1部
の無水4ーニトロナフタル酸および約15部の無水のジ
メチルホルムアミドからなる混合物をチッ素雰囲気下で
1時間、室温で婿拝した。
全体の反応生成混合物を水中に注入して生成した沈澱物
を収集して乾燥させ1.6部の茶褐色の粉末を得た(収
率60%)。酢酸から再結晶させてm.p.258〜2
59ooの試料が得られた。製造方法および赤外線およ
びNMRスペクトル分析に塞いて、この生成物は2・2
ービス〔4一(4・5−ジカルボキシナフトキシ)フヱ
ニル〕プロパン酸二無水物であった。例2 ビスフェノ−ルAのこナトリウム塩0.4744夕(0
.0017モル)、無水3ーフルオロフタル酸0.57
88夕(0.0035モル)および無水のジメチルホル
ムアミド11の上からなる混合物をチッ素雰囲気中にお
いて3時間、約17000の温度で縄拝した。
を収集して乾燥させ1.6部の茶褐色の粉末を得た(収
率60%)。酢酸から再結晶させてm.p.258〜2
59ooの試料が得られた。製造方法および赤外線およ
びNMRスペクトル分析に塞いて、この生成物は2・2
ービス〔4一(4・5−ジカルボキシナフトキシ)フヱ
ニル〕プロパン酸二無水物であった。例2 ビスフェノ−ルAのこナトリウム塩0.4744夕(0
.0017モル)、無水3ーフルオロフタル酸0.57
88夕(0.0035モル)および無水のジメチルホル
ムアミド11の上からなる混合物をチッ素雰囲気中にお
いて3時間、約17000の温度で縄拝した。
次いで混合物を室温迄冷却した。この混合物を150の
‘の1.が塩化水素塩/氷の混合物に対して加えた。白
色の生成物が得られこれを炉過によって収集した。この
生成物を1.州の塩化水素酸で洗浄し乾燥して収率91
%として0.8077夕の粗生成物質を得た。次いでこ
れを酢酸/無水酢酸の混合物から再結晶させたところ融
点181.5〜18チ○の物質が得られた。製造方法お
よび赤外線分析の結果からこの生成物は2・2−ビス〔
4−(2・3−ジカルボキシフヱノキシ)フェニル〕プ
ロパン酸二無水物であった。例3 例2の方法にしたがって、無水3−フルオロフタル酸お
よび4・4′ージヒドロキシビフェニルのナトリウム塩
の混合物を無水物の塩に対するモル比を2:1としてチ
ッ素雰囲気中にか・て1$間にわたって17000の油
裕中で燈拝した。
‘の1.が塩化水素塩/氷の混合物に対して加えた。白
色の生成物が得られこれを炉過によって収集した。この
生成物を1.州の塩化水素酸で洗浄し乾燥して収率91
%として0.8077夕の粗生成物質を得た。次いでこ
れを酢酸/無水酢酸の混合物から再結晶させたところ融
点181.5〜18チ○の物質が得られた。製造方法お
よび赤外線分析の結果からこの生成物は2・2−ビス〔
4−(2・3−ジカルボキシフヱノキシ)フェニル〕プ
ロパン酸二無水物であった。例3 例2の方法にしたがって、無水3−フルオロフタル酸お
よび4・4′ージヒドロキシビフェニルのナトリウム塩
の混合物を無水物の塩に対するモル比を2:1としてチ
ッ素雰囲気中にか・て1$間にわたって17000の油
裕中で燈拝した。
次いでこの混合物を室温迄冷却させた。黄色生成物が5
1%の収率で得られた。生成物の融点は281〜283
ooであった。製造方法および赤外線分析の結果からこ
の生成物は4・4ービス(2・3−ジカルボキシフェノ
キシ)ビフェニル酸二無水物であった。例4ビスフェノ
−ルAの二ナトリウム塩1部、無水4−フルオロフタル
酸1.22部および熱水のジメチルホルムアミド14部
からなる混合物をチッ素雰囲気中で還流下に2時間燈拝
した。
1%の収率で得られた。生成物の融点は281〜283
ooであった。製造方法および赤外線分析の結果からこ
の生成物は4・4ービス(2・3−ジカルボキシフェノ
キシ)ビフェニル酸二無水物であった。例4ビスフェノ
−ルAの二ナトリウム塩1部、無水4−フルオロフタル
酸1.22部および熱水のジメチルホルムアミド14部
からなる混合物をチッ素雰囲気中で還流下に2時間燈拝
した。
混合物を室温迄冷却してこれを氷と混合された1.州の
HCI14碇部に加えた。生成した白色沈澱物を集めて
乾燥させ1.6部(収率85%)の2・2−ビス〔4一
(3・4ージカルポキシフヱノキシ)フエニル〕プロパ
ン酸二無水物を得た。この試料をトルェン/無水酢酸の
混合物から再結晶させてm.p.186〜188qoの
物質が得られた。この生成物はその赤外線分析とプロト
ンおよび炭素原子のNMRスペクトル分析によって同定
された。以下本発明の好ましい実施態様について記載す
る。
HCI14碇部に加えた。生成した白色沈澱物を集めて
乾燥させ1.6部(収率85%)の2・2−ビス〔4一
(3・4ージカルポキシフヱノキシ)フエニル〕プロパ
ン酸二無水物を得た。この試料をトルェン/無水酢酸の
混合物から再結晶させてm.p.186〜188qoの
物質が得られた。この生成物はその赤外線分析とプロト
ンおよび炭素原子のNMRスペクトル分析によって同定
された。以下本発明の好ましい実施態様について記載す
る。
1 芳香族ビス(エーテル酸無水物)を製造する方法に
おいて、‘1) 次式のアルカリジフェノキシド:M−
○−R−○一M、ならびに および からなる群より選ばれた芳香族酸無水物を反応させ、そ
して(2} 上記(1}の反応から上記芳香族ビス(ェ
ー7ル酸無水物)を回収することを含み、上記式中Xお
よびYはニトロ基およびハロゲンの基からなる群より選
ばれ、Mはアルカリ金属のイオンであり、そしてRは6
〜3の固の炭素原子を有する2価の芳香族基である上記
芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法。
おいて、‘1) 次式のアルカリジフェノキシド:M−
○−R−○一M、ならびに および からなる群より選ばれた芳香族酸無水物を反応させ、そ
して(2} 上記(1}の反応から上記芳香族ビス(ェ
ー7ル酸無水物)を回収することを含み、上記式中Xお
よびYはニトロ基およびハロゲンの基からなる群より選
ばれ、Mはアルカリ金属のイオンであり、そしてRは6
〜3の固の炭素原子を有する2価の芳香族基である上記
芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法。
2 上記第1項記載の方法においてRが‘a}:次式の
2価芳香族基:および および【bー次式の2価の有機基: (式中Qは式−CyH沙−L −0一および−S−の2価の基から なる群より選ばれる成分であり、mは0又は1であって
yは1なし、し5の整数である。
2価芳香族基:および および【bー次式の2価の有機基: (式中Qは式−CyH沙−L −0一および−S−の2価の基から なる群より選ばれる成分であり、mは0又は1であって
yは1なし、し5の整数である。
)から選ばれる基である上記第1項記載の方法。3 無
水有機酸が無水3−フルオロフタル酸である上記第1項
記載の方法。
水有機酸が無水3−フルオロフタル酸である上記第1項
記載の方法。
4 無水有機酸が無水4−フルオロフタル酸である上記
第1項記載の方法。
第1項記載の方法。
5 無水芳香族酸が無水4−ニトロ−1・8−ナフタル
酸である上記第1項記載の方法。
酸である上記第1項記載の方法。
6 ジフエノキシドがビスフエノールAのアルカリ金属
塩である上記第1項記載の方法。
塩である上記第1項記載の方法。
7 ジフエノキシドが4・4′ージヒドロキシビフェニ
ルのアルカリ金属塩である上記第1項記載の方法。
ルのアルカリ金属塩である上記第1項記載の方法。
8 次式の芳香族ビス(エーテル酸無水物)式中、R,
は次式:で示され、Q,は−○−、一S一、 および から選ばれる。
は次式:で示され、Q,は−○−、一S一、 および から選ばれる。
9 2・2−ビス〔4−(4・5−ジカルボキシナフト
キシ)−フェニル〕プロパン酸二無水化合物。
キシ)−フェニル〕プロパン酸二無水化合物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 芳香族ビス(エーテル酸無水物)を製造する方法に
おいて、(1) 次式のアルカリジフエノキシド:M−
O−R−O−Mならびに次式の芳香族酸無水物:▲数式
、化学式、表等があります▼ を反応させ、そして (2) 上記(1)の反応から上記芳香族ビス(エーテ
ル酸無水物)を回収することを含み、上記式中Yはニト
ロ基およびハロゲン基からなる群より選ばれ、Mはアル
カリ金属のイオンであり、そしてRは6ないし30個の
炭素原子を有する2価の芳香族基である上記芳香族ビス
(エーテル酸無水物)の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US346471 | 1973-03-30 | ||
US00346471A US3850964A (en) | 1973-03-30 | 1973-03-30 | Method for making aromatic bis(ether anhydride)s |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5024241A JPS5024241A (ja) | 1975-03-15 |
JPS604178B2 true JPS604178B2 (ja) | 1985-02-01 |
Family
ID=23359538
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49034776A Expired JPS604178B2 (ja) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | 芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法 |
JP58031901A Pending JPS58180479A (ja) | 1973-03-30 | 1983-03-01 | 芳香族ビス(エ−テル酸無水物)の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58031901A Pending JPS58180479A (ja) | 1973-03-30 | 1983-03-01 | 芳香族ビス(エ−テル酸無水物)の製造方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3850964A (ja) |
JP (2) | JPS604178B2 (ja) |
BR (1) | BR7402534D0 (ja) |
DD (1) | DD111369A5 (ja) |
DE (1) | DE2412467C2 (ja) |
DK (1) | DK156397C (ja) |
FR (1) | FR2223354B1 (ja) |
GB (1) | GB1469936A (ja) |
IT (1) | IT1004418B (ja) |
SE (1) | SE419640B (ja) |
SU (1) | SU547175A3 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3956320A (en) * | 1972-08-18 | 1976-05-11 | General Electric Company | Aromatic bis(ether phthalis anhydride) compounds |
US3944583A (en) * | 1975-02-27 | 1976-03-16 | General Electric Company | Bis-phenoxyphthalic acid anhydrides |
US4133182A (en) * | 1977-01-13 | 1979-01-09 | Societe Nationale Elf Aquitaine (Production) | Apparatus and method of connecting a flowline to a subsea station |
US4102905A (en) * | 1977-09-02 | 1978-07-25 | General Electric Company | Aromatic disulfone dianhydrides |
US4459414A (en) * | 1981-04-08 | 1984-07-10 | Ciba-Geigy Corporation | Tetrasubstituted phthalic acid derivatives, and a process for their preparation |
US4868316A (en) * | 1987-04-27 | 1989-09-19 | Occidental Chemical Corporation | Process for the preparation of diether diphthalic anhydrides |
DE4216796A1 (de) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Cassella Ag | Verfahren zur Herstellung von 4-(2-Aminophenylthio)- naphthalsäureanhydrid-Derivaten |
US20060029671A1 (en) * | 2004-08-06 | 2006-02-09 | Grain Processing Corporation | Tablet coating composition |
US7268237B2 (en) * | 2005-03-11 | 2007-09-11 | General Electric Company | Direct dianhydride synthesis |
US8080671B2 (en) | 2008-05-23 | 2011-12-20 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Production of low color polyetherimides |
US11898011B2 (en) | 2020-02-19 | 2024-02-13 | Dupont Electronics, Inc. | Polymers for use in electronic devices |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3787475A (en) * | 1971-01-20 | 1974-01-22 | Gen Electric | Process for making aryloxy derivatives of aromatic diesters and dinitriles |
-
1973
- 1973-03-30 US US00346471A patent/US3850964A/en not_active Expired - Lifetime
-
1974
- 1974-03-15 DE DE2412467A patent/DE2412467C2/de not_active Expired
- 1974-03-22 GB GB1286574A patent/GB1469936A/en not_active Expired
- 1974-03-26 FR FR7410288A patent/FR2223354B1/fr not_active Expired
- 1974-03-27 IT IT49729/74A patent/IT1004418B/it active
- 1974-03-28 DK DK172874A patent/DK156397C/da not_active IP Right Cessation
- 1974-03-28 DD DD177522A patent/DD111369A5/xx unknown
- 1974-03-29 JP JP49034776A patent/JPS604178B2/ja not_active Expired
- 1974-03-29 SE SE7404313A patent/SE419640B/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-03-29 SU SU2011517A patent/SU547175A3/ru active
- 1974-03-29 BR BR2534/74A patent/BR7402534D0/pt unknown
-
1983
- 1983-03-01 JP JP58031901A patent/JPS58180479A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3850964A (en) | 1974-11-26 |
DE2412467C2 (de) | 1983-08-04 |
JPS58180479A (ja) | 1983-10-21 |
BR7402534D0 (pt) | 1974-12-03 |
JPS5024241A (ja) | 1975-03-15 |
GB1469936A (en) | 1977-04-06 |
DK156397C (da) | 1990-01-08 |
AU6738774A (en) | 1975-10-16 |
FR2223354A1 (ja) | 1974-10-25 |
DD111369A5 (ja) | 1975-02-12 |
IT1004418B (it) | 1976-07-10 |
DK156397B (da) | 1989-08-14 |
FR2223354B1 (ja) | 1978-09-15 |
SU547175A3 (ru) | 1977-02-15 |
SE419640B (sv) | 1981-08-17 |
DE2412467A1 (de) | 1974-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3972902A (en) | 4,4'-Isopropylidene-bis(3- and 4-phenyleneoxyphthalic anhydride) | |
US3956320A (en) | Aromatic bis(ether phthalis anhydride) compounds | |
US3965125A (en) | Synthesis of certain bis(phthalic anhydrides) | |
JP2883670B2 (ja) | イミド環を有する新規ビスフェノール類およびその製造方法 | |
JPS596871B2 (ja) | 芳香族ビス(エ−テル酸無水物)の製法 | |
US4017511A (en) | Preparation of aromatic bisimides | |
JP2845957B2 (ja) | イミド環を有する新規ジフェノール類およびその製造方法 | |
JPS604178B2 (ja) | 芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法 | |
US5068353A (en) | Synthesis of aromatic bis(ether phthalimide) compounds | |
JPH0812663A (ja) | アルキルアミン類より導かれた低い溶融温度を有するビスアミド類を用いてビス(エーテル無水物)を製造する方法 | |
EP0411304B1 (en) | Acetylene bis-phthalic compounds and polyimides made therefrom | |
US3992407A (en) | Preparation of aromatic bisimides | |
US3850965A (en) | Method for making aromatic ether anhydrides and products made thereby | |
JPH01128977A (ja) | フェノキシ無水フタル酸の製造方法 | |
US4758380A (en) | Substituted 1,1,1-triaryl-2,2,2-trifluoroethanes and processes for their synthesis | |
JPS63295569A (ja) | 無水ジフタル酸ジエーテルの製造方法 | |
JPS6156226B2 (ja) | ||
US4002645A (en) | Bis aromatic anhydrides | |
Schwartz | A Novel Route to Aryl Diether Dianhydrides | |
JPS5814451B2 (ja) | ポリエ−テルイミド ノ セイホウ | |
JPS5849554B2 (ja) | アリ−ルオキシ酸二無水物の製造法 | |
EP0233409B1 (en) | Aromatic sulfonyl compounds | |
US5110934A (en) | Bisphenols and poly(imidoarylether ketone)s and poly(imidoarylether sulfone)s produced therefrom | |
JPH0755929B2 (ja) | イミド環を有する新規ジフエノ−ル類およびその製造方法 | |
US4912238A (en) | Substituted 1,1,1-triaryl-2,2,2-trifluoroethanes and processes for their synthesis |