JPS60235344A - Ion beam generating apparatus - Google Patents
Ion beam generating apparatusInfo
- Publication number
- JPS60235344A JPS60235344A JP59093492A JP9349284A JPS60235344A JP S60235344 A JPS60235344 A JP S60235344A JP 59093492 A JP59093492 A JP 59093492A JP 9349284 A JP9349284 A JP 9349284A JP S60235344 A JPS60235344 A JP S60235344A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion beam
- synchrotron radiation
- radiation light
- substance
- beam generator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims description 34
- 230000005283 ground state Effects 0.000 claims description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims 2
- 230000005464 channeling radiation Effects 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 25
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 22
- 230000005284 excitation Effects 0.000 abstract description 7
- 230000007704 transition Effects 0.000 abstract description 5
- 230000005592 electrolytic dissociation Effects 0.000 abstract 2
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- -1 aluminum ions Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical group [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32321—Discharge generated by other radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/24—Ion sources; Ion guns using photo-ionisation, e.g. using laser beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体加工装置をはじめ材料改質。[Detailed description of the invention] [Technical field of invention] The present invention is applicable to material modification including semiconductor processing equipment.
材料合成等に使われるイオンビーム発生装置に関するも
のである。This relates to ion beam generators used for materials synthesis, etc.
従来、イオンビーム発生装置によるイオン発生方法とし
ては、種々の手法が考えられ実用化されて来た。その大
部分は放電を利用したものであったが、近年レーザ光を
使ったイオン源が考え出されて来ている。このレーザ光
等の光を使った方式には2つあり、1つは光を金属等の
固体に照射してそのプラズマをイオン源として使ったり
、レーザ光を集光して気体、液体に照射してプラズマを
作り、これをイオン源としたりするものであり、他の1
つは波長の可変な光源を使い、光等の単一波長を対象と
するイオン化されるべき物質のエネルギ準位に共鳴させ
て該物質をイオン化させるものであり、本発明は後者に
関するものであり、光源としてレーザ光でなくシンクロ
トロン放射光を使うものである。Conventionally, various methods have been considered and put into practical use as ion generation methods using ion beam generators. Most of them used electric discharge, but in recent years ion sources using laser light have been devised. There are two methods of using light such as laser light: one is to irradiate a solid such as a metal with light and use the resulting plasma as an ion source, and the other is to focus the laser light and irradiate it onto a gas or liquid. to create plasma and use it as an ion source.
One is to use a variable wavelength light source to resonate a single wavelength of light or the like with the energy level of the substance to be ionized, and the present invention relates to the latter. , which uses synchrotron radiation rather than laser light as a light source.
本発明は、上記共鳴光励起、イオン化方式のイ −オン
ビーム発生装置において、イオン化させる物質の共鳴光
励起にてイオン化させる直前の状態として、該物質の自
動電離状態(Autoionizationlevel
)を使うことにより、従来の共鳴光励起フイオン化方
式に比べ入力光エネルギに対するイオン化効率を数桁以
上向上でき、かつ選択イオン化における選択性に優れた
イオンビーム発生装置を提供することを目的としている
。The present invention provides an ion beam generation apparatus using resonant light excitation and ionization, in which an autoionization level of a substance is set as a state immediately before the substance is ionized by resonant light excitation.
), the purpose is to provide an ion beam generator that can improve the ionization efficiency for input light energy by several orders of magnitude compared to the conventional resonant light excitation ionization method and has excellent selectivity in selective ionization.
まず本発明装置におけるイオン化方法をアルミニウムイ
オンビームを発生する場合を例にとって従来の方法と比
較しつつ説明する。第1図はアルミニウム中性原子のエ
ネルギ準位図である。First, the ionization method in the apparatus of the present invention will be explained by comparing it with a conventional method, taking as an example the case of generating an aluminum ion beam. FIG. 1 is an energy level diagram of aluminum neutral atoms.
従来のイオン化方法は、例えば波長が3082人。Conventional ionization methods, for example, have a wavelength of 3082.
6200人の2本のレーザビームBl、B2をイオン化
させたいアルミニウム蒸気に照射する方法であり、即ち
基底状態3p (2PO)にあるアルミニウム原子をま
ず3082人のレーザビームB1により第1励起状態3
d(2D)に共鳴励起し、〜その後6200人のレーザ
ビームB2によりイオン化させるものである。This is a method of irradiating the aluminum vapor to be ionized with two laser beams Bl and B2 of 6,200 people. In other words, aluminum atoms in the ground state 3p (2PO) are first transformed into the first excited state 3 by the laser beam B1 of 3,082 people.
d (2D) and then ionized by the laser beam B2 of 6200 people.
本発明装置におけるイオン化方法が上記従来のイオン化
方法と異なる点は、最終励起状態を自動電離状態とする
一点、励起用の光源としてシンクロトロン放射光、特に
相対論的シンクロトロン放射光を使用する点にある。シ
ンクロトロン放射光はレーザ光と同様に方向性を有し、
かつレーザ光よりはるかに大強度、高エネルギ光子であ
り、そのため第1図に示すように1本の光子によりアル
ミニウム蒸気を基底状態から自動電離状態に励起でき、
該励起蒸気は自動電離により所定の遷移確率でイオン化
する。The ionization method used in the apparatus of the present invention differs from the conventional ionization method described above in that the final excited state is an auto-ionization state and that synchrotron radiation, particularly relativistic synchrotron radiation, is used as the excitation light source. It is in. Synchrotron radiation light has directionality like laser light,
In addition, it is a photon with much greater intensity and energy than a laser beam, and therefore, as shown in Figure 1, a single photon can excite aluminum vapor from the ground state to an auto-ionization state.
The excited vapor is ionized by autoionization with a predetermined transition probability.
この発明装置におけるイオン化方法の場合、従来のイオ
ン化方法がエネルギ準位3d(2D)等から直接イオン
化させるのに比べ、イオン化させる衝突断面積が数桁以
上高い。従って他の粒子が多重光励起や非共鳴光電離等
を起こさない程度の小出力エネルギでよく、しかも完全
に共鳴のみを使うためシンクロトロン放射光のエネルギ
準位。In the case of the ionization method in the device of this invention, the collision cross section for ionization is several orders of magnitude higher than that in the conventional ionization method, which directly ionizes from energy level 3d (2D) or the like. Therefore, only a small output energy is required that does not cause multiple optical excitation or non-resonant photoionization of other particles, and since only resonance is used, the energy level of synchrotron radiation light is low.
波長を不純物原子のそれらと一致しないよ゛うに選択す
ればイオン化させたい物質のみをイオン化でき、しかも
純度の高いものができる。If the wavelength is selected so that it does not match that of the impurity atoms, only the desired substance can be ionized, and the substance can be highly purified.
また上記シンクロトロン放射光の波iを変えることによ
り、容易に他種の物質のイオンビームを発生することが
でき、この場合イオン化される多種の物質を前もってイ
オンビーム発生容器内に導入しておいても良い。このよ
うに発生するイオンビームの種類を容易に変えること力
(できる本発明の手法は従来の方法にないものであり、
イオンビームで処理する2つ以上の行程を連続して行な
うこともできる利点がある。Furthermore, by changing the wave i of the synchrotron radiation light, ion beams of other types of substances can be easily generated.In this case, various types of substances to be ionized can be introduced into the ion beam generation container in advance. It's okay to stay. The method of the present invention, which allows the type of ion beam generated to be easily changed, is something that conventional methods do not have.
There is an advantage that two or more steps of processing with an ion beam can be performed in succession.
次にこの発明の実施例を図について説明する。Next, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
第2図は本発明の第1の実施例を示す。図において、1
はイオン化されるべき物質が導入される容器、1aは上
記物質を該容器1内に導入するためのガス導入孔、1b
は上記容器1を真空にするための真空排気袋W(図示せ
ず)に接続された排気通路、3は加速器にウィグラー又
はアンデュレータを設けてなり、1762人の波長幅の
狭いシンクロトロン放射光B3を発生するシンクロトロ
ン放射光発生部、11は該発生部3と上記容器1との間
に設けられたスリット、6は電極、6aは該電極6に電
圧を印加する端子である。8は試料、8aは該試料8を
保持する試料台であり、該試料台8aと上記電極6との
間には直流電圧が印加され、これによりイオン化された
物質をイオンビームとして引き出すための引き出し電界
が発生される。FIG. 2 shows a first embodiment of the invention. In the figure, 1
1a is a container into which the substance to be ionized is introduced; 1a is a gas introduction hole for introducing the substance into the container 1; 1b is a gas introduction hole for introducing the substance into the container 1;
3 is an exhaust passage connected to an evacuation bag W (not shown) for evacuating the container 1, and 3 is an accelerator equipped with a wiggler or an undulator. A synchrotron radiation light generating section that generates B3, 11 is a slit provided between the generating section 3 and the container 1, 6 is an electrode, and 6a is a terminal for applying voltage to the electrode 6. 8 is a sample, and 8a is a sample stand that holds the sample 8. A direct current voltage is applied between the sample stand 8a and the electrode 6, and a drawer is used to extract the ionized substance as an ion beam. An electric field is generated.
そしてこの引き出し電界は上記シンクロトロン放射光B
3と時間的に同期する位相を有する。And this extraction electric field is the synchrotron radiation B
It has a phase that is temporally synchronized with 3.
次に動作について説明する。Next, the operation will be explained.
本実施例装置により、アルミニウムのイオンビームを発
生する場合を考える。まず容器1滲こガス導入孔1aよ
りアルミニウム蒸気10を導入する。Let us consider the case where an aluminum ion beam is generated by the apparatus of this embodiment. First, aluminum vapor 10 is introduced through the permeable gas introduction hole 1a of the container 1.
そして上記シンクロトロン放射光発生部3を発振させる
。すると波長1762人のシンクロトロン放射光B3が
スリン)11を介して上記容器1に導入され、これによ
り上記アルミニウム蒸気10は、基底状態3P(2PO
)から自動電離状態3s3p2(2pO)に共鳴励起さ
れ、その結果該励起蒸気は所定の遷移確率でもってイオ
ン状態となる。Then, the synchrotron radiation light generating section 3 is caused to oscillate. Then, synchrotron radiation B3 with a wavelength of 1,762 people is introduced into the container 1 through the 2PO
) to the autoionization state 3s3p2 (2pO), and as a result, the excited vapor becomes an ionic state with a predetermined transition probability.
また上記電極6と試料台8aとの間には直流電圧が印加
されており、これにより上記イオン化されたアルミニウ
ム蒸気10はアルミニウムのイオンのみからなるイオン
ビーム9として引き出され、該イオンビーム9は上記試
料8に照射される。Further, a DC voltage is applied between the electrode 6 and the sample stage 8a, whereby the ionized aluminum vapor 10 is extracted as an ion beam 9 consisting only of aluminum ions. The sample 8 is irradiated.
以上の動作説明における本実施例の特徴を示すと、まず
第1に本実施例は完全に共鳴のみを用いて選択イオン化
を行なうものであるので、上記容器1内にイオン化させ
るべき物質、この場合アルミニウム、以外の不純物、酸
素、窒素、炭素、水素等が含まれていて、しかもその量
がアルミニウムより多くても、シンクロトロン放射光の
エネルギ準位、波長を上記不純物等のそれらと一致させ
ないようにして希望の元素、この場合はアルミニウム、
のみがイオン化された純粋なアルミニウムイオンビーム
が得られる。The characteristics of this embodiment in the above operation description are as follows: First of all, since this embodiment performs selective ionization completely using only resonance, the substance to be ionized in the container 1, in this case, Even if it contains impurities other than aluminum, such as oxygen, nitrogen, carbon, hydrogen, etc., and the amount is greater than that of aluminum, the energy level and wavelength of synchrotron radiation light should not match those of the above impurities, etc. and the desired element, in this case aluminum,
A pure aluminum ion beam with only ionized aluminum is obtained.
第2に本実施例は上述のとおり、選択イオン化を行なう
ものであり、かつ共鳴光励起によるイオン化を行なうも
のであるのヤ、電子や他の元素が励起されたり、エネル
ギ吸収により温度上昇したりすることはなく、その結果
イオンビームを照射する対象試料8、例えば半導体の場
合は基板、の温度を上昇させることはなく、低温処理が
できる。Second, as mentioned above, this embodiment performs selective ionization, and ionization is performed by resonant optical excitation, which means that electrons and other elements are excited and the temperature rises due to energy absorption. As a result, low-temperature processing can be performed without increasing the temperature of the target sample 8 to be irradiated with the ion beam, such as a substrate in the case of a semiconductor.
−第3にイオンビームの種類や特性を変える場合はシン
クロトロン放射光の波長を変えれば良く、従来のような
試料を取り出したり、イオン源部を交換するために容器
を開閉したりする必要はなく、従って、イオン注入とア
ニーリング等の連続動作が容易にできる。-Thirdly, if you want to change the type or characteristics of the ion beam, you can simply change the wavelength of the synchrotron radiation light, and there is no need to open and close the container to take out the sample or replace the ion source, as in the past. Therefore, continuous operations such as ion implantation and annealing can be easily performed.
第3図は本発明の第2の実施例を示す。図において、第
2図と同一符号は同−又は相当部分を示し、13はイオ
ン化させるべき物質12を収容する容器、13aは該容
器13の外周に設けられたヒータであり、これにより上
記容器13は上記物質12を蒸発せしめるオーブンとな
っている。11はイオン化されたアルミニウム蒸気10
を容器1の軸心に集束せしめるマグネット、14は上記
集束されたアルミニウム蒸気10をイオンビーム9とし
て引き出す引き出し電極である。FIG. 3 shows a second embodiment of the invention. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 2 indicate the same or equivalent parts, 13 is a container containing the substance 12 to be ionized, 13a is a heater provided on the outer periphery of the container 13, serves as an oven in which the substance 12 is evaporated. 11 is ionized aluminum vapor 10
14 is an extraction electrode that extracts the focused aluminum vapor 10 as an ion beam 9.
次に動作について説明する。Next, the operation will be explained.
容器13内にイオン化させる物質であるアルミニウム1
2を入れ、ヒータ13aによりオーブン13を加熱する
と上記アルミニウム12が溶融。Aluminum 1 which is a substance to be ionized in the container 13
When the aluminum 12 is heated in the oven 13 by the heater 13a, the aluminum 12 is melted.
気化してアルミニウム蒸気10が発生ずる。そしてシン
クロトロン放射光B3がスリ・ノド11を介して上記容
器13内に導入されて上記蒸気10に照射される。する
とこれにより蒸気10は基底状態から自動電離状態3S
3p2 (2PO)に励起され、その結果該励起蒸気が
所定の遷移確率で自動電離されてアルミニウムイオンが
生成され、該アルミニウムイオンはマグネット15によ
り軸心に集束された後、引き出し電極14によってイオ
ンビ〜ム9として放出される。It is vaporized and aluminum vapor 10 is generated. Then, the synchrotron radiation B3 is introduced into the container 13 through the throat 11 and irradiated onto the steam 10. As a result, the steam 10 changes from the ground state to the auto-ionization state 3S.
3p2 (2PO), and as a result, the excited vapor is automatically ionized with a predetermined transition probability to generate aluminum ions. After the aluminum ions are focused to the axis by the magnet 15, the ion beams are It is released as M9.
第4図は本発明に用いるシンクロトロン放射光発生装置
の構成例である。図において、21は線形加速器、22
は電子蓄積リング、23はウィグラー、−24は分光系
であり、これらによりシンクロトロン放射光発生装置2
oが構成されている。FIG. 4 shows an example of the configuration of a synchrotron radiation generator used in the present invention. In the figure, 21 is a linear accelerator, 22
23 is an electron storage ring, 23 is a wiggler, and -24 is a spectroscopic system, which allows the synchrotron radiation generator 2
o is configured.
33は該発生装置20からのシンクロトロン放射光が照
射される容器である。33 is a container to which synchrotron radiation light from the generator 20 is irradiated.
上記容器33に導入されるシンクロトロン放射光は、ま
ず線形加速器21により電子が加速されて電子蓄積リン
グ22に打ち込まれ、該リング22において相対何的速
度になった電子からシンクロトロン放射光が放出され、
さらに該放射光が分光系24に導入され、該分光系24
により単一波長にきれた光である。そして本実施例では
ウィグラー23を設けたので上記分光系24の波長可変
′1生とは別に波長可変性の範囲を拡げることができ、
子種の物質のイオンビームを発生できる。In the synchrotron radiation introduced into the container 33, electrons are first accelerated by the linear accelerator 21 and are shot into the electron storage ring 22, and synchrotron radiation is emitted from the electrons that have reached a relative speed in the ring 22. is,
Furthermore, the synchrotron radiation is introduced into the spectroscopic system 24, and the spectroscopic system 24
This is light that has been cut into a single wavelength. In this embodiment, since the wiggler 23 is provided, the range of wavelength tunability can be expanded in addition to the wavelength tunability '1 of the spectroscopic system 24.
It can generate an ion beam of seed material.
このように、本発明に係るイオンビーム発生装置によれ
C<、イオン化されるべき物質をシンクロトロン放射光
の照射によりその基底状態から自動電離状態に共鳴光励
起し、該励起蒸気が所定の遷移確率で自動電離してイオ
ン、状態になるようにしたので、イオン化効率及びイオ
ンの選択性を大きく向上できる効果がある。In this way, the ion beam generator according to the present invention resonantly optically excites a substance to be ionized from its ground state to an autoionized state by irradiation with synchrotron radiation light, and the excited vapor has a predetermined transition probability. Since it is automatically ionized into an ion state, the ionization efficiency and ion selectivity can be greatly improved.
第1図はアルミニウム中性原子のシングレット系のエネ
ルギ状態図、第2図は本発明の第1の実施例によるシ中
ワー型イオンビーム発生装置の概略構成図、第3図は本
発明の第2の実施例による集束型イオンビーム発生装置
・の概略構成図、第4図は本発明に使用するシンクロト
ロン放射光発生装置の概略構成図である。
1.13.33・・・容!、9・・・イオンビーム、2
0・・・シンクロトロン放射光発生部、21・・・加速
器、23・・・ウィグラー、B3・・・シンクロトロン
放射光。
なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
代理人 大岩増雄
第1図
工
不
)し
(cml)FIG. 1 is an energy phase diagram of a singlet system of aluminum neutral atoms, FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a sinker-type ion beam generator according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram of a focused ion beam generator according to the second embodiment, and FIG. 4 is a schematic diagram of a synchrotron radiation generator used in the present invention. 1.13.33...Yong! , 9... Ion beam, 2
0... Synchrotron radiation generation unit, 21... Accelerator, 23... Wiggler, B3... Synchrotron radiation light. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts. Agent Masuo Oiwa 1st Design (CML)
Claims (7)
容器内の上記物質にシンクロトロン放射光を照射するシ
ンクロトロン放射光発生部とを備え、上記物質のイオン
ビームを発生ずる装置において、上記シンクロトロン放
射光発生部は加速器にウィグラー又はアンデュレータを
設けてなり、上記物質をエネルギ準位の基底状態から自
動電離状態に共鳴光励起するような波長を有するシンク
ロトロン放射光を発生するものであることを特徴とする
イオンビーム発生装置。(1) An apparatus for generating an ion beam of the substance, comprising a container containing a substance to be ionized and a synchrotron radiation light generating section for irradiating the substance in the container with synchrotron radiation light, The synchrotron radiation light generating section is constructed by providing a wiggler or an undulator in an accelerator, and generates synchrotron radiation light having a wavelength that resonantly excites the above-mentioned substance from the ground state of the energy level to the auto-ionization state. An ion beam generator characterized by:
トロン放射光としてチャンネリング放射光を発生ずるも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
イオンビーム発生装置。(2) The ion beam generator according to claim 1, wherein the synchrotron radiation light generating section generates channeling radiation light as synchrotron radiation light.
を基底状態から中間状態を経て上記自動電離状態に階段
状に共鳴光励起するような波長の異なる複数の線スペク
トルのシンクロトロン放射光を発生するものであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載のイ
オンビーム発生装置。(3) The synchrotron radiation light generating section generates synchrotron radiation light having a plurality of line spectra with different wavelengths so as to resonantly excite the substance stepwise from the ground state to the autoionization state through the intermediate state. An ion beam generator according to claim 1 or 2, characterized in that the ion beam generator is an ion beam generator.
分光器又は分光系を有し、加速器からの出力を分光器又
は分光系を通過させた線幅の狭い線スペクトルにξた光
を発生するものであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項ないし第3項のいずれかに記載のイオンビーム発
生装置。(4) The synchrotron radiation light generating section has an accelerator and a spectrometer or a spectroscopic system, and generates light having a narrow line spectrum by passing the output from the accelerator through the spectrometer or spectroscopic system. An ion beam generator according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the ion beam generator is an ion beam generator.
クロト、ロンのいずれか一方又は両方を用いたことを特
徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれか
に記載のイオンビーム発生装置。(5) The ion beam generator according to any one of claims 1 to 4, characterized in that one or both of an electron storage ring, an electron cyclotron, and a ron are used as the accelerator. .
ム引き出し電界の位相と時間的に同期する位相を有する
シンクロトロン放射光を発生するものであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに
記載のイオンビーム発主装置。(6) The synchrotron radiation light generating section generates synchrotron radiation light having a phase temporally synchronized with the phase of the ion beam extraction electric field. The ion beam source device according to any one of Item 5.
生成された蒸気として上記容器に導入されることを特徴
とする特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれかに
記載のイオンビーム発生装置。(7) The substance described in any one of claims 1 to 6 is characterized in that the substance is introduced into the container as a vapor generated by heating and vaporizing a solid or liquid substance. Ion beam generator.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59093492A JPS60235344A (en) | 1984-05-08 | 1984-05-08 | Ion beam generating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59093492A JPS60235344A (en) | 1984-05-08 | 1984-05-08 | Ion beam generating apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60235344A true JPS60235344A (en) | 1985-11-22 |
Family
ID=14083837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59093492A Pending JPS60235344A (en) | 1984-05-08 | 1984-05-08 | Ion beam generating apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60235344A (en) |
-
1984
- 1984-05-08 JP JP59093492A patent/JPS60235344A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Fayet et al. | Production and study of metal cluster ions | |
Van Duppen | Laser ion sources for on-line isotope separators | |
US4692627A (en) | Ion beam generator | |
JPH0368420A (en) | Isotope separator by laser | |
US4716295A (en) | Ion beam generator | |
JPS60235344A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPS60235337A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPS60235346A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPH0441461B2 (en) | ||
JPS60235343A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPS6127041A (en) | Ion beam generator | |
JPS60235348A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPS60208039A (en) | Ion beam generator | |
JPS6127043A (en) | Ion beam generator | |
JPS6127037A (en) | Ion beam generator | |
JPS6127036A (en) | Ion beam generator | |
JPH0527214B2 (en) | ||
JPS60211751A (en) | Ion beam generation device | |
EP0444336B1 (en) | Laserisotope separation apparatus | |
JPH0527211B2 (en) | ||
JPS60208038A (en) | Ion beam generator | |
JPS60235339A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPH0441458B2 (en) | ||
JPS60235345A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPS6127038A (en) | Ion beam generator |