JPS60234906A - 溶銑の予備処理方法 - Google Patents
溶銑の予備処理方法Info
- Publication number
- JPS60234906A JPS60234906A JP7320584A JP7320584A JPS60234906A JP S60234906 A JPS60234906 A JP S60234906A JP 7320584 A JP7320584 A JP 7320584A JP 7320584 A JP7320584 A JP 7320584A JP S60234906 A JPS60234906 A JP S60234906A
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- JP
- Japan
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- flux
- lance
- blowing
- nozzle
- oxygen
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
- C21C1/00—Refining of pig-iron; Cast iron
- C21C1/02—Dephosphorising or desulfurising
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
の上吹きと粉粒状フラツクスの吹込みを併用して脱燐・
脱硫を行なう溶銑の予備処理方法に射いて、粉粒状フラ
ックスの吹込み法を改善することにより、脱燐・脱硫効
率を高めると共に予備処理時間の短縮を可能にしたもの
である。
脱硫を行なう溶銑の予備処理方法に射いて、粉粒状フラ
ックスの吹込み法を改善することにより、脱燐・脱硫効
率を高めると共に予備処理時間の短縮を可能にしたもの
である。
溶銑の予備処理とは、転炉装入前の溶銑段階で脱珪、脱
燐及び脱硫を行なう為の予備処理を言い、転炉のスラグ
レスまたはスラグミニマム操業を実現するうえで重要な
工程となっている。このうち脱珪については、高炉鋳床
を経て出銑する過程で行なう溶銑樋脱珪技術がほぼ確立
しており、溶銑予備処理の殆んどは脱燐拳硫硫を目的と
して行なわれる。
燐及び脱硫を行なう為の予備処理を言い、転炉のスラグ
レスまたはスラグミニマム操業を実現するうえで重要な
工程となっている。このうち脱珪については、高炉鋳床
を経て出銑する過程で行なう溶銑樋脱珪技術がほぼ確立
しており、溶銑予備処理の殆んどは脱燐拳硫硫を目的と
して行なわれる。
ところで脱燐・脱硫を目的とする予備処理で現在量も有
効と考えられているのは、例えば第１図に略示する如く
、予備処理炉ｌ内の溶銑Ｍ中へインジェクションランス
２を用いてキャリヤガス（窒素等）と共に粉粒状フラッ
クスを吹込み、同時にメインランス８を用いて湯面上へ
酸素を上吹きする方法である。この場合、吹込まれた粉
粒状フラックスの浮上位置に向けて酸素を上吹きすると
、脱燐反応や脱硫反応が効率良く進行するところから、
図示した様にメインランス８を予備処理炉１の略中心部
上方に配置して湯面の略中央部へ酸素を上吹きすると共
に、該酸素上吹き位置に向けてフラックスが浮上する様
に粉粒状フラックスの吹込み方向を定めている。その為
インジェクションランス２の先端に設けられるノズル４
は、第２図（ランス２先端の横断面図）に示す如く予備
処理炉１の中心方向へ向けて指向させている。ところで
メインランス８による酸素の上吹きは、湯面中心部の比
較的広い範囲に亘って行なうことができるが、吹込まれ
る粉粒状フラックスの浮上位置は比較的狭い範囲に決ま
ってくる。即ち溶銑Ｍ中に吹込まれた粉粒状フラックス
はキャリヤガスと共に、し昇するが、溶銑Ｍは高比重で
粘性もかなり高いので、ノズル４から吹込まれた粉粒状
フラックスは、溶銑Ｍ中であまり拡散することなく第３
図（溶銑表面を上方から見た説明図）に示す様に酸素上
吹き領域ＺＯ□の一部に集中して浮上しくフラックス浮
上領域をＺＦで示している）、脱燐・脱硫は該浮上領域
で効率良く進行する。従って予備処理効率を高める為に
はフラックスの前記浮上領域ＺＦをできるだけ拡大すれ
ばよいのであるが、従来の単孔ノズル式インジェクショ
ンランスを使用する限り、キャリヤガスの吹込速度等を
調整してみても前記浮上領域ＺＦはそれほど拡大される
訳ではない。また予備処理時間を短縮すべくフラックス
の吹込量を増大してみても、湯面への浮上後の拡散速度
が律速段階となる為、フラックス量の増大に見合った処
理時間短縮効果を得ることはできず、結局フラックスの
増加分だけ経済的不利益を被るだけとなる恐れもある。
効と考えられているのは、例えば第１図に略示する如く
、予備処理炉ｌ内の溶銑Ｍ中へインジェクションランス
２を用いてキャリヤガス（窒素等）と共に粉粒状フラッ
クスを吹込み、同時にメインランス８を用いて湯面上へ
酸素を上吹きする方法である。この場合、吹込まれた粉
粒状フラックスの浮上位置に向けて酸素を上吹きすると
、脱燐反応や脱硫反応が効率良く進行するところから、
図示した様にメインランス８を予備処理炉１の略中心部
上方に配置して湯面の略中央部へ酸素を上吹きすると共
に、該酸素上吹き位置に向けてフラックスが浮上する様
に粉粒状フラックスの吹込み方向を定めている。その為
インジェクションランス２の先端に設けられるノズル４
は、第２図（ランス２先端の横断面図）に示す如く予備
処理炉１の中心方向へ向けて指向させている。ところで
メインランス８による酸素の上吹きは、湯面中心部の比
較的広い範囲に亘って行なうことができるが、吹込まれ
る粉粒状フラックスの浮上位置は比較的狭い範囲に決ま
ってくる。即ち溶銑Ｍ中に吹込まれた粉粒状フラックス
はキャリヤガスと共に、し昇するが、溶銑Ｍは高比重で
粘性もかなり高いので、ノズル４から吹込まれた粉粒状
フラックスは、溶銑Ｍ中であまり拡散することなく第３
図（溶銑表面を上方から見た説明図）に示す様に酸素上
吹き領域ＺＯ□の一部に集中して浮上しくフラックス浮
上領域をＺＦで示している）、脱燐・脱硫は該浮上領域
で効率良く進行する。従って予備処理効率を高める為に
はフラックスの前記浮上領域ＺＦをできるだけ拡大すれ
ばよいのであるが、従来の単孔ノズル式インジェクショ
ンランスを使用する限り、キャリヤガスの吹込速度等を
調整してみても前記浮上領域ＺＦはそれほど拡大される
訳ではない。また予備処理時間を短縮すべくフラックス
の吹込量を増大してみても、湯面への浮上後の拡散速度
が律速段階となる為、フラックス量の増大に見合った処
理時間短縮効果を得ることはできず、結局フラックスの
増加分だけ経済的不利益を被るだけとなる恐れもある。
本発明者等はこうした状況のもとで、脱燐−脱硫の為の
溶銑予備処理を短時間で効率良く進行させることのでき
る技術を確立しようとして種々研究を進めてきた。本発
明はこうした研究の結果完成されたものであって、その
構成は、例えば第１図に示した様に、処理容器の略中夫
に配置されるメインランスからの酸素の上吹きと、該メ
インランスから離れて配置されるインジェクションラン
スからの粉粒状フラックスの吹込みを併用して脱燐−脱
硫を行なう溶銑の予備処理方法において、前記インジェ
クションランスとして、−その下部に設けるノズルが複
数個であって、目つ該インジェクションランスにおける
前記各ノズルの開口面を、前記メインランスと対向する
側の半円々弧上に設けたものを使用するところに要旨を
有するものである。
溶銑予備処理を短時間で効率良く進行させることのでき
る技術を確立しようとして種々研究を進めてきた。本発
明はこうした研究の結果完成されたものであって、その
構成は、例えば第１図に示した様に、処理容器の略中夫
に配置されるメインランスからの酸素の上吹きと、該メ
インランスから離れて配置されるインジェクションラン
スからの粉粒状フラックスの吹込みを併用して脱燐−脱
硫を行なう溶銑の予備処理方法において、前記インジェ
クションランスとして、−その下部に設けるノズルが複
数個であって、目つ該インジェクションランスにおける
前記各ノズルの開口面を、前記メインランスと対向する
側の半円々弧上に設けたものを使用するところに要旨を
有するものである。
以下実施例図面を参照しながら本発明の構成及び作用効
果を説明する。第４図は本発明で使用するインジェクシ
ョンランス２のノズル形成部を示す概略横断面図であり
、破線で示した符号８は、予備処理炉の上方から見たメ
インランスの配置位置を示し、該メインランス３からの
酸素上吹き領域ＺＯ□は鎖線で示した通りである。本発
明における第１の特徴は、インジェクションランス２に
複数（図では３個）のノズル４ａ、４ｂ、４Ｇを設けた
ところにあり、第２の特徴は、各ノズル４ａ。
果を説明する。第４図は本発明で使用するインジェクシ
ョンランス２のノズル形成部を示す概略横断面図であり
、破線で示した符号８は、予備処理炉の上方から見たメ
インランスの配置位置を示し、該メインランス３からの
酸素上吹き領域ＺＯ□は鎖線で示した通りである。本発
明における第１の特徴は、インジェクションランス２に
複数（図では３個）のノズル４ａ、４ｂ、４Ｇを設けた
ところにあり、第２の特徴は、各ノズル４ａ。
４ｂ、４ｃの開口面を、メインランス３と対向する側の
半円々弧−ヒに設けたきころにある。即ちこの様な位置
に設けた各ノズル４ａ、４ｂ、４ｃからキャリヤガスと
共に粉粒状フラックスを吹込むと、第１図に示した如く
フラックスは各ノズル４ａ。
半円々弧−ヒに設けたきころにある。即ちこの様な位置
に設けた各ノズル４ａ、４ｂ、４ｃからキャリヤガスと
共に粉粒状フラックスを吹込むと、第１図に示した如く
フラックスは各ノズル４ａ。
４ｂ、４ｃの指向方向に沿って吹込まれた後溶銑Ｍ表面
へ浮上するが、前述の如く各ノズル４ａ。
へ浮上するが、前述の如く各ノズル４ａ。
４ｂ、４Ｃの指向方向は夫々異なっているので、上方か
ら見たフラックスの吹込み方向は該指向方向に応じてず
れを生じる。その結果、各ノズル４ａ。
ら見たフラックスの吹込み方向は該指向方向に応じてず
れを生じる。その結果、各ノズル４ａ。
４ｂ、４ｃから吹込まれるフラックスの浮上領域は、第
４図に斜線Ｚ（Ｆ−ａ）’ Ｚ（Ｆ−ｂ）、Ｚ（Ｆ−ｃ
）で示す如く夫々異なる位置となる。従ってこれらの浮
上領域ｚ（Ｆ−ａ）’ Ｚ（Ｆ−ｂ）、Ｚ（Ｆ−ｃ）が
何れも酸素上吹き領域ＺＯ２の範囲内に収まる様に各ノ
ズルの指向方向を設定してあけは、ノズルを１個だけ設
けた従来のインジェクションランス２を使用した場合（
第３図参照）に比べて、フラックス浮上領域を３倍に拡
大することができ、上吹き酸素とフラックスの接触頻度
が増大する結果予備処理効率を大幅に高めることができ
る。第５図はインジェクションランス２先端に２個のノ
ズル４ａ。
４図に斜線Ｚ（Ｆ−ａ）’ Ｚ（Ｆ−ｂ）、Ｚ（Ｆ−ｃ
）で示す如く夫々異なる位置となる。従ってこれらの浮
上領域ｚ（Ｆ−ａ）’ Ｚ（Ｆ−ｂ）、Ｚ（Ｆ−ｃ）が
何れも酸素上吹き領域ＺＯ２の範囲内に収まる様に各ノ
ズルの指向方向を設定してあけは、ノズルを１個だけ設
けた従来のインジェクションランス２を使用した場合（
第３図参照）に比べて、フラックス浮上領域を３倍に拡
大することができ、上吹き酸素とフラックスの接触頻度
が増大する結果予備処理効率を大幅に高めることができ
る。第５図はインジェクションランス２先端に２個のノ
ズル４ａ。
４ｂを設けた場合の第４図対応図であり、複数ノズルか
らの吹込みによるフラックス浮上領域の拡大、及びそれ
に伴う予備処理効率の向上という効果（↓第４図と同様
に理解すればよい。
らの吹込みによるフラックス浮上領域の拡大、及びそれ
に伴う予備処理効率の向上という効果（↓第４図と同様
に理解すればよい。
この様に本発明では、フラックスを複数のノズルから酸
素上吹き領域Ｚ０２方向へ向けて吹込み、フラックス浮
上領域を拡大することによって予備処理効率を高めると
ころに特徴を有するもので、こうした効果は、当然のこ
とながら各ノズルをメインランス（即ち酸素上吹き領域
）と対向する側の半円々弧上に設けたものでなければ有
効に発揮されない。しかしこうした要件に合致する限り
、ノズルの数や指向方向等に格別の制限はなく、現場の
状況に応じて任意に変更することができる。
素上吹き領域Ｚ０２方向へ向けて吹込み、フラックス浮
上領域を拡大することによって予備処理効率を高めると
ころに特徴を有するもので、こうした効果は、当然のこ
とながら各ノズルをメインランス（即ち酸素上吹き領域
）と対向する側の半円々弧上に設けたものでなければ有
効に発揮されない。しかしこうした要件に合致する限り
、ノズルの数や指向方向等に格別の制限はなく、現場の
状況に応じて任意に変更することができる。
例えば吹込まれたフラックスの広がりが極めて少なくフ
ラックス浮上領域が非常に狭い場合は、第６図に示す如
＜４（ｆ’ｊ以上のノズルを設けてフラックス浮上領域
をより拡大することもできる。但し例えば第７図に示す
如く２つ以上の７ラツクス浮上領域ｚ（Ｆ−ａ）’ Ｚ
（Ｆ −ｂ）’ Ｚ（Ｆ−ｃ）が互いに重なると、該重
なり部におけるフラックスと上吹き酸素との接触効率が
低下するので、ノズルの指向角度αは、溶銑内上昇時の
フラックスの拡がりを考慮して前述の様な重なり部がで
きない様に各ノズルの指向角度αを決めるのがよい。こ
の角度αはノズルの数や酸素上吹き領域の広さ、吹込み
フラックスの広がりの程度等によって変わるので一律に
決めることはできないが、一般的な予備処理設備を対象
にして考えれば３０度程度が一応の下限と考えられる。
ラックス浮上領域が非常に狭い場合は、第６図に示す如
＜４（ｆ’ｊ以上のノズルを設けてフラックス浮上領域
をより拡大することもできる。但し例えば第７図に示す
如く２つ以上の７ラツクス浮上領域ｚ（Ｆ−ａ）’ Ｚ
（Ｆ −ｂ）’ Ｚ（Ｆ−ｃ）が互いに重なると、該重
なり部におけるフラックスと上吹き酸素との接触効率が
低下するので、ノズルの指向角度αは、溶銑内上昇時の
フラックスの拡がりを考慮して前述の様な重なり部がで
きない様に各ノズルの指向角度αを決めるのがよい。こ
の角度αはノズルの数や酸素上吹き領域の広さ、吹込み
フラックスの広がりの程度等によって変わるので一律に
決めることはできないが、一般的な予備処理設備を対象
にして考えれば３０度程度が一応の下限と考えられる。
また上記図例では、各ノズルの指向角度を水平方向に変
えた例を示したが、この他第８図に示す如くインジェク
ションランス２の先端を球状に成形し、複数のノズル４
ａ〜４ｅを水平方向のみならず垂直方向にも指向角度を
変えて形成すれば、垂直方向に指向方向を変えたノズル
４ｄ、４ｄから吹込まれるフラックスの場面到達位置が
変わるので、第９図に示す如くフラックス浮上領域を、
インジェクションランス２側から見て左右方向のみなら
ず前後方向にも形成することができ、全７ラツクス浮上
領域を更に拡大することができる。
えた例を示したが、この他第８図に示す如くインジェク
ションランス２の先端を球状に成形し、複数のノズル４
ａ〜４ｅを水平方向のみならず垂直方向にも指向角度を
変えて形成すれば、垂直方向に指向方向を変えたノズル
４ｄ、４ｄから吹込まれるフラックスの場面到達位置が
変わるので、第９図に示す如くフラックス浮上領域を、
インジェクションランス２側から見て左右方向のみなら
ず前後方向にも形成することができ、全７ラツクス浮上
領域を更に拡大することができる。
本発明は以上の様に構成されるが、要はインジェクショ
ンランス先端のメインランスと対向する側に複数のノズ
ルを設け、酸素−１；吹き領域を臨む複数位置にフラッ
クス浮上領域を形成する様にしたから、吹込みフラック
スと上吹き酸素の接触効率が大幅に向」二し、脱燐・脱
硫反応を短時間で効率良く進行せしめ得ると共に、フラ
ックスの利用効率が高まりその原！１１位を著しく低減
し得ることになった。
ンランス先端のメインランスと対向する側に複数のノズ
ルを設け、酸素−１；吹き領域を臨む複数位置にフラッ
クス浮上領域を形成する様にしたから、吹込みフラック
スと上吹き酸素の接触効率が大幅に向」二し、脱燐・脱
硫反応を短時間で効率良く進行せしめ得ると共に、フラ
ックスの利用効率が高まりその原！１１位を著しく低減
し得ることになった。
第１０は従来の溶銑予備処理法を示す概略縦断面し１、
第２図は従来のインジェクションランスの先端ノズル形
成部を示す横断面図、第３図は従来法における酸素−１
−吹き領域とフラックス浮上領域の関係を示す平面説明
図、第４〜９図は本発明の実がハ例を示すもので、第４
． ５． ６． ７及び９図は、インジェクションラン
スの先端ノズル部の構造表酸素り吹き領域及びフラック
ス浮上領域の関係を示す平面説明図、第８図はインジェ
クションランスの他の先端ノズル形成部を示す正面説明
図である。 １・予備処理炉、 ２・インジェクションランス、 ３・メインランス、 ４．４ａ〜４ｅ・・ノズノペ ＺＯ□・・酸素上吹き領域、 ＺＦ、ｚ（Ｆ−ａ）”Ｚ（Ｆ−ｅ） ’・フラックス浮
上領域。 出願人株式会社神戸製鋼所 第６図 Ｚ（Ｆ−ｃ）
第２図は従来のインジェクションランスの先端ノズル形
成部を示す横断面図、第３図は従来法における酸素−１
−吹き領域とフラックス浮上領域の関係を示す平面説明
図、第４〜９図は本発明の実がハ例を示すもので、第４
． ５． ６． ７及び９図は、インジェクションラン
スの先端ノズル部の構造表酸素り吹き領域及びフラック
ス浮上領域の関係を示す平面説明図、第８図はインジェ
クションランスの他の先端ノズル形成部を示す正面説明
図である。 １・予備処理炉、 ２・インジェクションランス、 ３・メインランス、 ４．４ａ〜４ｅ・・ノズノペ ＺＯ□・・酸素上吹き領域、 ＺＦ、ｚ（Ｆ−ａ）”Ｚ（Ｆ−ｅ） ’・フラックス浮
上領域。 出願人株式会社神戸製鋼所 第６図 Ｚ（Ｆ−ｃ）
Claims (1)
- 処理容器の略中央に配置されるメインランスからの酸素
の上吹きと、前記メインランスから離れて配Ｆされるイ
ンジェクションランスからの粉粒状フラックスの吹込み
を併用して脱燐・脱硫を行なう溶銑の予備処理方法にお
いて、前記インジェクションランスとして、その下部に
設けるノズルが複数個であって、且つ該インジェクショ
ンランスにおける前記各ノズルの開口面を、メインラン
スと対向する側の半円々弧上に設けたものを使用するこ
とを特徴とする溶銑の予備処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7320584A JPS60234906A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 溶銑の予備処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7320584A JPS60234906A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 溶銑の予備処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60234906A true JPS60234906A (ja) | 1985-11-21 |
Family
ID=13511415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7320584A Pending JPS60234906A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 溶銑の予備処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60234906A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013155401A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Kobe Steel Ltd | 溶銑の精錬方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5816007A (ja) * | 1981-06-22 | 1983-01-29 | Kobe Steel Ltd | 溶銑の脱燐・脱硫方法 |
-
1984
- 1984-04-11 JP JP7320584A patent/JPS60234906A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5816007A (ja) * | 1981-06-22 | 1983-01-29 | Kobe Steel Ltd | 溶銑の脱燐・脱硫方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013155401A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Kobe Steel Ltd | 溶銑の精錬方法 |
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