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JPS60137717A - 洗浄用搬送装置 - Google Patents

洗浄用搬送装置

Info

Publication number
JPS60137717A
JPS60137717A JP24337983A JP24337983A JPS60137717A JP S60137717 A JPS60137717 A JP S60137717A JP 24337983 A JP24337983 A JP 24337983A JP 24337983 A JP24337983 A JP 24337983A JP S60137717 A JPS60137717 A JP S60137717A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
purifying
carrier
base
arm
tub
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24337983A
Other languages
English (en)
Inventor
Kaoru Takai
高井 薫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MUSASHI KOGYO KK
Original Assignee
MUSASHI KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MUSASHI KOGYO KK filed Critical MUSASHI KOGYO KK
Priority to JP24337983A priority Critical patent/JPS60137717A/ja
Publication of JPS60137717A publication Critical patent/JPS60137717A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、ウェハー等を自動的に洗浄する装置におけ
る搬送装置に関するものである。
ウェハー等の自動洗浄装置は、第1図に示すように洗浄
槽aが複数個並設され、ウェハー等を収納したキャリア
bが吊持機構Cを介して回動アームdの先端部に取付け
られ、この回動アームdの駆動軸θはカバーfの内側に
設けられた移動テーブル(図示せず)に取付けられて前
記洗浄槽aに沿って水゛1′方向にスライドする構成と
なっている。
そして、移動テーブルによって所定位置に移動させると
共に、前記回動アームdを回動させてキャリアbを洗浄
槽aに浸漬し、薬品による洗浄後FTび回動アームを先
とは逆方向に回動させてキャリアbを洗浄槽aから引き
上げ、この一連の動作を繰り返しながら複数個の洗浄槽
aにて順次洗浄するようになっている。
この場合、前記カバーfにスリット孔gを設けて前記駆
動軸eがスライドできるように形成し、かつ洗浄槽a内
の薬液やガスが飛散してカバーfの内部に浸入しないよ
うに駆動軸eと共に移動する帯状のシール部材りで常時
スリット孔gを閉塞するようにしている。
しかしながら、前記各洗浄槽aに対するキャリアbの出
し入れが回動アームdの回転運動によるためキャリアb
に遠心力が作用し、しかもギヤリアbの回転角度が大き
いだめ付着した薬液やガスが飛散しやすく、スリット孔
gとシール部材りとの僅かな隙間からカバーf内に浸入
し、或いはカバーfの前面側周辺に付着して腐食の原因
となっていた。
本発明i+1、このような従来の不都合を除去するため
になされ、キャリアの円弧運動を小さく抑えて洗浄時の
薬液やガスの飛散を防止できるように17た6″、作用
搬送装置を提供することを目的とする。
この日的冗おいて、本発明は複数個並設された/、に浄
槽に沿って水平移動するベースに上下方向に移I仙する
テーブルを設け、このテーブルにキャリアを吊持する回
動アームの駆動軸を取付けた構成を9旨とするものであ
る。
以下、図示の実施例により本発明を具体的に説明すると
、1辷tカバー内に設けられたベースであり、下面側に
設けられだローラ2でガイドレール3を1夾フトイマ1
けるようにして、このガイドレール3に沿って水平移動
できるようになっている。4はベースIVこ固定された
駆動用モータであり、その回転1I1111にピニオン
5が取付けられ、このピニオン&:L 前記ガイドレー
ル3に沿って設けられたラック6に噛合しており、この
ラックとピニオンによってベース1を所定1移動させる
ことができる。7は前記ベース1の上部に取付けられた
門型のフレームであり、中央部にねじ棒8が正逆回転自
在に取付けられ、このねじ棒の一ヒ端部にはスプロケッ
ト9が設けられ、とのスプロケットはベース1の側部に
固定された駆動用モータ10のスプロケット11トチェ
ーン12で巻回されている。13は前記ねじ棒8の両側
に設けられたがイドバーであり、上端部がフレーム7に
それぞれ固定されている。M Ir、、J:上面の中央
にハウジング15が、両側にシリンダ16がそれぞれ取
付けられたテーブルであり、ハウジング15は前記ねじ
棒8に螺挿され、シリンダ16は前記ガイドバー13に
それぞれ摺動可能に嵌合しており、前記モータ10を駆
動させると、前記フレーム7内をテーブル14が上下動
するように外っている。17はハウジング15に取付け
られた駆動軸であり、この駆動軸は前記従来例と同様に
力・ぐ−のスリット孔を通して前面側に突出し、キャリ
アを吊持した回動アームを取付けるようrなっている。
なお、+8 、 ]9はテーブル1/lに取付けられた
シリンダであり、そのピストンロンドの動作により歯車
20 、21をそれぞれ正逆回転できるようにしてあり
、図示は省略したがこれら歯車から前記回動アームの吊
持機構に動力を伝達して吊持機構を駆動できるJ二うに
なっている。寸だ、図において22゜23117L前記
、駆動軸17に動力を伝達するだめの歯車である。
本発明如係る洗浄用搬送装置は、上記のように構成さf
l、、ウェハー等の洗浄作業は第4図に示すように、ベ
ース1の水平(X軸)移動と1.アームの回転(R) 
、ilj動と、テーブル14の上下(Z軸)移動とによ
りなされる。即ち、ベース1をX軸方向に移動さ1(−
てA点で停止させ、つぎにアームを回転させてキャリア
をB点で止め、この状態からテーブルト1をZ ill
+方向に下降させてキャリアを洗浄槽に浸h’J L 
(0点)、洗浄後テーブル1/Iを」二昇させて0点か
らD点に戻し、アームを回転させてD点からB点に戻し
て−サイクルが終了する。ついで、TG−>F→0→H
→■→Jの順で次の洗浄槽でのサイクルがなされ、この
ような要領にて洗浄作業が連続的になされるのである。
この場合、各洗浄槽に71するギーヤリアの出l−入れ
は上下移動によりなされるので、従来のアーム回転運動
のみによる場合と比べると、キャリアに旬着した洗浄薬
液やガスの飛散を極力防止することができる。そして、
キャリアから滴下する薬液は洗浄槽内に戻されるので、
洗浄槽の周辺部が薬液で汚されるのを防ぐことができる
。寸だ、アームの回転角度に1.従来」:り小さくて済
むので、ギヤリアに加わる遠心力が小となり、薬液の飛
散を防止すると共に、キャリアの揺動を防止し、洗浄作
業を安全かつ確実になすことができる。
以上説明したように、本発明はウェハー等の自動洗浄装
置における搬送装置にZ軸(上下)運動を付加したので
、洗浄薬液やガスの飛散を確実に防止することができ、
カバー内外の薬液による腐食を未然に防止でき、その効
果は甚大である。唸だ、Z軸運動に必要な移動数はそれ
程大きくないから前記カバーに形成するスリット孔の幅
(高さ)寸法を従来よりも若干大きく形成するだけでよ
いので、シール機構を著しく変更する必要がなくシール
性を低下させることもない。
4、同曲のflti fl’−な説明 第1図は、自動洗浄装置の外観図、第2図は本発明の一
実施例を示す要部の正面図、第3図は同じ< (lul
l而図、面図図は洗浄作業時の動作を示す説明図である
1 ベース、 7・ ・・フレーム、 8 ・ネジ棒、 9・・・スジロケット、10 ・・・
モータ、11・・・−スジロケット、12・・ チェー
ン、13・−・ ガイトノぐ−114・・テーブル、 
15・・・・)\ウノング、16 ・ンリング、 17
・・・・・駆動軸。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数個並設された洗浄槽に沿って水平移動するベースに
    、l二下方向に移動するテーブルを設け、このテーブル
    にキャリアを吊持する回動アームの駆動軸を取付けたこ
    とを特徴とする洗浄用搬送装置。
JP24337983A 1983-12-23 1983-12-23 洗浄用搬送装置 Pending JPS60137717A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24337983A JPS60137717A (ja) 1983-12-23 1983-12-23 洗浄用搬送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24337983A JPS60137717A (ja) 1983-12-23 1983-12-23 洗浄用搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60137717A true JPS60137717A (ja) 1985-07-22

Family

ID=17102974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24337983A Pending JPS60137717A (ja) 1983-12-23 1983-12-23 洗浄用搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60137717A (ja)

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