JPS5948822B2 - Z−デカルボキシ−2−ヒドロキシメチルpgf型化合物 - Google Patents
Z−デカルボキシ−2−ヒドロキシメチルpgf型化合物Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
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- C07C405/00—Compounds containing a five-membered ring having two side-chains in ortho position to each other, and having oxygen atoms directly attached to the ring in ortho position to one of the side-chains, one side-chain containing, not directly attached to the ring, a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, and the other side-chain having oxygen atoms attached in gamma-position to the ring, e.g. prostaglandins ; Analogues or derivatives thereof
-
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプロスタグランジンF(PGF)類似体に関す
る。
る。
更に詳しくは、本発明はこれらのプロスタグランジン類
似体がC−1にカルボキシルの代わりに第一級アルコー
ルをもつている点で、対応する既 3知プロスタグラン
ジン類とは異なつている、既知プロスタグランジン類の
幾つかのものの新規類似体類を提供する。
似体がC−1にカルボキシルの代わりに第一級アルコー
ルをもつている点で、対応する既 3知プロスタグラン
ジン類とは異なつている、既知プロスタグランジン類の
幾つかのものの新規類似体類を提供する。
既知プロスタグランジン類はPGE化合物類、例えばプ
ロスタグランジンE、(PGE、)とプロスタグランジ
ンE2(PGE2)を包含する。
ロスタグランジンE、(PGE、)とプロスタグランジ
ンE2(PGE2)を包含する。
既知プロスタグランジン類はPGFα化合物類、例えば
プロスタグランジンF、α(PGF、α)とプロスタグ
ランジンF2α(PGF2α)を包含する。既知プロス
タグランジン類はPGA化合物類、例えばプロスタグラ
ンジンA3(PGA、)とプロスタグランジンA2(P
GA2)を包含する。上記の既知プロスタグランジン類
(PG)の各各は、次の構造と原子の番号つけをもつた
プロスタン酸の誘導体である。|、一|664321 11121314151617181920例えばベル
グストローム(Bergstrom)等、Pharma
col、Rev、20巻1頁(1968年)とそこに引
用されている参考文献を参照のこと。
プロスタグランジンF、α(PGF、α)とプロスタグ
ランジンF2α(PGF2α)を包含する。既知プロス
タグランジン類はPGA化合物類、例えばプロスタグラ
ンジンA3(PGA、)とプロスタグランジンA2(P
GA2)を包含する。上記の既知プロスタグランジン類
(PG)の各各は、次の構造と原子の番号つけをもつた
プロスタン酸の誘導体である。|、一|664321 11121314151617181920例えばベル
グストローム(Bergstrom)等、Pharma
col、Rev、20巻1頁(1968年)とそこに引
用されている参考文献を参照のこと。
プロスタン酸の系統的な名前は7一〔(2β−オクチル
)−シクロペント−1α−イル〕−ヘプタン酸であるP
GElは次の構造をもつている。PGE2は次の構造を
もつている。
)−シクロペント−1α−イル〕−ヘプタン酸であるP
GElは次の構造をもつている。PGE2は次の構造を
もつている。
PGFlαは次の構造をもつている。
PGF2αは次の構造をもつている。
PGAlは次の構造をもつている。
PGA2は次の構造をもつている。
環への破線の結合は、アルフア立体配置すなわちシクロ
ペンタン環の面より下の置換基を示す。
ペンタン環の面より下の置換基を示す。
シクロペンタン環への太い実線の結合は、ベータ立体配
置すなわちシクロペンタン環の面より上の置換基を示す
。本明細書で波線(〜)の使用は、アルフア又はベータ
いずれかの立体配置、又はアルフアとベータ立体配置混
合物における置換基の結合を表わす。上式でC−15に
おける側鎖ヒドロキシはS立体配置にある。
置すなわちシクロペンタン環の面より上の置換基を示す
。本明細書で波線(〜)の使用は、アルフア又はベータ
いずれかの立体配置、又はアルフアとベータ立体配置混
合物における置換基の結合を表わす。上式でC−15に
おける側鎖ヒドロキシはS立体配置にある。
プロスタグランジン類の立体化学の論議にはネイチユア
誌212巻38頁(1966年)を参照。C−13,C
−14,C−15等のような表現は、プロスタン酸にお
ける同じ番号の位置に対応する位置にあるプロスタグラ
ンジン類似体の炭素原子のことである。既知プロスタグ
ランジン類の分子は、各々幾つかの非対称中心を持ち、
ラセミ型(光学不活性型)及び二つのエナンチオマ一型
(光学活性型)すなわち右旋型と左旋型のいずれでも存
在しうる。
誌212巻38頁(1966年)を参照。C−13,C
−14,C−15等のような表現は、プロスタン酸にお
ける同じ番号の位置に対応する位置にあるプロスタグラ
ンジン類似体の炭素原子のことである。既知プロスタグ
ランジン類の分子は、各々幾つかの非対称中心を持ち、
ラセミ型(光学不活性型)及び二つのエナンチオマ一型
(光学活性型)すなわち右旋型と左旋型のいずれでも存
在しうる。
図示した様に土式は各々、補乳類組織例えば羊の小のう
腺、豚の肺、又は人間の精液血漿から得られるプロスタ
グランジン又はこうして得られるプロスタグランジンの
カルボニル及び/又は二重結合の還元によつて得られる
プロスタグランジンの特別の光学活性型を表わす。例え
ば上に引用されたベルグストロームらを参照。これらの
式の各々の鏡像は、そのプロスタグランジンの他方のエ
ナンチオマ一を表わす。プロスタグランジンのラセミ型
は、両エナンチオマ一分子の同数を含有し、対応ラセミ
型プロスタグランジンを正しく表わすには、上式の一つ
とその式の鏡像とが必要とされる。以下に便宜上、プロ
スタグランジン又はPGという用語の使用は、補乳類組
織から得られるPGElと同じ絶対立体配置をもつその
プロスタグランジンの光学活性型を意味するであろう。
これらのプロスタグランジンの一つのラセミ型への参照
を意図される時には、「ラセミ体J又は「DUという言
葉がプロスタグランジン名の前に付く。本明細書で使用
される用語「プロスタグランジン型」(PG型)生成物
とは、本明細書中に指示されたプロスタグランジン類と
同じ薬理学土の目的の少なくとも一つに対して有用な任
意のシクロペンタン誘導体のことである。
腺、豚の肺、又は人間の精液血漿から得られるプロスタ
グランジン又はこうして得られるプロスタグランジンの
カルボニル及び/又は二重結合の還元によつて得られる
プロスタグランジンの特別の光学活性型を表わす。例え
ば上に引用されたベルグストロームらを参照。これらの
式の各々の鏡像は、そのプロスタグランジンの他方のエ
ナンチオマ一を表わす。プロスタグランジンのラセミ型
は、両エナンチオマ一分子の同数を含有し、対応ラセミ
型プロスタグランジンを正しく表わすには、上式の一つ
とその式の鏡像とが必要とされる。以下に便宜上、プロ
スタグランジン又はPGという用語の使用は、補乳類組
織から得られるPGElと同じ絶対立体配置をもつその
プロスタグランジンの光学活性型を意味するであろう。
これらのプロスタグランジンの一つのラセミ型への参照
を意図される時には、「ラセミ体J又は「DUという言
葉がプロスタグランジン名の前に付く。本明細書で使用
される用語「プロスタグランジン型」(PG型)生成物
とは、本明細書中に指示されたプロスタグランジン類と
同じ薬理学土の目的の少なくとも一つに対して有用な任
意のシクロペンタン誘導体のことである。
本明細書で使用される用語「プワ入タグランジン型中間
体」とはプロスタグランジン型生成物をつくるのに有用
な任意のシクロペンタン誘導体のことである。
体」とはプロスタグランジン型生成物をつくるのに有用
な任意のシクロペンタン誘導体のことである。
プロスタグランジン型生成物又はプロスタグランジン型
生成物をつくるのに有用な中間体を描いている本明細書
中に図示された式の各々は、補乳類組織から得られる対
応プロスタグランジンと同じ相対立体化学的立体配置の
ものであるプロスタグランジン型生成物の特定立体異性
体、又はプロスタグランジン型生成物の土の立体異性体
をつくるのに有用な中間体の特定立体異性体を表わす。
生成物をつくるのに有用な中間体を描いている本明細書
中に図示された式の各々は、補乳類組織から得られる対
応プロスタグランジンと同じ相対立体化学的立体配置の
ものであるプロスタグランジン型生成物の特定立体異性
体、又はプロスタグランジン型生成物の土の立体異性体
をつくるのに有用な中間体の特定立体異性体を表わす。
本明細書に使用される用語「プロスタグランジン類似体
」は、哺乳類組織から得られる対応プロスタグランジン
と同じ相対立体化学的立体配置のものであるプロスタグ
ランジ7型生成物の立体異性体、又はこの立体異性体と
そのエナンチオマ一からなる混合物を表わす。ある式が
本明細書中のプロスタグランジン型化合物を描くのに使
われる場合は特に、用語プロスタグランジン類似体とは
その式の化合物、又はこの化合物とそのエナンチオマ一
からなる混合物のことである。上に名前をあげた種々の
PG類、それらのエステル類、アンレート類、及び薬理
学的に受入れられる塩類は、種々の生物学的応答を起す
のに極めて有用である。
」は、哺乳類組織から得られる対応プロスタグランジン
と同じ相対立体化学的立体配置のものであるプロスタグ
ランジ7型生成物の立体異性体、又はこの立体異性体と
そのエナンチオマ一からなる混合物を表わす。ある式が
本明細書中のプロスタグランジン型化合物を描くのに使
われる場合は特に、用語プロスタグランジン類似体とは
その式の化合物、又はこの化合物とそのエナンチオマ一
からなる混合物のことである。上に名前をあげた種々の
PG類、それらのエステル類、アンレート類、及び薬理
学的に受入れられる塩類は、種々の生物学的応答を起す
のに極めて有用である。
このため、これらの化合物類は薬理学目的に対して有用
である。例えばベルグストロームら、PharmacO
l.Rev.2O巻1頁(1968年)とそこに引用さ
れている参考文献を参照。PGE化合物類に対しては、
それら生物学的応答は以下を包含する。(a)平滑筋刺
激(例えばモルモツトの回腸、うさぎ−[ヮw腸、又はシ
ャービル結腸での試験で示される様に)。
である。例えばベルグストロームら、PharmacO
l.Rev.2O巻1頁(1968年)とそこに引用さ
れている参考文献を参照。PGE化合物類に対しては、
それら生物学的応答は以下を包含する。(a)平滑筋刺
激(例えばモルモツトの回腸、うさぎ−[ヮw腸、又はシ
ャービル結腸での試験で示される様に)。
(b)脂肪分解活性への影響(単離されたねずみの脂肪
褥からエビネフリンで誘発されるグリセロール放出の拮
抗によつて示される様に)。
褥からエビネフリンで誘発されるグリセロール放出の拮
抗によつて示される様に)。
(c)胃液分泌の抑制とプロスタグランジン合成酵素抑
制剤の組織的投与による胃腸への望ましくない影響の減
少。
制剤の組織的投与による胃腸への望ましくない影響の減
少。
(d)喘息症状における発作の抑制と呼吸の促進。
(e)鼻腔の充血除去。(f)血小板接着力(血小板の
ガラスへの接着性によつて示される様に)の減少、及び
種々の物理的刺激(例えば動脈損傷)又は化学的刺激(
例えばATP,ADPlセロチニン、トロンビン、及び
コラーゲン)で誘発される血小板凝集と血栓形成の抑制
。
ガラスへの接着性によつて示される様に)の減少、及び
種々の物理的刺激(例えば動脈損傷)又は化学的刺激(
例えばATP,ADPlセロチニン、トロンビン、及び
コラーゲン)で誘発される血小板凝集と血栓形成の抑制
。
(自)分娩誘発剤、堕月酷1]、顆部拡張剤、発情期調
整剤、及び月経周期調整剤としての哺乳類生殖器官への
影響、及び(ト)動物における表皮細胞と角質の成長促
進。
整剤、及び月経周期調整剤としての哺乳類生殖器官への
影響、及び(ト)動物における表皮細胞と角質の成長促
進。
PGFα化合物に対してはこれらの生物学的応答は以下
を包含する。(a)平滑筋刺激(モルモツトの回腸、う
さぎの十二指腸、又はシャービルの結腸での試験で示さ
れる様に)。
を包含する。(a)平滑筋刺激(モルモツトの回腸、う
さぎの十二指腸、又はシャービルの結腸での試験で示さ
れる様に)。
(b)胃液分泌の抑制とプロスタグランジン合成酵素抑
制剤の組織的投与による胃腸への望ましくない影響の減
少。
制剤の組織的投与による胃腸への望ましくない影響の減
少。
(c)鼻腔の充血除去。
(d)血小板接着力(血小板のガラスへの接着性によつ
て示される様に)の減少、及び種々の物理的刺激(例え
ば動脈損傷)及び化学的刺激(例えばADP,ATPl
セロチニン、トロンビン及びコラーゲン)で誘発される
血小板凝集と血栓形成の抑制。
て示される様に)の減少、及び種々の物理的刺激(例え
ば動脈損傷)及び化学的刺激(例えばADP,ATPl
セロチニン、トロンビン及びコラーゲン)で誘発される
血小板凝集と血栓形成の抑制。
(e)分娩誘発剤、堕胎剤、顆部拡張剤、発情期調整剤
、及び月経周期調整剤としての哺乳類の生殖器官への影
響。
、及び月経周期調整剤としての哺乳類の生殖器官への影
響。
PGA化合物に対してはこれらの生物学的応答は以下を
包含する。
包含する。
(a)平滑筋刺激(モルモツトの回腸、うさぎの十二指
腸、又はシャービルの結腸での試験で示される様に)。
腸、又はシャービルの結腸での試験で示される様に)。
(b)胃液分泌の抑制と、プロスタグランジン合成酵素
抑制剤の組織的投与による胃腸への望ましくない影響の
減少。
抑制剤の組織的投与による胃腸への望ましくない影響の
減少。
(c)喘息症状における発作の抑制と呼吸の促進。
(d)鼻腔の充血除去。及び(e)腎臓血流の増大。
これらの生物学的応答のため、これらの既知プロスタグ
ランジン類は、鳥類と、人間、有用な家畜、愛玩動物、
及び動物標本を含めた補乳類、並びに実験室動物例えば
はつかねずみ、ねずみ、うさぎ、及びさるにおける広範
囲の疾病と望ましくない生理的症状の研究、予防、制御
、又は軽減に有用である。
ランジン類は、鳥類と、人間、有用な家畜、愛玩動物、
及び動物標本を含めた補乳類、並びに実験室動物例えば
はつかねずみ、ねずみ、うさぎ、及びさるにおける広範
囲の疾病と望ましくない生理的症状の研究、予防、制御
、又は軽減に有用である。
平滑筋刺激を起すのにきわめて効力があるとして上に引
用された化合物類は又その他の既知の平滑筋刺激剤、例
えばオキシトシン及び誘導体と類似体を含めた種々の麦
角アルカロイド数のような分娩促進剤類を相乗化するの
に高い活性がある。
用された化合物類は又その他の既知の平滑筋刺激剤、例
えばオキシトシン及び誘導体と類似体を含めた種々の麦
角アルカロイド数のような分娩促進剤類を相乗化するの
に高い活性がある。
従つて例えばこれら化合物類は、これらの既知平滑筋刺
激剤の代わりに、又はそれらの通常量より少量と組合わ
せて、麻痺性腸閉塞症候の軽減に、妊娠中絶又は分娩後
アトニ一性子宮出血の制御又は予防に、胎盤排出の助け
に、及び産褥期中に有用である。後者の目的には、中絶
又は分娩直後、毎分体重Kg当り約0.01ないし約5
−0μgの投与量範囲で、望む効果が得られるまでプロ
スタグランジンが静脈内注入によつて投与される。その
後の投与量は、産褥期中に一日体重Kg当り0.01な
いし21!9の範囲で静脈内、皮下、又は筋肉内注射又
は注入によつて与えられるが、正確な投与量は患者又は
動物の年令、体重、及び症状による。上記のようにPG
E化合物類は、エピネフリンで誘発される脂肪酸動員の
有力な拮抗剤である。このため、この化合物は実験医薬
において人間、うさぎ、ねずみを含めた補乳類について
、異常な脂質動員と高水準の遊離脂肪酸を含む病気、例
えば糖尿病、血管病、および甲状腺機能充進の理解、予
防、症状軽減、および治療となるように意図された試験
管内および生体内研究の両方に有用である。人間および
ある種の有用動物、例えば犬と豚を含めた哺乳類で、過
剰な胃液分泌を減小し抑制するのに有用であるとして前
に参照されたプロスタグランジン類は、それによつて胃
腸の潰瘍形成を減少又は回避し、又胃腸管にすでに存在
するこのような潰瘍の治癒を促進する。この目的には、
毎分体重Kg当り約0.1μgないし約500μg1又
は一日体重Kg当り約0.1ないし約20ηの範囲の注
射又は注入による合計量で化合物が静脈内、皮下、又は
筋肉内に注射又は注入されるが、正確な投与量は患者又
は動物の年令、体重、症状および投与の回数と経路によ
る。これらの化合物類は、消炎性プロスタグランジン合
成酵素抑制剤の全身投与から生ずる胃腸への望ましくな
い影響を減少するのに有用であり、またこの目的にはプ
ロスタグランジンおよび消炎性プロスタグランジン合成
酵素抑制剤の同時投与によつて使用される。
激剤の代わりに、又はそれらの通常量より少量と組合わ
せて、麻痺性腸閉塞症候の軽減に、妊娠中絶又は分娩後
アトニ一性子宮出血の制御又は予防に、胎盤排出の助け
に、及び産褥期中に有用である。後者の目的には、中絶
又は分娩直後、毎分体重Kg当り約0.01ないし約5
−0μgの投与量範囲で、望む効果が得られるまでプロ
スタグランジンが静脈内注入によつて投与される。その
後の投与量は、産褥期中に一日体重Kg当り0.01な
いし21!9の範囲で静脈内、皮下、又は筋肉内注射又
は注入によつて与えられるが、正確な投与量は患者又は
動物の年令、体重、及び症状による。上記のようにPG
E化合物類は、エピネフリンで誘発される脂肪酸動員の
有力な拮抗剤である。このため、この化合物は実験医薬
において人間、うさぎ、ねずみを含めた補乳類について
、異常な脂質動員と高水準の遊離脂肪酸を含む病気、例
えば糖尿病、血管病、および甲状腺機能充進の理解、予
防、症状軽減、および治療となるように意図された試験
管内および生体内研究の両方に有用である。人間および
ある種の有用動物、例えば犬と豚を含めた哺乳類で、過
剰な胃液分泌を減小し抑制するのに有用であるとして前
に参照されたプロスタグランジン類は、それによつて胃
腸の潰瘍形成を減少又は回避し、又胃腸管にすでに存在
するこのような潰瘍の治癒を促進する。この目的には、
毎分体重Kg当り約0.1μgないし約500μg1又
は一日体重Kg当り約0.1ないし約20ηの範囲の注
射又は注入による合計量で化合物が静脈内、皮下、又は
筋肉内に注射又は注入されるが、正確な投与量は患者又
は動物の年令、体重、症状および投与の回数と経路によ
る。これらの化合物類は、消炎性プロスタグランジン合
成酵素抑制剤の全身投与から生ずる胃腸への望ましくな
い影響を減少するのに有用であり、またこの目的にはプ
ロスタグランジンおよび消炎性プロスタグランジン合成
酵素抑制剤の同時投与によつて使用される。
ねじみにおいてある種の非ステロイド系消炎剤て誘発さ
れる債瘍発生作用がPGEl7PGE2,PGE3、1
3,−14−ジヒトローPGEl、及び対応する11−
デオキシ−PGE及びPGA化合物類を含めたEおよび
A系の或るプロスタグランジンの同時的経口投与によつ
て抑制されるという開示については、パートリツジ(P
artridge)等、合衆国特許第3781429号
を参照。プロスタグランジン類は、例えばインドメタシ
ン、フエニルブタゾン、およびアスビリンの全身投与か
ら生ずる胃腸への望ましくない影響を減少させるのにも
有用である。これらは、パートリツジらが非ステロイド
系消炎剤として特記した物質である。しかしこれらはプ
ロスタグランジン合成酵素抑制剤であることも知られて
いる。消炎性合成酵素抑制剤、例えばインドメタシン、
アスピリン、又はフエニルプタゾンは、この技術に知ら
れた任意の方法で炎症状態の軽減のため、例えば任意の
適量摂取と任意の既知の全身投与径路によつて投与され
る。
れる債瘍発生作用がPGEl7PGE2,PGE3、1
3,−14−ジヒトローPGEl、及び対応する11−
デオキシ−PGE及びPGA化合物類を含めたEおよび
A系の或るプロスタグランジンの同時的経口投与によつ
て抑制されるという開示については、パートリツジ(P
artridge)等、合衆国特許第3781429号
を参照。プロスタグランジン類は、例えばインドメタシ
ン、フエニルブタゾン、およびアスビリンの全身投与か
ら生ずる胃腸への望ましくない影響を減少させるのにも
有用である。これらは、パートリツジらが非ステロイド
系消炎剤として特記した物質である。しかしこれらはプ
ロスタグランジン合成酵素抑制剤であることも知られて
いる。消炎性合成酵素抑制剤、例えばインドメタシン、
アスピリン、又はフエニルプタゾンは、この技術に知ら
れた任意の方法で炎症状態の軽減のため、例えば任意の
適量摂取と任意の既知の全身投与径路によつて投与され
る。
プロスタグランジンは消炎性プロスタグランジン合成酵
素抑制剤と共に、同じ投与径路又は別の径路のいずれで
も投与される。
素抑制剤と共に、同じ投与径路又は別の径路のいずれで
も投与される。
例えば消炎性物質を経口投与する場合には、プロスタグ
ランジンも経口投与するか、又はその代わりに坐薬の形
で直腸から、又は女性の場合に坐薬の形で腟内に又は緩
慢な放出のためには例えば米国特許第3545439号
に記載されているように膣内器具の形で投与される。そ
の代りにもし消炎性物質が直腸に投与されると、プロス
タグランジンも直腸に投与される。更にプロスタグラン
ジンは経口的に、或は女性の場合には膣内に都合よく投
与される。投与径路が消炎性物質とプロスタグランジン
の両方に対して同じにされるときには両方を単一適量型
に組み合せることは等に好都合である。本処置によるプ
ロスタグランジンの適量摂取は、補乳類の型、年令、体
重、性別及び医学的状態、呻乳類に投与される消炎性合
成酵素抑制剤の本性と適量摂取、胃腸への作用に関し特
定合成酵素抑制剤に対する、特定の個々の哺乳類の感受
性、ならびに投与される特定のプロスタグランジンを含
めた、様々の因子によるであろう。例えば消炎性物質を
必要とするすべての人が、この物質を摂取するときに同
じ胃腸への悪影響を経験するものではない。胃腸への影
響は、しばしばその種類と程度が実質的に変るであろう
。しかし消炎性物質の投与が人間又は動物被検者に望ま
しくない胃腸への影響を起していることを決定し、これ
ら望ましくない影響を軽減し、又次で実質的に除くため
、プロスタグランジンの有効量を処方することは看護す
る医師又は獣医の技術範囲である。喘息の処置に有用で
あるとして上に引用されたプロスタグランジン類は、例
えば気管支拡張剤として、又は抗原抗体錯体によつて活
性化された細胞から放出されるSRS−Aとヒスタミン
のような介在物の抑制剤として有用である。このためこ
れらの化合物類は、気管支喘息、気管支炎、気管支拡張
症、肺炎、および肺気腫のような症状において発作を抑
制し呼吸を容易にする。これらの目的には、これらの化
合物類は例えば錠剤、カプセル又は液体の形で経口的に
、坐薬の形で直腸から、緊急時には静脈内投与が好まし
いが、非経口的に、皮下又は筋肉内に、ネブライザ一用
にエアゾル又は溶液の形で吸入により、又は粉末の形で
通気によつてなど、種々の適量形式で投与される。体重
Kg当り約0.01ないし5TI19の範囲の投与量が
一日1〜4回投与されるが、正確な投与量は患者の年令
、体重、症状、および投与回数と径路による。上の用途
にはこれらのプロスタグランジン類を、交感神経刺激剤
(イソプロテレノール、フエニルエフリン、エプネフリ
ン等)、キサンチン誘導体類(テオフイリンとアミノフ
イリン)、およびコーチコステロイド類(ACTHとブ
レドニソロン)のようなその他の喘息治療剤と組合わせ
るのが有利である。これらの化合物の使用については、
エム・イ一・ローゼンセイル(M.E.ROsenth
ale)らの合衆国特許第3644638号を参照。人
間を含めた咄乳類で鼻の充血除去剤として有用であると
して上に参照されたプロスタグランジンは、共に局所使
用のための薬理学的に適した液体賦形剤ml当り約10
Itgないし約10〜の投与範囲で、又はエアゾルスプ
レーとして、この目的に使用される。
ランジンも経口投与するか、又はその代わりに坐薬の形
で直腸から、又は女性の場合に坐薬の形で腟内に又は緩
慢な放出のためには例えば米国特許第3545439号
に記載されているように膣内器具の形で投与される。そ
の代りにもし消炎性物質が直腸に投与されると、プロス
タグランジンも直腸に投与される。更にプロスタグラン
ジンは経口的に、或は女性の場合には膣内に都合よく投
与される。投与径路が消炎性物質とプロスタグランジン
の両方に対して同じにされるときには両方を単一適量型
に組み合せることは等に好都合である。本処置によるプ
ロスタグランジンの適量摂取は、補乳類の型、年令、体
重、性別及び医学的状態、呻乳類に投与される消炎性合
成酵素抑制剤の本性と適量摂取、胃腸への作用に関し特
定合成酵素抑制剤に対する、特定の個々の哺乳類の感受
性、ならびに投与される特定のプロスタグランジンを含
めた、様々の因子によるであろう。例えば消炎性物質を
必要とするすべての人が、この物質を摂取するときに同
じ胃腸への悪影響を経験するものではない。胃腸への影
響は、しばしばその種類と程度が実質的に変るであろう
。しかし消炎性物質の投与が人間又は動物被検者に望ま
しくない胃腸への影響を起していることを決定し、これ
ら望ましくない影響を軽減し、又次で実質的に除くため
、プロスタグランジンの有効量を処方することは看護す
る医師又は獣医の技術範囲である。喘息の処置に有用で
あるとして上に引用されたプロスタグランジン類は、例
えば気管支拡張剤として、又は抗原抗体錯体によつて活
性化された細胞から放出されるSRS−Aとヒスタミン
のような介在物の抑制剤として有用である。このためこ
れらの化合物類は、気管支喘息、気管支炎、気管支拡張
症、肺炎、および肺気腫のような症状において発作を抑
制し呼吸を容易にする。これらの目的には、これらの化
合物類は例えば錠剤、カプセル又は液体の形で経口的に
、坐薬の形で直腸から、緊急時には静脈内投与が好まし
いが、非経口的に、皮下又は筋肉内に、ネブライザ一用
にエアゾル又は溶液の形で吸入により、又は粉末の形で
通気によつてなど、種々の適量形式で投与される。体重
Kg当り約0.01ないし5TI19の範囲の投与量が
一日1〜4回投与されるが、正確な投与量は患者の年令
、体重、症状、および投与回数と径路による。上の用途
にはこれらのプロスタグランジン類を、交感神経刺激剤
(イソプロテレノール、フエニルエフリン、エプネフリ
ン等)、キサンチン誘導体類(テオフイリンとアミノフ
イリン)、およびコーチコステロイド類(ACTHとブ
レドニソロン)のようなその他の喘息治療剤と組合わせ
るのが有利である。これらの化合物の使用については、
エム・イ一・ローゼンセイル(M.E.ROsenth
ale)らの合衆国特許第3644638号を参照。人
間を含めた咄乳類で鼻の充血除去剤として有用であると
して上に参照されたプロスタグランジンは、共に局所使
用のための薬理学的に適した液体賦形剤ml当り約10
Itgないし約10〜の投与範囲で、又はエアゾルスプ
レーとして、この目的に使用される。
血小板凝集を阻止するために望まれる時は何時も有用で
あるとして上に引用されたプロスタグランジン類は、人
間、うさぎ、ねずみを含めた補乳類において血小板の接
着性を減少させ、かつ血栓形成を除去又は予防する。例
えばこれらの化合物は心筋硬塞の処置と予防、術後血栓
症の処置と予防、外科手術後の血管移植片の開存促進お
よびアテローム性動脈硬化症、動脈硬化症脂肪血症によ
る血液凝固欠損などの症状、その他根底をなす病因が脂
肪不均衡又は高脂肪血症と関連しているような臨床状態
の処置に有用である。これらの目的には、これらの化合
物を全身的に、例えば静脈内、皮下、筋肉内、および持
続作用のためには無菌的移植片の形で投与する。特に緊
急時の急速な応答のためには、静脈内投与径路が好まし
い。一日当り体重Kg当り約0.005ないし約20即
の範囲の投与量を使用するが、正確な投与量は患者又は
動物の年令、体重、および症状、ならびに投万回数と径
路による。更にこれら化合物は単離された身体部分、例
えば四肢と器管が、元の身体に結合されているか、離な
されて保存ないし移植のため準備されているか、又は新
しい身体に結合されているかどうかによらず、これらの
身体部分の人為的に体外循環又は潅流に使われる血液、
血液製品、代用血液、およびその他の流体への添加物と
して有用である。これらの循環および潅流中に、凝固し
た血小板が血管と循環装置部分をつとめる傾向がある。
これら化合物類の存在によりこの閉塞が回避される。こ
の目的には、化合物を循環流体リツトル当り約0.00
1ないし10ワの直常的全投与量で循環血液へ、供血動
物の血液へ、結合又は離なされた潅流身体部分へ、受血
者へ、又はこれらの二つないし全部へ、徐々に又は一回
部分ないし複数回部分で添加される。器管および四肢移
植の新方法や技術開発のため、これらの目的で実験動物
例えば猫、犬、兎、猿、ねずみにこれらの化合物を使う
のが、特に有用である。オキシトキシンの代わりに分娩
誘発に有用なものとして上に引用されたプロスタグラン
ジン類は、人間、牛、羊、豚を含めた妊娠中の雌動物、
又は約20週間から出産期までの胎児が子宮内で死亡し
てしまつた妊娠動物に対して用いられる。この目的には
、毎分体重Kg当り0.01ないし50μgの投与量で
、分娩第二期すなわち胎児排出又はその近くまで静脈内
に化合物が注入される。雌動物が一週間又はそれ以上予
定日を過ぎていて自然な分娩が始まらない時や、羊膜が
破裂して後12〜60時間を経てなお自然な分娩が始ま
らない時には、これらの化合物類が特に有用である。代
りの投与径路は経口である。更にこれらの化合物類は、
人間を含めた排卵する雌補乳類の生殖周期を調節するの
に有用である。排卵する雌補乳類の用語によつて排卵す
るまで十分に成熟しているが正常な排卵が止まるほど年
老いていない動物を意味する。この目的にはプロスタグ
ランジンを、有利にはほぼ排卵時に始まつてほぼ月経時
又はその直前に終る間に、雌補乳類の体重Kp当り0.
017nfないし約207!9の範囲の投与水準で全身
的に投与する。腟内および子宮内径路は代りの投与方法
である。そのほか正常な哺乳類の妊娠期間の第一又は第
二の3力月期間に化合物の同様な投与により、胚又は胎
児の排出が達成される。これらの化合物類は、更に産科
学および婦人科学上の目的で妊娠中および妊娠していな
い雌晴乳類に子宮頚部拡張を起すのに有用である。これ
らの化合物によつて起る分娩誘発と臨床的流産の場合に
も頚部拡張が認められる。不妊症の場合には、これら化
合物類で起される頚部拡張は子宮への精子移動を助ける
上で有用である。DとC(顆部拡張と子宮掻爬)のよう
な外科的な婦人科学においても、機械的な拡張は子宮穿
孔、頚部裂傷、又は感染を起すかもしれないため、プロ
スタグランジン類による頚部拡張が有用である。組織検
査のため拡張が必要な診断手順にもこれは有用である。
これらの目的にはプロスタグランジンは局所的又は全身
的に投与される。プロスタグランジンは成人女性の一回
の処置当り約5ないし50n!の投与量で、24時間当
りに1〜5回の処置で経口又は腟内に投与される。その
代わり6とプロスタグランジンは1回の処置当り約1〜
257!Ifの投与量で筋肉内又は皮下投与される。こ
れらの目的に対する正確な投与量は患者又は動物の年令
、体重および症状による。更にこれらの化合物類は家畜
の流産催起剤(特に飼養場の幼牝牛に対して)として、
発情期検出の補助手段として、及び発情期の規制又は同
期化用に有用である。
あるとして上に引用されたプロスタグランジン類は、人
間、うさぎ、ねずみを含めた補乳類において血小板の接
着性を減少させ、かつ血栓形成を除去又は予防する。例
えばこれらの化合物は心筋硬塞の処置と予防、術後血栓
症の処置と予防、外科手術後の血管移植片の開存促進お
よびアテローム性動脈硬化症、動脈硬化症脂肪血症によ
る血液凝固欠損などの症状、その他根底をなす病因が脂
肪不均衡又は高脂肪血症と関連しているような臨床状態
の処置に有用である。これらの目的には、これらの化合
物を全身的に、例えば静脈内、皮下、筋肉内、および持
続作用のためには無菌的移植片の形で投与する。特に緊
急時の急速な応答のためには、静脈内投与径路が好まし
い。一日当り体重Kg当り約0.005ないし約20即
の範囲の投与量を使用するが、正確な投与量は患者又は
動物の年令、体重、および症状、ならびに投万回数と径
路による。更にこれら化合物は単離された身体部分、例
えば四肢と器管が、元の身体に結合されているか、離な
されて保存ないし移植のため準備されているか、又は新
しい身体に結合されているかどうかによらず、これらの
身体部分の人為的に体外循環又は潅流に使われる血液、
血液製品、代用血液、およびその他の流体への添加物と
して有用である。これらの循環および潅流中に、凝固し
た血小板が血管と循環装置部分をつとめる傾向がある。
これら化合物類の存在によりこの閉塞が回避される。こ
の目的には、化合物を循環流体リツトル当り約0.00
1ないし10ワの直常的全投与量で循環血液へ、供血動
物の血液へ、結合又は離なされた潅流身体部分へ、受血
者へ、又はこれらの二つないし全部へ、徐々に又は一回
部分ないし複数回部分で添加される。器管および四肢移
植の新方法や技術開発のため、これらの目的で実験動物
例えば猫、犬、兎、猿、ねずみにこれらの化合物を使う
のが、特に有用である。オキシトキシンの代わりに分娩
誘発に有用なものとして上に引用されたプロスタグラン
ジン類は、人間、牛、羊、豚を含めた妊娠中の雌動物、
又は約20週間から出産期までの胎児が子宮内で死亡し
てしまつた妊娠動物に対して用いられる。この目的には
、毎分体重Kg当り0.01ないし50μgの投与量で
、分娩第二期すなわち胎児排出又はその近くまで静脈内
に化合物が注入される。雌動物が一週間又はそれ以上予
定日を過ぎていて自然な分娩が始まらない時や、羊膜が
破裂して後12〜60時間を経てなお自然な分娩が始ま
らない時には、これらの化合物類が特に有用である。代
りの投与径路は経口である。更にこれらの化合物類は、
人間を含めた排卵する雌補乳類の生殖周期を調節するの
に有用である。排卵する雌補乳類の用語によつて排卵す
るまで十分に成熟しているが正常な排卵が止まるほど年
老いていない動物を意味する。この目的にはプロスタグ
ランジンを、有利にはほぼ排卵時に始まつてほぼ月経時
又はその直前に終る間に、雌補乳類の体重Kp当り0.
017nfないし約207!9の範囲の投与水準で全身
的に投与する。腟内および子宮内径路は代りの投与方法
である。そのほか正常な哺乳類の妊娠期間の第一又は第
二の3力月期間に化合物の同様な投与により、胚又は胎
児の排出が達成される。これらの化合物類は、更に産科
学および婦人科学上の目的で妊娠中および妊娠していな
い雌晴乳類に子宮頚部拡張を起すのに有用である。これ
らの化合物によつて起る分娩誘発と臨床的流産の場合に
も頚部拡張が認められる。不妊症の場合には、これら化
合物類で起される頚部拡張は子宮への精子移動を助ける
上で有用である。DとC(顆部拡張と子宮掻爬)のよう
な外科的な婦人科学においても、機械的な拡張は子宮穿
孔、頚部裂傷、又は感染を起すかもしれないため、プロ
スタグランジン類による頚部拡張が有用である。組織検
査のため拡張が必要な診断手順にもこれは有用である。
これらの目的にはプロスタグランジンは局所的又は全身
的に投与される。プロスタグランジンは成人女性の一回
の処置当り約5ないし50n!の投与量で、24時間当
りに1〜5回の処置で経口又は腟内に投与される。その
代わり6とプロスタグランジンは1回の処置当り約1〜
257!Ifの投与量で筋肉内又は皮下投与される。こ
れらの目的に対する正確な投与量は患者又は動物の年令
、体重および症状による。更にこれらの化合物類は家畜
の流産催起剤(特に飼養場の幼牝牛に対して)として、
発情期検出の補助手段として、及び発情期の規制又は同
期化用に有用である。
家畜動物には馬、牛、羊及び豚を含む。発情期の規制又
は同期化は牧畜群の所有者を予め決めた短い間隔で全部
の雌動物を繁殖させることを可能とすることによつて、
妊娠、分娩のより能率的な管理を許容する。
は同期化は牧畜群の所有者を予め決めた短い間隔で全部
の雌動物を繁殖させることを可能とすることによつて、
妊娠、分娩のより能率的な管理を許容する。
この同期化は自然調節で得られる百分率よりも高い百分
率の生命誕生となる。プロスタグランジンを動物当り0
.1〜100WIの投与量で注射されるか又は飼料中に
適用され、かつステロイドのようなその他の薬剤と組合
わせてよい。投与計画は処置される動物種によつて変わ
る。例えば、雌馬にはプロスタグランジンを排卵後5〜
8田こ与えると、発情期に戻る。牛は、有利には全部を
同時に発情期にもつてくるためには、3週間にわたつて
規則正しい間隔で処置される。PGA化合物類及びその
誘導体類と塩類は、補乳類の腎臓における血流を増し、
それによつて尿量とその電解質含有量を高める。
率の生命誕生となる。プロスタグランジンを動物当り0
.1〜100WIの投与量で注射されるか又は飼料中に
適用され、かつステロイドのようなその他の薬剤と組合
わせてよい。投与計画は処置される動物種によつて変わ
る。例えば、雌馬にはプロスタグランジンを排卵後5〜
8田こ与えると、発情期に戻る。牛は、有利には全部を
同時に発情期にもつてくるためには、3週間にわたつて
規則正しい間隔で処置される。PGA化合物類及びその
誘導体類と塩類は、補乳類の腎臓における血流を増し、
それによつて尿量とその電解質含有量を高める。
このため、PGA化合物類は、腎機能障害、特に腎脈管
床の閉塞を含む症例の管理に有用である。例としてPG
A化合物類は、大きい表面丈の火傷から生ずる水腫症状
の軽減と補整、及びシヨツクの処置に有用である。この
目的には、まず体重Kg当り10〜1,000μgの範
囲の投与量で静脈内注射により、又は毎分体重Kf当り
0.1〜20μgの範囲の投与量で静脈内注入により、
望む効果が得られるまでPGA化合物が投与されるのが
好ましい。このあとの投与量は、一日体重Kg当り0.
05ないし27!!fの範囲の静脈内、筋肉内、又は皮
下注射又は注入によつて与えられる。表皮細胞と角質の
生長の促進剤として上に引用された化合物類は、人間、
有用家畜、愛玩動物、動物学標本及び実験室動物を含め
た動物にこの目的に対して有用である。
床の閉塞を含む症例の管理に有用である。例としてPG
A化合物類は、大きい表面丈の火傷から生ずる水腫症状
の軽減と補整、及びシヨツクの処置に有用である。この
目的には、まず体重Kg当り10〜1,000μgの範
囲の投与量で静脈内注射により、又は毎分体重Kf当り
0.1〜20μgの範囲の投与量で静脈内注入により、
望む効果が得られるまでPGA化合物が投与されるのが
好ましい。このあとの投与量は、一日体重Kg当り0.
05ないし27!!fの範囲の静脈内、筋肉内、又は皮
下注射又は注入によつて与えられる。表皮細胞と角質の
生長の促進剤として上に引用された化合物類は、人間、
有用家畜、愛玩動物、動物学標本及び実験室動物を含め
た動物にこの目的に対して有用である。
このためこれらの化合物類は、例えば火傷、外傷、擦傷
、又は外科手術後に損傷された皮膚の治癒を早めるのに
有用である。これらの化合物は皮膚の自家移植片の特に
初期によりも後からの、外側への生長によつて皮膚のな
い部分を覆つたり、自家移植片の拒否反応を遅らせたり
することが意図された小さな、深部の(デービス)移植
片の癒着と生長を促進するのに有用である。上の目的に
は、細胞生長と角質形成が望まれる場所又はその近くに
局所的に、有利にはエアゾル液又は微粉末散布剤として
、湿式包帯の場合には等張水溶液として、又は通常の製
薬学的に受入れられる希釈剤と組合わせたローシヨン、
クリーム、又は軟こうとして、これらの化合物が投与さ
れるのが好ましい。
、又は外科手術後に損傷された皮膚の治癒を早めるのに
有用である。これらの化合物は皮膚の自家移植片の特に
初期によりも後からの、外側への生長によつて皮膚のな
い部分を覆つたり、自家移植片の拒否反応を遅らせたり
することが意図された小さな、深部の(デービス)移植
片の癒着と生長を促進するのに有用である。上の目的に
は、細胞生長と角質形成が望まれる場所又はその近くに
局所的に、有利にはエアゾル液又は微粉末散布剤として
、湿式包帯の場合には等張水溶液として、又は通常の製
薬学的に受入れられる希釈剤と組合わせたローシヨン、
クリーム、又は軟こうとして、これらの化合物が投与さ
れるのが好ましい。
ある場合には、例えば広範囲の火傷又はその他の原因に
よる皮膚損失の場合のように、実質的な体液の損失があ
る時は、血液、血漿又はその代用物の通常の注入とは別
に、又は組合わせて、静脈内注射又は注入による全身投
与が有利である。その代わりの投与径路は、場所近くの
皮下又は筋肉内、経口、舌下、口腔内、直腸内、又は腟
内である。正確な投与量は投与径路、及び患者の年令、
体重、及び症状のような因子による。例示すると皮膚面
積5〜25平方センチの第二度及び/又は第三度火傷に
対して局所適用される湿式包帯は、1〜500ttg/
T!1eのプロスタグランジンを含有する等張水溶液を
使うことを含むのが有利であろう。特に局所用には、こ
れらのプロスタグラジン類は抗生物質、例えばジエンタ
マイシン、ネオマイシン、ポリミキシン、バシトラシン
、スペクチノマイシン、及びオキシテトラサイクリンと
、その他の抗菌剤例えばマフエナイド塩酸塩、スルフア
ジアジン、フラゾリウムクロライド、及びニトロフラゾ
ンと、及びコーチコイドステロイド類例えばハイドロコ
ーチゾン、ブレドニソロン、メチルブレドニソロン、及
びフルブレドニソロンと組合わせると有用であるが、こ
れらの各々はこの組合わせ中で、その単独使用に適した
通常濃度で使用される。幾つかの2−デカルボキシ一2
−ヒドロキシメチルプロスタグランジン類似体がこの技
術に知られている。
よる皮膚損失の場合のように、実質的な体液の損失があ
る時は、血液、血漿又はその代用物の通常の注入とは別
に、又は組合わせて、静脈内注射又は注入による全身投
与が有利である。その代わりの投与径路は、場所近くの
皮下又は筋肉内、経口、舌下、口腔内、直腸内、又は腟
内である。正確な投与量は投与径路、及び患者の年令、
体重、及び症状のような因子による。例示すると皮膚面
積5〜25平方センチの第二度及び/又は第三度火傷に
対して局所適用される湿式包帯は、1〜500ttg/
T!1eのプロスタグランジンを含有する等張水溶液を
使うことを含むのが有利であろう。特に局所用には、こ
れらのプロスタグラジン類は抗生物質、例えばジエンタ
マイシン、ネオマイシン、ポリミキシン、バシトラシン
、スペクチノマイシン、及びオキシテトラサイクリンと
、その他の抗菌剤例えばマフエナイド塩酸塩、スルフア
ジアジン、フラゾリウムクロライド、及びニトロフラゾ
ンと、及びコーチコイドステロイド類例えばハイドロコ
ーチゾン、ブレドニソロン、メチルブレドニソロン、及
びフルブレドニソロンと組合わせると有用であるが、こ
れらの各々はこの組合わせ中で、その単独使用に適した
通常濃度で使用される。幾つかの2−デカルボキシ一2
−ヒドロキシメチルプロスタグランジン類似体がこの技
術に知られている。
2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGElの
開示についてはパーク・シュー・イ一(Pike,J.
E.)ら、J.Org.Chem.34巻3552頁(
1969年)を参照。
開示についてはパーク・シュー・イ一(Pike,J.
E.)ら、J.Org.Chem.34巻3552頁(
1969年)を参照。
また2一デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGE
2及びPGF2αを開示している、クラツペ(Crab
be)等1ntra−ScienceChemi一Ca
lRepart6:55(1972)を参照。
2及びPGF2αを開示している、クラツペ(Crab
be)等1ntra−ScienceChemi一Ca
lRepart6:55(1972)を参照。
また2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−13,
14−ジデヒドロ−(15RS)−PGFlαを明らか
にしているブリード・シュー(Fried9J.)ら、
AnnalsOftheNewYOrkAcademy
OfSciencesl8O巻38頁(1971年)を
参照。
14−ジデヒドロ−(15RS)−PGFlαを明らか
にしているブリード・シュー(Fried9J.)ら、
AnnalsOftheNewYOrkAcademy
OfSciencesl8O巻38頁(1971年)を
参照。
最後に2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PG
F,αを明らかにしたパーク等、ノーベルシンポジウム
2巻161頁(1967年)を参照。更に以下の特許公
告が2−デカルポキシ一2ーヒドロキシメチルプロスタ
グランジン類似体類を明らかにしている。
F,αを明らかにしたパーク等、ノーベルシンポジウム
2巻161頁(1967年)を参照。更に以下の特許公
告が2−デカルポキシ一2ーヒドロキシメチルプロスタ
グランジン類似体類を明らかにしている。
ドイツ公開特許公報第2,437,388号(タウエン
ド・フアームドツクCPl第43108@)、ペルキー
特許第817513号(タウエンド・フアームドツクC
PI第07432W号)、ドイツ公開特許公報第2,4
04,653号(タウエンド・フアームドツクCP第5
7272号)、ドイツ公開特許公報第2.360.89
3号(タウエンド・フアームドツクCPI第45723
V号)、オランダ特許第7.206.361号(タウエ
ンド・フアームドツクCPI第76383T号)、オラ
ンダ特許第7.209.817号(タウエンド・フアー
ムドツクCP第05789U)、オランダ特許第7.2
09.738号(タウエンド・フアームドツクCPI第
05786U)、オランダ特許第7.306.030号
(タウエンド″・フアームドツクCP第71295U)
、オランダ特許第7.313.322号(タウエンド・
フアームドツクCPI第28414)、ペルキー特許第
815.372号(タウエンド・フアームドツクCPI
第84521V号)、及びペルキー特許第815.74
2号(タウエンド・フアームドツクCPI第81796
V号)。
ド・フアームドツクCPl第43108@)、ペルキー
特許第817513号(タウエンド・フアームドツクC
PI第07432W号)、ドイツ公開特許公報第2,4
04,653号(タウエンド・フアームドツクCP第5
7272号)、ドイツ公開特許公報第2.360.89
3号(タウエンド・フアームドツクCPI第45723
V号)、オランダ特許第7.206.361号(タウエ
ンド・フアームドツクCPI第76383T号)、オラ
ンダ特許第7.209.817号(タウエンド・フアー
ムドツクCP第05789U)、オランダ特許第7.2
09.738号(タウエンド・フアームドツクCPI第
05786U)、オランダ特許第7.306.030号
(タウエンド″・フアームドツクCP第71295U)
、オランダ特許第7.313.322号(タウエンド・
フアームドツクCPI第28414)、ペルキー特許第
815.372号(タウエンド・フアームドツクCPI
第84521V号)、及びペルキー特許第815.74
2号(タウエンド・フアームドツクCPI第81796
V号)。
最後にPGF−テトラオール類を記載した合衆国特許第
3,852,377号を参照。ペルキー特許第722,
031号(タウエンド・フアームドツクCP第37,2
98号)を参照。本発明は新規プロスタグランジン類似
体類、これらの類似体類のエステル類、及びこれらの類
似体類の薬理学的に受入れられる塩類を提供している。
3,852,377号を参照。ペルキー特許第722,
031号(タウエンド・フアームドツクCP第37,2
98号)を参照。本発明は新規プロスタグランジン類似
体類、これらの類似体類のエステル類、及びこれらの類
似体類の薬理学的に受入れられる塩類を提供している。
本発明は更にこれらの類似体類の低級アルカノエート類
を提供している。
を提供している。
本発明は更にこれらの類似体類を製造する新規方法を提
供している。
供している。
特定的には本発明は
(a)式
であつて、ここでR8は水素、又はヒドロキシであり、
Yはトランス−CH=CH−であり、M1はR5/ゝ′
0H又はBど\。
Yはトランス−CH=CH−であり、M1はR5/ゝ′
0H又はBど\。
であつて、ここでR5は水素又はメチルであり、L1は
とRど)Aとの混合物であつて、ここでR3とR4は水
素、メチル、又はフルオロで同じ又は別のものであるが
、但しR3とR4の一方は他方が水素又はメチルである
時にのみメチルであることを条件としており、またであ
るが、ここでgは1,2、又は3であり、R7は一(C
H2)m−CH3であるが、ここでmは1〜5である。
とRど)Aとの混合物であつて、ここでR3とR4は水
素、メチル、又はフルオロで同じ又は別のものであるが
、但しR3とR4の一方は他方が水素又はメチルである
時にのみメチルであることを条件としており、またであ
るが、ここでgは1,2、又は3であり、R7は一(C
H2)m−CH3であるが、ここでmは1〜5である。
〕(b)式
のプロスタグランジン類似体〔式中Dは
であつて、ここでR8は水素又はヒドロキシであり、Y
はトランス−CH=CH−でありM1は であって、 ここでR5は水素又はメチルであり、 LlはR4゛。
はトランス−CH=CH−でありM1は であって、 ここでR5は水素又はメチルであり、 LlはR4゛。
、T1(″へR4又はR(゛I4とーノ゛へ一 との混
合物であつて、ここでR3とR4は水素、メチル又はフ
ルオロであり、同じ又は別のものであるが、但しR3と
R4の一方は他方が水素又はメチルの時にのみメチルで
あることを条件としており、であつて、ここでgは1,
2又は3であり、R7は −Z3−′ う であつて
、ここでZ3はメチレン又はオキサであり、sはゼロ1
,2又は3であり、Tはクロロ、フルオロ、トリフルオ
ロメチル1〜3個の炭素原子のアルキル、又は1〜3個
の炭素原子のアルコキシであつて、種々のTは同じ又は
別のものであるが、但し2個を越えないTがアルキル以
外であること、更にR3とR4が水素又はメチルで同じ
又は別のものである時にのみZ3がオキサであることを
条件としている〕、又は(c)式 であつて、ここでR8は水素又はヒドロキシであり、Y
はトランス−CH=CH−であり、M1は。
合物であつて、ここでR3とR4は水素、メチル又はフ
ルオロであり、同じ又は別のものであるが、但しR3と
R4の一方は他方が水素又はメチルの時にのみメチルで
あることを条件としており、であつて、ここでgは1,
2又は3であり、R7は −Z3−′ う であつて
、ここでZ3はメチレン又はオキサであり、sはゼロ1
,2又は3であり、Tはクロロ、フルオロ、トリフルオ
ロメチル1〜3個の炭素原子のアルキル、又は1〜3個
の炭素原子のアルコキシであつて、種々のTは同じ又は
別のものであるが、但し2個を越えないTがアルキル以
外であること、更にR3とR4が水素又はメチルで同じ
又は別のものである時にのみZ3がオキサであることを
条件としている〕、又は(c)式 であつて、ここでR8は水素又はヒドロキシであり、Y
はトランス−CH=CH−であり、M1は。
l゛\R.u又は。r゛へ。。であつて、ここでR5は
水素又はメチルであり、L,は一/゛ゝ− −/へ。
水素又はメチルであり、L,は一/゛ゝ− −/へ。
又は。l゛。と /\ との混合物であつて、ここで
R3R3R4ゝとR4は水素、メチル、又はフルオロで
あつて同じ又は別のものであるが、但しR3とR4の一
方は他方が水素又はメチルの時にのみメチルであること
を条件とし、Z1はシス一CH:CH−CH2(CH2
)g−CH2一又は一(CH2)3−(CH2)g−C
H2であつて、ここでgは1,2又は3であり、R7は
一(CH2)m−CH3であつて、ここでmは1〜5で
あるが、但しR3,R4及びR5の内少なくとも一つが
メチルであるか、又はR3とR4のうち少なくとも一つ
が力5オロであることを条件としている〕。
R3R3R4ゝとR4は水素、メチル、又はフルオロで
あつて同じ又は別のものであるが、但しR3とR4の一
方は他方が水素又はメチルの時にのみメチルであること
を条件とし、Z1はシス一CH:CH−CH2(CH2
)g−CH2一又は一(CH2)3−(CH2)g−C
H2であつて、ここでgは1,2又は3であり、R7は
一(CH2)m−CH3であつて、ここでmは1〜5で
あるが、但しR3,R4及びR5の内少なくとも一つが
メチルであるか、又はR3とR4のうち少なくとも一つ
が力5オロであることを条件としている〕。
本発明の新規プロスタグランジン類似体の範囲内で以下
が代表的なものである。
が代表的なものである。
C(R2)2−(ここでR2は水素又はフルオロ)の場
合のプロスタグランジン類似体は[PG2」化合物と呼
ばれる。
合のプロスタグランジン類似体は[PG2」化合物と呼
ばれる。
R2がフルオロの時には、これらの化合物は「2,2−
ジフルオロ」PG型化合物として更に特徴づけられる。
gが2又は3の時には、この場合PGEl中に含まれる
7個の炭素原子の代りに、カルボキシ末端側鎖がそれぞ
れ8個又は9個の炭素原子を含有するため、こうして言
譚されるプロスタグランジン類似体は「2a−ホモ」又
は「2a,2b−ジホ刊化合物類である。
ジフルオロ」PG型化合物として更に特徴づけられる。
gが2又は3の時には、この場合PGEl中に含まれる
7個の炭素原子の代りに、カルボキシ末端側鎖がそれぞ
れ8個又は9個の炭素原子を含有するため、こうして言
譚されるプロスタグランジン類似体は「2a−ホモ」又
は「2a,2b−ジホ刊化合物類である。
これらの追加炭素原子は、c−2とc一3位置の間に挿
入されているかの様に考えられる。従つて、これらの追
加炭素原子は、c−2からc−3位置へ数えてc−2a
及びC−2bと呼ばれる。Z1が一(CH2)3−(C
H2)g−C(R2)2−(gは上に定義されたとおり
)の時には、こうして記載される化合物は「PGl」化
合物類である。gが2又は3の時には、それぞれ「2a
−ホモ」及び「2a,2b−ジホモ」化合物類が前節に
論じられた様に記述される。またR2がフルオロのとき
には「2,2−ジフルオロ」化合物が記述される。Z1
が−CH2−0−(CH2)g−CH2−の時には、こ
うして記載される化合物は[5−オキサ−PGl」化合
物類と名づけられる。gが2又は3の時には、こうして
記載される化合物は上に議論したようにそれぞれ[2a
−ホモ」又は「2a,2b−ジホモ」化合物である。Z
1がシス一CH2−CH=CH−(CH2)g−CH2
−(gは上に定義されたとおり)(5!fには、こうし
て記載される化合物は「シス一4,5−ジデヒドロ−P
Gl」化合物類である。
入されているかの様に考えられる。従つて、これらの追
加炭素原子は、c−2からc−3位置へ数えてc−2a
及びC−2bと呼ばれる。Z1が一(CH2)3−(C
H2)g−C(R2)2−(gは上に定義されたとおり
)の時には、こうして記載される化合物は「PGl」化
合物類である。gが2又は3の時には、それぞれ「2a
−ホモ」及び「2a,2b−ジホモ」化合物類が前節に
論じられた様に記述される。またR2がフルオロのとき
には「2,2−ジフルオロ」化合物が記述される。Z1
が−CH2−0−(CH2)g−CH2−の時には、こ
うして記載される化合物は[5−オキサ−PGl」化合
物類と名づけられる。gが2又は3の時には、こうして
記載される化合物は上に議論したようにそれぞれ[2a
−ホモ」又は「2a,2b−ジホモ」化合物である。Z
1がシス一CH2−CH=CH−(CH2)g−CH2
−(gは上に定義されたとおり)(5!fには、こうし
て記載される化合物は「シス一4,5−ジデヒドロ−P
Gl」化合物類である。
gが2又は3の時には、こうして記載される化合物は上
記のように更にそれぞれ「2a−ホモ」又は「2a,2
b−ジホモ」化合物類として特徴づけられる。馬が一(
CH2)m−CHs.(mは上に定義されたとおり)の
時には、こうして記載される化合物類はmがそれぞれ1
,2,4又は5の時に「19,20−ジノル」、「20
−ノル」 「20−メチル」又は「20−エチル」化合
物類と名付けられる。
記のように更にそれぞれ「2a−ホモ」又は「2a,2
b−ジホモ」化合物類として特徴づけられる。馬が一(
CH2)m−CHs.(mは上に定義されたとおり)の
時には、こうして記載される化合物類はmがそれぞれ1
,2,4又は5の時に「19,20−ジノル」、「20
−ノル」 「20−メチル」又は「20−エチル」化合
物類と名付けられる。
゛馬が(TとSは上に定義されたとおり)の時には、こ
うして記載される化合物はSがゼロの時に、「17−フ
エニル一18,19,20−トリノル」化合物類と名付
けられる。
うして記載される化合物はSがゼロの時に、「17−フ
エニル一18,19,20−トリノル」化合物類と名付
けられる。
sが1、2又は3の時には、対応する化合物類は[17
−(置換フエニル)−18,19,20−トリノル」化
合物類と名付けられる。馬が (TとSは上に定義されたとおり)であつて、R3又は
R4のいずれもメチルでない時には、こうして記載され
るPG類似体は、Sがゼロの時に「16−フエノキ一1
7,18,19,20−テトラノル」化合物と名付けら
れる。
−(置換フエニル)−18,19,20−トリノル」化
合物類と名付けられる。馬が (TとSは上に定義されたとおり)であつて、R3又は
R4のいずれもメチルでない時には、こうして記載され
るPG類似体は、Sがゼロの時に「16−フエノキ一1
7,18,19,20−テトラノル」化合物と名付けら
れる。
Sが1、2又は3の時には、対応する化合物は「16−
(置換フエノキシ)−17,18,19,20−テトラ
ノル」化合物と名付けられる。R3とR4の一方のみが
メチル又はR3とR4の両方がメチルの時には、馬が本
節に定義されたとおりの対応する化合物類は、それぞれ
[16−フエノキシ又は16−(置換フエノキシ)−1
8,19,20−トリノル」化合物類又は「16−メチ
ル−16−フエノキシ又は16−(置換フエノキシ)−
18,19,20−トリノル」化合物として名付けられ
る。R8とR4の少なくと.も一方が水素でない時には
、(上記の16−フエノキシ化合物類を除いて)「16
−メチノレ」(R3とR4の一方のみがメチノレ入「1
6,16−ジメチノレ」(R3とR,が共にメチノレ入
「16−フルオロ」(R3とR4の一方のみがフルオロ
)、「16,16−ジフルオロ」(R3とR4が共にフ
ルオロ)化合物類が記載される。
(置換フエノキシ)−17,18,19,20−テトラ
ノル」化合物と名付けられる。R3とR4の一方のみが
メチル又はR3とR4の両方がメチルの時には、馬が本
節に定義されたとおりの対応する化合物類は、それぞれ
[16−フエノキシ又は16−(置換フエノキシ)−1
8,19,20−トリノル」化合物類又は「16−メチ
ル−16−フエノキシ又は16−(置換フエノキシ)−
18,19,20−トリノル」化合物として名付けられ
る。R8とR4の少なくと.も一方が水素でない時には
、(上記の16−フエノキシ化合物類を除いて)「16
−メチノレ」(R3とR4の一方のみがメチノレ入「1
6,16−ジメチノレ」(R3とR,が共にメチノレ入
「16−フルオロ」(R3とR4の一方のみがフルオロ
)、「16,16−ジフルオロ」(R3とR4が共にフ
ルオロ)化合物類が記載される。
R3とR4が異なる場合の化合物に対しては、こうして
表わされるプロスタグランジン類似体類は、C−16に
非対称炭素原子を含む。従つて、二つのエビマ一立体配
置すなわち(16S)と(16R)が可能である。更に
、本発明によつてC−16エビマ一混合物(16RS)
が記載される。R5がメチルの時には、こうして記載さ
れる化合物は「15−メチル」化合物類と名付けられる
。
表わされるプロスタグランジン類似体類は、C−16に
非対称炭素原子を含む。従つて、二つのエビマ一立体配
置すなわち(16S)と(16R)が可能である。更に
、本発明によつてC−16エビマ一混合物(16RS)
が記載される。R5がメチルの時には、こうして記載さ
れる化合物は「15−メチル」化合物類と名付けられる
。
ここで使用されている命名法の一般的説明については、
エヌ・エイ・ネルソン(N.A.NeIsOn).J.
Med.Chem.l7巻911頁(19,74年)を
参照。C−15にベータ立体配置のヒドロキシをもつ本
明細書に図示されたPG型化合物は、C−15でPGE
lのものと反対の相対的立体化学配置のものであり、従
つて[15−エピ」化合物と名づけられる。アルフアヒ
ドロキシ立体配置がある時には、化合物の命名にこの立
体化学の特別な指定は与えられない。〔式中Tは1〜3
個の炭素原子のアルキル、フルオロ、クロロ、トリフル
オロメチル、又は1〜3個の炭素原子のアルコキシであ
り、Sは0,1,2又は3であるが、但し2個を越えな
いTがアルキル以外であることを条件としている〕の例
は、フエニル、(0−、m−、又はp−)トリル、(0
−、m−、又はp−)エチル、フエニル、2−エチル−
p−トリル、4−エチル−0−トリル、5−エチル−m
−トリル、(0−、m−、又はp−)プロピルフエニル
、2−プロピル−(0一m−、p−)トリル、4−イソ
プロピル−2,6一キシリル、3−プロピル−4−エチ
ルフエニル、(2,3,4−、2,3,5−、2,3,
6一又は2,4,5−)トリメチルフエニル、(0−、
m−、又はp−)フルオロフエニル、2−フルオロ−(
0−、m一又はp−)トリル、4−フルオロ−2,5−
キシリル、(2,4−、2,5− 2,6− 3,4−
、又は3,5−)ジフルオロフエニル、(0−、m−、
又はp−)クロロフエニル、2−クロロ−p−トリル、
(3−、4− 5−、又は6−)クロロ−0−トリル、
4−クロロ−2−プロピルフエニル、2−イソプロピル
−4−クロロフエニル、4−クロロ−3,5ーキシリル
、(2.3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4
一又は3,5−)ジクロロフエニル、4−クロロ−3−
フルオロフエニル、(3一又は4−)クロロ一2−フル
オロフエニル、(0−、m一又はp−)トリフルオロメ
チルフエニル、(0−、m−、又はp−)メトキシフエ
ニル、(0−、m−、又はp−)エトキシフエニル、(
4−、又は5−)クロロ−2−メトキシフエニル及び2
,4−ジクロロ(5一又は6−)メトキシフエニルであ
る。本発明の新規プロスタグランジン類似体類は、この
新規プロスタグランジン類似体類がプロスタグランジン
様の活性を現わす点で、上記のプロスタグランジン類と
対応している。特定的には、本発明のPGE一及び11
−デオキシ−PGE型化合物類は、これらの新規PGE
一及び11−デオキシ−PGE型化合物類がPGE化合
物類が使用される上記目的の各々に対して有用でありか
つ上記の様にPGE化合物類と同じ方法で使用される点
で上配のPGE化合物に対応する。
エヌ・エイ・ネルソン(N.A.NeIsOn).J.
Med.Chem.l7巻911頁(19,74年)を
参照。C−15にベータ立体配置のヒドロキシをもつ本
明細書に図示されたPG型化合物は、C−15でPGE
lのものと反対の相対的立体化学配置のものであり、従
つて[15−エピ」化合物と名づけられる。アルフアヒ
ドロキシ立体配置がある時には、化合物の命名にこの立
体化学の特別な指定は与えられない。〔式中Tは1〜3
個の炭素原子のアルキル、フルオロ、クロロ、トリフル
オロメチル、又は1〜3個の炭素原子のアルコキシであ
り、Sは0,1,2又は3であるが、但し2個を越えな
いTがアルキル以外であることを条件としている〕の例
は、フエニル、(0−、m−、又はp−)トリル、(0
−、m−、又はp−)エチル、フエニル、2−エチル−
p−トリル、4−エチル−0−トリル、5−エチル−m
−トリル、(0−、m−、又はp−)プロピルフエニル
、2−プロピル−(0一m−、p−)トリル、4−イソ
プロピル−2,6一キシリル、3−プロピル−4−エチ
ルフエニル、(2,3,4−、2,3,5−、2,3,
6一又は2,4,5−)トリメチルフエニル、(0−、
m−、又はp−)フルオロフエニル、2−フルオロ−(
0−、m一又はp−)トリル、4−フルオロ−2,5−
キシリル、(2,4−、2,5− 2,6− 3,4−
、又は3,5−)ジフルオロフエニル、(0−、m−、
又はp−)クロロフエニル、2−クロロ−p−トリル、
(3−、4− 5−、又は6−)クロロ−0−トリル、
4−クロロ−2−プロピルフエニル、2−イソプロピル
−4−クロロフエニル、4−クロロ−3,5ーキシリル
、(2.3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4
一又は3,5−)ジクロロフエニル、4−クロロ−3−
フルオロフエニル、(3一又は4−)クロロ一2−フル
オロフエニル、(0−、m一又はp−)トリフルオロメ
チルフエニル、(0−、m−、又はp−)メトキシフエ
ニル、(0−、m−、又はp−)エトキシフエニル、(
4−、又は5−)クロロ−2−メトキシフエニル及び2
,4−ジクロロ(5一又は6−)メトキシフエニルであ
る。本発明の新規プロスタグランジン類似体類は、この
新規プロスタグランジン類似体類がプロスタグランジン
様の活性を現わす点で、上記のプロスタグランジン類と
対応している。特定的には、本発明のPGE一及び11
−デオキシ−PGE型化合物類は、これらの新規PGE
一及び11−デオキシ−PGE型化合物類がPGE化合
物類が使用される上記目的の各々に対して有用でありか
つ上記の様にPGE化合物類と同じ方法で使用される点
で上配のPGE化合物に対応する。
本発明のPGFO一及び11−デオキシ−PGFO型化
合物類は、PGFO一及び11−デオキシ−PG}′。
型化合物か、PGFO化合物類が使用される上記目的の
各々に対して有用であり、上記のようにPGFa化合物
類同じ方法で用いられる点で上記のPGFa化合物に対
応する。本発明のPGD−、9−デオキシ−PGD−、
及び9,10−ジデヒドロ−9−デオキシ−PGD型化
合物類は、これらの新規PGD−、9−デオキシ−PG
D−、又は9−デオキシ−9,10−ジデヒドロ−PG
D型化合物類がPGE又はPGFa化合物のいずれかが
使用される上記目的の各々に対して有用であり、また上
記のようなPGE又はPGI化合物と同じやり方で使用
されるという点で、上記のPGE又はPGFa化合物類
に対応する。
合物類は、PGFO一及び11−デオキシ−PG}′。
型化合物か、PGFO化合物類が使用される上記目的の
各々に対して有用であり、上記のようにPGFa化合物
類同じ方法で用いられる点で上記のPGFa化合物に対
応する。本発明のPGD−、9−デオキシ−PGD−、
及び9,10−ジデヒドロ−9−デオキシ−PGD型化
合物類は、これらの新規PGD−、9−デオキシ−PG
D−、又は9−デオキシ−9,10−ジデヒドロ−PG
D型化合物類がPGE又はPGFa化合物のいずれかが
使用される上記目的の各々に対して有用であり、また上
記のようなPGE又はPGI化合物と同じやり方で使用
されるという点で、上記のPGE又はPGFa化合物類
に対応する。
本発明のPGA型化合物類は、これらの新規込型化合物
類がPGA化合物が使用される上記目的の各々に対して
有用であり、また上記のようにPGA化合物と同じやり
方で使用されるという点で、上記のPGA化合物類に対
応している。上記のプロスタグランジン類はすべて、低
投与量においても複数の生物学的応答を起すのに効能が
ある。その上に多くの応用で、これらの既知プロスタグ
ランジン類は都合の悪いことには短期の生物学的活性し
か有しないことが知られている。極めて対照的に、本発
明の新規プロスタグランジン類似体類が、プロスタグラ
ンジン様生物学的応答を起す効能に関しては実質的によ
り選択的であり、かつ実質的に長い生物学的活性の持続
期間を有している。従つてこれら新規プロスタグランジ
ン類似体の夫々は、対応する上記プロスタグランジンの
一つよりも、後者に対し上記指定の薬理学目的の少くと
も一つに対し、驚異的に又予想外により有用である。と
いうのはこれらは既知プロスタグランジンよりも異つた
又より狭いスペクトラムの生物学的効能をもち、従つて
その活性においてより特異的であり、かつプロスタグラ
ンジンが同じ目的に使用されるときより小さく又より僅
かの望ましくない副作用しか起さないからである。その
上その長い活性のため、より僅かの回数でより少量の新
規プロスタグランジンの投与量が、所望の結果を得るの
に屡々有効である。対応するプロスタグランジンと比較
すると、本発明の新規プロスタグランジン類似体、特に
以下に定義される好ましいPG類似体の他の利点は、対
応プロスタグランジンが上記のようにこれらプロスタグ
ランジンの用途として静脈内、筋肉内又は皮下注射又は
注入投与方法によつてのみ有効である場合に、これら新
規PG類似体が効果的に経口、舌下、膣内、口腔内、又
は直腸内に投与されることである。
類がPGA化合物が使用される上記目的の各々に対して
有用であり、また上記のようにPGA化合物と同じやり
方で使用されるという点で、上記のPGA化合物類に対
応している。上記のプロスタグランジン類はすべて、低
投与量においても複数の生物学的応答を起すのに効能が
ある。その上に多くの応用で、これらの既知プロスタグ
ランジン類は都合の悪いことには短期の生物学的活性し
か有しないことが知られている。極めて対照的に、本発
明の新規プロスタグランジン類似体類が、プロスタグラ
ンジン様生物学的応答を起す効能に関しては実質的によ
り選択的であり、かつ実質的に長い生物学的活性の持続
期間を有している。従つてこれら新規プロスタグランジ
ン類似体の夫々は、対応する上記プロスタグランジンの
一つよりも、後者に対し上記指定の薬理学目的の少くと
も一つに対し、驚異的に又予想外により有用である。と
いうのはこれらは既知プロスタグランジンよりも異つた
又より狭いスペクトラムの生物学的効能をもち、従つて
その活性においてより特異的であり、かつプロスタグラ
ンジンが同じ目的に使用されるときより小さく又より僅
かの望ましくない副作用しか起さないからである。その
上その長い活性のため、より僅かの回数でより少量の新
規プロスタグランジンの投与量が、所望の結果を得るの
に屡々有効である。対応するプロスタグランジンと比較
すると、本発明の新規プロスタグランジン類似体、特に
以下に定義される好ましいPG類似体の他の利点は、対
応プロスタグランジンが上記のようにこれらプロスタグ
ランジンの用途として静脈内、筋肉内又は皮下注射又は
注入投与方法によつてのみ有効である場合に、これら新
規PG類似体が効果的に経口、舌下、膣内、口腔内、又
は直腸内に投与されることである。
これらの代わりの投与径路は、より回数が少なく、短期
間の又は少量の投与量でこれら化合物の体内における均
一水準の維持を容易にし、患者による自己投与を可能と
するので有利である。従つて、本発明の新規プロスタグ
ランジン類似体類は種々の目的に対して種々の方法で、
例えば静脈内、筋肉内、皮下、経口、膣内、直腸、口腔
、舌下、局所的、および持続作用には無菌移植片の形で
投与される。
間の又は少量の投与量でこれら化合物の体内における均
一水準の維持を容易にし、患者による自己投与を可能と
するので有利である。従つて、本発明の新規プロスタグ
ランジン類似体類は種々の目的に対して種々の方法で、
例えば静脈内、筋肉内、皮下、経口、膣内、直腸、口腔
、舌下、局所的、および持続作用には無菌移植片の形で
投与される。
皮下又は筋肉内注射には水性又は非水性媒体中における
化合物の無菌の溶液又は懸濁液が使われる。通常の製薬
学的担体を伴つた錠剤、カプセルおよびシロツプ、エリ
キジール剤および単純溶液のような液体調製剤は、経口
、舌下投与に使われる。直腸又は膣内投与には、この技
術に知られたとおりにつくられる坐薬が使われる。組織
移植に対しては、無菌錠剤又はこの物質を含有するか浸
み込ませたシリコンラバーカプセル又はその他の物体が
使われる。本発明の新規11−デオキシ−2−デカルボ
キシ一2−ヒドロキシメチル−PGE型化合物類の化学
構造は、これらの化合物を対応するプロスタグランジン
類より脱水と転位に対して感受が少いものにし、従つて
これらの化合物は驚くほどかつ予想外の安定性と貯蔵寿
命期間を示す。
化合物の無菌の溶液又は懸濁液が使われる。通常の製薬
学的担体を伴つた錠剤、カプセルおよびシロツプ、エリ
キジール剤および単純溶液のような液体調製剤は、経口
、舌下投与に使われる。直腸又は膣内投与には、この技
術に知られたとおりにつくられる坐薬が使われる。組織
移植に対しては、無菌錠剤又はこの物質を含有するか浸
み込ませたシリコンラバーカプセル又はその他の物体が
使われる。本発明の新規11−デオキシ−2−デカルボ
キシ一2−ヒドロキシメチル−PGE型化合物類の化学
構造は、これらの化合物を対応するプロスタグランジン
類より脱水と転位に対して感受が少いものにし、従つて
これらの化合物は驚くほどかつ予想外の安定性と貯蔵寿
命期間を示す。
生物学的応答の特異性、効能、及び作用持続期間の最適
組合せを得るため、本発明の範囲内のある化合物類が好
ましい。
組合せを得るため、本発明の範囲内のある化合物類が好
ましい。
カルボキシ末端側鎖が7又は9個の炭素(又は炭素と酸
素)原子を含有するのが好ましく、特に7個を含有する
こと、すなわちプロスタグランジンの天然の鎖長を含む
ことが好ましい。
素)原子を含有するのが好ましく、特に7個を含有する
こと、すなわちプロスタグランジンの天然の鎖長を含む
ことが好ましい。
更にR7が一(CH2)m−CH3の時には、mが3で
あるのが好ましい。R7が−0−《 う 又は−CH
2−<−》 ?場合のこれらの化合物に対しては、Sが
ゼロ又は1、Tがクロロ、フルオロ又はトリフルオロメ
チルであるのが好ましい。
あるのが好ましい。R7が−0−《 う 又は−CH
2−<−》 ?場合のこれらの化合物に対しては、Sが
ゼロ又は1、Tがクロロ、フルオロ又はトリフルオロメ
チルであるのが好ましい。
R3とR,の少なくとも一方がメチル又はフルオロの場
合のこれらの化合物に対しては、R5が水素であるのが
好ましい。R5がメチルの場合のこれらの化合物に対し
ては、馬とR4が共に水素であるのが好ましG)。.、
馬が−00又は−CH2→乙鑑》 岬場合のこれらの化
合物に対しては、R3とR4が水素であるのが好ましい
。
合のこれらの化合物に対しては、R5が水素であるのが
好ましい。R5がメチルの場合のこれらの化合物に対し
ては、馬とR4が共に水素であるのが好ましG)。.、
馬が−00又は−CH2→乙鑑》 岬場合のこれらの化
合物に対しては、R3とR4が水素であるのが好ましい
。
15−ヒドロキシが15−エピ立体配置のものでないこ
と、すなわち新規なPG類似体の式が本明細書に描かれ
たとおりである時のアルフア立体配置にヒドロキシがあ
ることが好ましい。
と、すなわち新規なPG類似体の式が本明細書に描かれ
たとおりである時のアルフア立体配置にヒドロキシがあ
ることが好ましい。
特に好ましいものは、上の選択の二つ又はそれ以上を満
足させるような化合物である。
足させるような化合物である。
更に上の選択は、本明細書で明らかにされた新規なプロ
スタグランジン類似体の任意の一般式の範囲内の好まし
い化合物類を記載する様に特に意図されている。このよ
うに例えば、上の選択は以下の表中に与えられたプロス
タグランジン類似体の各々の式の範囲内の好ましい化合
物類を記載している。本明細書の選択を解釈するもう一
つの面は、本明細書で用いられている種々のプロスタグ
ランジンシクロペンタン環構造がそれぞれ、本明細書で
明らかにされている新規プロスタグランジン類似体を命
名し分類するのに有用な特別な「親構造」の代表である
ことである。更にある式が単一のシクロペンタン環構造
を明示する本明細書で明らかにされたPG類似体の一つ
の属を画く場合に、本明細書中で新規プロスタグランジ
ン類似体に対して引用された残りのシクロペンタン環構
造の一を明示するPG類似体の各々の対応する属は、同
じく好ましい属の化合物を表わす様に意図されている。
このように例えば本明細書のある式で画かれるPGFa
型生成物の各々の属に対して、PGD−PGE−、及び
11−デオキシ−PGFa型生成物の対応する属が、P
GFO型生成物の属として本発明の同じく好ましい実施
態様である。最後に、任意のシクロペンタン環構造のP
G類似体類の亜属の群が本明細書に記載される場合、残
りのシクロペンタン環構造の各々のものPG類似体の対
応する亜属の群は本発明の同じく好ましい実施態様を表
わす様に意図されている。
スタグランジン類似体の任意の一般式の範囲内の好まし
い化合物類を記載する様に特に意図されている。このよ
うに例えば、上の選択は以下の表中に与えられたプロス
タグランジン類似体の各々の式の範囲内の好ましい化合
物類を記載している。本明細書の選択を解釈するもう一
つの面は、本明細書で用いられている種々のプロスタグ
ランジンシクロペンタン環構造がそれぞれ、本明細書で
明らかにされている新規プロスタグランジン類似体を命
名し分類するのに有用な特別な「親構造」の代表である
ことである。更にある式が単一のシクロペンタン環構造
を明示する本明細書で明らかにされたPG類似体の一つ
の属を画く場合に、本明細書中で新規プロスタグランジ
ン類似体に対して引用された残りのシクロペンタン環構
造の一を明示するPG類似体の各々の対応する属は、同
じく好ましい属の化合物を表わす様に意図されている。
このように例えば本明細書のある式で画かれるPGFa
型生成物の各々の属に対して、PGD−PGE−、及び
11−デオキシ−PGFa型生成物の対応する属が、P
GFO型生成物の属として本発明の同じく好ましい実施
態様である。最後に、任意のシクロペンタン環構造のP
G類似体類の亜属の群が本明細書に記載される場合、残
りのシクロペンタン環構造の各々のものPG類似体の対
応する亜属の群は本発明の同じく好ましい実施態様を表
わす様に意図されている。
こ\に示す図は本発明の新規プロスタグランジン類似体
がつくられる方法を記載している。
がつくられる方法を記載している。
図に関して、R29R7,R89Ml9Ll9Y9Zl
9Z3及びgは上に定義されるとおりである。I)は上
に定義されたとおりである。記号nは1又は2である。
M5はHOHsHOH又はCH3OHとCH3OHとの
混合物である。
9Z3及びgは上に定義されるとおりである。I)は上
に定義されたとおりである。記号nは1又は2である。
M5はHOHsHOH又はCH3OHとCH3OHとの
混合物である。
M6はR6ORlO又はR,ORlOl又はそのエピマ
ー類の混合物(ここでRlOは封鎖基であり、R5は土
に定義されたとおり)である。M8はHORlO又はH
ORlOであつて、ここでH7″>)Hである。M,8
は仔4゛δRlO、′ \ ′ ゝ、
i 〜HOR,OsCH9OHl又はCH
OOHであつて、ここでR,Oは封鎖基である。
ー類の混合物(ここでRlOは封鎖基であり、R5は土
に定義されたとおり)である。M8はHORlO又はH
ORlOであつて、ここでH7″>)Hである。M,8
は仔4゛δRlO、′ \ ′ ゝ、
i 〜HOR,OsCH9OHl又はCH
OOHであつて、ここでR,Oは封鎖基である。
Rl6は水素又は−0R,(ここでR9はアシル保護基
)である。Rl8は水素又は−0R10(ここでRlO
は封鎖基)である。R26はアルキル、アラルキル、シ
クロアルキル等を含めたヒドロカルビルである。これら
のヒドロカルビル基の例は、2−メチルブチル、イソペ
ンチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、トリデシル、オ
クタデシル、ベンジル、フエネチル、p−メチルフエネ
チル、1−メチル−3−フエニルプロピル、シクロヘキ
シル、フエニル、及びp−メチルフエニルを包含する。
G1は1〜4個の炭素原子のアルキル、7〜12個の炭
素原子のアラルキル、フエニル、又は(フルオロ、クロ
ロ、又は1〜4個の炭素原子のアルキル1個又は2個で
置換された)フエニルであるが、但し−Si−(G1)
3部分の種々のG1は同じ又は別のものである。
)である。Rl8は水素又は−0R10(ここでRlO
は封鎖基)である。R26はアルキル、アラルキル、シ
クロアルキル等を含めたヒドロカルビルである。これら
のヒドロカルビル基の例は、2−メチルブチル、イソペ
ンチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、トリデシル、オ
クタデシル、ベンジル、フエネチル、p−メチルフエネ
チル、1−メチル−3−フエニルプロピル、シクロヘキ
シル、フエニル、及びp−メチルフエニルを包含する。
G1は1〜4個の炭素原子のアルキル、7〜12個の炭
素原子のアラルキル、フエニル、又は(フルオロ、クロ
ロ、又は1〜4個の炭素原子のアルキル1個又は2個で
置換された)フエニルであるが、但し−Si−(G1)
3部分の種々のG1は同じ又は別のものである。
G,の一つが第三ブチルで、残りの二つがメチルである
のが好ましい。R1は水素、アルキル、シクロアルキル
、アラルキル又はフエニルである。R,はアシル保護基
である。
のが好ましい。R1は水素、アルキル、シクロアルキル
、アラルキル又はフエニルである。R,はアシル保護基
である。
R,によるアシル保護基は次のものを包含する。
(a)ベンゾイル(b) (1〜4個の炭素原子のアル
キル、7〜12個の炭素原子のフエニルアルキル、又は
ニトロの1〜5個で置換された)ベンゾイル(但し、2
個を越えない置換基はアルキル以外であり、置換基中の
全炭素原子数が10個を越えないこと、更に置換基が同
じ又は別のものであるとの条件付きである)(c) 2
〜5個の炭素原子のアルコキシカルボニルで置換された
ベンゾイル(d)ナフトール (e) (1〜4個の炭素原子のアルキル、7〜10個
のの炭素原子のフエニルアルキル又はニトロの1〜9個
で置換された)ナフトール(但し、縮合芳香族環のいず
れかの上の2個を越えない置換基がアルキル以外であり
、いづれかの縮合芳香族環上の置換基が10炭素原子を
越えないこと、更に種々の置換基が同じ又は別のもので
あるとの条件付きである)。
キル、7〜12個の炭素原子のフエニルアルキル、又は
ニトロの1〜5個で置換された)ベンゾイル(但し、2
個を越えない置換基はアルキル以外であり、置換基中の
全炭素原子数が10個を越えないこと、更に置換基が同
じ又は別のものであるとの条件付きである)(c) 2
〜5個の炭素原子のアルコキシカルボニルで置換された
ベンゾイル(d)ナフトール (e) (1〜4個の炭素原子のアルキル、7〜10個
のの炭素原子のフエニルアルキル又はニトロの1〜9個
で置換された)ナフトール(但し、縮合芳香族環のいず
れかの上の2個を越えない置換基がアルキル以外であり
、いづれかの縮合芳香族環上の置換基が10炭素原子を
越えないこと、更に種々の置換基が同じ又は別のもので
あるとの条件付きである)。
(f) 2〜12個の炭素原子のアルカノイル。
本明細書中のヒドロキシ含有化合物類のこれらのアシル
誘導体類をつくるには、この技術に一般的に知られた方
法が使用される。こうして式R,OH(式中R,は上に
定義されたとおり)の芳香族酸、例えば安息香酸が、脱
水剤例えば硫酸、塩化亜鉛、又はパラトルエンスルホン
酸の存在下にヒドロキシ含有化合物と反応させられるか
、又はその代わりに式(R,)20の芳香族酸無水物、
例えば無水安息香酸が使用される。しかし好ましくは上
節に述べた方法は、適当なアシルハライド例えばR9ハ
ロ、(式中ハロはクロロ、プロモ、又はヨード)を使用
して進行する。
誘導体類をつくるには、この技術に一般的に知られた方
法が使用される。こうして式R,OH(式中R,は上に
定義されたとおり)の芳香族酸、例えば安息香酸が、脱
水剤例えば硫酸、塩化亜鉛、又はパラトルエンスルホン
酸の存在下にヒドロキシ含有化合物と反応させられるか
、又はその代わりに式(R,)20の芳香族酸無水物、
例えば無水安息香酸が使用される。しかし好ましくは上
節に述べた方法は、適当なアシルハライド例えばR9ハ
ロ、(式中ハロはクロロ、プロモ、又はヨード)を使用
して進行する。
例えば塩化ベンゾイルが塩化水素除去剤、例えばピリジ
ン、トリエチルアミン等のような第三級アミンの存在下
に、ヒドロキシル含有化合物と反応させられる。反応は
、一般にこの技術に知られた手順を使用して、種々の条
件下に実施される。概して温和な条件、例えば20〜6
0℃が使用され、反応体を液体媒体、例えば過剰のピリ
ジン、又はベンゼン、トルエン、又はクロロホルムのよ
うな不活性溶媒中で接触させる。アシル化剤は化学量論
量又は実質的な化学量論的過剰量で使用される。馬の例
として以下の化合物が酸(R9OH)、無水物((R,
),0)、又は塩化アシル(R,Cl)として利用でき
る。ベンゾイル、置換ベンゾイル、例えば(2−,3一
又は4−)メチルベンゾイル、(2−,3−,又は4−
)エチルベンゾイル)、(2−,3一又は4−)イソプ
ロピルベンゾイル、(2−,3−,又は4−)第三ブチ
ルベンゾイル、2,4−ジメチルベンゾイル、3,5−
ジメチルベンゾイル、2−イソプロピルトルイル、2,
4,6,一トリメチルベンゾイル、ペンタメチルベンゾ
イル、α−フエニル一(2−,3−,又は4−)トルイ
ル、(2−,3−,又は4−)フエネチルベンゾイル、
(2−,3一又は4−)ニトロベンゾイル、(2,4−
,2,5−,又は2,3−)ジニトロベンゾイル、2,
3−ジメチル−2−ニトロベンゾイル、゛4,5−ジメ
チル−2−ニトロベンゾイル、2−ニトロ−6−フエネ
チルベンゾイル、3−ニトロ−2−フエネチルベンゾイ
ル、モノエステル化スタロイル、イソプタロール又はテ
レフタロイル、(1一又は2−)ナフトル、置換ナフト
ール例えば(2−,3−,4−,5−,6一又は7一)
メチル−1−ナフトール、(2一又は4−)エチル−1
−ナフトール、2−イソプロピル−1−ナフトール、4
,5−ジメチル−1−ナフトル、6−イソプロピル−4
−メチル−1−ナフトール、8ーベンジル−1−ナフト
ール、(3−,4−,5コ又は8−)ニトロ−1−ナフ
トール、4,5−ジニトロ−1−ナフトール、(3−,
4−,6−,7一,又は8−)メチル−1−ナフトール
、4−エチル−2−ナフトール、及び(5一又は8−)
ニトロ−2−ナフトール及びアセチル。従つて、塩化ベ
ンゾイル、塩化4−ニトロベンゾイル、塩化3,5−ジ
ニトロベンゾイル等、すなわち上のR,基に対応するR
,Cl化合物類を使用してよい。
ン、トリエチルアミン等のような第三級アミンの存在下
に、ヒドロキシル含有化合物と反応させられる。反応は
、一般にこの技術に知られた手順を使用して、種々の条
件下に実施される。概して温和な条件、例えば20〜6
0℃が使用され、反応体を液体媒体、例えば過剰のピリ
ジン、又はベンゼン、トルエン、又はクロロホルムのよ
うな不活性溶媒中で接触させる。アシル化剤は化学量論
量又は実質的な化学量論的過剰量で使用される。馬の例
として以下の化合物が酸(R9OH)、無水物((R,
),0)、又は塩化アシル(R,Cl)として利用でき
る。ベンゾイル、置換ベンゾイル、例えば(2−,3一
又は4−)メチルベンゾイル、(2−,3−,又は4−
)エチルベンゾイル)、(2−,3一又は4−)イソプ
ロピルベンゾイル、(2−,3−,又は4−)第三ブチ
ルベンゾイル、2,4−ジメチルベンゾイル、3,5−
ジメチルベンゾイル、2−イソプロピルトルイル、2,
4,6,一トリメチルベンゾイル、ペンタメチルベンゾ
イル、α−フエニル一(2−,3−,又は4−)トルイ
ル、(2−,3−,又は4−)フエネチルベンゾイル、
(2−,3一又は4−)ニトロベンゾイル、(2,4−
,2,5−,又は2,3−)ジニトロベンゾイル、2,
3−ジメチル−2−ニトロベンゾイル、゛4,5−ジメ
チル−2−ニトロベンゾイル、2−ニトロ−6−フエネ
チルベンゾイル、3−ニトロ−2−フエネチルベンゾイ
ル、モノエステル化スタロイル、イソプタロール又はテ
レフタロイル、(1一又は2−)ナフトル、置換ナフト
ール例えば(2−,3−,4−,5−,6一又は7一)
メチル−1−ナフトール、(2一又は4−)エチル−1
−ナフトール、2−イソプロピル−1−ナフトール、4
,5−ジメチル−1−ナフトル、6−イソプロピル−4
−メチル−1−ナフトール、8ーベンジル−1−ナフト
ール、(3−,4−,5コ又は8−)ニトロ−1−ナフ
トール、4,5−ジニトロ−1−ナフトール、(3−,
4−,6−,7一,又は8−)メチル−1−ナフトール
、4−エチル−2−ナフトール、及び(5一又は8−)
ニトロ−2−ナフトール及びアセチル。従つて、塩化ベ
ンゾイル、塩化4−ニトロベンゾイル、塩化3,5−ジ
ニトロベンゾイル等、すなわち上のR,基に対応するR
,Cl化合物類を使用してよい。
塩化アシルが入手できないならば、これはこの技術に知
られたとおりに対応する酸と五塩化燐からつくられる。
R,OH,(R9)20はR,Cl反応体が、カルボニ
ル結合位置に隣接する環炭素原子の両方の上に、かさば
つた障害となるような置換基例えば第三ブチルをもたな
いことが好ましい。R,によるアシル保護基は脱アシル
化によつて除かれる。
られたとおりに対応する酸と五塩化燐からつくられる。
R,OH,(R9)20はR,Cl反応体が、カルボニ
ル結合位置に隣接する環炭素原子の両方の上に、かさば
つた障害となるような置換基例えば第三ブチルをもたな
いことが好ましい。R,によるアシル保護基は脱アシル
化によつて除かれる。
この目的にはアルカリ金属炭酸塩が壌境温度で効果的に
使用される。例えば約25℃でメタノール中の炭酸カリ
ウムが使用されるのが有利である。RlOの範囲内のこ
れら封鎖基は、ヒドロキシ基の水素を置換し、本発明で
使用される転化に使われる試薬にヒドロキシ基程には攻
撃されず、又反応的でもなく、プロスタグランジン型化
合物の製造で後で水素と置換できるような任意の基であ
る。幾つかの封鎖基、例えばテトラヒドロビラニル及び
置換テトラヒドロビラニルがこの技術に知られている。
イ一・ジエイ・コリ一(E.J.COrey)、プロシ
ーデングオブ ロバートエイ ウエルチ フアンデイシ
ヨン ガンファレンズ オン ケミカル リサーチ(P
rOceedingOftheRObertA.Wel
chFOundatiOnCOnferencesOn
ChemicalREsearch)、、有機合成(0
rganicSynthesis′).51〜79頁(
1969年)を参照。有用であることがわかつた封鎖基
には、次のものが含まれる。(1)テトラヒドロビラニ
ル、 (2)5テトラヒドロフラニル、及び (3)式−C(0R11)(R,ρ−CH(Rl,XR
l4)の基式中Rllは1〜18個の炭素原子のアルキ
ル、3〜10個の炭素原子のシクロアルキル、7〜12
個の炭素原子のアラルキル、フエニル、又は(1〜4個
の炭素原子のアルキルの1,2又は3個で置換された)
フエニルであり、Rl2とRl3は1〜4個の炭素原子
のアルキル、フエニル、又は(1〜4個の炭素原子のア
ルキルの1,2又は3個で置換された)フエニルである
か、又はRl2とRl3が一緒に取られると一(CH2
)a一又は−(CH2)b−0−(CH2)。
使用される。例えば約25℃でメタノール中の炭酸カリ
ウムが使用されるのが有利である。RlOの範囲内のこ
れら封鎖基は、ヒドロキシ基の水素を置換し、本発明で
使用される転化に使われる試薬にヒドロキシ基程には攻
撃されず、又反応的でもなく、プロスタグランジン型化
合物の製造で後で水素と置換できるような任意の基であ
る。幾つかの封鎖基、例えばテトラヒドロビラニル及び
置換テトラヒドロビラニルがこの技術に知られている。
イ一・ジエイ・コリ一(E.J.COrey)、プロシ
ーデングオブ ロバートエイ ウエルチ フアンデイシ
ヨン ガンファレンズ オン ケミカル リサーチ(P
rOceedingOftheRObertA.Wel
chFOundatiOnCOnferencesOn
ChemicalREsearch)、、有機合成(0
rganicSynthesis′).51〜79頁(
1969年)を参照。有用であることがわかつた封鎖基
には、次のものが含まれる。(1)テトラヒドロビラニ
ル、 (2)5テトラヒドロフラニル、及び (3)式−C(0R11)(R,ρ−CH(Rl,XR
l4)の基式中Rllは1〜18個の炭素原子のアルキ
ル、3〜10個の炭素原子のシクロアルキル、7〜12
個の炭素原子のアラルキル、フエニル、又は(1〜4個
の炭素原子のアルキルの1,2又は3個で置換された)
フエニルであり、Rl2とRl3は1〜4個の炭素原子
のアルキル、フエニル、又は(1〜4個の炭素原子のア
ルキルの1,2又は3個で置換された)フエニルである
か、又はRl2とRl3が一緒に取られると一(CH2
)a一又は−(CH2)b−0−(CH2)。
−であつて、式中aは3,4、又は5であり、bは1,
2、又は3であり、かつcは1,2、又は3であるが、
但しbプラスcが2,3、又は4であること更にRl2
とRl3は同じ又は別のものであることを条件とし、ま
たRl4は水素又はフエニルである。封鎖基RlOがテ
トラヒドロビラニルの時には本明細書のPG型中間体類
の任意のヒドロキシ部分のテトラヒドロピラニルエーテ
ル誘導体がp−トルエンスルホン酸又はピリジン塩酸塩
のような酸縮合剤の存在下、不活性溶触例えばジクロロ
メタン中で、ヒドロキシ含有化合物と2,3−ジヒドロ
ビランとの反応によつて得られる。
2、又は3であり、かつcは1,2、又は3であるが、
但しbプラスcが2,3、又は4であること更にRl2
とRl3は同じ又は別のものであることを条件とし、ま
たRl4は水素又はフエニルである。封鎖基RlOがテ
トラヒドロビラニルの時には本明細書のPG型中間体類
の任意のヒドロキシ部分のテトラヒドロピラニルエーテ
ル誘導体がp−トルエンスルホン酸又はピリジン塩酸塩
のような酸縮合剤の存在下、不活性溶触例えばジクロロ
メタン中で、ヒドロキシ含有化合物と2,3−ジヒドロ
ビランとの反応によつて得られる。
ジヒドロビランは化学量論量の大過剰で、好ましくは化
学量論量の4〜10倍で使用される。反応は通常約20
〜50℃で1時間以内に完了する。封鎖基がテトラヒド
ロフラニルの時には、前節に記載のように2,3−ジヒ
ドロフランが2,3−ジヒドロビランの代りに使われる
。
学量論量の4〜10倍で使用される。反応は通常約20
〜50℃で1時間以内に完了する。封鎖基がテトラヒド
ロフラニルの時には、前節に記載のように2,3−ジヒ
ドロフランが2,3−ジヒドロビランの代りに使われる
。
封鎖基が
(こ\でRll,Rl2,Rl3及びRl4は上記定義
のとおり)の場合、適当な試薬はビニルエーテル例えば
イソブチルビニルエーテル又は(こ\でRll,Rl2
,Rl3及びRl4は上記定義のとおり)の任意のビニ
ルエーテル、であるか又は不飽和環式又は複素環式化合
物例えば1−シクロヘキセン−1−イルメチルエーテル
又は5,6−ジヒトロー4−メトキシ−2H−ビランで
ある。
のとおり)の場合、適当な試薬はビニルエーテル例えば
イソブチルビニルエーテル又は(こ\でRll,Rl2
,Rl3及びRl4は上記定義のとおり)の任意のビニ
ルエーテル、であるか又は不飽和環式又は複素環式化合
物例えば1−シクロヘキセン−1−イルメチルエーテル
又は5,6−ジヒトロー4−メトキシ−2H−ビランで
ある。
シ一・ビ一・リース(C.B.Reese)等、ジヤー
ナル オブ ザ ケミカル ソサエテイ、89巻336
6頁(1967年)を参照。その様なビニルエーテル類
ヌは不飽和化合物類に対する反応条件は上記のジヒドロ
ビランのそれらと同様である。RlOによる封鎖基は、
温和な酸加水分解によつて除去される。例えば55℃よ
り低い温度で(1)メタノール中の塩酸、(2)酢酸、
水及びテトラヒドロフランの混合物、又は(3)テトラ
ヒドロフラン中のくえん酸水溶液又は燐酸水溶液との反
応によつて、封鎖基の加水分解が達成される。R26は
ヒドロカルビル、例えばアルキル、シクロアルキル、ア
ラルキル等である。
ナル オブ ザ ケミカル ソサエテイ、89巻336
6頁(1967年)を参照。その様なビニルエーテル類
ヌは不飽和化合物類に対する反応条件は上記のジヒドロ
ビランのそれらと同様である。RlOによる封鎖基は、
温和な酸加水分解によつて除去される。例えば55℃よ
り低い温度で(1)メタノール中の塩酸、(2)酢酸、
水及びテトラヒドロフランの混合物、又は(3)テトラ
ヒドロフラン中のくえん酸水溶液又は燐酸水溶液との反
応によつて、封鎖基の加水分解が達成される。R26は
ヒドロカルビル、例えばアルキル、シクロアルキル、ア
ラルキル等である。
R26がアルキルであるのが好ましく、低級アルキル、
例えばメチル又はエチルであるのが最も好ましい。R5
lはR3O−SO2であつて6ここでR3Oはアルキル
、シクロアルキル、アラルキル、フエニル、又はアルキ
ル又はハロゲンで置換されたフエニルである。
例えばメチル又はエチルであるのが最も好ましい。R5
lはR3O−SO2であつて6ここでR3Oはアルキル
、シクロアルキル、アラルキル、フエニル、又はアルキ
ル又はハロゲンで置換されたフエニルである。
R53は水素又はメチルである。
R55とR56は1〜4個の炭素原子のアルキルで同じ
又は別のものであるか、又は一緒に取られると〔式中R
57,R58,R59,R6O,R6,及びR62は水
素、1〜4個の炭素原子のアルキル又はフエニルであつ
て、同じ又は別のものである〕の群を表わすが、但しR
57}R58ζR59ツR6O9R6l及びR62の一
つを越えないものがフエニルであること、またR579
R589R59)R6O倉R6l及びR62中の全炭素
原子数が2〜10個であることを条件としており、nは
ゼロ又は1である。
又は別のものであるか、又は一緒に取られると〔式中R
57,R58,R59,R6O,R6,及びR62は水
素、1〜4個の炭素原子のアルキル又はフエニルであつ
て、同じ又は別のものである〕の群を表わすが、但しR
57}R58ζR59ツR6O9R6l及びR62の一
つを越えないものがフエニルであること、またR579
R589R59)R6O倉R6l及びR62中の全炭素
原子数が2〜10個であることを条件としており、nは
ゼロ又は1である。
R63は式 11のカルボキシアシルであつて、ここ
でR64は水素、1〜19個の炭素原子のアルキル、又
は7〜12個の炭素原子のアラルキルであつて、上のア
ルキル又はアラルキルはゼロないし3イ固のフルオロ、
クロロ、プロモ又はヨードで置換されている。
でR64は水素、1〜19個の炭素原子のアルキル、又
は7〜12個の炭素原子のアラルキルであつて、上のア
ルキル又はアラルキルはゼロないし3イ固のフルオロ、
クロロ、プロモ又はヨードで置換されている。
R66は水素又はR65による封鎖基である。本発明の
目的に有用なR65による封鎖基は、本明細書で列挙さ
れたRlOによる全封鎖基のほか、−Si(G1)3を
包含する。ここでG1は1〜4個の炭素原子のアルキル
、3〜10個の炭素原子のシクロアルキル、7〜12個
の炭素原子のアラルキル、フエニル、又は(フルオロ、
クロロ又は1〜4個の炭素原子の1又は2個で置換され
た)フエニルである。R6,によるこれらのシリル封鎖
基を使用するには、必要な試薬の調製に対するこの技術
に知られた方法、及びヒドロキシ水素をこれらのシリル
封鎖基と置換し、その後これらのシリル封鎖基を加水分
解するための適当な反応条件が使用される。R68は水
素、R63によるカルボキシアシル、又はR,によるア
シル保護基である。R6,は水素又は1〜4個の炭素原
子のアルキル、又は式−Si(G1)3のシリル(ここ
でG1は上に定義されたとおり)である。図Aの方法段
階は、既知の試薬及び出発材料を使用するこの技術に一
般に知られている。
目的に有用なR65による封鎖基は、本明細書で列挙さ
れたRlOによる全封鎖基のほか、−Si(G1)3を
包含する。ここでG1は1〜4個の炭素原子のアルキル
、3〜10個の炭素原子のシクロアルキル、7〜12個
の炭素原子のアラルキル、フエニル、又は(フルオロ、
クロロ又は1〜4個の炭素原子の1又は2個で置換され
た)フエニルである。R6,によるこれらのシリル封鎖
基を使用するには、必要な試薬の調製に対するこの技術
に知られた方法、及びヒドロキシ水素をこれらのシリル
封鎖基と置換し、その後これらのシリル封鎖基を加水分
解するための適当な反応条件が使用される。R68は水
素、R63によるカルボキシアシル、又はR,によるア
シル保護基である。R6,は水素又は1〜4個の炭素原
子のアルキル、又は式−Si(G1)3のシリル(ここ
でG1は上に定義されたとおり)である。図Aの方法段
階は、既知の試薬及び出発材料を使用するこの技術に一
般に知られている。
図Aに関して、式XXI化合物はこの技術で知られてい
る。
る。
この化合物は光学活性型又はラセミ型で入手できる。ラ
セミ型の式XXI化合物は、この技術で知られた方法に
よつて対応する光学活性化合物に転化される。式XX化
合物はワイテイヒアルキル化によつて式XXI化合物か
らつくられる。
セミ型の式XXI化合物は、この技術で知られた方法に
よつて対応する光学活性化合物に転化される。式XX化
合物はワイテイヒアルキル化によつて式XXI化合物か
らつくられる。
この技術で知られた、又はこの技術に知られた方法でつ
くられる試薬が使われる。トランスエノンラクトンは立
体特異的に得られる。デイ一・エイチ・ワズワース(D
.H.WadswOrth)等、J.Org.Cher
n.3O巻680頁(1965年)を参照。式XX=I
化合物の製造には、あるホスホネート類がウイテイヒ反
応に使われる。
くられる試薬が使われる。トランスエノンラクトンは立
体特異的に得られる。デイ一・エイチ・ワズワース(D
.H.WadswOrth)等、J.Org.Cher
n.3O巻680頁(1965年)を参照。式XX=I
化合物の製造には、あるホスホネート類がウイテイヒ反
応に使われる。
これらのホスホネートは一般式〔式中L1とR7は上に
定義されたとおりであり、Rl,は1〜8個の炭素原子
のアルキル〕のものである。
定義されたとおりであり、Rl,は1〜8個の炭素原子
のアルキル〕のものである。
上の一般式のホスホネート類はこの技術に知られた方法
によつてつくられる。上に引用されたワズワースらの文
献を参照。適当な脂肪酸エステルをn−ブチルリチウム
を使つてつくられたま〜のジメチルメチルホスホネート
の陰イオンと縮合させるのが好都合である。この目的に
は、一般式又はエチルエステルの形で使用する。例えば
、メチルエステルは、対応する酸とジアゾメタンとの反
応によつて容易につくられる。例えばR7が −0−《
へ〉 〔式中Tとsは上に定義されたとおり〕であり、L1部
分のR3とR4は共に水素]の場合には、対応するフエ
ノキシ又は置換フエノキシ酢酸はこの技術に知られてい
るか、又はこの技術で容易に入手できる。
によつてつくられる。上に引用されたワズワースらの文
献を参照。適当な脂肪酸エステルをn−ブチルリチウム
を使つてつくられたま〜のジメチルメチルホスホネート
の陰イオンと縮合させるのが好都合である。この目的に
は、一般式又はエチルエステルの形で使用する。例えば
、メチルエステルは、対応する酸とジアゾメタンとの反
応によつて容易につくられる。例えばR7が −0−《
へ〉 〔式中Tとsは上に定義されたとおり〕であり、L1部
分のR3とR4は共に水素]の場合には、対応するフエ
ノキシ又は置換フエノキシ酢酸はこの技術に知られてい
るか、又はこの技術で容易に入手できる。
この技術に知られたものは、R,部分が以下の場合のも
のを包含する。すなわちフエノキシ、(0−,m−,又
はp−)トリロキシ一、(0−,m−,又はp−)エチ
ルフエノキシ、4−エチル−0−トリロキシ一 (0−
,m−,又はp−)プロピルフエノキシ一、(0−,m
−,又はp−)−t−ブチルフエノキシ一 (0−,m
−,又はp−)フルオロフエノキシ一、4−フルオロ−
2,5−キシリロキシ一、(0−,m−,又はp−)ク
ロロフエノキシ一、(2,3−,2,4−,2,5−,
2,6−,3,4一又は3,5−)ジクロロフエノキシ
一、(0−,m−,又はp−)トリフルオロメチルフエ
ノキシ一、又は(0−,m−,又はp−)メトキシフエ
ノキシ一。更に多くの2−フエノキシ一又は置換フエノ
キシプロピオン酸は容易に入手でき、従つてL1部分の
R3とR4の一方のみがメチルで、R,がフエノキシ又
は置換フエノキシの場合の上式の酸類の製造に有用であ
る。
のを包含する。すなわちフエノキシ、(0−,m−,又
はp−)トリロキシ一、(0−,m−,又はp−)エチ
ルフエノキシ、4−エチル−0−トリロキシ一 (0−
,m−,又はp−)プロピルフエノキシ一、(0−,m
−,又はp−)−t−ブチルフエノキシ一 (0−,m
−,又はp−)フルオロフエノキシ一、4−フルオロ−
2,5−キシリロキシ一、(0−,m−,又はp−)ク
ロロフエノキシ一、(2,3−,2,4−,2,5−,
2,6−,3,4一又は3,5−)ジクロロフエノキシ
一、(0−,m−,又はp−)トリフルオロメチルフエ
ノキシ一、又は(0−,m−,又はp−)メトキシフエ
ノキシ一。更に多くの2−フエノキシ一又は置換フエノ
キシプロピオン酸は容易に入手でき、従つてL1部分の
R3とR4の一方のみがメチルで、R,がフエノキシ又
は置換フエノキシの場合の上式の酸類の製造に有用であ
る。
これらの2−フエノキシ又は2−置換フエノキシプロピ
オン酸は、R,部分がp−フルオロフエノキシ一、(0
−,m−,又はp→クロロフエノキシ一、(2,3−,
2,4−,2,5−,2,6−,3,4一又は3,5−
)ジクロロフエノキシ、(4一又は6−)−クロロ−0
−トリロキシ一、フエノキシ一、(0−,m−,又はp
−)トリロキシ、3,5−キシリロキシ一、又はm−ト
リフルオロメチルフエノキシ一の場合のものを包含する
。最後に、L1部分のR3とR4が共にメチルで、R7
がフエノキシ又は置換フエノキシの場合の上記の酸類の
製造に有用な、多くの2−メチル−2−フエノキシ一又
は(2一置換フエノキシ)プロピオン酸類が入手できる
。これらの2−メチル−2−フエノキシ一又は(2一置
換フエノキシ)プロピオン酸類は、R1がフエノキシ一
、(0−,m−,又はp−)クロロフエノキシ一、(2
,3−,2,4−,2,5−,2,6−,3,4−,又
は3,5−)ジクロロフエノキシ一の場合のものを包含
する。その他のフエノキシ置換酸類はこの技術で知られ
た方法により、例えばα−ハロ脂肪酸、又はこれとナト
リウムフエノキシド又は置換ナトリウムフエノキシドと
のエステルを使用するエーテル類のウイリアムスン合成
によつて、容易に入手できる。
オン酸は、R,部分がp−フルオロフエノキシ一、(0
−,m−,又はp→クロロフエノキシ一、(2,3−,
2,4−,2,5−,2,6−,3,4一又は3,5−
)ジクロロフエノキシ、(4一又は6−)−クロロ−0
−トリロキシ一、フエノキシ一、(0−,m−,又はp
−)トリロキシ、3,5−キシリロキシ一、又はm−ト
リフルオロメチルフエノキシ一の場合のものを包含する
。最後に、L1部分のR3とR4が共にメチルで、R7
がフエノキシ又は置換フエノキシの場合の上記の酸類の
製造に有用な、多くの2−メチル−2−フエノキシ一又
は(2一置換フエノキシ)プロピオン酸類が入手できる
。これらの2−メチル−2−フエノキシ一又は(2一置
換フエノキシ)プロピオン酸類は、R1がフエノキシ一
、(0−,m−,又はp−)クロロフエノキシ一、(2
,3−,2,4−,2,5−,2,6−,3,4−,又
は3,5−)ジクロロフエノキシ一の場合のものを包含
する。その他のフエノキシ置換酸類はこの技術で知られ
た方法により、例えばα−ハロ脂肪酸、又はこれとナト
リウムフエノキシド又は置換ナトリウムフエノキシドと
のエステルを使用するエーテル類のウイリアムスン合成
によつて、容易に入手できる。
このように、(1)8一置換ナトリウムフエノキシドを
例えばα−クロロ脂肪酸、又はそのアルキルエステル誘
導体が加熱して反応させられると、上の一般式の酸を生
じ、これは慣用の精製手順によつて反応混合物から回収
される。更にR7がベンジル又は置換ベンジルの場合の
上式のフエニル置換酸類が入手できる。
例えばα−クロロ脂肪酸、又はそのアルキルエステル誘
導体が加熱して反応させられると、上の一般式の酸を生
じ、これは慣用の精製手順によつて反応混合物から回収
される。更にR7がベンジル又は置換ベンジルの場合の
上式のフエニル置換酸類が入手できる。
例えば、L1部分のR3とR4が共に水素の時には、次
のフエニル又は置換フエニルプロピオン酸類が入手でき
る。
のフエニル又は置換フエニルプロピオン酸類が入手でき
る。
(0−,m−、又はp−)クロロフエニル、p−フルオ
ロフエニル一、m−トリフルオロメチルフエニル一 (
0−,m−、又はp−)メチルフエニル一 (0−,m
−、又はp−)メトキシフエニル一 (2,4−,2,
5一又は3,4→ジクロロフエニル一、(2,3−,2
,4−,2,5−,2,6一又は3,4−)ジメチルフ
エニル一又は(2,3−,2,4−,2,5−,2,6
−,3,4−、又は3,5−)ジメトキシフエニル一。
L1部分のR3とR4の一方のみがメチルの時には、例
えば次の2−メチル−3−フエニル又は置換フエニルプ
ロピオン酸類が入手できる。
ロフエニル一、m−トリフルオロメチルフエニル一 (
0−,m−、又はp−)メチルフエニル一 (0−,m
−、又はp−)メトキシフエニル一 (2,4−,2,
5一又は3,4→ジクロロフエニル一、(2,3−,2
,4−,2,5−,2,6一又は3,4−)ジメチルフ
エニル一又は(2,3−,2,4−,2,5−,2,6
−,3,4−、又は3,5−)ジメトキシフエニル一。
L1部分のR3とR4の一方のみがメチルの時には、例
えば次の2−メチル−3−フエニル又は置換フエニルプ
ロピオン酸類が入手できる。
すなわちフエニル、o−クロロフエニル一 (0−、又
はp一)メチルフエニル一、(0−,m−、又はp→メ
トキシフエニル一、(2,4一又は3,4−)ジフルオ
ロフエニル一、2,3−ジメチルフエニル一、及び(2
,3−,3,4一又は4,5−)ジメトキシーフエニル
一。R3とR4が共にメチルの時には、例えば次の2,
2−ジメチル−3−フエニル又は置換フエニルプロピオ
ン酸類が入手できる。
はp一)メチルフエニル一、(0−,m−、又はp→メ
トキシフエニル一、(2,4一又は3,4−)ジフルオ
ロフエニル一、2,3−ジメチルフエニル一、及び(2
,3−,3,4一又は4,5−)ジメトキシーフエニル
一。R3とR4が共にメチルの時には、例えば次の2,
2−ジメチル−3−フエニル又は置換フエニルプロピオ
ン酸類が入手できる。
すなわちフエニル一及びp−メチルフエニル。R3とR
4の一方のみがフルオロの時には、例えば2−フルオロ
−3−フエニルプロピオン酸が入手できる。
4の一方のみがフルオロの時には、例えば2−フルオロ
−3−フエニルプロピオン酸が入手できる。
フエニル置換酸類(R7がベンジルの場合の上のものの
様に)は、この技術で知られた方法によつて、例えば適
当なメチル一又はフルオロ置換酢酸、第二級アミン(例
えばジイソプロピルアミン)、n−ブチルリチウム及び
有機希釈剤(例えばテトラヒドロフラン)の混合物を適
当な置換ベンジルクロライドと反応させることによつて
入手できる。
様に)は、この技術で知られた方法によつて、例えば適
当なメチル一又はフルオロ置換酢酸、第二級アミン(例
えばジイソプロピルアミン)、n−ブチルリチウム及び
有機希釈剤(例えばテトラヒドロフラン)の混合物を適
当な置換ベンジルクロライドと反応させることによつて
入手できる。
このように上の酸は次の反応によつて得られる。上の反
応は普通にはO℃で順調に進む。生成物の酸は慣用方法
を使用して回収される。R7がn−アルキルの場合の上
式の酸類については、多くのこのような酸が容易に入手
できる。
応は普通にはO℃で順調に進む。生成物の酸は慣用方法
を使用して回収される。R7がn−アルキルの場合の上
式の酸類については、多くのこのような酸が容易に入手
できる。
例えばL1部分のR3とR4が共に水素の時には、酪酸
、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、及びオクタン
酸が入手できる。例えばL1部分のR3とR4の一方の
みがメチルの時には、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、
ヘプタン酸、及びオクタン酸から誘導される2−メチル
アルカン酸が入手できる。
、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、及びオクタン
酸が入手できる。例えばL1部分のR3とR4の一方の
みがメチルの時には、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、
ヘプタン酸、及びオクタン酸から誘導される2−メチル
アルカン酸が入手できる。
例えばL1部分のR3とR4が共にフルオロの時には、
酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸及びオクタ
ン酸から誘導される2,2−ジフルオロアルカン酸が入
手できる。
酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸及びオクタ
ン酸から誘導される2,2−ジフルオロアルカン酸が入
手できる。
R7がアルキルで、L1部分のR3とR4がフルオロの
場合の上の一般式の酸類は、酪酸、ペンタン酸、ヘキサ
ン酸、ヘプタン酸、及びオクタン酸に対応する対応2−
オキソーアルカン酸類から都合よくつくられる。
場合の上の一般式の酸類は、酪酸、ペンタン酸、ヘキサ
ン酸、ヘプタン酸、及びオクタン酸に対応する対応2−
オキソーアルカン酸類から都合よくつくられる。
これらの2−オキソーアルカン酸から対応する2,2−
ジフルオロアルカン酸への転化はこの技術で知られた方
法により、既知のケトン性弗素化試薬を使用して進行す
る。例えばMOF6・BF3を弗素化に使用するのが有
利である。式XX化合物は、3−オキソ部分からM5部
分への転化によつて式XX3−オキソニ環式ラクトンか
らつくられる。上の3−オキソニ環式ラクトンは、3−
オキソ部分の環元に続いて3α一及び3β−ヒドロキシ
/゛エピマー類の分離によつて、M5がHOH又はHO
Hの場合の対応する3α一又は3β−ヒドロキシニ環式
ラクトンへ転化される。
ジフルオロアルカン酸への転化はこの技術で知られた方
法により、既知のケトン性弗素化試薬を使用して進行す
る。例えばMOF6・BF3を弗素化に使用するのが有
利である。式XX化合物は、3−オキソ部分からM5部
分への転化によつて式XX3−オキソニ環式ラクトンか
らつくられる。上の3−オキソニ環式ラクトンは、3−
オキソ部分の環元に続いて3α一及び3β−ヒドロキシ
/゛エピマー類の分離によつて、M5がHOH又はHO
Hの場合の対応する3α一又は3β−ヒドロキシニ環式
ラクトンへ転化される。
この還元には、エステル又は酸基、(又は望ましくない
時には)炭素一炭素二重結合を還元しないような既知の
ケトン性カルボニル還元剤が使用される。これらの試薬
の例は、金属硼水素化物、特にナトリウム、カリウム、
及び亜鉛のボロハイドライド、リチウム(トリ一第三プ
トキシ)アルミニウムハイドライド、金属トリアルキル
硼水素化物、例えばナトリウムトリメトキシボロハイド
ライド、リチウムボロハイドライドであり、また炭素一
炭素二重結合の還元をさける必要がない場合にはボラン
類、例えばジシアミルボラン(ビス−3−メチル−2−
ブチルボラン)がその代りに使用される。C−15のエ
ピマーの点で純粋なプロスタグランジンの製造には、こ
の技術で知られた方法によつて15−エピ化合物が混合
物から分離される。
時には)炭素一炭素二重結合を還元しないような既知の
ケトン性カルボニル還元剤が使用される。これらの試薬
の例は、金属硼水素化物、特にナトリウム、カリウム、
及び亜鉛のボロハイドライド、リチウム(トリ一第三プ
トキシ)アルミニウムハイドライド、金属トリアルキル
硼水素化物、例えばナトリウムトリメトキシボロハイド
ライド、リチウムボロハイドライドであり、また炭素一
炭素二重結合の還元をさける必要がない場合にはボラン
類、例えばジシアミルボラン(ビス−3−メチル−2−
ブチルボラン)がその代りに使用される。C−15のエ
ピマーの点で純粋なプロスタグランジンの製造には、こ
の技術で知られた方法によつて15−エピ化合物が混合
物から分離される。
例えばシリカゲルクロマトグラフイを使用するのが有利
である。3−オキソニ環式ラクトンは、3−オキソニ環
式ラクトンとグリニヤ試薬のCH3Mgハロ(ハロはク
ロロ、プロモ、又はヨード)との反応によつ′ \
′ 〜て、M,がCH3OHとC
H,OH の混合物の場合の対応する(3RS)−3−メチルニ環
式ラクトンへ転化される。
である。3−オキソニ環式ラクトンは、3−オキソニ環
式ラクトンとグリニヤ試薬のCH3Mgハロ(ハロはク
ロロ、プロモ、又はヨード)との反応によつ′ \
′ 〜て、M,がCH3OHとC
H,OH の混合物の場合の対応する(3RS)−3−メチルニ環
式ラクトンへ転化される。
次に例えばこの技術で知られた様に塩化アンモニウム飽
和水溶液を使用して、グリニヤ錯体が加水分解される。
3−オキソ化合物を3(RS)−3−メチル化合物へ転
化する代わりの方法は、3−オキソニ環式ラクトンとト
リメチルアルミニウムとの反応による。
和水溶液を使用して、グリニヤ錯体が加水分解される。
3−オキソ化合物を3(RS)−3−メチル化合物へ転
化する代わりの方法は、3−オキソニ環式ラクトンとト
リメチルアルミニウムとの反応による。
これらの(3RS)−3−メチルエピマー類を分離する
好ましい方法は、シリカゲルクロマトグラフイ又は高圧
液体クロマトグラフイ(HPLC)を使用してPG型メ
チルエステルの対応C−15エピマー類を分離すること
による。式XX化合物は、上記のように脱アシル化によ
つて式XX化合物からつくられる。
好ましい方法は、シリカゲルクロマトグラフイ又は高圧
液体クロマトグラフイ(HPLC)を使用してPG型メ
チルエステルの対応C−15エピマー類を分離すること
による。式XX化合物は、上記のように脱アシル化によ
つて式XX化合物からつくられる。
式XX化合物は、上記手順によつて任意の遊離ヒドロキ
て式XX化合物からつくられる。次に式XXV]化合物
は式XXラクトンのラクトールへの還元によつて式XX
化合物からつくられる。この技術で知られた方法が使用
される。例えば−600〜80℃でジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドが使用される。式XX化合物は縮合
して式XXエノールエーテルを生ずる。
て式XX化合物からつくられる。次に式XXV]化合物
は式XXラクトンのラクトールへの還元によつて式XX
化合物からつくられる。この技術で知られた方法が使用
される。例えば−600〜80℃でジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドが使用される。式XX化合物は縮合
して式XXエノールエーテルを生ずる。
この目的にはヒドロカルビロキシが有用で好ましくはア
ルコキシメチレントリフエニルホスフホランが有用であ
る。参考のため、レピン(Levine)、J.Am.
Chem.SOc.8O巻6150頁(1958年)を
参照。試薬は、低温、例えば好ましくは−10℃より下
で対応する第四級ホスホニウムハライドと塩基、例えば
ブチルリチウム又はフエニルリチウムから都合よくつく
られる。式XXラクトールが上の試薬と混合され、縮合
は−30℃ないし+30℃の温度範囲内で順調に進む。
それより高温では試薬が不安定であるが、一方低温では
縮合速度が望ましくないほど遅い。上の目的に好ましい
アルコキシメチレントリフエニルホスホラン類の例は、
メトキシ一、エトキシ一、プロボキシ一、イソプロボキ
シーブトキシ一、イソブトキシ一、第二ーブトキシ一、
及び第三−ブトキシメチレントリフエニルホスホランで
ある。アルコキシメチレントリフエニルホスホランの代
わりに任意に使用され、従つてR26がヒドロカルビル
の場合の式XX中間体をつくるのに有用である種々のヒ
ドロカル(代)キシメチレントリフエニルホスホラン類
は、アルコキシ一、アラルコキシ一、シクロアルコキシ
一、及びアリーロキシメチレントリフエニルホスホラン
類を包含する。これらのヒドロカルピロキシトリフエニ
ルホスホラン類の例は、2−メチルブチロキシーイソベ
ンチロキシ一 ヘプチロキシ一、オクチロキシ一、ノニ
ロキシ一、トリデシロキシ一、オクタデシロキシ一、ベ
ンジロキシ一、フエネチロキシ一、p−メチルフエネチ
ロキシ一、1−メチル−3−フエニルプロピロキシ一、
シクロヘキシロキシ一、フエノキシ一及びp−メチルフ
エノキシ一、フエノキシメチレントリフエニルホスホラ
ンである。参考のため「有機反応」第14巻346〜3
48頁、ジヨン・ウイリ一・アンド・サンズ社,ニユー
ヨーク州、ニユーヨーク(1965句を参照。次に式X
Xエノール中間体類は式XXラクトール類へ加水分解さ
れる。この加水分解は酸性条件下に、例えば過塩素酸又
は酢酸によつて行なわれる。テトラヒドロフランがこの
反応混合物に適した希釈剤である。10ラ〜100℃の
反応温度を使用する。
ルコキシメチレントリフエニルホスフホランが有用であ
る。参考のため、レピン(Levine)、J.Am.
Chem.SOc.8O巻6150頁(1958年)を
参照。試薬は、低温、例えば好ましくは−10℃より下
で対応する第四級ホスホニウムハライドと塩基、例えば
ブチルリチウム又はフエニルリチウムから都合よくつく
られる。式XXラクトールが上の試薬と混合され、縮合
は−30℃ないし+30℃の温度範囲内で順調に進む。
それより高温では試薬が不安定であるが、一方低温では
縮合速度が望ましくないほど遅い。上の目的に好ましい
アルコキシメチレントリフエニルホスホラン類の例は、
メトキシ一、エトキシ一、プロボキシ一、イソプロボキ
シーブトキシ一、イソブトキシ一、第二ーブトキシ一、
及び第三−ブトキシメチレントリフエニルホスホランで
ある。アルコキシメチレントリフエニルホスホランの代
わりに任意に使用され、従つてR26がヒドロカルビル
の場合の式XX中間体をつくるのに有用である種々のヒ
ドロカル(代)キシメチレントリフエニルホスホラン類
は、アルコキシ一、アラルコキシ一、シクロアルコキシ
一、及びアリーロキシメチレントリフエニルホスホラン
類を包含する。これらのヒドロカルピロキシトリフエニ
ルホスホラン類の例は、2−メチルブチロキシーイソベ
ンチロキシ一 ヘプチロキシ一、オクチロキシ一、ノニ
ロキシ一、トリデシロキシ一、オクタデシロキシ一、ベ
ンジロキシ一、フエネチロキシ一、p−メチルフエネチ
ロキシ一、1−メチル−3−フエニルプロピロキシ一、
シクロヘキシロキシ一、フエノキシ一及びp−メチルフ
エノキシ一、フエノキシメチレントリフエニルホスホラ
ンである。参考のため「有機反応」第14巻346〜3
48頁、ジヨン・ウイリ一・アンド・サンズ社,ニユー
ヨーク州、ニユーヨーク(1965句を参照。次に式X
Xエノール中間体類は式XXラクトール類へ加水分解さ
れる。この加水分解は酸性条件下に、例えば過塩素酸又
は酢酸によつて行なわれる。テトラヒドロフランがこの
反応混合物に適した希釈剤である。10ラ〜100℃の
反応温度を使用する。
加水分解に要する時間の長さは、部分的には加水分解温
度によつて決まり、約60℃で酢酸一水一テトラヒドロ
フランを使用すれば、加水分解を達成するのに数時間で
十分である。次に式XX化合物は、式XXラクトールか
らラクトンへの酸化によつて式XX化合物からつくられ
る。
度によつて決まり、約60℃で酢酸一水一テトラヒドロ
フランを使用すれば、加水分解を達成するのに数時間で
十分である。次に式XX化合物は、式XXラクトールか
らラクトンへの酸化によつて式XX化合物からつくられ
る。
この転化は酸化試薬として酸化銀を使用して行なわれ、
続いてピリジン塩酸塩によつて処理される。次にこれら
の転化に対して本明細書に記載の手順に従つて、任意の
遊離ヒドロキシ部分をRlOによる封鎖基へ転化するこ
とによつて、式XXXが得られる。次に式XXXI化合
物又は式XX化合物(nは2)は、式XXXラクトンの
ラクトールへの還元によつて式XXX化合物からつくら
れる。
続いてピリジン塩酸塩によつて処理される。次にこれら
の転化に対して本明細書に記載の手順に従つて、任意の
遊離ヒドロキシ部分をRlOによる封鎖基へ転化するこ
とによつて、式XXXが得られる。次に式XXXI化合
物又は式XX化合物(nは2)は、式XXXラクトンの
ラクトールへの還元によつて式XXX化合物からつくら
れる。
例えば上にラクトンからラクトールへの還元に対して上
記したとおりに水素化ジイソブチルアルミニウムを使用
する。その代わりに式XXラクトールは、nが1の時に
は式XX化合物によつて表わされる。式XXI化合物は
、適当な(ω一カルボキシアルキル)トリフエニルホス
ホニウムプロマイドを使用するウイテイヒアルキル化に
よつて式XXXII化合物からつくられる。
記したとおりに水素化ジイソブチルアルミニウムを使用
する。その代わりに式XXラクトールは、nが1の時に
は式XX化合物によつて表わされる。式XXI化合物は
、適当な(ω一カルボキシアルキル)トリフエニルホス
ホニウムプロマイドを使用するウイテイヒアルキル化に
よつて式XXXII化合物からつくられる。
反応はこの技術で一般に知られた通りに、まず適当な(
ω一カルボキシアルキル)トリフエニルホスホニウムプ
ロマイドをナトリウムジメチルフイニルカルバニドと環
境温度で混合し、式XXXlIラクトールをこの混合物
へ加えることにより進行する。次にこうして生成される
化合物のカルボキシ水素は、下記の方法と手順によつて
R1部分へ転化される。従つて式XXXIIのシス一4
,5−ジデヒドロ−11−デオキシ−PGFla−、又
は11−デオキシ−PGF2aーシス一4,5−ジデヒ
ドロ−PGFla一又はPGF2α型化合物がつくられ
る。式XXX化合物は、式XXX化合物の接触水素添加
によつて式XXX化合物からつくられる。
ω一カルボキシアルキル)トリフエニルホスホニウムプ
ロマイドをナトリウムジメチルフイニルカルバニドと環
境温度で混合し、式XXXlIラクトールをこの混合物
へ加えることにより進行する。次にこうして生成される
化合物のカルボキシ水素は、下記の方法と手順によつて
R1部分へ転化される。従つて式XXXIIのシス一4
,5−ジデヒドロ−11−デオキシ−PGFla−、又
は11−デオキシ−PGF2aーシス一4,5−ジデヒ
ドロ−PGFla一又はPGF2α型化合物がつくられ
る。式XXX化合物は、式XXX化合物の接触水素添加
によつて式XXX化合物からつくられる。
PG2型化合物のPGl型化合物への転化に対してこの
技術で知られた方法が使用される。従つて水素雰囲気下
に約0℃で適当な支持物(例えば炭素)上の金属触媒(
例えばパラジウム)が使用される。参考のためビ一・サ
ムエルソン(B.SarnuelssOn)J.BlO
l.Chem.239巻491頁(1974年)を参照
。式XXXIIラクトールは、例えばまず第一にメタノ
ール性又はエタノール性ナトリウムポロハイドライド水
溶液による式XXラクトールの式XXX化合物への還元
によつて、対応する式XXX5−オキソ一PGFla型
中間体へ転化される。
技術で知られた方法が使用される。従つて水素雰囲気下
に約0℃で適当な支持物(例えば炭素)上の金属触媒(
例えばパラジウム)が使用される。参考のためビ一・サ
ムエルソン(B.SarnuelssOn)J.BlO
l.Chem.239巻491頁(1974年)を参照
。式XXXIIラクトールは、例えばまず第一にメタノ
ール性又はエタノール性ナトリウムポロハイドライド水
溶液による式XXラクトールの式XXX化合物への還元
によつて、対応する式XXX5−オキソ一PGFla型
中間体へ転化される。
その代わりに、また好ましくは、式XXXV化合物は、
例えば、0〜35℃の温度範囲で水素化アルミニウムチ
ウム又は水素化ジイソブチルアルミニウムによる式XX
ラクトンの一段階還元によつて得られる。式XXX化合
物をつくるには、ウイリアムソン合成が使用される。例
えば式XXX化合物が(式中ハロはクロロ、ブロモ、又
はヨードであり、gは上に定義されたとおり)の範囲内
のハロアルカノエートと縮合させられる。
例えば、0〜35℃の温度範囲で水素化アルミニウムチ
ウム又は水素化ジイソブチルアルミニウムによる式XX
ラクトンの一段階還元によつて得られる。式XXX化合
物をつくるには、ウイリアムソン合成が使用される。例
えば式XXX化合物が(式中ハロはクロロ、ブロモ、又
はヨードであり、gは上に定義されたとおり)の範囲内
のハロアルカノエートと縮合させられる。
通常この反応はn−ブチルリチウム、フエニルリチウム
、トリメチルリチウム、水素化ナトリウム又はカリウム
t−ブトキシドのような塩基の存在下に行なわれる。そ
の代わりに好ましくは、オルト−4−ブロモ−アルカノ
エートが使用される。このような試薬は入手できるか、
又はこの技術で知られた方法によつて、例えば適当なハ
ロニトリルから以下に示されるように対応するイミノエ
ステル塩酸塩をへてつくられる。縮合はテトラヒドロフ
ラン又はジメチルスルホキシドのような溶媒中で、又は
有機リチウム化合物が使用される場合には、好ましくは
ジメチルホルムアミド又はヘキサメチルホスホルアミド
中で都合よく使用される。
、トリメチルリチウム、水素化ナトリウム又はカリウム
t−ブトキシドのような塩基の存在下に行なわれる。そ
の代わりに好ましくは、オルト−4−ブロモ−アルカノ
エートが使用される。このような試薬は入手できるか、
又はこの技術で知られた方法によつて、例えば適当なハ
ロニトリルから以下に示されるように対応するイミノエ
ステル塩酸塩をへてつくられる。縮合はテトラヒドロフ
ラン又はジメチルスルホキシドのような溶媒中で、又は
有機リチウム化合物が使用される場合には、好ましくは
ジメチルホルムアミド又はヘキサメチルホスホルアミド
中で都合よく使用される。
反応は−20〜50℃で順調に進むが、好ましくは環境
温度で実施される。縮合に続いて、式XXX化合物は、
この技術で知られた方法例えば冷い希鉱酸中の加水分解
によつて得られる。次に式XXX化合物は、9−ヒドロ
キシの9−オキソへの酸化によつて式XXX,XXX、
又はXXX化合物からつくられる。
温度で実施される。縮合に続いて、式XXX化合物は、
この技術で知られた方法例えば冷い希鉱酸中の加水分解
によつて得られる。次に式XXX化合物は、9−ヒドロ
キシの9−オキソへの酸化によつて式XXX,XXX、
又はXXX化合物からつくられる。
PGF型化合物の対応するPGE型化合物への転化に対
してこの技術に知られた酸化方法が用いられる。例えば
ジヨーンズ試薬又はコリンズ試薬が使用されるのが有利
である。次に式XXXは環カルボニル還元によつて式X
XX化合物からつくられる。
してこの技術に知られた酸化方法が用いられる。例えば
ジヨーンズ試薬又はコリンズ試薬が使用されるのが有利
である。次に式XXXは環カルボニル還元によつて式X
XX化合物からつくられる。
これらの環カルボニル還元は、既知プロスタン酸誘導体
類の環カルボニル還元に対してこの技術で知られた方法
によつて実施される。例えばベルグストロームら、Ar
kiv.Kirni.l9巻563頁(1963年)、
Acta.Chem.Scand.l6巻969頁(1
962年)、及び英国特許明細書第1,097,533
号を参照。炭素一炭素二重結合又はエステル基と反応し
ないような任意の還元剤例えば水素化(トリ第三ブトキ
シ)アルミニウムチウム、金属硼水素化物、特に水素化
硼素ナトリウム、カリウム、及び亜鉛、金属トリアルコ
キシ硼水素化物、例えば水素化硼素トリメトキシナトリ
ウムが使用される。次にPGFβ型中間体は、既知の異
性体プロスタン酸誘導体類の類似の対の分離に対してこ
の技術で知られた方法により、こうしてつくられるアル
フア及びベータヒドロキシ還元生成物の混合物から分離
される。例えば上に引用されたベルグストローム等、グ
ランストロ―ム(GranstrOm)等、J.BlO
l.Chem.24O巻457頁(1965年)及びグ
リーン(Greene)等、J.LipidRese一
Arch5巻117頁(1964年)を参照。この目的
にはシリカゲルクロマトグラフイ又は高圧液体クロマト
グラフイが使用される。次に式XXX化合物は、式XX
X化合物、式XXX化合物、式XXX化合物、式XXX
化合物、又は式XXX化合物からつくられる。
類の環カルボニル還元に対してこの技術で知られた方法
によつて実施される。例えばベルグストロームら、Ar
kiv.Kirni.l9巻563頁(1963年)、
Acta.Chem.Scand.l6巻969頁(1
962年)、及び英国特許明細書第1,097,533
号を参照。炭素一炭素二重結合又はエステル基と反応し
ないような任意の還元剤例えば水素化(トリ第三ブトキ
シ)アルミニウムチウム、金属硼水素化物、特に水素化
硼素ナトリウム、カリウム、及び亜鉛、金属トリアルコ
キシ硼水素化物、例えば水素化硼素トリメトキシナトリ
ウムが使用される。次にPGFβ型中間体は、既知の異
性体プロスタン酸誘導体類の類似の対の分離に対してこ
の技術で知られた方法により、こうしてつくられるアル
フア及びベータヒドロキシ還元生成物の混合物から分離
される。例えば上に引用されたベルグストローム等、グ
ランストロ―ム(GranstrOm)等、J.BlO
l.Chem.24O巻457頁(1965年)及びグ
リーン(Greene)等、J.LipidRese一
Arch5巻117頁(1964年)を参照。この目的
にはシリカゲルクロマトグラフイ又は高圧液体クロマト
グラフイが使用される。次に式XXX化合物は、式XX
X化合物、式XXX化合物、式XXX化合物、式XXX
化合物、又は式XXX化合物からつくられる。
この製造はまず混合C−15エビマ一類を分離してから
、RlOによつて任意の封鎖基を加水分解することによ
つて進む。上記のとおり酸性条件が使用される。次にM
l,が11で、R8がヒドロキシの場合の式XXX化合
物を酸性条件下に脱水させると、式XL化合物を生ずる
。PGE型化合物のPGA型化合物への転化に対してこ
の技術で知られた方法が使用される。例えば環境温度で
酢酸が使用されるのが有利である。C−15第三級アル
コール(R3がメチル)をつくろうとする時に上の方法
を使用するには、11−デオキシ−PG類をつくる際に
封鎖基を使う必要がない。
、RlOによつて任意の封鎖基を加水分解することによ
つて進む。上記のとおり酸性条件が使用される。次にM
l,が11で、R8がヒドロキシの場合の式XXX化合
物を酸性条件下に脱水させると、式XL化合物を生ずる
。PGE型化合物のPGA型化合物への転化に対してこ
の技術で知られた方法が使用される。例えば環境温度で
酢酸が使用されるのが有利である。C−15第三級アル
コール(R3がメチル)をつくろうとする時に上の方法
を使用するには、11−デオキシ−PG類をつくる際に
封鎖基を使う必要がない。
上図の段階で封鎖基の導入と加水分解はそれによつて、
11−デzキシPG型化合物をつくる時の好ましい方法
によつて省略される。図Aのある(3RS)−3−メチ
ルラクトン類は、シリカゲルクロマトグラフイ分離技術
によつて各々の(3S)又は(3R)エビマ一に分離さ
れる。このような分離が可能な場合にはこの径路が好ま
しい。従つてこれらの場合には分離がなさ(RlOは封
鎖基)である。従つて任意のラクトン分離が行われる時
にはPG型中間体の分離手順が省略される。式XXXシ
ス一4,5−ジデヒドロ−PGFla−又はシス一4,
5−ジデヒドロ−11−デオキシ−PGFlα型化合物
が図Aの手順によつてつくられる時には、式XXXII
ラクトールの代わりに式XXラクトールで段階XXXの
XXX}\のウイテイヒアノレキノレイレく行なわ法そ
れによつて図Aの酸化、エーテル化及び還元段階(XX
IX−XXXI)を省く。
11−デzキシPG型化合物をつくる時の好ましい方法
によつて省略される。図Aのある(3RS)−3−メチ
ルラクトン類は、シリカゲルクロマトグラフイ分離技術
によつて各々の(3S)又は(3R)エビマ一に分離さ
れる。このような分離が可能な場合にはこの径路が好ま
しい。従つてこれらの場合には分離がなさ(RlOは封
鎖基)である。従つて任意のラクトン分離が行われる時
にはPG型中間体の分離手順が省略される。式XXXシ
ス一4,5−ジデヒドロ−PGFla−又はシス一4,
5−ジデヒドロ−11−デオキシ−PGFlα型化合物
が図Aの手順によつてつくられる時には、式XXXII
ラクトールの代わりに式XXラクトールで段階XXXの
XXX}\のウイテイヒアノレキノレイレく行なわ法そ
れによつて図Aの酸化、エーテル化及び還元段階(XX
IX−XXXI)を省く。
図B,C,及びDは、3−オキサ−3,7−インターm
−フエニレン一4,5,6−トリノル一又は3,7−イ
ンターm−フエニレン一4,5,6−トリノル一PG型
中間体類をつくる方法を提供している。図BとCについ
ては、R7が一(CH2遍r℃t又は〔M,T及びSは
上に定義されたとおり〕であるのが好ましい。図Dでは
、R7が好ましくは(T(!1,Sは上に定義されたと
おり)である場合の本明細書のこれらの新規化合物類を
つくる方法が提供されている。従つて図B−Dは、すべ
てのインターm−フエニレン一PG型中間体類がつくら
れるのに有用な中間体をつくる方法を提供している。
゛図Bでビシクロヘキセ
ンLXIのエンド及びエキソ型が入手可能であるか又は
そのラセミ型又はエナンチオマ一的に純粋な型で、この
技術で知られた方法によつてつくられる。
−フエニレン一4,5,6−トリノル一又は3,7−イ
ンターm−フエニレン一4,5,6−トリノル一PG型
中間体類をつくる方法を提供している。図BとCについ
ては、R7が一(CH2遍r℃t又は〔M,T及びSは
上に定義されたとおり〕であるのが好ましい。図Dでは
、R7が好ましくは(T(!1,Sは上に定義されたと
おり)である場合の本明細書のこれらの新規化合物類を
つくる方法が提供されている。従つて図B−Dは、すべ
てのインターm−フエニレン一PG型中間体類がつくら
れるのに有用な中間体をつくる方法を提供している。
゛図Bでビシクロヘキセ
ンLXIのエンド及びエキソ型が入手可能であるか又は
そのラセミ型又はエナンチオマ一的に純粋な型で、この
技術で知られた方法によつてつくられる。
合衆国特許第3,711,515号を参照。エンド又は
エキソのいずれかの出発材料は、図Bの方法によつて式
LXXの最終中間体を生ずる。オキセタンLXは式XI
ビシクロヘキセンと式〔式中R63は式 のカルボ
キシアシルであつて、ここでR64は水素、1〜19個
の炭素原子のアルキル、又は7〜12個の炭素原子のア
ラルキルであるが、ここでアルキル又はアラルキルはゼ
ロから3個のハロ原子で置換されている。
エキソのいずれかの出発材料は、図Bの方法によつて式
LXXの最終中間体を生ずる。オキセタンLXは式XI
ビシクロヘキセンと式〔式中R63は式 のカルボ
キシアシルであつて、ここでR64は水素、1〜19個
の炭素原子のアルキル、又は7〜12個の炭素原子のア
ラルキルであるが、ここでアルキル又はアラルキルはゼ
ロから3個のハロ原子で置換されている。
〕のアルデヒドとの反応によつて得られる。上のベンズ
アルデヒド類は入手できるものか、又はこの技術で知ら
れた方法によつて容易につくられる。
アルデヒド類は入手できるものか、又はこの技術で知ら
れた方法によつて容易につくられる。
この範囲内のかかる化合物の例は、又は 5ジ〉2
0−C−CF3でぁる。オキセタンLXの生成は、溶媒
中におけるビシクロヘキセンとアルデヒドとの混合物の
光分解によつて達成される。ビシクロヘキセンはモル当
量より過剰量で、例えば化学量論的当量の2〜4倍の量
で使用されるのが好ましい。溶媒は光化学的に不活性の
有機液体、例えばベンゼンやヘキサン、1,4−ジオキ
サン、ジエチルエーテルを含めた液体炭化水素である。
反応は環境条件例えば25℃で都合よく行なわれるが、
約−78℃ないし溶媒の沸点までの広い温度範囲で行な
える。照射は、低圧又は中圧型の水銀蒸気ランプ、例え
ば3500λにピークをもつもので行なわれる。このよ
うな光源は、コネチカツト州ミドルタウンのサザーン・
ニユーイングランド・ウルトラバイオレツト社(SOu
thernNewEnglandUltraviOle
tCO)から入手できる。その代わりに、フイルタ一を
かけて波長3000〜3700λの光丈を通過させうる
広域スペクトルの波長を放射するランプも使用し得る。
光分解の検討には、デイ一・アール・アーノルド(D.
R.ArnOld)、「光化学の進歩」(Advanc
esinPhOtOchemistry)第6巻、ダブ
リユ一・エイ・ノイズ(W.A.NOyes)等、ウイ
リーインターサイエンス(ニユーヨーク)1968年、
301〜423頁を参照。式LX化合物から式LX化合
物を得るためのオキセタン環の開裂は、単一級アミン又
はアルコールの存在下にアルカリ金属で達成される。
0−C−CF3でぁる。オキセタンLXの生成は、溶媒
中におけるビシクロヘキセンとアルデヒドとの混合物の
光分解によつて達成される。ビシクロヘキセンはモル当
量より過剰量で、例えば化学量論的当量の2〜4倍の量
で使用されるのが好ましい。溶媒は光化学的に不活性の
有機液体、例えばベンゼンやヘキサン、1,4−ジオキ
サン、ジエチルエーテルを含めた液体炭化水素である。
反応は環境条件例えば25℃で都合よく行なわれるが、
約−78℃ないし溶媒の沸点までの広い温度範囲で行な
える。照射は、低圧又は中圧型の水銀蒸気ランプ、例え
ば3500λにピークをもつもので行なわれる。このよ
うな光源は、コネチカツト州ミドルタウンのサザーン・
ニユーイングランド・ウルトラバイオレツト社(SOu
thernNewEnglandUltraviOle
tCO)から入手できる。その代わりに、フイルタ一を
かけて波長3000〜3700λの光丈を通過させうる
広域スペクトルの波長を放射するランプも使用し得る。
光分解の検討には、デイ一・アール・アーノルド(D.
R.ArnOld)、「光化学の進歩」(Advanc
esinPhOtOchemistry)第6巻、ダブ
リユ一・エイ・ノイズ(W.A.NOyes)等、ウイ
リーインターサイエンス(ニユーヨーク)1968年、
301〜423頁を参照。式LX化合物から式LX化合
物を得るためのオキセタン環の開裂は、単一級アミン又
はアルコールの存在下にアルカリ金属で達成される。
エチルアミン中のリチウム、又はエチルアルコール中の
ナトリウムが好ましい。エル・シュー・アルトマン(L
.J.Altman)等、シンセシス(Syn−The
sis)129(1974年)を参照。開裂転化は酢酸
エチル又はエタノール中で不活性金属触媒例えば炭素上
のPdによる接,触水素添加によつても達成できる。化
合物LXは、好ましくは上に定義されたR63によるカ
ルボキシアシル基すなわちR64C−で二つのヒドロキ
シル基を封鎖することによつて、式LXジオールからつ
くられる。
ナトリウムが好ましい。エル・シュー・アルトマン(L
.J.Altman)等、シンセシス(Syn−The
sis)129(1974年)を参照。開裂転化は酢酸
エチル又はエタノール中で不活性金属触媒例えば炭素上
のPdによる接,触水素添加によつても達成できる。化
合物LXは、好ましくは上に定義されたR63によるカ
ルボキシアシル基すなわちR64C−で二つのヒドロキ
シル基を封鎖することによつて、式LXジオールからつ
くられる。
例えば無水酢酸のような酸無水物、又は第三級アミン中
のアシルハライドでジオールが処理される。特に好まし
いのはピリジン中の塩化ピバロイルである。この転化に
有用なその他のカルボキシアシル化剤はこの技術で知ら
れているか、又はこの技術に知られた方法によつて容易
に得られ、またカルボキシアシルハライド類、好ましく
はクロライド、ブロマイド又はフルオライド、すなわち
R64C(0)Cl,R64C(0)Br,又はR64
C(0)F、それにカルボキシ酸無水物(R64C−)
20(ここでR64は上に定義されたとおり)を包含す
る。
のアシルハライドでジオールが処理される。特に好まし
いのはピリジン中の塩化ピバロイルである。この転化に
有用なその他のカルボキシアシル化剤はこの技術で知ら
れているか、又はこの技術に知られた方法によつて容易
に得られ、またカルボキシアシルハライド類、好ましく
はクロライド、ブロマイド又はフルオライド、すなわち
R64C(0)Cl,R64C(0)Br,又はR64
C(0)F、それにカルボキシ酸無水物(R64C−)
20(ここでR64は上に定義されたとおり)を包含す
る。
好ましい試薬は酸無水物である。この目的に有用な酸無
水物の例は、無水酢酸、無水プロピオン等、無水酪酸、
無水ペンタン酸、無水ノナン酸、無水トリデカン酸、無
水ステアリン酸、無水(モノ、ジ又はトリ)クロロ酢酸
、無水3−クロロ吉草酸、無水3−(2−ブロモエチル
)−4,8−ジメチルノナン酸、無水シクロプロパン酢
酸、無水3−シクロヘブタンプロピオン酸、無水13−
シクロペンタントリデカン酸、無水フエニル酢酸、無水
(2又は3)−フエニルプロピオン酸、無水13−フエ
ニルトリデカン酸、及び無水フエノキシ酢酸、無水安息
香酸、無水(0,m、又はp−)プロモ安息酸、無水2
,4−(又は3,4)・−ジクロロ安息香酸、無水p−
トリフルオロメチル安息香酸、無水2−クロロ−3−ニ
トロ安息香酸、無水(0,m、又はp)−ニトロ安息香
酸、無水(0,m、又はp)一トルイル酸、無水4−メ
チル−3−ニトロ安息香酸、無水4−オクチル安息香酸
、無水(2,3又は5)−ビフエニルカルボン酸、無水
3−クロロ−4−ビフエニルカルボン酸、無水5−イソ
プロピル−6−ニトロ−3−ビフエニルカルボン酸、及
び無水(1又は2)−ナフトエ酸である。無水物の選択
はアシル化される最終生成物中におけるR64が何であ
るかによつている。例えばR64をメチルとするときは
、無水酢酸が使用される。R64を2−クロロ−ブチル
とする時は無水3−クロロ吉草酸が使用される。R64
が水素の時、 11はホルミルである。
水物の例は、無水酢酸、無水プロピオン等、無水酪酸、
無水ペンタン酸、無水ノナン酸、無水トリデカン酸、無
水ステアリン酸、無水(モノ、ジ又はトリ)クロロ酢酸
、無水3−クロロ吉草酸、無水3−(2−ブロモエチル
)−4,8−ジメチルノナン酸、無水シクロプロパン酢
酸、無水3−シクロヘブタンプロピオン酸、無水13−
シクロペンタントリデカン酸、無水フエニル酢酸、無水
(2又は3)−フエニルプロピオン酸、無水13−フエ
ニルトリデカン酸、及び無水フエノキシ酢酸、無水安息
香酸、無水(0,m、又はp−)プロモ安息酸、無水2
,4−(又は3,4)・−ジクロロ安息香酸、無水p−
トリフルオロメチル安息香酸、無水2−クロロ−3−ニ
トロ安息香酸、無水(0,m、又はp)−ニトロ安息香
酸、無水(0,m、又はp)一トルイル酸、無水4−メ
チル−3−ニトロ安息香酸、無水4−オクチル安息香酸
、無水(2,3又は5)−ビフエニルカルボン酸、無水
3−クロロ−4−ビフエニルカルボン酸、無水5−イソ
プロピル−6−ニトロ−3−ビフエニルカルボン酸、及
び無水(1又は2)−ナフトエ酸である。無水物の選択
はアシル化される最終生成物中におけるR64が何であ
るかによつている。例えばR64をメチルとするときは
、無水酢酸が使用される。R64を2−クロロ−ブチル
とする時は無水3−クロロ吉草酸が使用される。R64
が水素の時、 11はホルミルである。
p ρ−ホルミル化は、この技術で知られた手順に
より、例えば酢酸と蟻酸との混合無水物と、又はホルミ
ルイミダゾールとのヒドロキシ化合物の反応によつて行
われる。
より、例えば酢酸と蟻酸との混合無水物と、又はホルミ
ルイミダゾールとのヒドロキシ化合物の反応によつて行
われる。
例えばフイーザ一等「有機合成試薬(Reagents
fOrOrganicSynthesis)lジヨン●
ウイリ一・アンド・サンズ社、4及び407頁(196
7年)及びそこに引用されている文献を参照。その代わ
りに、式LXジオールは2当量の水素化ナトリウムと、
次に過剰の蟻酸エチルと反応させられる。式LXでR6
8はベンゾイル、置換ベンゾイル、モノエステル化プタ
ロール、ナフトール及び置換ナフトールを含めた封鎖基
をも表わし得る。
fOrOrganicSynthesis)lジヨン●
ウイリ一・アンド・サンズ社、4及び407頁(196
7年)及びそこに引用されている文献を参照。その代わ
りに、式LXジオールは2当量の水素化ナトリウムと、
次に過剰の蟻酸エチルと反応させられる。式LXでR6
8はベンゾイル、置換ベンゾイル、モノエステル化プタ
ロール、ナフトール及び置換ナフトールを含めた封鎖基
をも表わし得る。
これらの封鎖基を導入するには、この技術で知られた方
法が使用される。このように、式R63OH(式中R6
3は上に定義されたとおり)の芳香族酸、例えば安息香
酸が、脱水剤例えば塩化亜鉛の存在下に式LX化合物と
反応させられるか、又は式(R63)20の芳香族酸無
水物、例えば無水安息香酸が使用される。しかし好まし
くは、ピリジン、トリエチルアミン等のような第三級ア
ミンの存在下に、アシルハライド例えばR63Cl例え
ば塩化ベンゾイルが式LX化合物と反応させられる。
法が使用される。このように、式R63OH(式中R6
3は上に定義されたとおり)の芳香族酸、例えば安息香
酸が、脱水剤例えば塩化亜鉛の存在下に式LX化合物と
反応させられるか、又は式(R63)20の芳香族酸無
水物、例えば無水安息香酸が使用される。しかし好まし
くは、ピリジン、トリエチルアミン等のような第三級ア
ミンの存在下に、アシルハライド例えばR63Cl例え
ば塩化ベンゾイルが式LX化合物と反応させられる。
反応は、この技術で一般に知られた手順を使用して種々
の条件下に実施される。概して温和な条件例えば20〜
60℃が使用され、液体媒体、例えば過剰のピリジン、
又はベンゼントルエン又はクロロホルムのような不活性
溶媒中で反応体を接触させる。化学量論量又は過剰量の
アシル化剤が使用される。本発明の目的のためR63を
提供する試薬の例としては、アシル保護基の使用に関す
る上の論議を参照。式LXアセタールは、希鉱酸水常液
、酢酸又は蟻酸等を使用するこの技術で知られた酸加水
分解によつて、アルデヒドLXへ転化される。
の条件下に実施される。概して温和な条件例えば20〜
60℃が使用され、液体媒体、例えば過剰のピリジン、
又はベンゼントルエン又はクロロホルムのような不活性
溶媒中で反応体を接触させる。化学量論量又は過剰量の
アシル化剤が使用される。本発明の目的のためR63を
提供する試薬の例としては、アシル保護基の使用に関す
る上の論議を参照。式LXアセタールは、希鉱酸水常液
、酢酸又は蟻酸等を使用するこの技術で知られた酸加水
分解によつて、アルデヒドLXへ転化される。
アセトン、ジオキサン、及びテトラヒドロフランのよう
な溶媒が使用される。LXからLXへの転化に対してR
66が水素であるか下に定義される封鎖基であるかは任
意である。
な溶媒が使用される。LXからLXへの転化に対してR
66が水素であるか下に定義される封鎖基であるかは任
意である。
ウイテイヒ試薬の能率的な利用のためには、R66が封
鎖基であるのが好ましい。R68が水素の場合の式LX
化合物が使用されるならば、式LXV中間体はR66に
水素をもつであろう。R66が封鎖基であるならば、下
に述べる適当な試薬との反応によつて、LXのLXへの
転化の前にこれは容易に提供されよう。プロツキング基
R65はヒドロキシル基程にはそれぞれの転化に用いら
れる試薬に攻撃されず、また試薬と反応的でもなく、か
つその後プロスタグランジン様の生成物の製造における
後の段階で水素によつて置換しうるようなヒドロキシ基
の水素を置きかえる任意の基である。
鎖基であるのが好ましい。R68が水素の場合の式LX
化合物が使用されるならば、式LXV中間体はR66に
水素をもつであろう。R66が封鎖基であるならば、下
に述べる適当な試薬との反応によつて、LXのLXへの
転化の前にこれは容易に提供されよう。プロツキング基
R65はヒドロキシル基程にはそれぞれの転化に用いら
れる試薬に攻撃されず、また試薬と反応的でもなく、か
つその後プロスタグランジン様の生成物の製造における
後の段階で水素によつて置換しうるようなヒドロキシ基
の水素を置きかえる任意の基である。
例えばテトラヒドロピラニルとアセチール、p−フエニ
ルベンゾイルのような幾つかの封鎖基がこの技術で知ら
れている。
ルベンゾイルのような幾つかの封鎖基がこの技術で知ら
れている。
(コリ一(COrey)J.Am.Chem.SOc.
93巻1491頁(1971年)。有用であることがわ
かつたものは、(a)上のR63の範囲内のカルボキシ
アシル、すなわちアセチル、及びベンゾイル、ナフトー
ル等、(b)RlOによる封鎖基、及び(c)−Si(
G1)3(G1は上の定義のとおり)を包含する。カル
ボキシアシル封鎖基でヒドロキシル基の水素原子を置換
するには、この技術で知られた方法が使用される。
93巻1491頁(1971年)。有用であることがわ
かつたものは、(a)上のR63の範囲内のカルボキシ
アシル、すなわちアセチル、及びベンゾイル、ナフトー
ル等、(b)RlOによる封鎖基、及び(c)−Si(
G1)3(G1は上の定義のとおり)を包含する。カル
ボキシアシル封鎖基でヒドロキシル基の水素原子を置換
するには、この技術で知られた方法が使用される。
試薬と条件は化合物LXについてR68に対して議論さ
れている。封鎖基がRlOによる時は、適当な試薬と条
件は上に定義されたとおりである。
れている。封鎖基がRlOによる時は、適当な試薬と条
件は上に定義されたとおりである。
封鎖基が式−Si(G1)3のシリルの時には、式LX
化合物は、この技術で知られた手順によつて式LXのシ
リル誘導体へ転化される。
化合物は、この技術で知られた手順によつて式LXのシ
リル誘導体へ転化される。
例えばピアース(Pierce)、「有機化合物のシリ
ル化(SllylatlOnOfOrganicCOm
pOunds)Iピアース・ケミカル社(イリノイ州ロ
ツクフオード)(1968年)を参照。これらの転化に
必要なシリル化剤はこの技術で知られているが、又はこ
の技術で知られた方法によつてつくられる。例えばポス
ト(POst)[シリコーン類及びその他有機硅素化合
物類(SillcOnesandOtherOrgan
icCOm−POunds】、レーンホールド出版社、
ニユーヨーク、ニユーヨーク(1949年)を参照。こ
れらの試薬は、ピリジンのような第三級塩基の存在下に
、約00ないし+50℃の範囲の温度で使用される。こ
の目的に適したトリ置換モノクロロシラン類の例は、ク
ロロトリメチルシラン、クロロトリイソブチルシラン、
クロロトリフエニルシラン、クロロトリス(p−クロロ
フエニル)シラン、クロロ−トリ−mトリルシラン及び
トリベンジルクロロシランを包含する。その代わりにク
ロロシランが対応ジシラザンと一緒に使用される。式X
XV中間体を生成するのに適した他のシリル化剤の例は
、ペンタメチルシリルアミン、ペンタエチルシリルアミ
ン、N−トリメチルシリルジエチルアミン、1,1,1
−トリエチル−N,N−ジメチルシリルアミン、N,N
−ジイソプロピル−1,1,1−トリメチルシリルアミ
ン、1,1,1−トリブチル−N,N−ジメチルシリル
アミン、N,N−ジブチル−1,1,1−トリメチルシ
リルアミン、1−イソブチル−N,N,l,l−テトラ
メチルシリルアミン、N−ベンジル一N−エチル−1,
1,1−トリメチルシリルアミン、N,N,l,l−テ
トラメチル−1−フエニルシリルアミン、N,N−ジエ
チル−1,1−ジメチル−1−フエニルシリルアミン、
N,N−ジエチル−1−メチル−1,1−ジフエニルシ
リルアミン、N,N−ジブチル−1,1,1−トリフエ
ニルシリルアミン及び1−メチル−N,N,l,l−テ
トラフエニルシリルアミンを包含する。式LX化合物を
式LX化合物へ転化するには、アルデヒド基は式 の部分へウイテヒ反応によつて転化される。
ル化(SllylatlOnOfOrganicCOm
pOunds)Iピアース・ケミカル社(イリノイ州ロ
ツクフオード)(1968年)を参照。これらの転化に
必要なシリル化剤はこの技術で知られているが、又はこ
の技術で知られた方法によつてつくられる。例えばポス
ト(POst)[シリコーン類及びその他有機硅素化合
物類(SillcOnesandOtherOrgan
icCOm−POunds】、レーンホールド出版社、
ニユーヨーク、ニユーヨーク(1949年)を参照。こ
れらの試薬は、ピリジンのような第三級塩基の存在下に
、約00ないし+50℃の範囲の温度で使用される。こ
の目的に適したトリ置換モノクロロシラン類の例は、ク
ロロトリメチルシラン、クロロトリイソブチルシラン、
クロロトリフエニルシラン、クロロトリス(p−クロロ
フエニル)シラン、クロロ−トリ−mトリルシラン及び
トリベンジルクロロシランを包含する。その代わりにク
ロロシランが対応ジシラザンと一緒に使用される。式X
XV中間体を生成するのに適した他のシリル化剤の例は
、ペンタメチルシリルアミン、ペンタエチルシリルアミ
ン、N−トリメチルシリルジエチルアミン、1,1,1
−トリエチル−N,N−ジメチルシリルアミン、N,N
−ジイソプロピル−1,1,1−トリメチルシリルアミ
ン、1,1,1−トリブチル−N,N−ジメチルシリル
アミン、N,N−ジブチル−1,1,1−トリメチルシ
リルアミン、1−イソブチル−N,N,l,l−テトラ
メチルシリルアミン、N−ベンジル一N−エチル−1,
1,1−トリメチルシリルアミン、N,N,l,l−テ
トラメチル−1−フエニルシリルアミン、N,N−ジエ
チル−1,1−ジメチル−1−フエニルシリルアミン、
N,N−ジエチル−1−メチル−1,1−ジフエニルシ
リルアミン、N,N−ジブチル−1,1,1−トリフエ
ニルシリルアミン及び1−メチル−N,N,l,l−テ
トラフエニルシリルアミンを包含する。式LX化合物を
式LX化合物へ転化するには、アルデヒド基は式 の部分へウイテヒ反応によつて転化される。
この目的には式〔式中Ll,L7、及びR53は上に定
義されたとおり〕の有機塩化物又は臭化物からつくられ
るホスホニウム塩が使用される。
義されたとおり〕の有機塩化物又は臭化物からつくられ
るホスホニウム塩が使用される。
これらの有機塩化物や臭化物はこの技術で知られている
か、又はこの技術で知られた方法によつて容易につくら
れる。例えば上に提供されたドイツ公開特許公報第2,
209,990号を参照。ウイテイヒ反応については、
例えば合衆国特許第3,776,941号とそこに引用
されている参考文献を参照。式LXの化合物は必要なら
、脱封鎖によつて得られる。
か、又はこの技術で知られた方法によつて容易につくら
れる。例えば上に提供されたドイツ公開特許公報第2,
209,990号を参照。ウイテイヒ反応については、
例えば合衆国特許第3,776,941号とそこに引用
されている参考文献を参照。式LXの化合物は必要なら
、脱封鎖によつて得られる。
R66が障害を受けたカルボキシアシルの時には、フエ
ノール性ヒドロキシ上のR66はエタノール一水中の水
酸化又は炭酸ナトリウム又はカリウムでの加水分解によ
つて水素と選択的に置換される。その他の水と混ざる溶
媒、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、
又は1,2−ジメトキシエタンを代用してよい。この選
択的加水分解を−15ンないし25℃で実施するのが好
ましい。これにより高温を使用してよいが、選択性があ
る程度減少する。式LXの化合物上のR66封鎖基の全
加水分解は、R66がカルボキシアシルの時には25℃
ないし50℃の温度でアルコール溶媒中のアルカリアル
コキシド、好ましくはメタノール中のナトリウムメトキ
シドで行なわれる。
ノール性ヒドロキシ上のR66はエタノール一水中の水
酸化又は炭酸ナトリウム又はカリウムでの加水分解によ
つて水素と選択的に置換される。その他の水と混ざる溶
媒、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、
又は1,2−ジメトキシエタンを代用してよい。この選
択的加水分解を−15ンないし25℃で実施するのが好
ましい。これにより高温を使用してよいが、選択性があ
る程度減少する。式LXの化合物上のR66封鎖基の全
加水分解は、R66がカルボキシアシルの時には25℃
ないし50℃の温度でアルコール溶媒中のアルカリアル
コキシド、好ましくはメタノール中のナトリウムメトキ
シドで行なわれる。
R66がトリアルキルシリルの時には、25〜50℃で
酸又は塩基水溶液が使用される。図Bについて続けると
、式LX化合物を得るのにウイリアムソン合成が用いら
れる。
酸又は塩基水溶液が使用される。図Bについて続けると
、式LX化合物を得るのにウイリアムソン合成が用いら
れる。
式LXフエノールはハロ一(CH2)g−{′00R1
(ここでハロはクロロ、ブロモ、又はヨードであり、g
とR1は上に定義されたとおり)の範囲内のハロアルカ
ノエートと縮合させられる。しかし好ましくは、−オキ
サ−PG型化合物をつくる図Aの方法、すなわちXXX
VからXXXへの転化によつて反応が進む。式LXから
式LXへの転化は、この技術で知られた幾つかの径路の
任意のものによつて達成される。
(ここでハロはクロロ、ブロモ、又はヨードであり、g
とR1は上に定義されたとおり)の範囲内のハロアルカ
ノエートと縮合させられる。しかし好ましくは、−オキ
サ−PG型化合物をつくる図Aの方法、すなわちXXX
VからXXXへの転化によつて反応が進む。式LXから
式LXへの転化は、この技術で知られた幾つかの径路の
任意のものによつて達成される。
合衆国特許第3,711,515号を参照。このように
、アルケンLXはグリコールLXへヒドロキシル化され
る。この目的には、例えばN−メチルモルホリンオキシ
ド過酸化水素錯体と組合わされた四酸化オスミウムが適
当な試薬である(フイーザ一等、「有機合成試薬]69
0頁、ジヨン・ウイリ一・アンド・サンズ社(ニユーヨ
ーク)(1967年)を参照)。この後、式LXX生成
物を得るには幾つかの方法が利用できる。一つの方法で
はグリコールかビス(アルカンスルフオン酸)エステル
に転化されその後この技術で知られた方法によつて式L
XX化合物へ加水分解される(例えばドイツ公開特許公
報第11,936,676号、タウエンド・フアームド
ツク6862Rを参照)。
、アルケンLXはグリコールLXへヒドロキシル化され
る。この目的には、例えばN−メチルモルホリンオキシ
ド過酸化水素錯体と組合わされた四酸化オスミウムが適
当な試薬である(フイーザ一等、「有機合成試薬]69
0頁、ジヨン・ウイリ一・アンド・サンズ社(ニユーヨ
ーク)(1967年)を参照)。この後、式LXX生成
物を得るには幾つかの方法が利用できる。一つの方法で
はグリコールかビス(アルカンスルフオン酸)エステル
に転化されその後この技術で知られた方法によつて式L
XX化合物へ加水分解される(例えばドイツ公開特許公
報第11,936,676号、タウエンド・フアームド
ツク6862Rを参照)。
もう一つの方法はグリコールのフオルモリシスによるジ
フオルメートを経るものである(合衆国特許第3,71
1,515号を参照)。更にもう一つの方法は環式オル
トエステルによるものである。
フオルメートを経るものである(合衆国特許第3,71
1,515号を参照)。更にもう一つの方法は環式オル
トエステルによるものである。
この目的には、のオルトエステルでグリコールLXXI
が反応させられる。
が反応させられる。
式中R,4は水素、1〜19個の炭素原子のアルキル、
又はゼロないし3個のハロ原子で置換された7〜12個
の炭素原子のアラルキルであり、またR75はメチル又
はエチルである。次に式の環式オルトエステルがつくら
れる。
又はゼロないし3個のハロ原子で置換された7〜12個
の炭素原子のアラルキルであり、またR75はメチル又
はエチルである。次に式の環式オルトエステルがつくら
れる。
式中G,Rl9R539R669R749L7ツL1及
びR7は上に定義されたとおりである。−50℃ないし
+100℃の温度範囲で反応は順調に行くが、但し便宜
上0℃ないし+50℃が一般に好まれる。酸触媒と一緒
に1.5〜10モル当量のオルトエステルが使用される
。触媒量はグリコール重量のうち普通には少部分を例え
ば約170程度であり、典型的な触媒はピリジン塩酸塩
、蟻酸、塩化水素、p−トルエンスルホン酸、トリクロ
ロ酢酸、又はトリフルオロ酢酸である。溶媒、例えばベ
ンゼンやジクロロメタン、酢酸エチル、ジエチルエーテ
ル中で反応を行なうのが好ましい。反応は一般に2〜3
分で終り、続いてTLC(塩基性シリカゲル板上の薄層
クロマトグラフイ)追跡されるのが好都合である。オル
トエステル試薬はこの技術で知られているか、又はこの
技術で知られた方法によつて容易に入手できる。
びR7は上に定義されたとおりである。−50℃ないし
+100℃の温度範囲で反応は順調に行くが、但し便宜
上0℃ないし+50℃が一般に好まれる。酸触媒と一緒
に1.5〜10モル当量のオルトエステルが使用される
。触媒量はグリコール重量のうち普通には少部分を例え
ば約170程度であり、典型的な触媒はピリジン塩酸塩
、蟻酸、塩化水素、p−トルエンスルホン酸、トリクロ
ロ酢酸、又はトリフルオロ酢酸である。溶媒、例えばベ
ンゼンやジクロロメタン、酢酸エチル、ジエチルエーテ
ル中で反応を行なうのが好ましい。反応は一般に2〜3
分で終り、続いてTLC(塩基性シリカゲル板上の薄層
クロマトグラフイ)追跡されるのが好都合である。オル
トエステル試薬はこの技術で知られているか、又はこの
技術で知られた方法によつて容易に入手できる。
例えば適当なニトリルで出発するエス・エム・マツゲル
ベーン(S.M.McElvain)等、J.Am.C
hem.SOc.64巻1925頁(1942年)を参
照。有用なオルトエステルの例は以下を包含する。トリ
メチルオルトフオルメート、トリエチルオルトアセテー
ト、トリエチルオルトプロピオネート、トリメチルオル
トブチレート、トリメチルオルトバレレート、トリメチ
ルオルトオクタノエート、トリメチルオルトフエニルア
セテート、及びトリメチルオルト(2,4−ジクロロフ
エニル)アセテート。
ベーン(S.M.McElvain)等、J.Am.C
hem.SOc.64巻1925頁(1942年)を参
照。有用なオルトエステルの例は以下を包含する。トリ
メチルオルトフオルメート、トリエチルオルトアセテー
ト、トリエチルオルトプロピオネート、トリメチルオル
トブチレート、トリメチルオルトバレレート、トリメチ
ルオルトオクタノエート、トリメチルオルトフエニルア
セテート、及びトリメチルオルト(2,4−ジクロロフ
エニル)アセテート。
R74が1〜7個の炭素原子のアルキルの場合のオルト
エステル類が好ましく、R74が1〜4個の炭素原子の
アルキルの場合のものが特に好ましG′SO次に上記環
式オルトエステルを無水蟻酸と反応させると、〔式中G
,R,,R,,R,。
エステル類が好ましく、R74が1〜4個の炭素原子の
アルキルの場合のものが特に好ましG′SO次に上記環
式オルトエステルを無水蟻酸と反応させると、〔式中G
,R,,R,,R,。
,R66及びL1は上に定義されたとおり〕のジオール
ジエステルを生ずる。無水蟻酸とは、0.5%を越えな
い量の水を含有している蟻酸のことである。
ジエステルを生ずる。無水蟻酸とは、0.5%を越えな
い量の水を含有している蟻酸のことである。
それ自体が反応溶媒としての役目をもちうる蟻酸の過剰
で反応が行なわれる。普通には蟻酸の20容量%までの
溶媒、例えばジクロロメタンやベンゼン、ジエチルエー
テルが存在してよい。蟻酸に対する乾燥剤として有用な
有機酸無水物、例えば無水酢酸又はアルキルオルトエス
テル類、例えばトリメチルオルトフオルメートも存在し
てよい。広範囲の温度で反応は進むが、これを約20〜
30℃で行なわれるのが都合よく、普通には約10分で
終了する。最後に、上のジオールジエステルは、この技
術で知られた方法、例えばアルコール性媒体中で塩基の
存在下における加水分解によつて、生成物LXXへ転化
される。
で反応が行なわれる。普通には蟻酸の20容量%までの
溶媒、例えばジクロロメタンやベンゼン、ジエチルエー
テルが存在してよい。蟻酸に対する乾燥剤として有用な
有機酸無水物、例えば無水酢酸又はアルキルオルトエス
テル類、例えばトリメチルオルトフオルメートも存在し
てよい。広範囲の温度で反応は進むが、これを約20〜
30℃で行なわれるのが都合よく、普通には約10分で
終了する。最後に、上のジオールジエステルは、この技
術で知られた方法、例えばアルコール性媒体中で塩基の
存在下における加水分解によつて、生成物LXXへ転化
される。
塩基の例は炭酸ナトリウム又はカリウム、又はメトキシ
ド類やエトキシド類を含めたナトリウム又はカリウムア
ルコキシド類である。過剰量の加溶媒分解試薬例えばメ
タノール又はエタノール中で反応を行なうのが好都合で
ある。温度範囲は−50℃ないし100℃である。反応
終了の時間はR74及び塩基の性質によつて変わり、ア
ルカリ炭酸塩の場合には、R74が水素の時には2〜3
分で進行するが、R74が例えばエチルの時には数時間
かかる。加溶媒分解の進行が余りに長い時や条件がきび
しすぎるときには、R,のエステル基が屡々除かれる。
ド類やエトキシド類を含めたナトリウム又はカリウムア
ルコキシド類である。過剰量の加溶媒分解試薬例えばメ
タノール又はエタノール中で反応を行なうのが好都合で
ある。温度範囲は−50℃ないし100℃である。反応
終了の時間はR74及び塩基の性質によつて変わり、ア
ルカリ炭酸塩の場合には、R74が水素の時には2〜3
分で進行するが、R74が例えばエチルの時には数時間
かかる。加溶媒分解の進行が余りに長い時や条件がきび
しすぎるときには、R,のエステル基が屡々除かれる。
しかし、この技術で知られた方法でこれらは容易に置換
される。上の論議を参照。式LXX化合物は、任意の混
合C−エ5エピマー類の分離によつて式LXX化合物か
らつくられる。
される。上の論議を参照。式LXX化合物は、任意の混
合C−エ5エピマー類の分離によつて式LXX化合物か
らつくられる。
このような分離は、この目的の達成のために前の図で議
論された方法(例えば薄層クロマトグラフイ又は高圧液
体クロマトグラフイ)によつて進む。図Cは参照すると
、式LXXビシクロヘキセンをまず十分に発達した側鎖
、例えば〔式中Z3はオキサ又はメチレン〕をもつたオ
キセタン(式LXX)へ、最後に式LXXX化合物へ転
化される方法段階が示される。
論された方法(例えば薄層クロマトグラフイ又は高圧液
体クロマトグラフイ)によつて進む。図Cは参照すると
、式LXXビシクロヘキセンをまず十分に発達した側鎖
、例えば〔式中Z3はオキサ又はメチレン〕をもつたオ
キセタン(式LXX)へ、最後に式LXXX化合物へ転
化される方法段階が示される。
図CでR69は水素又は1〜4個の炭素原子のアルキル
であり、R7Oは水素、1〜4個の炭素原子のアルキル
又は式( G1)3S1−(G1は上に定義されたとお
り)のシリルである。図CでLXXをLXXへ転化する
には、式のアルデヒドが使われる。
であり、R7Oは水素、1〜4個の炭素原子のアルキル
又は式( G1)3S1−(G1は上に定義されたとお
り)のシリルである。図CでLXXをLXXへ転化する
には、式のアルデヒドが使われる。
式中Z3とR69は上に定義されたとおりである。この
ようなアルデヒド類、例えばは入手できるか、又はこの
技術で知られた方法によつて容易につくられる。
ようなアルデヒド類、例えばは入手できるか、又はこの
技術で知られた方法によつて容易につくられる。
この転化に対する条件は図Bの対応段階(すなわちLX
IからLXII)に対するものと本質的に同じである。
IからLXII)に対するものと本質的に同じである。
次に式LXXXI化合物の製造は、図Bの対応段障すな
わちLからLX)と類似の方法で進むが、LXXからL
XXへを触媒によつて達成されるのが好ましい。次にL
XXXIをLXXXへ転化する段階は、上記のように図
Bの対応段階と同一又は類似の試薬及び条件を使用して
、同様なやり方で進む。
わちLからLX)と類似の方法で進むが、LXXからL
XXへを触媒によつて達成されるのが好ましい。次にL
XXXIをLXXXへ転化する段階は、上記のように図
Bの対応段階と同一又は類似の試薬及び条件を使用して
、同様なやり方で進む。
上記のように、図Dは図B又は図Cに従つてつくられる
式XCIPG型中間体を対応するXCl6−フエノキシ
一PG型中間体へ転化する方法を提供している。式XC
化合物は、好都合にはオゾノリシスによる13,14−
トランスニ重結合の開裂によつて式XCI化合物からつ
くられる。
式XCIPG型中間体を対応するXCl6−フエノキシ
一PG型中間体へ転化する方法を提供している。式XC
化合物は、好都合にはオゾノリシスによる13,14−
トランスニ重結合の開裂によつて式XCI化合物からつ
くられる。
オゾノリシスは約3%のオゾンを含有する乾燥酸素を適
当な非反応性希釈剤中の式XCI化合物の混合物に通じ
て泡立たせることによつて進行する。例えばn−ヘキサ
ンを使用するのが有利である。この技術で知られた方法
を使用してオゾンが発生させられる。例えば、フイザ一
(Fisser)ら、「有機合成試薬」、ジヨン・ウイ
リ一・アンド・サンズ社(1967年)、773〜7J
モV頁を参照。例えば薄層クロマトグラフイによつて反
応終了を示されるまで、又は反応混合物が酢酸中の臭素
の希溶液を危速には変色させなくなる時まで反応条件が
維持される。次に式XC化合物は、R65封鎖基で封鎖
してから式〔式中Rl5,L,,T及びSは上に定義さ
れたとおりである〕のホスホネートを使用することによ
り、式XC化合物からつくられる。
当な非反応性希釈剤中の式XCI化合物の混合物に通じ
て泡立たせることによつて進行する。例えばn−ヘキサ
ンを使用するのが有利である。この技術で知られた方法
を使用してオゾンが発生させられる。例えば、フイザ一
(Fisser)ら、「有機合成試薬」、ジヨン・ウイ
リ一・アンド・サンズ社(1967年)、773〜7J
モV頁を参照。例えば薄層クロマトグラフイによつて反
応終了を示されるまで、又は反応混合物が酢酸中の臭素
の希溶液を危速には変色させなくなる時まで反応条件が
維持される。次に式XC化合物は、R65封鎖基で封鎖
してから式〔式中Rl5,L,,T及びSは上に定義さ
れたとおりである〕のホスホネートを使用することによ
り、式XC化合物からつくられる。
この一般式のホスホネートは、この技術で知られた方法
によつてつくられる。製造についての論議とウイテイヒ
反応が進行するのに適した反応条件に対しては、図Aに
続く本文を参照。式XC化合物は、15−オキソ部分の
M1部分への転化によつて式XC化合物からつくられる
。上記の方法、特に図Aで論議されたものが使用される
。図Dの方法は、適当な燐酸塩を使用して式XC化合物
へ種々のその他のR7部分を導入するのに任意に使用さ
れる。
によつてつくられる。製造についての論議とウイテイヒ
反応が進行するのに適した反応条件に対しては、図Aに
続く本文を参照。式XC化合物は、15−オキソ部分の
M1部分への転化によつて式XC化合物からつくられる
。上記の方法、特に図Aで論議されたものが使用される
。図Dの方法は、適当な燐酸塩を使用して式XC化合物
へ種々のその他のR7部分を導入するのに任意に使用さ
れる。
図Eは、上でつくられる式CI(7)PGFα型生成物
が対応すl式CIX(7)PGD型化合物、式9ーデオ
キシ−9,10−ジデヒドロ−PGD型化合物、又は式
CXVの9−デオキシ−PGD型化合物へ転化される方
法を提供している。
が対応すl式CIX(7)PGD型化合物、式9ーデオ
キシ−9,10−ジデヒドロ−PGD型化合物、又は式
CXVの9−デオキシ−PGD型化合物へ転化される方
法を提供している。
式C化合物は、R5が水素の時にのみ、シクロアルキル
ボロニゼーシヨンによつて式Cl化合物からつくられる
。
ボロニゼーシヨンによつて式Cl化合物からつくられる
。
従つて、二環式の式C化合物は、式CI化合物と化学量
論量よりやや過剰のアルキルボロニツクアシツドとの反
応によつてつくられる。反応過程をシリカゲル薄層クロ
マトグラフイで照合するのが好都合であり、反応を還流
温度で激しいかきまぜ下に実施するのが好ましい。この
転化に好ましい反応希釈剤は塩化メチレンであるが、そ
の他の適当な有機溶媒が代わりに使用されうる。こうし
てつくられる式C化合物は、M,部分の遊離ヒドロキシ
水素をRlOによる封鎖基でおき代えることによつてエ
ーテル化される。有利には上記手順が使用される。次に
R,がメチルの時には式CIで表わされる式C化合物は
、デシクロボロニゼーシヨン(DecyclObOrO
nizat一10n)によつて式C化合物からつくられ
る。この目的には、均質な反応混合物を生ずることので
きる水と混ざる希釈剤(例えばメタノール又はエタノー
ル)中でアルカリ金属水酸化物(例えば水酸化ナトリウ
ム、リチウム、又はカリウム)が式C化合物と一緒にさ
れる。その後で生ずる溶液が過酸化水素希水溶液で処理
される。次に式CIX化合物は、二つの方法の一つによ
つて式C化合物からつくられる。第一の方法によると、
式C化合物は、例えばジヨーンズ試薬を使用して、C−
9位置よりもC−11で選択的に酸化される。
論量よりやや過剰のアルキルボロニツクアシツドとの反
応によつてつくられる。反応過程をシリカゲル薄層クロ
マトグラフイで照合するのが好都合であり、反応を還流
温度で激しいかきまぜ下に実施するのが好ましい。この
転化に好ましい反応希釈剤は塩化メチレンであるが、そ
の他の適当な有機溶媒が代わりに使用されうる。こうし
てつくられる式C化合物は、M,部分の遊離ヒドロキシ
水素をRlOによる封鎖基でおき代えることによつてエ
ーテル化される。有利には上記手順が使用される。次に
R,がメチルの時には式CIで表わされる式C化合物は
、デシクロボロニゼーシヨン(DecyclObOrO
nizat一10n)によつて式C化合物からつくられ
る。この目的には、均質な反応混合物を生ずることので
きる水と混ざる希釈剤(例えばメタノール又はエタノー
ル)中でアルカリ金属水酸化物(例えば水酸化ナトリウ
ム、リチウム、又はカリウム)が式C化合物と一緒にさ
れる。その後で生ずる溶液が過酸化水素希水溶液で処理
される。次に式CIX化合物は、二つの方法の一つによ
つて式C化合物からつくられる。第一の方法によると、
式C化合物は、例えばジヨーンズ試薬を使用して、C−
9位置よりもC−11で選択的に酸化される。
高い選択性を達成するには、反応か−20と−60℃の
間で行なわれるのが好ましい。−55と−40℃の間の
反応温度が特に好ましい。従つて、生成物混合物が分離
されると、純粋な式CXlPGD型化合物が得られる。
第二の方法によると、式CIX化合物は、先づ式C化合
物のC−9ヒドロキシよりもC−11ヒドロキシを選択
的にシリル化することによつて式C化合物からつくられ
る。式−Si(G,)3によるシリル基が使用されるの
が有利である。選択的モノシリル化手順には、合衆国特
許第3,822,303号(1974年7月2日登録)
、ドイツ公阻特許分?第2259195号(ダウエント
・フアームドツクCPI36457U−B)又はオラン
ダ特許第7214142号(ダウエントフアームドツク
CPI2622lU−B)を参照。
間で行なわれるのが好ましい。−55と−40℃の間の
反応温度が特に好ましい。従つて、生成物混合物が分離
されると、純粋な式CXlPGD型化合物が得られる。
第二の方法によると、式CIX化合物は、先づ式C化合
物のC−9ヒドロキシよりもC−11ヒドロキシを選択
的にシリル化することによつて式C化合物からつくられ
る。式−Si(G,)3によるシリル基が使用されるの
が有利である。選択的モノシリル化手順には、合衆国特
許第3,822,303号(1974年7月2日登録)
、ドイツ公阻特許分?第2259195号(ダウエント
・フアームドツクCPI36457U−B)又はオラン
ダ特許第7214142号(ダウエントフアームドツク
CPI2622lU−B)を参照。
次にこうしてつくられるシリル化化合物(式C)は、9
−ヒドロキシ水素の代わりにRlOによる封鎖基を使用
して、対応するC−9エーテル(式CVI)に転化され
る。次にC−11シリル部分は、上記方法によつて加水
分解され、生ずる11−ヒドロキシ化合物(式C)を上
記手順によつて酸化されると、対応する11−オキソ化
合物(式C)を生ずる。次に式CIX化合物はこの11
−オキソ化合物(式C又はCXI)から、RlOによる
任意の封鎖基をヒドロキシ水素と置換することによつて
つくられる。上記方法が使用される。そのほか、図Eは
式CIX又はCXIPGD型化合物が種々に式CX又は
CX9−デオキシ−9,10−ジデヒドロ−PGD型化
合物にそれぞれ、式CX9−デオキシ−PGD型化合物
へ転化される方法を提供している。
−ヒドロキシ水素の代わりにRlOによる封鎖基を使用
して、対応するC−9エーテル(式CVI)に転化され
る。次にC−11シリル部分は、上記方法によつて加水
分解され、生ずる11−ヒドロキシ化合物(式C)を上
記手順によつて酸化されると、対応する11−オキソ化
合物(式C)を生ずる。次に式CIX化合物はこの11
−オキソ化合物(式C又はCXI)から、RlOによる
任意の封鎖基をヒドロキシ水素と置換することによつて
つくられる。上記方法が使用される。そのほか、図Eは
式CIX又はCXIPGD型化合物が種々に式CX又は
CX9−デオキシ−9,10−ジデヒドロ−PGD型化
合物にそれぞれ、式CX9−デオキシ−PGD型化合物
へ転化される方法を提供している。
式℃X又はCXlI化合物は、式CIOはCXI化合物
の温和な融触媒による脱水によつて、それぞれ式CIX
はCXI化合物からつくられる。
の温和な融触媒による脱水によつて、それぞれ式CIX
はCXI化合物からつくられる。
酢酸、トリフルオロ酢酸、くえん酸、修酸又はp−トル
エンスルホン酸のような有機酸がこの目的に有用である
。テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール又は水
のような希釈剤が使用されるのが有用である。しかし好
ましくは、均質な反応混合物を生ずるような希釈剤が使
用される。脱水は環境温度及び40℃の間の温度で急速
に進む。その代わりに、酸で洗つたシリカゲルのカラム
上に式CIX又はCXI化合物を放置し、それによつて
普通には1〜5日以内に式CX又はCX生成物へ脱水す
る。次に式CXは式CX化合物の還元によつてCX化合
物からつくられる。この還元はエンドサイクリツクニ重
結合を選択的に還元し、側鎖の不飽和には影響せずに1
1−オキソを11−ヒドロキシ−転化する。この目的に
は、硼水素化アルカリ金属、例えば硼水素化ナトリウム
、カリウム、又はリチウムがアルコール性水溶液中で効
果的に使用される。反応は約−20℃で実施され、普通
には数分以内に完了する。次に式CX化合物は二つの方
法の一つによつてつくられる。式CX化合物は、エンド
サイクリツクニ重結合の選択的接触水素添加によつて式
CX化合物へ任意に転化される。この転化は側鎖の不飽
和に影響せずに選択的に有効である。この目的には、炭
素、アルミナ、又はその他の適当な支持物上の5〜10
%パラジウム又はロジウム触媒が使用される。反応は任
意適当な有機溶媒例えば酢酸エチル、メタノール、エタ
ノール、又はジエチルエーテル中で一30ないし50℃
の間の温度及び大気圧より大きい又は同じ圧力によつて
実施される。その代わりに式CX化合物は、式CI化合
物の式CXI化合物への転化において上記した酸化によ
つて、式CX化合物からつくられる。
エンスルホン酸のような有機酸がこの目的に有用である
。テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール又は水
のような希釈剤が使用されるのが有用である。しかし好
ましくは、均質な反応混合物を生ずるような希釈剤が使
用される。脱水は環境温度及び40℃の間の温度で急速
に進む。その代わりに、酸で洗つたシリカゲルのカラム
上に式CIX又はCXI化合物を放置し、それによつて
普通には1〜5日以内に式CX又はCX生成物へ脱水す
る。次に式CXは式CX化合物の還元によつてCX化合
物からつくられる。この還元はエンドサイクリツクニ重
結合を選択的に還元し、側鎖の不飽和には影響せずに1
1−オキソを11−ヒドロキシ−転化する。この目的に
は、硼水素化アルカリ金属、例えば硼水素化ナトリウム
、カリウム、又はリチウムがアルコール性水溶液中で効
果的に使用される。反応は約−20℃で実施され、普通
には数分以内に完了する。次に式CX化合物は二つの方
法の一つによつてつくられる。式CX化合物は、エンド
サイクリツクニ重結合の選択的接触水素添加によつて式
CX化合物へ任意に転化される。この転化は側鎖の不飽
和に影響せずに選択的に有効である。この目的には、炭
素、アルミナ、又はその他の適当な支持物上の5〜10
%パラジウム又はロジウム触媒が使用される。反応は任
意適当な有機溶媒例えば酢酸エチル、メタノール、エタ
ノール、又はジエチルエーテル中で一30ないし50℃
の間の温度及び大気圧より大きい又は同じ圧力によつて
実施される。その代わりに式CX化合物は、式CI化合
物の式CXI化合物への転化において上記した酸化によ
つて、式CX化合物からつくられる。
この目的には、ジヨーンズ試薬(酸性化クロム酸)のよ
うな酸化試薬が使用される。参考のためJ.Chem.
SOc.39巻(1946年)を参照。式CX化合物の
第二級ヒドロキシ基を酸化させる必要量より化学量論的
にやや過剰量が使用される。アセトンがこの目的に有用
な希釈剤である。少なくとも約0℃程度の低い反応温度
が有用である。好ましい反応温度は−10ないし−50
℃の範囲内にある。この目的に特に有用な試薬はコリン
ズ試薬(ピリジン中の三酸化クロム)である。参考とし
てシュー・シ一・コリンズ(J.C.COllins)
ら、テトラヘドロン・レターズ3363(1968年)
を参照。ジクロロメタンがこの目的に適した希釈剤であ
る。30℃より下の反応温度が好ましい。
うな酸化試薬が使用される。参考のためJ.Chem.
SOc.39巻(1946年)を参照。式CX化合物の
第二級ヒドロキシ基を酸化させる必要量より化学量論的
にやや過剰量が使用される。アセトンがこの目的に有用
な希釈剤である。少なくとも約0℃程度の低い反応温度
が有用である。好ましい反応温度は−10ないし−50
℃の範囲内にある。この目的に特に有用な試薬はコリン
ズ試薬(ピリジン中の三酸化クロム)である。参考とし
てシュー・シ一・コリンズ(J.C.COllins)
ら、テトラヘドロン・レターズ3363(1968年)
を参照。ジクロロメタンがこの目的に適した希釈剤であ
る。30℃より下の反応温度が好ましい。
約−10ないし+10℃の範囲の反応温度が特に好まし
い。酸化は急速に進み、普通には数分以内に終了する。
純粋な生成物は慣用方法、例えばシリカゲルクロマトグ
ラフイによつて単離される。この転化に有用なその他の
酸化試薬の例はピリジン中の三酸化クロム〔J.Anl
.Chem.SOc.75巻422頁(1953年)〕
ピリジン中の第三ブチルクロメート〔バイオロジカルケ
ミストリ一・ジヤーナル84巻195頁(1962年)
〕の混合物、ピリジン中の三酸化硫黄とジメチルスルホ
キシドとの混合物〔J,Am.Chem.SOc.89
巻5505頁(1967年)〕及びシンクロヘキシルカ
ルボジイミドとジメチルスルホキシドとの混合物〔J.
Am.Chem.SOc.87巻5661頁(1965
年)〕である。
い。酸化は急速に進み、普通には数分以内に終了する。
純粋な生成物は慣用方法、例えばシリカゲルクロマトグ
ラフイによつて単離される。この転化に有用なその他の
酸化試薬の例はピリジン中の三酸化クロム〔J.Anl
.Chem.SOc.75巻422頁(1953年)〕
ピリジン中の第三ブチルクロメート〔バイオロジカルケ
ミストリ一・ジヤーナル84巻195頁(1962年)
〕の混合物、ピリジン中の三酸化硫黄とジメチルスルホ
キシドとの混合物〔J,Am.Chem.SOc.89
巻5505頁(1967年)〕及びシンクロヘキシルカ
ルボジイミドとジメチルスルホキシドとの混合物〔J.
Am.Chem.SOc.87巻5661頁(1965
年)〕である。
次に式CX化合物は、上記のとおりにRlOによる封鎖
基の加水分解によつて式CX化合物からつくられる。図
Fは図A−EでつくられるPG型中間体類が本発明の対
応する2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PG
型化合物へ転化される方法を提供している。
基の加水分解によつて式CX化合物からつくられる。図
Fは図A−EでつくられるPG型中間体類が本発明の対
応する2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PG
型化合物へ転化される方法を提供している。
この転化(CXXIからCXXI)は、カルボン酸を対
応する第一級アルコールへ還元することで知られる試薬
によるカルボン酸又はエステルの還元によつて進む。
応する第一級アルコールへ還元することで知られる試薬
によるカルボン酸又はエステルの還元によつて進む。
例えば式CXXI化合物が酸又はエステルの時に、還元
は水素化アルミニウムリチウム又は水素化ジイソブチル
アルミニウムによつて進む。有用な溶媒はジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等の有機
溶媒を包含する。
は水素化アルミニウムリチウム又は水素化ジイソブチル
アルミニウムによつて進む。有用な溶媒はジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等の有機
溶媒を包含する。
反応は約−78ないし100℃の温度で行なわれるのが
好都合であるが、約0℃ないし50℃が好ましい。式C
XXI化合物が酸の時には、二重結合の還元が問題でな
い時ジボランのような還元剤も使用される。式CXXI
化合物がシクロペンタン環上にカルボニル官能基を含有
する時には、前節で述べた還元はしばしばこのカルボニ
ルを対応するアルコールへ還元する。
好都合であるが、約0℃ないし50℃が好ましい。式C
XXI化合物が酸の時には、二重結合の還元が問題でな
い時ジボランのような還元剤も使用される。式CXXI
化合物がシクロペンタン環上にカルボニル官能基を含有
する時には、前節で述べた還元はしばしばこのカルボニ
ルを対応するアルコールへ還元する。
このため、この場合の式CXXl化合物の製造はこうし
てつくられるヒドロキシの対応するオキソ化合物への酸
化を必要とする。この場合、カルボン酸の還元が試みら
れる前に、まず対応するオキシム、エチレンケタール、
又は同様なカルボニル誘導体への転化によつてカルボニ
ルに対する保護を与えるのが望ましい。次に、保護され
たカルボニル誘導体が除去され、式CXX生成物をつく
る。これらのカルボニル保護基の導入と除去は、この技
術に知られた方法によつて達成される。その代わりに、
式CXXIf)PGF型化合物は、本明細書に記載の種
々のシクロペンタン環構造のPG型化合物類へPGF型
化合物を転化するのに土の図A−Eで述べた手順に従い
、始めに対応する2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメ
チル−PGF型化合物へ、次に2−デカルボキシ一2−
ヒドロキシメチル−PGE−,PGA−,PGD,9−
デオキシ−PGD−,9,10−ジデヒドロ−9−デオ
キシ−PGD型化合物へ転化される。
てつくられるヒドロキシの対応するオキソ化合物への酸
化を必要とする。この場合、カルボン酸の還元が試みら
れる前に、まず対応するオキシム、エチレンケタール、
又は同様なカルボニル誘導体への転化によつてカルボニ
ルに対する保護を与えるのが望ましい。次に、保護され
たカルボニル誘導体が除去され、式CXX生成物をつく
る。これらのカルボニル保護基の導入と除去は、この技
術に知られた方法によつて達成される。その代わりに、
式CXXIf)PGF型化合物は、本明細書に記載の種
々のシクロペンタン環構造のPG型化合物類へPGF型
化合物を転化するのに土の図A−Eで述べた手順に従い
、始めに対応する2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメ
チル−PGF型化合物へ、次に2−デカルボキシ一2−
ヒドロキシメチル−PGE−,PGA−,PGD,9−
デオキシ−PGD−,9,10−ジデヒドロ−9−デオ
キシ−PGD型化合物へ転化される。
同様に、対応する式CXXIの11−デオキシ−PGF
型化合物は11−デオキシ−2−デカルボキシ一2−ヒ
ドロキシメチル−PGF型化合物へ、次いで対応する式
CXXの11−デオキシ−PGE又は11−デオキシ−
PGFβ型化合物へ転化される。更に、PGE型化合物
がPGA一又は11−デオキシ−PGE一又はPGE型
化合物からつくられる時は、式CXXI化合物の代わり
に、任意にエーテル化された対応の式CXX,CXXX
、又はCXXXのPGF型化合物を使用するのが好まし
い。もう一つの径路によると、PGE型生成物は2−デ
カルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGF型出発材料
から、まずC−9よりもC−1,C−11及びC−15
(R,が水素の場合)で選択的にシリル化し、次に酸化
してシリル基を加水分解することによつてつくられる。
この技術で知られた方法が用いられる。図Gは図Aの式
CXXXIラクトール中間体が本明細書に明らかにされ
た種々の2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチルPG
型生成物に転化される方法を提供する。
型化合物は11−デオキシ−2−デカルボキシ一2−ヒ
ドロキシメチル−PGF型化合物へ、次いで対応する式
CXXの11−デオキシ−PGE又は11−デオキシ−
PGFβ型化合物へ転化される。更に、PGE型化合物
がPGA一又は11−デオキシ−PGE一又はPGE型
化合物からつくられる時は、式CXXI化合物の代わり
に、任意にエーテル化された対応の式CXX,CXXX
、又はCXXXのPGF型化合物を使用するのが好まし
い。もう一つの径路によると、PGE型生成物は2−デ
カルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGF型出発材料
から、まずC−9よりもC−1,C−11及びC−15
(R,が水素の場合)で選択的にシリル化し、次に酸化
してシリル基を加水分解することによつてつくられる。
この技術で知られた方法が用いられる。図Gは図Aの式
CXXXIラクトール中間体が本明細書に明らかにされ
た種々の2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチルPG
型生成物に転化される方法を提供する。
式CXXX化合物は、式XXX化合物から式XXX化合
物をつくるのに図Aで述べた方法を使用して、式CXX
XI化合物からつくられるが、但し図Aの(ω一カルボ
キシアルキル)トリフエニルホスホニウムブロマイドの
代わりに対応する(ω−テトラヒドロビラニロキシメチ
ルアルキル)トリフエニルホスホニウムブロマイドがつ
くられるウイテイヒ試薬を使用する。その代わりにPG
F一又は11−デオキシ−PGF型生成物がつくられる
時には好ましくはこのウイテイヒアルキル化に(ω−ヒ
ドロキシメチルアルキル)トリフエニルホスホニウムブ
ロマイドが使用される。次に式CXXXIVPGE又は
11−デオキシ−PGE型化合物は、上記のとおりに例
えばジヨーンズ試薬又はコリンズ試薬を使用して、酸化
によつてPGF型化合物からつくられる。次にMl,が
′ \0HHの場合の式CXXX化合物は、式 CXXX化合物から、環カルボニル還元に続いて9−ヒ
ドロキシエピマー類の分離(上記方法を使用)、封鎖基
の加水分解、及び混合C−15エピマー類の分離によつ
てつくられる。
物をつくるのに図Aで述べた方法を使用して、式CXX
XI化合物からつくられるが、但し図Aの(ω一カルボ
キシアルキル)トリフエニルホスホニウムブロマイドの
代わりに対応する(ω−テトラヒドロビラニロキシメチ
ルアルキル)トリフエニルホスホニウムブロマイドがつ
くられるウイテイヒ試薬を使用する。その代わりにPG
F一又は11−デオキシ−PGF型生成物がつくられる
時には好ましくはこのウイテイヒアルキル化に(ω−ヒ
ドロキシメチルアルキル)トリフエニルホスホニウムブ
ロマイドが使用される。次に式CXXXIVPGE又は
11−デオキシ−PGE型化合物は、上記のとおりに例
えばジヨーンズ試薬又はコリンズ試薬を使用して、酸化
によつてPGF型化合物からつくられる。次にMl,が
′ \0HHの場合の式CXXX化合物は、式 CXXX化合物から、環カルボニル還元に続いて9−ヒ
ドロキシエピマー類の分離(上記方法を使用)、封鎖基
の加水分解、及び混合C−15エピマー類の分離によつ
てつくられる。
封鎖基の加水分解とエピマー類の分離は、上記方法によ
つて進む。その代わりに、式CXXX化合物は、式CX
XX化合物又は式CXXX化合物から、封鎖基の加水分
解に続いて上記のように任意混合C−15エビマ一類の
分離によつてつくられる。次に式CXXX化合物は、M
l8が11でR8がヒドロキシ用する酸性脱水によつて
つくられる。図Hの転化は、式CXXXの2−デカルボ
キシ一2−ヒドロキシメチル−PGFα型化合物が対応
する2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGD
一9−デオキシ−PGD一又は9,10−ジデヒドロ−
9−デオキシ−PGD型生成物へ転化される方法を提供
する。
つて進む。その代わりに、式CXXX化合物は、式CX
XX化合物又は式CXXX化合物から、封鎖基の加水分
解に続いて上記のように任意混合C−15エビマ一類の
分離によつてつくられる。次に式CXXX化合物は、M
l8が11でR8がヒドロキシ用する酸性脱水によつて
つくられる。図Hの転化は、式CXXXの2−デカルボ
キシ一2−ヒドロキシメチル−PGFα型化合物が対応
する2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGD
一9−デオキシ−PGD一又は9,10−ジデヒドロ−
9−デオキシ−PGD型生成物へ転化される方法を提供
する。
これらの転化は、対応するカルボン酸類の製造に対して
図Eで述べた方法に従う。従つて、式CXXX化合物は
、式CXXX化合物から、式CI化合物の式CI化合物
からの製造に対して図Eで述べた方法によつてつくられ
る。次いで、式CXXXIX化合物は、式CIX化合物
の式Cl化合物からの製造に対して述べた方法によつて
式CXXX化合物からつくられる。更に式CXL化合物
は、式CX化合物の式ClX化合物からの製造に対して
述べた方法によつてつくられる。最後に、式CXLI化
合物は、式CXの式CXI化合物からの製造に対して上
記した方法によつて式CXXX化合物からつくられる。
上記の反応の全部で、生成物は出発材料と不純物から慣
用手順によつて分離される。
図Eで述べた方法に従う。従つて、式CXXX化合物は
、式CXXX化合物から、式CI化合物の式CI化合物
からの製造に対して図Eで述べた方法によつてつくられ
る。次いで、式CXXXIX化合物は、式CIX化合物
の式Cl化合物からの製造に対して述べた方法によつて
式CXXX化合物からつくられる。更に式CXL化合物
は、式CX化合物の式ClX化合物からの製造に対して
述べた方法によつてつくられる。最後に、式CXLI化
合物は、式CXの式CXI化合物からの製造に対して上
記した方法によつて式CXXX化合物からつくられる。
上記の反応の全部で、生成物は出発材料と不純物から慣
用手順によつて分離される。
例えば、薄層クロマトグラフイによつて照合されるシリ
カゲルクロマトグラフィを用いて、上図の種々の段階の
生成物は対応する出発材料及び不純物から分離される。
最後に、種々のヒドロキシ一含有PG型生成物は任意に
カルボキシアシル化される。
カゲルクロマトグラフィを用いて、上図の種々の段階の
生成物は対応する出発材料及び不純物から分離される。
最後に、種々のヒドロキシ一含有PG型生成物は任意に
カルボキシアシル化される。
カルボキシアシル化の反応時間は反応温度、及び無水物
と第三級アミン反応体の性質のような要因による。無水
酢酸、ピリジン、及び25℃の反応温度では、6〜24
時間の反応時間が使われる。カルボキシアシル化生成物
は慣用方法によつて反応混合物から単離される。
と第三級アミン反応体の性質のような要因による。無水
酢酸、ピリジン、及び25℃の反応温度では、6〜24
時間の反応時間が使われる。カルボキシアシル化生成物
は慣用方法によつて反応混合物から単離される。
例えば、過剰量の無水物が水で分解され、生ずる混合物
を酸性されてから、ジエチルエーテルのような溶媒で抽
出される。望むカルボキシアンレートは蒸発によつてジ
エチルエーテル抽出液から回収される。次にカルボキシ
アンレートは慣用方法により、有利にはクロマトグラフ
イ又は結晶化によつて精製される。本発明は以下の実施
例と調製例によつてより完全に理解できる。温度はすべ
て摂氏の度数である。赤外線(IR)吸収スペクトルは
パーキン・エルマ一・モテル421赤外線スペクトロフ
オトメータ一上で記録されている。他に特定されている
時以外は、未希釈(まぜもののない)試料が使われてい
る。紫外線(UV)スペクトルは、キヤリ一・モデル1
5スペクトロフオトメータ一上で記録されている。
を酸性されてから、ジエチルエーテルのような溶媒で抽
出される。望むカルボキシアンレートは蒸発によつてジ
エチルエーテル抽出液から回収される。次にカルボキシ
アンレートは慣用方法により、有利にはクロマトグラフ
イ又は結晶化によつて精製される。本発明は以下の実施
例と調製例によつてより完全に理解できる。温度はすべ
て摂氏の度数である。赤外線(IR)吸収スペクトルは
パーキン・エルマ一・モテル421赤外線スペクトロフ
オトメータ一上で記録されている。他に特定されている
時以外は、未希釈(まぜもののない)試料が使われてい
る。紫外線(UV)スペクトルは、キヤリ一・モデル1
5スペクトロフオトメータ一上で記録されている。
核磁気共鳴(NMR)スペクトルはパリアンA一60,
A−60D1又はT−60スペクトロホトメータ一上で
、テトラメチルシランを内部標準(ダウンフイールド)
とするテユーテロクロロホルム溶液で記録される。質量
スペクトルはCEGモデル110B二重焦点式高解像質
量スペクトロメータ一又はLKBモデル9000ガスク
ロマトグラフ一質量スペクトロメータ一上で記録されて
いる。
A−60D1又はT−60スペクトロホトメータ一上で
、テトラメチルシランを内部標準(ダウンフイールド)
とするテユーテロクロロホルム溶液で記録される。質量
スペクトルはCEGモデル110B二重焦点式高解像質
量スペクトロメータ一又はLKBモデル9000ガスク
ロマトグラフ一質量スペクトロメータ一上で記録されて
いる。
他に指示がある場合を除いてトリメチルシリル誘導体が
使用されている。クロマトグラフイ溶離液フラクシヨン
の収集は、溶離液前面がカラムの底に達した時に始める
。
使用されている。クロマトグラフイ溶離液フラクシヨン
の収集は、溶離液前面がカラムの底に達した時に始める
。
ここで温水とは塩化ナトリウム飽和水溶液のことである
。薄層クロマトグラフイ(TLC)に使用されるA−1
X溶媒糸は、エム・パンパーク(M.Ham−Berg
)およびビ一・サムエルソン(B.Samuel一Ss
On),JBlOl.Chem.24l巻257頁(1
966年)に従つて酢酸エチル−酢酸−2,2,4−ト
リメチルペンタン−水(90:20:50:100)か
らつくられる。
。薄層クロマトグラフイ(TLC)に使用されるA−1
X溶媒糸は、エム・パンパーク(M.Ham−Berg
)およびビ一・サムエルソン(B.Samuel一Ss
On),JBlOl.Chem.24l巻257頁(1
966年)に従つて酢酸エチル−酢酸−2,2,4−ト
リメチルペンタン−水(90:20:50:100)か
らつくられる。
スケリソルブB(SSB)とは異性体ヘキサン類の混合
物のことである。
物のことである。
本明細書中で使用されるシリカゲルクロマトグラフイは
、溶離、フラクシヨン収集、およびTLC(薄層クロマ
トグラフイ)によつて純粋な生成物を含有する(即ち、
出発材料と不純物がない)ことが示されたフラクシヨン
を一緒にすることを包含したものと理解される。
、溶離、フラクシヨン収集、およびTLC(薄層クロマ
トグラフイ)によつて純粋な生成物を含有する(即ち、
出発材料と不純物がない)ことが示されたフラクシヨン
を一緒にすることを包含したものと理解される。
融点(MP)はフイツシヤ一=ジヨーンズ又はトーマス
=フーバ一の融点測定装置で測定された。
=フーバ一の融点測定装置で測定された。
DDQとは、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1
,4−ベンゾキノンのことである。THFとはテトラヒ
ドロフランのことである。
,4−ベンゾキノンのことである。THFとはテトラヒ
ドロフランのことである。
比旋光度〔α〕は、特定された溶媒中の化合物の溶液に
対し、環境温度でパーキン・エルマ一・モデル141自
動式ボラリメータ一によつて測定されている。参考例
1 ジメチル3,3−ジメチル−2−オキソ一4−フエニル
ブチルホスホネート(C6H,)−CH2八
八A.テトラヒドロフラン125d中のジイソプロピ
ルアミン101.29の溶液にO℃で窒素下に(氷一メ
タノール溶を使用して)冷却しながら、ヘキサン中の1
.6モルn−ブチルリチウム625dを滴加する。
対し、環境温度でパーキン・エルマ一・モデル141自
動式ボラリメータ一によつて測定されている。参考例
1 ジメチル3,3−ジメチル−2−オキソ一4−フエニル
ブチルホスホネート(C6H,)−CH2八
八A.テトラヒドロフラン125d中のジイソプロピ
ルアミン101.29の溶液にO℃で窒素下に(氷一メ
タノール溶を使用して)冷却しながら、ヘキサン中の1
.6モルn−ブチルリチウム625dを滴加する。
生ずる溶液に、冷却しながらイソ酪酸46.5dを滴加
する。この混合物をO℃で90分かきまぜ、次に−15
℃に冷却する。反応温度を−5℃より低温に保持するよ
うな速度で塩化ベンジル60m1をかきまぜながら滴加
する。生ずる混合物を環境温度で4時間かきまぜる。こ
のかきまぜた混合物をジエチルエーテル及び過剰の冷い
希塩酸で希釈する。有機層を塩水で洗い、乾燥して濃縮
し、残留物を真空下に蒸留する。こうして2,2−ジメ
チル−3−フエニルプロピオン酸がつくられる。B.本
実施例のA部の生成物489と塩化チオニル82f!の
混合物をかきまぜながら蒸気浴上で2時間加熱する。
する。この混合物をO℃で90分かきまぜ、次に−15
℃に冷却する。反応温度を−5℃より低温に保持するよ
うな速度で塩化ベンジル60m1をかきまぜながら滴加
する。生ずる混合物を環境温度で4時間かきまぜる。こ
のかきまぜた混合物をジエチルエーテル及び過剰の冷い
希塩酸で希釈する。有機層を塩水で洗い、乾燥して濃縮
し、残留物を真空下に蒸留する。こうして2,2−ジメ
チル−3−フエニルプロピオン酸がつくられる。B.本
実施例のA部の生成物489と塩化チオニル82f!の
混合物をかきまぜながら蒸気浴上で2時間加熱する。
次に混合物を真空下に濃縮する。次に乾燥ベンゼンを加
え、生ずる混合物を再び濃縮して、痕跡量の塩化チオニ
ル全量を除去する。この残留物を蒸留すると、2,2−
ジメチル−3−フエニルプロピオニルクロライド48.
2fを生ずる。C.窒素下に−75℃でテトラヒドロフ
ラン600d中のジメチルメチルホスホネート639の
溶液に、ヘキサン中の1.6モルn−ブチルリチウム3
12m1,をかきまぜながら加える。
え、生ずる混合物を再び濃縮して、痕跡量の塩化チオニ
ル全量を除去する。この残留物を蒸留すると、2,2−
ジメチル−3−フエニルプロピオニルクロライド48.
2fを生ずる。C.窒素下に−75℃でテトラヒドロフ
ラン600d中のジメチルメチルホスホネート639の
溶液に、ヘキサン中の1.6モルn−ブチルリチウム3
12m1,をかきまぜながら加える。
反応温度が−55℃より低くにとどまるように添加速度
を調整する。添加完了後10分して、本実施例のB部の
反応生成物48.29とテトラヒドロフラン50dとを
−60℃より低い反応温度に保持するような速度で滴加
する。生ずる混合物を一75℃で2時間、次に環境温度
で一夜かきまぜる。酢酸20TILIを加え、生ずる混
合物を真空下に蒸留し、それによつてテトラヒドロフラ
ンのほとんどを除去する。ジエチルエーテル−塩化メチ
レン(3:1容量比)及び重炭酸ナトリウム冷希溶液と
共に残留物を振とうする。次に有機層を塩水で洗い、乾
燥して濃縮する。残留物をジエチルエーテルから結晶化
すると、表題化合物のジメチル3,3−ジメチル−2−
オキソ一4−フエニルブチルホスホネート54f!を生
ずる。融点は48〜50℃。参考例1の手順に従うが、
ベンジルクロラドの代わりに〜:==ノ 〔式中Tはフルオロ、クロロ、トリフルオロメチル、1
〜3個の炭素原子のアルキル、又は1〜3個の炭素原子
のアルコキシであり、Sはゼロ、1,2又は3であるが
、但し2個を越えないTがアルキル以外であること、更
に種々のTが同じ又は別であることを条件としている〕
の置換ベンジルクロライドを使用して、対応するジメチ
ル−3,3−ジメチル−2−オキソ一4−(置換フエニ
ル)ブチルフオスフオネート類がつくられる。
を調整する。添加完了後10分して、本実施例のB部の
反応生成物48.29とテトラヒドロフラン50dとを
−60℃より低い反応温度に保持するような速度で滴加
する。生ずる混合物を一75℃で2時間、次に環境温度
で一夜かきまぜる。酢酸20TILIを加え、生ずる混
合物を真空下に蒸留し、それによつてテトラヒドロフラ
ンのほとんどを除去する。ジエチルエーテル−塩化メチ
レン(3:1容量比)及び重炭酸ナトリウム冷希溶液と
共に残留物を振とうする。次に有機層を塩水で洗い、乾
燥して濃縮する。残留物をジエチルエーテルから結晶化
すると、表題化合物のジメチル3,3−ジメチル−2−
オキソ一4−フエニルブチルホスホネート54f!を生
ずる。融点は48〜50℃。参考例1の手順に従うが、
ベンジルクロラドの代わりに〜:==ノ 〔式中Tはフルオロ、クロロ、トリフルオロメチル、1
〜3個の炭素原子のアルキル、又は1〜3個の炭素原子
のアルコキシであり、Sはゼロ、1,2又は3であるが
、但し2個を越えないTがアルキル以外であること、更
に種々のTが同じ又は別であることを条件としている〕
の置換ベンジルクロライドを使用して、対応するジメチ
ル−3,3−ジメチル−2−オキソ一4−(置換フエニ
ル)ブチルフオスフオネート類がつくられる。
例えばこの手順によつてジメチル3,3−ジメチル−2
−オキソ一4−(p−フルオロフエニル)ブチルフオス
フオネートがつくられる。更に実施例1の手順に従うが
、実施例1のA部のイソ酪酸の代わりにプロピオン酸を
使用して、ジメチル3−メチル−2−オキソ一4−フエ
ニルブチルホスホネートがつくられる。
−オキソ一4−(p−フルオロフエニル)ブチルフオス
フオネートがつくられる。更に実施例1の手順に従うが
、実施例1のA部のイソ酪酸の代わりにプロピオン酸を
使用して、ジメチル3−メチル−2−オキソ一4−フエ
ニルブチルホスホネートがつくられる。
実施例1の手順に従うが、ベンジルクロライドの代わり
に上記の置換ベンジルクロライド類、及びイソ酪酸の代
わりにプロピオン酸を使用して、フエニル置換が上記の
とおりである場合の種々のジメチル3−メチル−2−オ
キソ一4−(置換フエニル)−ブチルホスホネート類が
つくられる。更に参考例1の手順に従うが、実施例1の
A部に用いられるイソ酪酸の代わりに酢酸を使用して、
ジメチル−2−オキソ一4−フエニルブチルホスホネー
トがつくられる。
に上記の置換ベンジルクロライド類、及びイソ酪酸の代
わりにプロピオン酸を使用して、フエニル置換が上記の
とおりである場合の種々のジメチル3−メチル−2−オ
キソ一4−(置換フエニル)−ブチルホスホネート類が
つくられる。更に参考例1の手順に従うが、実施例1の
A部に用いられるイソ酪酸の代わりに酢酸を使用して、
ジメチル−2−オキソ一4−フエニルブチルホスホネー
トがつくられる。
参考例1の手順に従つて上記の種々の置換ベンジルクロ
ライド類と組合わせて酢酸を使用して、フエニル置換が
上記のとおりである場合の種々のジメチル2−オキソ一
4一(置換フエニル)ブチルホスホネート類がつくられ
る。参考例1の手順に従うが、参考例1のA部に用いら
れるイソ酪酸の代わりに2,2−ジフルオロ酢酸を使用
して、ジメチル3,3−ジフルオロ−2ーオキソ一4−
フエニルブチルホスホネートがつくられる。
ライド類と組合わせて酢酸を使用して、フエニル置換が
上記のとおりである場合の種々のジメチル2−オキソ一
4一(置換フエニル)ブチルホスホネート類がつくられ
る。参考例1の手順に従うが、参考例1のA部に用いら
れるイソ酪酸の代わりに2,2−ジフルオロ酢酸を使用
して、ジメチル3,3−ジフルオロ−2ーオキソ一4−
フエニルブチルホスホネートがつくられる。
更に参考例1の手順に従うが、上記の置換べンジルクロ
ライド類と組合わせて2,2−ジフルオロ酢酸を使用し
て、フエニル置換が上記のとおりである場合の対応する
ジメチル3,3−ジフルオロ−2−オキソ−4一置換フ
エニルブチルホスホネートがつくられる。更に参考例1
の手順に従うが、イソ酪酸の代わりに2−フルオロ酢酸
を使用して、ジメチル3−フルオロ−2−オキソ−4−
フエニルブチルホスホネートがつくられる。
ライド類と組合わせて2,2−ジフルオロ酢酸を使用し
て、フエニル置換が上記のとおりである場合の対応する
ジメチル3,3−ジフルオロ−2−オキソ−4一置換フ
エニルブチルホスホネートがつくられる。更に参考例1
の手順に従うが、イソ酪酸の代わりに2−フルオロ酢酸
を使用して、ジメチル3−フルオロ−2−オキソ−4−
フエニルブチルホスホネートがつくられる。
参考例1の手順に従つて2−フルオロ酢酸と上記の種々
の置換べンジルクロライド類を使用して、フエニル置換
が上記のとおりである場合の種々のジメチル3−フルオ
ロ−2−オキソ−4−(置換フェニル)ブチルホスホネ
ート類がつくられる。
の置換べンジルクロライド類を使用して、フエニル置換
が上記のとおりである場合の種々のジメチル3−フルオ
ロ−2−オキソ−4−(置換フェニル)ブチルホスホネ
ート類がつくられる。
参考例 2(6−カルボキシヘキシルトリフエニルホス
ホニウムブロマイド)7−ブロモヘプタン酸63.69
、トリフエニルホスフイン80g、及びアセトニトリル
300mlの混合物を68時間還流させる。
ホニウムブロマイド)7−ブロモヘプタン酸63.69
、トリフエニルホスフイン80g、及びアセトニトリル
300mlの混合物を68時間還流させる。
次にアセトニトリル200WLIを蒸留によつて除去す
る。残りの溶液が室温まで冷却されてから、べンゼン3
00mlをかきまぜながら加える。次に混合物を12時
間放置する。固体が析出し、これをろ過によつて集める
と生成物1成物134.19を生ずる。融点185〜1
87℃o参考例3の手順に従うが、7−ブロモーヘプタ
ン酸の代わりに3−ブロモプロピオン酸、4−ブロモプ
タン酸、5−ブロモペンタン酸又は6−ブロモヘキサン
酸を使用して、対応する(ω一カルボキシアルキル)ト
リフエニルホスホニウムブロマイド類がつくられる。
る。残りの溶液が室温まで冷却されてから、べンゼン3
00mlをかきまぜながら加える。次に混合物を12時
間放置する。固体が析出し、これをろ過によつて集める
と生成物1成物134.19を生ずる。融点185〜1
87℃o参考例3の手順に従うが、7−ブロモーヘプタ
ン酸の代わりに3−ブロモプロピオン酸、4−ブロモプ
タン酸、5−ブロモペンタン酸又は6−ブロモヘキサン
酸を使用して、対応する(ω一カルボキシアルキル)ト
リフエニルホスホニウムブロマイド類がつくられる。
参考例3の手順に従うが、ω−ブロモアルカン酸の代わ
りにω−ブロモーアルカン−1−オールを使用して、対
応する(ω−ヒドロキシメチルアルキル)トリフエニル
ホスホニウムブロマイドがつくられる。
りにω−ブロモーアルカン−1−オールを使用して、対
応する(ω−ヒドロキシメチルアルキル)トリフエニル
ホスホニウムブロマイドがつくられる。
参考例 3
3α−べンゾイロキシ−5α−ヒドロキシー2β−(3
−オキソ−4.4−ジフルオロートランス−1−オクテ
ニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン(式X
X■:R7はn−ブチル、R16はべンゾイロキシ、L
1部分のR3とR4はフルオロ)図Aを参照。
−オキソ−4.4−ジフルオロートランス−1−オクテ
ニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン(式X
X■:R7はn−ブチル、R16はべンゾイロキシ、L
1部分のR3とR4はフルオロ)図Aを参照。
A.乾燥ベンゼン125ml中のタリウムエトキシド2
4.3gの溶液を氷溶中で冷却し、次にべンゼン75m
l中のメチル3,3−ジフルオロ−2−オキソーヘプチ
ルホスホネート25.39の溶液を加え、べンゼン50
mlでゆすぐ。
4.3gの溶液を氷溶中で冷却し、次にべンゼン75m
l中のメチル3,3−ジフルオロ−2−オキソーヘプチ
ルホスホネート25.39の溶液を加え、べンゼン50
mlでゆすぐ。
溶液を5゜cで30分かきまぜ、次に結晶性3α−べン
ゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−2β一カルボキサルデ
ヒド−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン22.1
gを急いで加える。この反応混合物を還境温度で13時
間かきまぜると、pFl9〜10の茶色溶液を生ずる。
酢酸6mlを加え混合物をジエチルエーテル600ml
と共にビーカーへ移す。セライト及び水50071Ll
を加え、続いて飽和沃化カリウム30d(約33f!)
を加える。混合物(沃化タリウムの黄茶色沈殿物を含有
)を約45分かきまぜ、次にセライト床に通してろ過す
る。次に有機層を水、重炭酸カリウム水溶液、及び塩水
で洗う。次に生ずる混合物を硫酸マグネシウム土で乾燥
し、減圧下に蒸圧させると、油33,69を生ずる。次
にこれをシクロヘキサン中の20%酢酸エチル中に充填
されたシリカゲル600flのクロマトグラフイにかけ
る。シクロヘキサン中の20%酢酸エチル2e,25%
2e1及び30%4lで溶離して、500mlフラクシ
ヨンを集めると、粗生成物20.3gを生ずる。ジエチ
ルエーテルーぺンタン(2:1)240mlから再結晶
させると、3α−べンゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−
2β−(3−オキソ−4,4−ジフルオロートランス−
1−オクテニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラク
トン13.3gを生ずる。その代わりにこの生成物は、
ジクロロメタン30ml中の3α−べンゾイロキシ−2
β一カルボキサルデヒド−5α−ヒドロキシ−1α−シ
クロぺンタン酢酸γ−ラクトン3f!を、テトラヒドロ
フラン15ml中のジメチル2−オキソ−3,3−ジフ
ルオロヘプチルホスホネート6.699と水素化ナトリ
ウム1.35gの溶液に加えることによつてつくられる
。
ゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−2β一カルボキサルデ
ヒド−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン22.1
gを急いで加える。この反応混合物を還境温度で13時
間かきまぜると、pFl9〜10の茶色溶液を生ずる。
酢酸6mlを加え混合物をジエチルエーテル600ml
と共にビーカーへ移す。セライト及び水50071Ll
を加え、続いて飽和沃化カリウム30d(約33f!)
を加える。混合物(沃化タリウムの黄茶色沈殿物を含有
)を約45分かきまぜ、次にセライト床に通してろ過す
る。次に有機層を水、重炭酸カリウム水溶液、及び塩水
で洗う。次に生ずる混合物を硫酸マグネシウム土で乾燥
し、減圧下に蒸圧させると、油33,69を生ずる。次
にこれをシクロヘキサン中の20%酢酸エチル中に充填
されたシリカゲル600flのクロマトグラフイにかけ
る。シクロヘキサン中の20%酢酸エチル2e,25%
2e1及び30%4lで溶離して、500mlフラクシ
ヨンを集めると、粗生成物20.3gを生ずる。ジエチ
ルエーテルーぺンタン(2:1)240mlから再結晶
させると、3α−べンゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−
2β−(3−オキソ−4,4−ジフルオロートランス−
1−オクテニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラク
トン13.3gを生ずる。その代わりにこの生成物は、
ジクロロメタン30ml中の3α−べンゾイロキシ−2
β一カルボキサルデヒド−5α−ヒドロキシ−1α−シ
クロぺンタン酢酸γ−ラクトン3f!を、テトラヒドロ
フラン15ml中のジメチル2−オキソ−3,3−ジフ
ルオロヘプチルホスホネート6.699と水素化ナトリ
ウム1.35gの溶液に加えることによつてつくられる
。
生ずる反応混合物を約25℃で2時間かきまぜ、酢酸で
酸性にし、減圧下に濃縮する。残留物をジクロロメタン
と水との間で分配し、有機相を濃縮する。残留物をシリ
カゲル上のクロマトグラフイにかけ、スケリソルブB中
の酢酸エチル(1:1)で溶離する。参考例3の手順に
従うが、3α−ベンゾイロキシ一5α−ヒドロキシ−2
β一カルボキサルデヒド一1α−シクロペンタン酢酸γ
−ラクトンの代わりに5α−ヒドロキシ−2β一カルボ
キサルデヒド一1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン
を使用して、5α−ヒドロキシ−2β−(3−オキソ一
4,4−ジフルオロ−トランス−1−オクテニル)−1
α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトンが得られる。
酸性にし、減圧下に濃縮する。残留物をジクロロメタン
と水との間で分配し、有機相を濃縮する。残留物をシリ
カゲル上のクロマトグラフイにかけ、スケリソルブB中
の酢酸エチル(1:1)で溶離する。参考例3の手順に
従うが、3α−ベンゾイロキシ一5α−ヒドロキシ−2
β一カルボキサルデヒド一1α−シクロペンタン酢酸γ
−ラクトンの代わりに5α−ヒドロキシ−2β一カルボ
キサルデヒド一1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン
を使用して、5α−ヒドロキシ−2β−(3−オキソ一
4,4−ジフルオロ−トランス−1−オクテニル)−1
α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトンが得られる。
更に、参考例3の手順に従うが、ジメチル2−オキソ一
3,3−ジフルオロヘプチルホスホネートの代わりに上
記のジメチルホスホネート類の任意のものを使用して、
次のように任意に置換された2β−(3−オキソートラ
ンス一1−アルケニル)置換基をもつた対応する3α−
ベンゾイロキシ一5α−ヒドロキシ−1α−シクロペン
タン酢酸γ−ラクトン類又は5α−ヒドロキシ−1α−
シクロペンタン酢酸γ−ラクトン類がつくられる。
3,3−ジフルオロヘプチルホスホネートの代わりに上
記のジメチルホスホネート類の任意のものを使用して、
次のように任意に置換された2β−(3−オキソートラ
ンス一1−アルケニル)置換基をもつた対応する3α−
ベンゾイロキシ一5α−ヒドロキシ−1α−シクロペン
タン酢酸γ−ラクトン類又は5α−ヒドロキシ−1α−
シクロペンタン酢酸γ−ラクトン類がつくられる。
4,4−ジフルオロヘキセニル、4,4−ジフルオロヘ
プテニル、4,4−ジフルオロノネニル、4,4−ジフ
ルオロテセニル、4−フルオロヘキセニル、4−フルオ
ロヘプテニル、4−フルオロオクテニル、4−フルオロ
ノネニル、4−フルオロデセニル、4,4−ジメチルヘ
キセニル、4,4−ジメチルヘプテニル、4,4−ジメ
チルオクテニル、4,4−ジメチルノ゛ネニル、4,4
−ジメチルテセニル、4−メチルヘキセニル、4−メチ
ルヘプテニル、4一メチルオクテニル、4−メチルノネ
ニル、4−メチルテセニル、ヘキセニル、ヘプテニル、
オクテニル、ノネニル、デセニル、5−フエニルペンテ
ニル、5−(m−トリフルオロメチルフエニル)−ペン
テニル、5−(m−フルオロフエニル)−ペンテニル、
5−(m−クロロフエニル)−ペンテニル、5−(p−
トリフルオロメチルフエニル)ーペンテニル、5−(p
−フルオロフエニノ(へ)−ペンテニル、5−(p−ク
ロロフエニル)−ペンテニル、4−メチル−5−フエニ
ルペンテニル、4−メチル−5−(m−トリフルオロメ
チルフエニル)ペンテニル、4−メチル−5−(m−フ
ルオロフエニル)−ペンテニル、4−メチル−5一(p
−トリフルオロメチルフエニル)−ペンテニル、4−メ
チル−5−(p−フルオロフエニル)−ペンテニル、4
−メチル−5−(p−クロロフエニル)−ペンテニル、
4,4−ジメチル−5一(m−トリフルオロメチルフエ
ニル)−ペンテニル、4,4−ジメチル−5−(m−フ
ルオロフエニル)−ペンテニル、4,4−ジフルオロ−
5−(m一クロロフエニル)ペンテニル、4,4−ジメ
チル−5−(p−トリフルオロメチルフエニル)ペンテ
ニル、4,4−ジメチル−5−(p−フルオロフエニル
)−ペンテニル、4,4−ジメチル−5−(p−クロロ
フエニル)−ペンテニル、4−フルオロ−5−フエニル
ペンテニル、4−フルオロ−5−(m−トリフルオロメ
チルフエニル)ペンテニル、4−フルオロ−5−(m−
フルオロフエニル)−ペンテニル、4−フルオロ5−(
m−クロロフエニル)−ペンテニル、4−フルオロ−5
−(p−トリフルオロメチルフエニル)−ペンテニル、
4−フルオロ−5−(p−フルオロフエニル)ーペンテ
ニル、4−フルオロ−5−(p−クロロフエニル)−ペ
ンテニル、4,4−ジフルオロ−5−フエニルペンテニ
ル、4,4−ジフルオロ−5−(m−トリフルオロメチ
ルフエニル)ペンテニル、4,4−ジフルオロ−5−(
m−フルオロフエニル)−ペンテニル、4,4−ジフル
オロ−5−(m−クロロフエニル)−ペンテニル、4,
4−ジフルオロ−5−(p−トリフルオロメチルフエニ
ル)−ペンテニル、4,4−ジフルオロ−5−(p−フ
ルオロフエニル)−ペンテニル、4,4−ジフルオロ−
5−(p−クロロフエニル)−ペンテニル、4ーフエノ
キシブテニル、4−(m−トリフルオロメチルフエノキ
シ)−ブテニル、4−゜(p−フルオロフエノキシ)−
ブテニル、4−(m−クロロフエノキシ)−ブテニル、
4−(m−トリフルオロメチルフエノキシ)−ブテニル
、4−(p−フルオロフエノキシ)−ブテニル、4−(
P−クロロフエノキシ)−ブテニル、4−メチル−4−
フエノキシーブテニル、4−メチル−4−(m−トリフ
ルオロメチルフエノキシ)−ブテニル、4−メチル−4
−(m−フルオロフエノキシ)−ブテニル、4−メチル
−4−(m−クロロフエノキシ)ーブテニル、4−メチ
ル−4−(p−トリフルオロメチルフエノキシ)−ブテ
ニル、4−メチル−4−(p−フルオロフエノキシ)−
ブテニル、4ーメチル−4−(p−クロロフエノキシ)
−ブテニル、4,4−ジメチル−4−フエノキシブテロ
ル、4,4−ジメチル−4−(トリフルオロメチルフエ
ノキシ)−ブテニル、4,4−ジメチル−4−(mーフ
ルオロフエノキシ)−ブテニル、4,4−ジメチル−4
−(m−クロロフエノキシ)−ブテニル、4,4−ジメ
チル−4−(P−トリフルオロメチルフエノキシ)−ブ
テニル、4,4−ジメトル−4−(p−フルオロフエノ
キシ)−ブテニル、4,4−ジメチル−4−(p−クロ
ロフエノキシ)−ブテニル等。
プテニル、4,4−ジフルオロノネニル、4,4−ジフ
ルオロテセニル、4−フルオロヘキセニル、4−フルオ
ロヘプテニル、4−フルオロオクテニル、4−フルオロ
ノネニル、4−フルオロデセニル、4,4−ジメチルヘ
キセニル、4,4−ジメチルヘプテニル、4,4−ジメ
チルオクテニル、4,4−ジメチルノ゛ネニル、4,4
−ジメチルテセニル、4−メチルヘキセニル、4−メチ
ルヘプテニル、4一メチルオクテニル、4−メチルノネ
ニル、4−メチルテセニル、ヘキセニル、ヘプテニル、
オクテニル、ノネニル、デセニル、5−フエニルペンテ
ニル、5−(m−トリフルオロメチルフエニル)−ペン
テニル、5−(m−フルオロフエニル)−ペンテニル、
5−(m−クロロフエニル)−ペンテニル、5−(p−
トリフルオロメチルフエニル)ーペンテニル、5−(p
−フルオロフエニノ(へ)−ペンテニル、5−(p−ク
ロロフエニル)−ペンテニル、4−メチル−5−フエニ
ルペンテニル、4−メチル−5−(m−トリフルオロメ
チルフエニル)ペンテニル、4−メチル−5−(m−フ
ルオロフエニル)−ペンテニル、4−メチル−5一(p
−トリフルオロメチルフエニル)−ペンテニル、4−メ
チル−5−(p−フルオロフエニル)−ペンテニル、4
−メチル−5−(p−クロロフエニル)−ペンテニル、
4,4−ジメチル−5一(m−トリフルオロメチルフエ
ニル)−ペンテニル、4,4−ジメチル−5−(m−フ
ルオロフエニル)−ペンテニル、4,4−ジフルオロ−
5−(m一クロロフエニル)ペンテニル、4,4−ジメ
チル−5−(p−トリフルオロメチルフエニル)ペンテ
ニル、4,4−ジメチル−5−(p−フルオロフエニル
)−ペンテニル、4,4−ジメチル−5−(p−クロロ
フエニル)−ペンテニル、4−フルオロ−5−フエニル
ペンテニル、4−フルオロ−5−(m−トリフルオロメ
チルフエニル)ペンテニル、4−フルオロ−5−(m−
フルオロフエニル)−ペンテニル、4−フルオロ5−(
m−クロロフエニル)−ペンテニル、4−フルオロ−5
−(p−トリフルオロメチルフエニル)−ペンテニル、
4−フルオロ−5−(p−フルオロフエニル)ーペンテ
ニル、4−フルオロ−5−(p−クロロフエニル)−ペ
ンテニル、4,4−ジフルオロ−5−フエニルペンテニ
ル、4,4−ジフルオロ−5−(m−トリフルオロメチ
ルフエニル)ペンテニル、4,4−ジフルオロ−5−(
m−フルオロフエニル)−ペンテニル、4,4−ジフル
オロ−5−(m−クロロフエニル)−ペンテニル、4,
4−ジフルオロ−5−(p−トリフルオロメチルフエニ
ル)−ペンテニル、4,4−ジフルオロ−5−(p−フ
ルオロフエニル)−ペンテニル、4,4−ジフルオロ−
5−(p−クロロフエニル)−ペンテニル、4ーフエノ
キシブテニル、4−(m−トリフルオロメチルフエノキ
シ)−ブテニル、4−゜(p−フルオロフエノキシ)−
ブテニル、4−(m−クロロフエノキシ)−ブテニル、
4−(m−トリフルオロメチルフエノキシ)−ブテニル
、4−(p−フルオロフエノキシ)−ブテニル、4−(
P−クロロフエノキシ)−ブテニル、4−メチル−4−
フエノキシーブテニル、4−メチル−4−(m−トリフ
ルオロメチルフエノキシ)−ブテニル、4−メチル−4
−(m−フルオロフエノキシ)−ブテニル、4−メチル
−4−(m−クロロフエノキシ)ーブテニル、4−メチ
ル−4−(p−トリフルオロメチルフエノキシ)−ブテ
ニル、4−メチル−4−(p−フルオロフエノキシ)−
ブテニル、4ーメチル−4−(p−クロロフエノキシ)
−ブテニル、4,4−ジメチル−4−フエノキシブテロ
ル、4,4−ジメチル−4−(トリフルオロメチルフエ
ノキシ)−ブテニル、4,4−ジメチル−4−(mーフ
ルオロフエノキシ)−ブテニル、4,4−ジメチル−4
−(m−クロロフエノキシ)−ブテニル、4,4−ジメ
チル−4−(P−トリフルオロメチルフエノキシ)−ブ
テニル、4,4−ジメトル−4−(p−フルオロフエノ
キシ)−ブテニル、4,4−ジメチル−4−(p−クロ
ロフエノキシ)−ブテニル等。
参考例 4
3α−べンゾイロキシ−5α−ヒドロキシー2β−〔(
3S)−3−ヒドロキシートランス−1−オクテニル〕
−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン(式XX■:
L1部分のR3とR4は水素、M6部分のR,とR6は
水素、R7はnーベンチル、R16はべンゾイロキシ、
及びYはトランス−CH=CH−)又はその(3R)−
ヒドロキシエビマーエチレングリコール中のジメチルエ
ーテル(グライム)78wLl中における無水塩化亜塩
12。
3S)−3−ヒドロキシートランス−1−オクテニル〕
−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン(式XX■:
L1部分のR3とR4は水素、M6部分のR,とR6は
水素、R7はnーベンチル、R16はべンゾイロキシ、
及びYはトランス−CH=CH−)又はその(3R)−
ヒドロキシエビマーエチレングリコール中のジメチルエ
ーテル(グライム)78wLl中における無水塩化亜塩
12。
6f!のかきまぜた懸濁液に、氷溶冷却をしながら、水
素化ナトリウムほうそ(ソジユームボロハイドライド)
2.86yを徐々に加える。
素化ナトリウムほうそ(ソジユームボロハイドライド)
2.86yを徐々に加える。
混合物を環境温度で20時間かきまぜ、次に−20℃に
冷却する。グライム80ml中における3α−べンゾイ
ロキシ−5α−ヒドロキシ−2β−(3−オキソーシス
−1−オクテニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラ
クトン(参考例3に従つて調製)を15分にわたつて加
える。−20℃でかきまぜを24時間続け、次に水60
TfLlを注意深く加える。反応混合物を室温まで暖め
、酢酸エチルで希釈し、塩水で2回洗う。水層を酢酸エ
チルで抽出する。一緒にした有機抽出液を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、蒸発させると油を生ずる。これを1%ア
セトンー塩化メチレン中に詰めたシリカゲル9009上
のクロマトグラフイにかけ、塩化メチレン中の1〜15
%アセトンで溶離すると、エピマー的に純粋な表題生成
物を生ずる。参考例4の手順に従うが、そこで使われて
いる3α−べンゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−2β−
(3−オキソートランス−1−オクテニル)−1α−シ
クロペンタン酢酸γ−ラクトン出発材料の代わりに、種
々の3α−べンゾイロキシ−5αーヒドロキシ−2β一
(3−オキソートランスー1−アルケニル又は置換アル
ケニル−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン類を使
用して、対応する3R又は3Sヒドロキシ生成物がつく
られる。
冷却する。グライム80ml中における3α−べンゾイ
ロキシ−5α−ヒドロキシ−2β−(3−オキソーシス
−1−オクテニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラ
クトン(参考例3に従つて調製)を15分にわたつて加
える。−20℃でかきまぜを24時間続け、次に水60
TfLlを注意深く加える。反応混合物を室温まで暖め
、酢酸エチルで希釈し、塩水で2回洗う。水層を酢酸エ
チルで抽出する。一緒にした有機抽出液を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、蒸発させると油を生ずる。これを1%ア
セトンー塩化メチレン中に詰めたシリカゲル9009上
のクロマトグラフイにかけ、塩化メチレン中の1〜15
%アセトンで溶離すると、エピマー的に純粋な表題生成
物を生ずる。参考例4の手順に従うが、そこで使われて
いる3α−べンゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−2β−
(3−オキソートランス−1−オクテニル)−1α−シ
クロペンタン酢酸γ−ラクトン出発材料の代わりに、種
々の3α−べンゾイロキシ−5αーヒドロキシ−2β一
(3−オキソートランスー1−アルケニル又は置換アル
ケニル−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン類を使
用して、対応する3R又は3Sヒドロキシ生成物がつく
られる。
参考例4の手順に従うが、そこで使われている3α−べ
ンゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−2βー(3−オキソ
ートランス−1−オクテニル)ー1α−シクロペンタン
酢酸γ−ラクトンの代わりに、参考例3のあとに述べた
5α−ヒドロキシー2β−(3−オキソートランス−1
−アルケニル又は置換アルケニル)−1α−シクロペン
タン酢酸γ−ラクトン類を使用して、対応する3R又は
3S−ヒドロキシ生成物がつくられる。例えば、3R又
は3S型の2β一側鎖が以下のものからなる場合の上の
3α−べンゾイロキシー5α−ヒドロキシー又は5α−
ヒドロキシ−1αーシクロペンタン酢酸γ−ラクトン類
が得られる。
ンゾイロキシ−5α−ヒドロキシ−2βー(3−オキソ
ートランス−1−オクテニル)ー1α−シクロペンタン
酢酸γ−ラクトンの代わりに、参考例3のあとに述べた
5α−ヒドロキシー2β−(3−オキソートランス−1
−アルケニル又は置換アルケニル)−1α−シクロペン
タン酢酸γ−ラクトン類を使用して、対応する3R又は
3S−ヒドロキシ生成物がつくられる。例えば、3R又
は3S型の2β一側鎖が以下のものからなる場合の上の
3α−べンゾイロキシー5α−ヒドロキシー又は5α−
ヒドロキシ−1αーシクロペンタン酢酸γ−ラクトン類
が得られる。
3−ヒドロキシートランス−1−ヘキセニル、3一ヒド
ロキシートランスーヘプテニル、3−ヒドロキシートラ
ンスーノネニル、3−ヒドロキシートランス−1−デセ
ニル、3−ヒドロキシ−4ーメチルートランス−1−オ
クテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチルートラン
ス−1−オクテニル、3−ヒドロキシ−4−フルオロー
トランス−1ーオクテニル、3−ヒドロキシ−4,4−
ジフルオロ−トランス−1−オクテニル、3−ヒドロキ
シー5−フエニルートランス−1−ぺンテニル、3−ヒ
ドロキシ−5−(p−フルオロフエニル)一卜ランス−
1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−5−(m−クロロフ
エニル)一トランス−1−ペンテニル、3−ヒドロキシ
−5−(m−トリフルオロメチルフエニル)一トランス
−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチル
−5−フエニル一トランス−1−ぺンテニル、3−ヒド
ロキシー4,4−ジメチル−5−(p−フルオロフエニ
ル)ートランス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシー4
,4−ジメチル−5−(m−クロロフエニル)一トラン
ス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチ
ル−5−(m−トリフルオロメチルフエニル)一トラン
ス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジフル
オロ−5−フエニルートランス−1−ぺンテニル、3−
ヒドロキシ−4,4−ジフルオロ−5−(p−フルオロ
フエニル)一トランス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキ
シ−4,4−ジフルオロ−5−(m−クロロフエニル)
一トランス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4
−ジフルオロ−5−(m−トリフルオロメチルフエニル
)一トランス一1−ペンテニル、3−ヒドロキシ−4−
フエノキシートランス一1−ブテニル、3−ヒドロキシ
−4−(p−フルオロフエノキシ)ートランス−1−ブ
テニル、3−ヒドロキシ−4一(m−クロロフエノキシ
)一トランス一1−ブテニル、3−ヒドロ千シ一4−(
m−トリフルオロメチルフエノキシ)一トランス一1−
ブテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチル−4−フ
エノキシートランス一1−ブテニル、3−ヒドロキシ−
4,4−ジメチル−4−(p−フルオロフエノキシ)−
トランス−1−ブテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジ
メチル−4−(m−クロロフエノキシ)一トランス一1
−ブテニル、3−ヒドロキシ−4,4一ジメチル一4−
(m−トリフルオロメチルフエノキシ)一トランス一1
−ブテニル等。
ロキシートランスーヘプテニル、3−ヒドロキシートラ
ンスーノネニル、3−ヒドロキシートランス−1−デセ
ニル、3−ヒドロキシ−4ーメチルートランス−1−オ
クテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチルートラン
ス−1−オクテニル、3−ヒドロキシ−4−フルオロー
トランス−1ーオクテニル、3−ヒドロキシ−4,4−
ジフルオロ−トランス−1−オクテニル、3−ヒドロキ
シー5−フエニルートランス−1−ぺンテニル、3−ヒ
ドロキシ−5−(p−フルオロフエニル)一卜ランス−
1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−5−(m−クロロフ
エニル)一トランス−1−ペンテニル、3−ヒドロキシ
−5−(m−トリフルオロメチルフエニル)一トランス
−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチル
−5−フエニル一トランス−1−ぺンテニル、3−ヒド
ロキシー4,4−ジメチル−5−(p−フルオロフエニ
ル)ートランス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシー4
,4−ジメチル−5−(m−クロロフエニル)一トラン
ス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチ
ル−5−(m−トリフルオロメチルフエニル)一トラン
ス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジフル
オロ−5−フエニルートランス−1−ぺンテニル、3−
ヒドロキシ−4,4−ジフルオロ−5−(p−フルオロ
フエニル)一トランス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキ
シ−4,4−ジフルオロ−5−(m−クロロフエニル)
一トランス−1−ぺンテニル、3−ヒドロキシ−4,4
−ジフルオロ−5−(m−トリフルオロメチルフエニル
)一トランス一1−ペンテニル、3−ヒドロキシ−4−
フエノキシートランス一1−ブテニル、3−ヒドロキシ
−4−(p−フルオロフエノキシ)ートランス−1−ブ
テニル、3−ヒドロキシ−4一(m−クロロフエノキシ
)一トランス一1−ブテニル、3−ヒドロ千シ一4−(
m−トリフルオロメチルフエノキシ)一トランス一1−
ブテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジメチル−4−フ
エノキシートランス一1−ブテニル、3−ヒドロキシ−
4,4−ジメチル−4−(p−フルオロフエノキシ)−
トランス−1−ブテニル、3−ヒドロキシ−4,4−ジ
メチル−4−(m−クロロフエノキシ)一トランス一1
−ブテニル、3−ヒドロキシ−4,4一ジメチル一4−
(m−トリフルオロメチルフエノキシ)一トランス一1
−ブテニル等。
参考例 5
3α−ベンゾイロキシ一5α−ヒドロキシ−2β−〔(
3R)−3−ヒドロキシ−3−メチル−トランス−1−
オクテニル〕−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン
図Aを参照。
3R)−3−ヒドロキシ−3−メチル−トランス−1−
オクテニル〕−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン
図Aを参照。
乾燥ベンゼン890m1中における3α−ベンゾイロキ
シ一5α−ヒドロキシ−2β−(3−オキソートランス
一1−オクテニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラ
クトン18f!の溶液を窒素雰囲気中で9℃に冷却する
。
シ一5α−ヒドロキシ−2β−(3−オキソートランス
一1−オクテニル)−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラ
クトン18f!の溶液を窒素雰囲気中で9℃に冷却する
。
トリメチルアルミニウムのトルエン溶液60dを生ずる
溶液へ4分間に加える。この混合物を20〜25℃で1
.5時間かきまぜ、次に10℃に冷却する。反応混合物
を環境温度に保持するような速度で飽和塩化アンモニウ
ム370dを徐徐に加える。0.5時間後、反応混合物
を酢酸エチル及び水で希釈してろ過し、フイルターケー
キを酢酸エチル−水の溶媒で洗う。
溶液へ4分間に加える。この混合物を20〜25℃で1
.5時間かきまぜ、次に10℃に冷却する。反応混合物
を環境温度に保持するような速度で飽和塩化アンモニウ
ム370dを徐徐に加える。0.5時間後、反応混合物
を酢酸エチル及び水で希釈してろ過し、フイルターケー
キを酢酸エチル−水の溶媒で洗う。
水層を酢酸エチルで抽出し、一緒にした有機抽出液を塩
水で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させると
油を生ずる。これを10(f)酢酸エチル及びスケリソ
ルブB中に詰めたシリカゲル1Kf上のクロマトグラフ
イにかける。スケリソルブB中の10〜16%酢酸エチ
ル(18e)、スケリソルブB中の28%酢酸エチル(
82)で溶離すると表題化合物を生ずる、薄層クロマト
グラフイによつて純粋な生成物を含有することが示され
たフラクシヨンを一緒にする。上記のやり方での再クロ
マトグラフイは(3H)一又は(3S)エピマーを生ず
る。上記のクロマトグラフイ分離を省略して、トリメチ
ルアルミニウムでのアルキル化によつて得られる(3R
S)エピマー混合物は、プロスタグランジン型生成物と
して高収率で分離される。
水で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させると
油を生ずる。これを10(f)酢酸エチル及びスケリソ
ルブB中に詰めたシリカゲル1Kf上のクロマトグラフ
イにかける。スケリソルブB中の10〜16%酢酸エチ
ル(18e)、スケリソルブB中の28%酢酸エチル(
82)で溶離すると表題化合物を生ずる、薄層クロマト
グラフイによつて純粋な生成物を含有することが示され
たフラクシヨンを一緒にする。上記のやり方での再クロ
マトグラフイは(3H)一又は(3S)エピマーを生ず
る。上記のクロマトグラフイ分離を省略して、トリメチ
ルアルミニウムでのアルキル化によつて得られる(3R
S)エピマー混合物は、プロスタグランジン型生成物と
して高収率で分離される。
実施例5の手順に従うが、そこの3−オキソラクトン出
発材料の代わりに参考例3のあとに述べた種々のラクト
ン類を使用して、実施例4の3−ヒドロキシ生成物の各
々に対応する3−ヒドロキシ−3−メチル生成物が得ら
れる。
発材料の代わりに参考例3のあとに述べた種々のラクト
ン類を使用して、実施例4の3−ヒドロキシ生成物の各
々に対応する3−ヒドロキシ−3−メチル生成物が得ら
れる。
参考例 6
3α,5α−ジヒドロキシ−2β−〔(3S)−3−ヒ
ドロキシ−トランス−1−オクテニル〕−1α−シクロ
ペンタンアセトアルデヒドγ−ラクトールビス一(テト
ラヒドロビラニルエーテル)(式XX:L1部分のR3
とR4は水素、′ ゝ、鳩はHOTHP,R7はn−ブ
チル、 R,8はテトラヒドロピラン一2−イロキシ、及びYは
トランス−CH=CH−)又はその(3R)エピマー 図Aを参照。
ドロキシ−トランス−1−オクテニル〕−1α−シクロ
ペンタンアセトアルデヒドγ−ラクトールビス一(テト
ラヒドロビラニルエーテル)(式XX:L1部分のR3
とR4は水素、′ ゝ、鳩はHOTHP,R7はn−ブ
チル、 R,8はテトラヒドロピラン一2−イロキシ、及びYは
トランス−CH=CH−)又はその(3R)エピマー 図Aを参照。
A.メタノール150d中における参考例5の反応生成
物5gの溶液を窒素でパージする。
物5gの溶液を窒素でパージする。
次に炭酸カリウム2.02gを加え、生ずる混合物を環
境温度で、薄層クロマトグラフイ分析が加溶媒分解の完
了を示すまで(約1.5時間)かきまぜる。次にメタノ
ールを減圧下に蒸発させる。残留物を酢酸エチル250
d1塩水250d及び重硫酸カリウム89と共に振とう
する。次に水層を酢酸エチル1257!1jで2回抽出
し、有機抽出液を硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発さ
せると、油を生ずる。この油をクロロホルムに溶解し、
p−トルエンスルホン酸の結晶数個を加える。薄層クロ
マトグラフイが反応の完了を示す時(約2時間)、反応
混合物を重炭酸カリウム水溶液で洗つて乾燥し蒸発させ
ると、油を生ずる。塩化メチレン中の1%エタノール中
に詰めたシリカゲルを精製に使用して、これをクロマト
グラフイ処理する。こうして式XX脱アシル化ラクトン
がつくられる。B.塩化メチレン35d(ジヒドロピラ
ン2.5d及びピリジン塩酸塩100mfを含有)中に
おける上のA部の反応生成物1.57f1の溶液を環境
温度で23時間放置する。
境温度で、薄層クロマトグラフイ分析が加溶媒分解の完
了を示すまで(約1.5時間)かきまぜる。次にメタノ
ールを減圧下に蒸発させる。残留物を酢酸エチル250
d1塩水250d及び重硫酸カリウム89と共に振とう
する。次に水層を酢酸エチル1257!1jで2回抽出
し、有機抽出液を硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発さ
せると、油を生ずる。この油をクロロホルムに溶解し、
p−トルエンスルホン酸の結晶数個を加える。薄層クロ
マトグラフイが反応の完了を示す時(約2時間)、反応
混合物を重炭酸カリウム水溶液で洗つて乾燥し蒸発させ
ると、油を生ずる。塩化メチレン中の1%エタノール中
に詰めたシリカゲルを精製に使用して、これをクロマト
グラフイ処理する。こうして式XX脱アシル化ラクトン
がつくられる。B.塩化メチレン35d(ジヒドロピラ
ン2.5d及びピリジン塩酸塩100mfを含有)中に
おける上のA部の反応生成物1.57f1の溶液を環境
温度で23時間放置する。
次に反応混合物を水、重硫酸カリウム水溶液で洗い、硫
酸マグネシウム上で乾燥して蒸発させると油を生じ、こ
れを塩化メチレン中の1%アセトン中に詰めたシリカゲ
ル200f1上のクロマトグラフイにかける。塩化メチ
レン中の1〜1001)アセトンによる溶離は、上のA
部のラクトン反応生成物に対応する式XXビス−テトラ
ヒドロピラニルラクトンを生ずる。C トルエン20m
1中における上のB部の反応生成物の溶液を−70℃に
冷却し、トルエン中の10%水素化ジイソブチルアルミ
ニウム10m1を徐々に加える。薄層クロマトグラフイ
分析が反応の完了を示すまで(約30分)、反応混合物
を−70℃でかきまぜる。次に冷却浴を除去し、テトラ
ヒドロフラン一水(2:1)混合物9m1を徐々に加え
る。次に反応混合物をかきまぜ、室温まで暖まるように
し、次にセライトに通してろ過する。フイルターケーキ
をベンゼンでゆすぎ、一緒にした有機抽出液を炭酸マグ
ネシウム上で乾燥し蒸発させると、表題化合物を生ずる
。参考例6の手順に従うが、出発材料として3αーベン
ゾイロキシ一5α−ヒドロキシ−2β−〔(3R)又は
(3S)−3−ヒドロキシ−3−メチル−トランス−1
−オクテニル〕−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクト
ンを使用して、対応するビスーテトラヒドロピラニルエ
ーテルラクトールが得られる。
酸マグネシウム上で乾燥して蒸発させると油を生じ、こ
れを塩化メチレン中の1%アセトン中に詰めたシリカゲ
ル200f1上のクロマトグラフイにかける。塩化メチ
レン中の1〜1001)アセトンによる溶離は、上のA
部のラクトン反応生成物に対応する式XXビス−テトラ
ヒドロピラニルラクトンを生ずる。C トルエン20m
1中における上のB部の反応生成物の溶液を−70℃に
冷却し、トルエン中の10%水素化ジイソブチルアルミ
ニウム10m1を徐々に加える。薄層クロマトグラフイ
分析が反応の完了を示すまで(約30分)、反応混合物
を−70℃でかきまぜる。次に冷却浴を除去し、テトラ
ヒドロフラン一水(2:1)混合物9m1を徐々に加え
る。次に反応混合物をかきまぜ、室温まで暖まるように
し、次にセライトに通してろ過する。フイルターケーキ
をベンゼンでゆすぎ、一緒にした有機抽出液を炭酸マグ
ネシウム上で乾燥し蒸発させると、表題化合物を生ずる
。参考例6の手順に従うが、出発材料として3αーベン
ゾイロキシ一5α−ヒドロキシ−2β−〔(3R)又は
(3S)−3−ヒドロキシ−3−メチル−トランス−1
−オクテニル〕−1α−シクロペンタン酢酸γ−ラクト
ンを使用して、対応するビスーテトラヒドロピラニルエ
ーテルラクトールが得られる。
参考例6の手順に従つて、参考例4又は5の中と後に述
べた3α−ベンゾイロキシ一5α−ヒドロキシ又は5−
ヒドロキミラクトン類は、対応するラクトール類へ転化
される。
べた3α−ベンゾイロキシ一5α−ヒドロキシ又は5−
ヒドロキミラクトン類は、対応するラクトール類へ転化
される。
参考例4の手順に従うが、出発材料として参考施1の表
題化合物を使用して、3α−ベンゾイロキシ一5α−ヒ
ドロキシ−2β−〔(3S)−4,4−ジフルオロ−3
−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル〕−1α−シ
クロペンタン酢酸γ−ラクトン又はその(3R)エピマ
ーが得られる。
題化合物を使用して、3α−ベンゾイロキシ一5α−ヒ
ドロキシ−2β−〔(3S)−4,4−ジフルオロ−3
−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル〕−1α−シ
クロペンタン酢酸γ−ラクトン又はその(3R)エピマ
ーが得られる。
参考例6の手順に従つて、3α,5α−ジヒドロキシ−
2β−〔(3R)−3−ヒドロキシ−4,4−ジフルオ
ロ−トランス−1−オクテニル〕−1α−シクロペンタ
ンアセトアルデヒドγ−ラクトールビスーテトラヒドロ
ビラニルエーテルが対応す}アシル化ラクトンからつく
られる。
2β−〔(3R)−3−ヒドロキシ−4,4−ジフルオ
ロ−トランス−1−オクテニル〕−1α−シクロペンタ
ンアセトアルデヒドγ−ラクトールビスーテトラヒドロ
ビラニルエーテルが対応す}アシル化ラクトンからつく
られる。
参考例6の手順に従うが、参考例5又は6の後述べたラ
クトンの任意のものを使用して、対応Lるδ−ラクトー
ル類がつくられる。
クトンの任意のものを使用して、対応Lるδ−ラクトー
ル類がつくられる。
?考例 7
3α,5α−ジヒドロキシ−2β−〔(3S)一3−ヒ
ドロキシ−トランス−1−オクテニル一1α−シクロペ
ンタンプロピオンアルデヒドδ−ラクトールビス(テト
ラヒドロビラニルエーテル)(式XX:nは2,L1部
分のR3と′ 〜R4は水素、M6はHOTH
P,R7はn−ブチル、R,8はテトラヒドロピラニロ
キシ、及びYはトランス−CH=CH−)A図参照。
ドロキシ−トランス−1−オクテニル一1α−シクロペ
ンタンプロピオンアルデヒドδ−ラクトールビス(テト
ラヒドロビラニルエーテル)(式XX:nは2,L1部
分のR3と′ 〜R4は水素、M6はHOTH
P,R7はn−ブチル、R,8はテトラヒドロピラニロ
キシ、及びYはトランス−CH=CH−)A図参照。
N.テトラヒドロフラン150m1中のメトキシメチル
トリフエニルホスホニウムクロライド32.4yの懸濁
液を−15℃に冷却する。
トリフエニルホスホニウムクロライド32.4yの懸濁
液を−15℃に冷却する。
この懸濁液にテトラヒドロフラン45m1中のヘキサン
中における1.6モル濃度のn−ブチルリチウム69.
4dを加える。30分後テトラヒドロフラン90m1中
における3α,5α−ジヒドロキシ−2β−〔(3S)
−3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル〕−1α
−シクロペンタンアセトアルデヒドγ−ラクトールビス
一(テトラヒドロピラニル)エーテル(参考例6,10
9)の溶液を加える。
中における1.6モル濃度のn−ブチルリチウム69.
4dを加える。30分後テトラヒドロフラン90m1中
における3α,5α−ジヒドロキシ−2β−〔(3S)
−3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル〕−1α
−シクロペンタンアセトアルデヒドγ−ラクトールビス
一(テトラヒドロピラニル)エーテル(参考例6,10
9)の溶液を加える。
混合物を25℃に暖めながら1.5時間かきまぜる。生
ずる溶液を減圧下に濃縮する。残留物をジクロロメタン
と水との間で分配し、有機相を乾燥して濃縮する。次に
この乾燥残留物をシリカゲル上のクロマトグラフイにか
け、シクロヘキサン一酢酸エチル(2:1)で溶離する
。純粋な式XX生成物を含有することが薄層クロマトグ
ラフイによつて示されたフラクシヨンを一緒にする。B
.テトラヒドロフラン20m1中における上のA部の反
応生成物を66%酢酸水溶液50m1により、約57℃
で2.5時間加水分解させる。
ずる溶液を減圧下に濃縮する。残留物をジクロロメタン
と水との間で分配し、有機相を乾燥して濃縮する。次に
この乾燥残留物をシリカゲル上のクロマトグラフイにか
け、シクロヘキサン一酢酸エチル(2:1)で溶離する
。純粋な式XX生成物を含有することが薄層クロマトグ
ラフイによつて示されたフラクシヨンを一緒にする。B
.テトラヒドロフラン20m1中における上のA部の反
応生成物を66%酢酸水溶液50m1により、約57℃
で2.5時間加水分解させる。
生ずる混合物を減圧下に濃縮する。トルエンを残留物に
加え、溶液を再び濃縮する。最後に残留物をシリカゲル
上のクロマトグラフイにかけ、クロロホルム−メタノー
ル(6:l)で溶離する。表題化合物は、薄層クロマト
グラフイによつて純粋な生成物を含有することが示され
たフラグシヨンを一緒にして濃縮すると得られる。従つ
て、対応する式XXδ−ラクトールが得られる。C.酸
化銀は、2規定水酸化ナトリウム溶液6.8aへ水3d
中の硝酸銀1.14gの滴加によつてつくられる。
加え、溶液を再び濃縮する。最後に残留物をシリカゲル
上のクロマトグラフイにかけ、クロロホルム−メタノー
ル(6:l)で溶離する。表題化合物は、薄層クロマト
グラフイによつて純粋な生成物を含有することが示され
たフラグシヨンを一緒にして濃縮すると得られる。従つ
て、対応する式XXδ−ラクトールが得られる。C.酸
化銀は、2規定水酸化ナトリウム溶液6.8aへ水3d
中の硝酸銀1.14gの滴加によつてつくられる。
沈殿物がつくられる。水氷浴中の沈殿物へテトラヒドロ
フラン4m1中における上のA部のδラクトール19を
加える。添加が完了したら、氷浴を除き、反応混合物を
環境温度に暖まるようにする。薄層クロマトグラフイ(
クロロホルム及びメタノール9:1)で示されるとおり
に反応が完了したら、酸化銀をろ過によつて除去する。
次にろ液をジエチルエーテルで抽出する。水層を氷浴中
で冷却し、10%重硫酸カリウム溶液で2より小さいP
Hへ酸性化する。この水性混合物をジエチルエーテルで
抽出する。エーテル抽出液を一緒にし、塩水で洗い、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過して減圧下に蒸発させ
ると、式XXIXラクトンを生ずる。D.参考例6のB
部に述べた手順に従つて、上のC部でつくられる式XX
IXラクトンは、そのビス−テトラヒドロピラニルエー
テル誘導体へ転化される。
フラン4m1中における上のA部のδラクトール19を
加える。添加が完了したら、氷浴を除き、反応混合物を
環境温度に暖まるようにする。薄層クロマトグラフイ(
クロロホルム及びメタノール9:1)で示されるとおり
に反応が完了したら、酸化銀をろ過によつて除去する。
次にろ液をジエチルエーテルで抽出する。水層を氷浴中
で冷却し、10%重硫酸カリウム溶液で2より小さいP
Hへ酸性化する。この水性混合物をジエチルエーテルで
抽出する。エーテル抽出液を一緒にし、塩水で洗い、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過して減圧下に蒸発させ
ると、式XXIXラクトンを生ずる。D.参考例6のB
部に述べた手順に従つて、上のC部でつくられる式XX
IXラクトンは、そのビス−テトラヒドロピラニルエー
テル誘導体へ転化される。
E.上のD部でつくられる式XXX化合物は、参考施6
のC部で述べた手順によつて、対応する表題のδ7ラク
トールビスーテトラヒドロビラニルエーテルへ転化され
る。
のC部で述べた手順によつて、対応する表題のδ7ラク
トールビスーテトラヒドロビラニルエーテルへ転化され
る。
参考例7の手順に従うが、(3S)出発材料の代わりに
対応する(3R)出発材料を使用して、対応する(3R
)−ラクトール生成物が得られる。
対応する(3R)出発材料を使用して、対応する(3R
)−ラクトール生成物が得られる。
参考例7の手順に従うが、式XXラクトールの代わりに
参考例6のあとに述べた種々の式XXラクトール類を使
用して、nが2の場合の対応する式XXラクトール類が
得られる。参考例 8 シス一4,5−ジテヒドロ一PGFlα11,15ービ
ス−(テトラヒドロビラニル)エーテル(式XXX:n
は2,gは1,R2とL1部分′ 〜のR3と
R4は水素、鳩はHOTHP,R,は水素、R7はn−
ブチル、R,8はテトラヒドロピラニロキシ及びYはト
ランス−CH=CH−)又はその15−エピマー図Aを
参照。
参考例6のあとに述べた種々の式XXラクトール類を使
用して、nが2の場合の対応する式XXラクトール類が
得られる。参考例 8 シス一4,5−ジテヒドロ一PGFlα11,15ービ
ス−(テトラヒドロビラニル)エーテル(式XXX:n
は2,gは1,R2とL1部分′ 〜のR3と
R4は水素、鳩はHOTHP,R,は水素、R7はn−
ブチル、R,8はテトラヒドロピラニロキシ及びYはト
ランス−CH=CH−)又はその15−エピマー図Aを
参照。
3−カルボキシプロピルトリフエニルホスホニウムブロ
マイド(4−ブロモ酪酸とトリフエニルホスフインをベ
ンゼン中で還流下に18時間加熱してから精製すること
により調製)1069を、水素化ナトリウム2.08f
1(57%)及びジメチルスルホキシド307rL1か
らつくられるナトリウムメチルスルフイニルカルバニド
へ加える。
マイド(4−ブロモ酪酸とトリフエニルホスフインをベ
ンゼン中で還流下に18時間加熱してから精製すること
により調製)1069を、水素化ナトリウム2.08f
1(57%)及びジメチルスルホキシド307rL1か
らつくられるナトリウムメチルスルフイニルカルバニド
へ加える。
生するウイテイヒ試薬を参考例7の式XXラクトール及
びジメチルスルホキシド20dと一緒にする。混合物を
一夜かきまぜ、ベンゼン約200Tn1,で希釈し、硫
酸水素カリウム溶液で洗う。二つの下層をジクロロメタ
ンで洗い、有機層を一緒にし、塩水で洗い、乾燥して減
圧下に濃縮する。残留物を酸洗浄シリカゲル上のクロマ
トグラフイにかけ、酢酸エチル−異性体ヘキサン類(3
:1)で溶離する。薄層クロマトグラフイによつて望ん
でいる化合物を含有することが示されたフラクシヨンを
一緒にすると、純粋な生成物を生ずる。参考例8の手順
に従うが、(3S)出発材料の代わりに対応する(3R
)出発材料を使用して、対応する15−エピーシス一4
,5−ジデヒドロ−PGFlα型化合物が得られる。
びジメチルスルホキシド20dと一緒にする。混合物を
一夜かきまぜ、ベンゼン約200Tn1,で希釈し、硫
酸水素カリウム溶液で洗う。二つの下層をジクロロメタ
ンで洗い、有機層を一緒にし、塩水で洗い、乾燥して減
圧下に濃縮する。残留物を酸洗浄シリカゲル上のクロマ
トグラフイにかけ、酢酸エチル−異性体ヘキサン類(3
:1)で溶離する。薄層クロマトグラフイによつて望ん
でいる化合物を含有することが示されたフラクシヨンを
一緒にすると、純粋な生成物を生ずる。参考例8の手順
に従うが、(3S)出発材料の代わりに対応する(3R
)出発材料を使用して、対応する15−エピーシス一4
,5−ジデヒドロ−PGFlα型化合物が得られる。
参考例8の手順に従うが、3−カルボキシプロピルトリ
フエニルホスホニウムブロマイドの代わりに、4−カル
ボキシブチルトリフエニルホスホニウムブロマイド又は
5−カルボキシペンチルトリフエニルホスホニウムブロ
マイドを使用して、gが2又は3の場合の対応する式X
XX化合物がつくられる。
フエニルホスホニウムブロマイドの代わりに、4−カル
ボキシブチルトリフエニルホスホニウムブロマイド又は
5−カルボキシペンチルトリフエニルホスホニウムブロ
マイドを使用して、gが2又は3の場合の対応する式X
XX化合物がつくられる。
更に参考例8の手順に従うが、式XX出発材料の代わり
に参考例7の後に述べる種々の式XXδ−ラクトール類
を使用して、対応するシス一4,5−ジデヒドロ−PG
F,α一又は11−デオキシ−PGFlα型ビス(テト
ラヒドロピラニルエーテル類)がつくられる。
に参考例7の後に述べる種々の式XXδ−ラクトール類
を使用して、対応するシス一4,5−ジデヒドロ−PG
F,α一又は11−デオキシ−PGFlα型ビス(テト
ラヒドロピラニルエーテル類)がつくられる。
同様に、式XXγ−ラクトール類を使用して、4−カル
ボキシブチル−、5−カルボキシペンチル、又は6−カ
ルボキシヘキシルトリフエニルホスホニウムブロマイド
をそれぞれ使用する時に、nが1でgが1,2又は3の
場合の式K.KPGP,α−又は11−デオキシ−PG
F2α型化合物類がつくられる。
ボキシブチル−、5−カルボキシペンチル、又は6−カ
ルボキシヘキシルトリフエニルホスホニウムブロマイド
をそれぞれ使用する時に、nが1でgが1,2又は3の
場合の式K.KPGP,α−又は11−デオキシ−PG
F2α型化合物類がつくられる。
更に対応するω,ω−ジフルオロ−ω一カルボキシアル
キルートリフエニルホスホニウムプロマイド類は、対応
する2,2−ジフロオロ−PGF2a型THPエーテル
類を生ずる。参考例 9 2,2−ジフルオロ−16−フエノキシ一17,18,
19,20−テトラノル一PGH,aメチルエステル1
1,15−ビス−テトラヒドロピラニルエーテル(式X
XX:gは1、馬はフルオロ、L,部分のR3とR4は
水素、M6は′ \HOTHP..R,はメチル、
R7はフエノキシ、Rl8はテトラヒドロピラニロサシ
、及びYはトランス−CH−CH−)又はその15−エ
ピマー図Aを参照。
キルートリフエニルホスホニウムプロマイド類は、対応
する2,2−ジフロオロ−PGF2a型THPエーテル
類を生ずる。参考例 9 2,2−ジフルオロ−16−フエノキシ一17,18,
19,20−テトラノル一PGH,aメチルエステル1
1,15−ビス−テトラヒドロピラニルエーテル(式X
XX:gは1、馬はフルオロ、L,部分のR3とR4は
水素、M6は′ \HOTHP..R,はメチル、
R7はフエノキシ、Rl8はテトラヒドロピラニロサシ
、及びYはトランス−CH−CH−)又はその15−エ
ピマー図Aを参照。
A.ジメチルスルホキシド25m1中の水素化ナトリウ
ム(0.57g、鉱油中57%)を4,4−ジフルオロ
−4−カルボキシブチルトリフエニルホスホニウムプロ
マイド3gへ加える。
ム(0.57g、鉱油中57%)を4,4−ジフルオロ
−4−カルボキシブチルトリフエニルホスホニウムプロ
マイド3gへ加える。
反応混合物を20℃でかきまぜながら30分保持する。
ジメチルスルホキシド10m1中における3α,5α−
ジヒドロキシ−2β−〔(3R)−3−ヒドロキシ−4
−フエノキシートランス一1一プテニル〕−1α−シク
ロペンタンアセトアルデヒドγ−ラクトールピス(テト
ラヒドロピラニルエーテノ(ハ)1.57gの溶液を加
える。反応混合物を環境温度で2時間かきまぜ、ベンゼ
ン507n1で希釈する。重硫酸カリウム(2.79、
水30Tf11中)を徐々に加え、反応温度を10℃未
満又は10℃に保持する。水層をベンゼン50WLIで
抽出し、有機抽出液を水50m1及び塩水50m1で次
々に洗い、次に一緒にして乾燥し蒸発させる。蒸発は油
を生じ、これを20%酢酸エチルースケリソルブB中に
詰めた酸洗浄シリカゲル100g上のクロマトグラフイ
にかける。20〜75%酢酸エチル及びスケリソルブB
による溶離は粗製2,2−ジフルオロ−16−フエノキ
シ一17,18,19,20−テトラノル一PGH2a
ビス一(テトラヒドロビラニルエーテル)を生ずる。
ジメチルスルホキシド10m1中における3α,5α−
ジヒドロキシ−2β−〔(3R)−3−ヒドロキシ−4
−フエノキシートランス一1一プテニル〕−1α−シク
ロペンタンアセトアルデヒドγ−ラクトールピス(テト
ラヒドロピラニルエーテノ(ハ)1.57gの溶液を加
える。反応混合物を環境温度で2時間かきまぜ、ベンゼ
ン507n1で希釈する。重硫酸カリウム(2.79、
水30Tf11中)を徐々に加え、反応温度を10℃未
満又は10℃に保持する。水層をベンゼン50WLIで
抽出し、有機抽出液を水50m1及び塩水50m1で次
々に洗い、次に一緒にして乾燥し蒸発させる。蒸発は油
を生じ、これを20%酢酸エチルースケリソルブB中に
詰めた酸洗浄シリカゲル100g上のクロマトグラフイ
にかける。20〜75%酢酸エチル及びスケリソルブB
による溶離は粗製2,2−ジフルオロ−16−フエノキ
シ一17,18,19,20−テトラノル一PGH2a
ビス一(テトラヒドロビラニルエーテル)を生ずる。
B.上のA部の組反応生成物及びジエチルエーテル15
1111の溶液を化学量論的過剰量で用いられるジアゾ
メタンでエステル化する。
1111の溶液を化学量論的過剰量で用いられるジアゾ
メタンでエステル化する。
粗メチルエステルを2%アセトン一塩化メチレン中に詰
めたシリカゲル100g上のクロマトグラフイにかける
。塩化メチレン中の2〜12%アセトンでの溶離は表題
化合物を生ずる。参考例9の手順に従うが、(3S)ラ
クトールを使用して、対応する15−エビ一PGF2a
メチルエステル11,15−ビスーテトロヒドロビラニ
ルエーテルが得られる。
めたシリカゲル100g上のクロマトグラフイにかける
。塩化メチレン中の2〜12%アセトンでの溶離は表題
化合物を生ずる。参考例9の手順に従うが、(3S)ラ
クトールを使用して、対応する15−エビ一PGF2a
メチルエステル11,15−ビスーテトロヒドロビラニ
ルエーテルが得られる。
参考例9の手順に従うが、4−カルボキシブチルトリフ
エニルホスホニウムプロマイドの代わりに5,5−ジフ
ルオロ−5−カルボキシベンチルトリフエニルホスホニ
ウムプロマイド又は6,6−ジフルオロ−6−カノレボ
キシヘキシルトリフエニノレホスホニウムプロマイドを
使用して、対応する2a−ホモ又は2a,2b−ジホモ
−2,2−ジフルオロ−PGF2a型化合物又はその1
5−エピマーが得られる。
エニルホスホニウムプロマイドの代わりに5,5−ジフ
ルオロ−5−カルボキシベンチルトリフエニルホスホニ
ウムプロマイド又は6,6−ジフルオロ−6−カノレボ
キシヘキシルトリフエニノレホスホニウムプロマイドを
使用して、対応する2a−ホモ又は2a,2b−ジホモ
−2,2−ジフルオロ−PGF2a型化合物又はその1
5−エピマーが得られる。
参考例 10
シス一4,5−ジデヒドロ−15−メチル−17−フエ
ニル一18,19,20−トリノル一11−デオキシ−
PGF2aメチルエステル(XXXIX:L1部分のR
3とR4は水素、M1′ \はCH3OH..Z2
はシス一CH2−CH=′ ゝ、CH−(CH2)2−
、Ml,はHOHlRlはメチル、R7はベンジル、R
8は水素、Yはトランス−CH=CH−)又はその15
−エピマIA.テトラヒドロフラン150m1中におけ
る5α−ヒドロキシ−2β−〔(3S)−3−ヒドロキ
シ−3−メチル−5−フエニルートランス一1−ペンテ
ニル〕−1α−シクロペンタン酢酸δラクトン5.7g
の溶液を−60℃に冷却する。
ニル一18,19,20−トリノル一11−デオキシ−
PGF2aメチルエステル(XXXIX:L1部分のR
3とR4は水素、M1′ \はCH3OH..Z2
はシス一CH2−CH=′ ゝ、CH−(CH2)2−
、Ml,はHOHlRlはメチル、R7はベンジル、R
8は水素、Yはトランス−CH=CH−)又はその15
−エピマIA.テトラヒドロフラン150m1中におけ
る5α−ヒドロキシ−2β−〔(3S)−3−ヒドロキ
シ−3−メチル−5−フエニルートランス一1−ペンテ
ニル〕−1α−シクロペンタン酢酸δラクトン5.7g
の溶液を−60℃に冷却する。
水酸化ジイソブチルアルミニウム及びトルエン85Tf
L1を−70ルCの温度で23分間に加える。反応混合
物を更に24分かきまぜる。次に飽和塩化アンモニウム
水溶液100m1を−60℃の温度で徐々に加える。生
ずる混合物をかきまぜ、室温に暖まるま\にすると、沈
殿物としてゲルを生ずる。この混合物を水70m1及び
酢酸エチル150m1で希釈し、完全に混合してろ過す
る。フイルターケーキを水及び酢酸エチルで洗う。水層
を酢酸エチルで抽出する。一緒にした有機抽出液を塩水
で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発させると、ラ
クトン出発材料に対応するラクトールを混濁した油とし
て生ずる。B.参考例9の手順に従つて、ジメチルスル
ホキシド中の水素化ナトリウムを3−カルボキシ−プロ
ピルトリフエニルホスホニウムブロマイドと一緒にする
と、遊離酸型の表題化合物を生ずる。
L1を−70ルCの温度で23分間に加える。反応混合
物を更に24分かきまぜる。次に飽和塩化アンモニウム
水溶液100m1を−60℃の温度で徐々に加える。生
ずる混合物をかきまぜ、室温に暖まるま\にすると、沈
殿物としてゲルを生ずる。この混合物を水70m1及び
酢酸エチル150m1で希釈し、完全に混合してろ過す
る。フイルターケーキを水及び酢酸エチルで洗う。水層
を酢酸エチルで抽出する。一緒にした有機抽出液を塩水
で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発させると、ラ
クトン出発材料に対応するラクトールを混濁した油とし
て生ずる。B.参考例9の手順に従つて、ジメチルスル
ホキシド中の水素化ナトリウムを3−カルボキシ−プロ
ピルトリフエニルホスホニウムブロマイドと一緒にする
と、遊離酸型の表題化合物を生ずる。
上のB部の反応生成物を上記の手順に従つてジアゾメタ
ンでエステル化し、クロマトグラフイにかけると表題化
合物を生ずる。
ンでエステル化し、クロマトグラフイにかけると表題化
合物を生ずる。
参考例 11
シス一4,5−ジデヒドロ−15−メチル−17−フエ
ニル一1819,20−トリhル11−デオキシ−PG
F,a メタノール20m1申における参考例10の反応生成物
又はその15−エビマ一2.09の溶液をO℃に冷却す
る。
ニル一1819,20−トリhル11−デオキシ−PG
F,a メタノール20m1申における参考例10の反応生成物
又はその15−エビマ一2.09の溶液をO℃に冷却す
る。
生ずる混合物を窒素雰囲気下に10(f)水酸化ナトリ
ウム水溶液12m1で滴加処理する。混合物を室温まで
暖まるま\にし、2時間かきまぜる。減圧下の蒸発によ
つてメタノールを除去後、残留物を水で希釈し、塩化メ
チレンで抽出する。水層を氷で冷却し、2モル重硫酸ナ
トリウム水溶液24m1で処理し、直ちに酢酸エチルで
抽出する。一緒にした有機抽出液を塩水で洗い、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、凝縮する。粗生成物を酸洗浄
シリカゲル1509上のクロマトグラフイにかけると、
表題化合物又はその15−エピマーを生ずる。参考例1
5の手順に従うが、上記のメチルエステルの任意のもの
を使用して、対応する遊離酸化合物がつくられる。
ウム水溶液12m1で滴加処理する。混合物を室温まで
暖まるま\にし、2時間かきまぜる。減圧下の蒸発によ
つてメタノールを除去後、残留物を水で希釈し、塩化メ
チレンで抽出する。水層を氷で冷却し、2モル重硫酸ナ
トリウム水溶液24m1で処理し、直ちに酢酸エチルで
抽出する。一緒にした有機抽出液を塩水で洗い、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、凝縮する。粗生成物を酸洗浄
シリカゲル1509上のクロマトグラフイにかけると、
表題化合物又はその15−エピマーを生ずる。参考例1
5の手順に従うが、上記のメチルエステルの任意のもの
を使用して、対応する遊離酸化合物がつくられる。
参考例 12
2,2−ジフルオロ−16−フエノキシ一17,18,
19,20−テトラノル一PGF2a!).はその15
−エビマ一2,2−ジフルオロ−16−フエノキシ一1
7,18,19,20−テトラノル一PGH2aビス一
(テトラヒドロピラニルエーテル)0.60gをテトラ
ヒドロフラン一水一酢酸(1:3:6)307!1jと
40℃で4時間反応させる。
19,20−テトラノル一PGF2a!).はその15
−エビマ一2,2−ジフルオロ−16−フエノキシ一1
7,18,19,20−テトラノル一PGH2aビス一
(テトラヒドロピラニルエーテル)0.60gをテトラ
ヒドロフラン一水一酢酸(1:3:6)307!1jと
40℃で4時間反応させる。
次に、生ずる混合物を水60111で希釈し、凍結乾燥
させる。残留物をジエチルエーテルで抽出し塩水で洗う
。ジエチルエーテル抽出液を硫岐マグネシウム上で乾燥
して蒸発させると、生成物を生じ、これをクロマトグラ
フイにかけると純粋な生成物を生ずる。参考例 135
−オキサ−PGF,aメチルエステル11,15−ビス
−(テトラヒドロピラニノ(ハ)エーテル(式XXXV
I:gは1、L1部分のR,とR4/゛は水素、M6は
HOTHPsRlはメチル、R,はn−ブチル、Rl8
はテトラヒドロビラニドキシ、及びYはトランス−CH
=CH−)又はその15−エビマ一図Aを参照。
させる。残留物をジエチルエーテルで抽出し塩水で洗う
。ジエチルエーテル抽出液を硫岐マグネシウム上で乾燥
して蒸発させると、生成物を生じ、これをクロマトグラ
フイにかけると純粋な生成物を生ずる。参考例 135
−オキサ−PGF,aメチルエステル11,15−ビス
−(テトラヒドロピラニノ(ハ)エーテル(式XXXV
I:gは1、L1部分のR,とR4/゛は水素、M6は
HOTHPsRlはメチル、R,はn−ブチル、Rl8
はテトラヒドロビラニドキシ、及びYはトランス−CH
=CH−)又はその15−エビマ一図Aを参照。
A.参考例6の表題化合物6.39と95%エタノール
50m1との混合物をO℃でかきまぜながら、水107
!Ll中のナトリウムポロロイドライドの溶液(1分間
に添加)によつて処理する。
50m1との混合物をO℃でかきまぜながら、水107
!Ll中のナトリウムポロロイドライドの溶液(1分間
に添加)によつて処理する。
生ずる混合物を0℃で10分かきまぜ、次いで水10m
11酢酸エチル250m11及び塩水150m1と共に
振とうする。有機相を塩水で洗つて乾燥し、減圧下に凝
縮すると、2−デカルボキシ一2ーヒドロキシメチル−
2,3,4,5,6−ペンタノル一PGFlall,l
5−ビス−テトラヒドロピラニルエーテルを生ずる。B
.テトラヒドロフラン30m1中のカリウム第三ブトキ
シド1.779の溶液をO℃でかきまぜながら、テトラ
ヒドロフラン30m1,中におけるA部の反応生成物5
.89の溶液と混合する。
11酢酸エチル250m11及び塩水150m1と共に
振とうする。有機相を塩水で洗つて乾燥し、減圧下に凝
縮すると、2−デカルボキシ一2ーヒドロキシメチル−
2,3,4,5,6−ペンタノル一PGFlall,l
5−ビス−テトラヒドロピラニルエーテルを生ずる。B
.テトラヒドロフラン30m1中のカリウム第三ブトキ
シド1.779の溶液をO℃でかきまぜながら、テトラ
ヒドロフラン30m1,中におけるA部の反応生成物5
.89の溶液と混合する。
生ずる混合物をO℃で5分かきまぜてから、トリメチル
オルト−4−ブロモブチレート5m1を加える。かきま
ぜをO℃で2時間及び約25℃で16時間続ける。この
混合物にジメチルホルムアミド30TLIとカリウム第
三ブトキシド0.59を加える。生ずる混合物を20分
かきまぜる。次に溶媒の幾分かを減圧下に除去し、残留
物を水及びジエチルエーテル−ジクロロメタン(3:1
)と共に振とうする。有磯相を水及び塩水で洗い、乾燥
して濃縮する。オルトエステルを含有する残留物を0℃
でメタノール60d中に溶解し、濃塩酸2滴を含有する
冷水15dで処理する。混合物をO℃で5分かきまぜ、
ジエチルエーテル200d1ジクロロメタン50d及び
塩水200m1と共に振とうする。有機相を塩水で洗い
、乾燥して、減圧下に濃縮し、残留物をクロマトグラフ
イにかけると、表題化合物を生ずる。参考例 14 3−オキサ−3,7−インターm−フエニレン4,5,
6,一トリノル一PGFla(式LXX:Riは水素、
L1部分のR3とR4及びM1部分のR,ととR6はす
べて水素、R7はn−ブチル、及びgは1)又は3,7
−インターm−フエニレン一4,55,6−ロノル一P
GFla(式LXXXlV:gは1、R1は水素、L1
部分のR3とR4及びM1部分のR5とR6はすべて水
素、R7はn−ブチル、Z3は−0−)図B,C及びD
を参照。
オルト−4−ブロモブチレート5m1を加える。かきま
ぜをO℃で2時間及び約25℃で16時間続ける。この
混合物にジメチルホルムアミド30TLIとカリウム第
三ブトキシド0.59を加える。生ずる混合物を20分
かきまぜる。次に溶媒の幾分かを減圧下に除去し、残留
物を水及びジエチルエーテル−ジクロロメタン(3:1
)と共に振とうする。有磯相を水及び塩水で洗い、乾燥
して濃縮する。オルトエステルを含有する残留物を0℃
でメタノール60d中に溶解し、濃塩酸2滴を含有する
冷水15dで処理する。混合物をO℃で5分かきまぜ、
ジエチルエーテル200d1ジクロロメタン50d及び
塩水200m1と共に振とうする。有機相を塩水で洗い
、乾燥して、減圧下に濃縮し、残留物をクロマトグラフ
イにかけると、表題化合物を生ずる。参考例 14 3−オキサ−3,7−インターm−フエニレン4,5,
6,一トリノル一PGFla(式LXX:Riは水素、
L1部分のR3とR4及びM1部分のR,ととR6はす
べて水素、R7はn−ブチル、及びgは1)又は3,7
−インターm−フエニレン一4,55,6−ロノル一P
GFla(式LXXXlV:gは1、R1は水素、L1
部分のR3とR4及びM1部分のR5とR6はすべて水
素、R7はn−ブチル、Z3は−0−)図B,C及びD
を参照。
A.光学活性ビシクロ〔3,1,0〕−ヘキス一2エン
一6−エンドーカルボキサルデヒド。
一6−エンドーカルボキサルデヒド。
合衆国特許第3711515号の調製例1の手順に従つ
て、ラセミ体ビシクロ〔3,1,0〕ヘキズ−2−エン
一6−エンドーカルボキサルデ 15ヒトは、ビシクロ
〔2,2,1〕ヘプタ−2,5−ジエン及び過酢酸から
つくられる。
て、ラセミ体ビシクロ〔3,1,0〕ヘキズ−2−エン
一6−エンドーカルボキサルデ 15ヒトは、ビシクロ
〔2,2,1〕ヘプタ−2,5−ジエン及び過酢酸から
つくられる。
ラセミ化合物は次のように、合衆国特許第371151
5号の参考例13の手順によつて分割され、オキサゾリ
ジンを生ずる。
5号の参考例13の手順によつて分割され、オキサゾリ
ジンを生ずる。
ラセミ体ビシクロ〔3,1,0〕ヘキズ−2−エン一6
−エンドーカルボキサルデヒド12.39及び1−エフ
エドリン16.59をベンゼン約150m1に溶解する
。
−エンドーカルボキサルデヒド12.39及び1−エフ
エドリン16.59をベンゼン約150m1に溶解する
。
ベンゼンを真空下に除去し、残留物をイソプロピルエー
テル約150m125中に取上げる。溶液をろ過し、次
に−13℃に冷却すると、2−エンドービシクロ〔3,
1,0〕−ヘキス一2−エン一6−イル一3,4−ジメ
チル−5−フエニルーオキサゾリジンの結晶11.19
を生ずる。
テル約150m125中に取上げる。溶液をろ過し、次
に−13℃に冷却すると、2−エンドービシクロ〔3,
1,0〕−ヘキス一2−エン一6−イル一3,4−ジメ
チル−5−フエニルーオキサゾリジンの結晶11.19
を生ずる。
融点90〜92℃。イソプ 30ロピルエーテルから3
回再結晶させ、各回とも約−2℃に冷却すると、NMR
により示されるとおり実質的に単一の異性体型となつた
オキサゾリジン結晶2.29を生ずる。融点100〜1
03℃。上の再結晶したオキサゾリジン1.09をジク
ロロメタン数ml申に溶解し、シリカゲル209のカラ
ムに仕込み、ジクロロメタンで溶離する。
回再結晶させ、各回とも約−2℃に冷却すると、NMR
により示されるとおり実質的に単一の異性体型となつた
オキサゾリジン結晶2.29を生ずる。融点100〜1
03℃。上の再結晶したオキサゾリジン1.09をジク
ロロメタン数ml申に溶解し、シリカゲル209のカラ
ムに仕込み、ジクロロメタンで溶離する。
シリカゲルはクロマトグラフイ等級(タルク)で、粒度
0.05〜0.2mmでゐり、1009当り 40約4
〜59の水をもつている。溶離液フラクシヨンを集め、
薄層クロマトグラフイ(TLC)で望んでいる化合物を
含有することが示されたフラクシヨンを一緒にして油3
60W19まで蒸発させる。この油は、NMRにより実
質的にエフエドリンを含まない、実質的に単一の光学活
性異性体型の望んでいる表題化合物であることが示され
る。円偏光二色性曲線上の点は(Nmでのλ,θ)35
0,0:322.5,4,854:312,−5,68
3;302.5,−4,854;269,0:250,
2,368:240,0:及び210,−34,600
01.1−ビシクロ〔3,1,0〕ヘキズ−2−エン一
6−エンドーカルボキサルデヒドネオベンチルグリコー
ルアセタール(式LXI:R,5とR56は一緒に取ら
れると−CH2−C(CH3)2CH2−、及び〜はエ
ンド)。
0.05〜0.2mmでゐり、1009当り 40約4
〜59の水をもつている。溶離液フラクシヨンを集め、
薄層クロマトグラフイ(TLC)で望んでいる化合物を
含有することが示されたフラクシヨンを一緒にして油3
60W19まで蒸発させる。この油は、NMRにより実
質的にエフエドリンを含まない、実質的に単一の光学活
性異性体型の望んでいる表題化合物であることが示され
る。円偏光二色性曲線上の点は(Nmでのλ,θ)35
0,0:322.5,4,854:312,−5,68
3;302.5,−4,854;269,0:250,
2,368:240,0:及び210,−34,600
01.1−ビシクロ〔3,1,0〕ヘキズ−2−エン一
6−エンドーカルボキサルデヒドネオベンチルグリコー
ルアセタール(式LXI:R,5とR56は一緒に取ら
れると−CH2−C(CH3)2CH2−、及び〜はエ
ンド)。
2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール900g
、ベンゼン511及び85%燐酸3m1の混合物を還流
下に加熱する。
、ベンゼン511及び85%燐酸3m1の混合物を還流
下に加熱する。
これにベンゼン11中の光学活性ビシクロ〔3,1,0
〕ヘキズ−2−エン一6−エンドカルボキサルデヒド(
A部、500g)の溶液を1.5時間に加える。デイー
ン・スターク・トラツプによつて共沸蒸留される水を取
り去る用意をする。3時間後、混合物を冷却し、5%重
炭酸ナトリウム21で抽出する。
〕ヘキズ−2−エン一6−エンドカルボキサルデヒド(
A部、500g)の溶液を1.5時間に加える。デイー
ン・スターク・トラツプによつて共沸蒸留される水を取
り去る用意をする。3時間後、混合物を冷却し、5%重
炭酸ナトリウム21で抽出する。
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮する
。生ずる半固体残留物をメタノール中に取上げ、水60
0m1を加えたメタノール計1200wL1!を使用し
て再結晶させ、次に一13℃に冷却すると、表題化合物
3009を生ずる。融点52〜55℃。NMRピークは
0.66,120,0.83〜2,65,3.17〜3
.8,3.96、及び5.47〜5.88δ。〔α〕D
−227(メタノール中c=0.8976)。
。生ずる半固体残留物をメタノール中に取上げ、水60
0m1を加えたメタノール計1200wL1!を使用し
て再結晶させ、次に一13℃に冷却すると、表題化合物
3009を生ずる。融点52〜55℃。NMRピークは
0.66,120,0.83〜2,65,3.17〜3
.8,3.96、及び5.47〜5.88δ。〔α〕D
−227(メタノール中c=0.8976)。
RfO.6O(混合異性体ヘキサン中の25%酢酸エチ
ルによるシリカゲル上のTLC)。母液を更に仕上げる
と、追加生成物50〜1009を生ずる。C.d−8−
(m−アセトキシフエニル)−Jメ[オキサートリシクロ
〔4,2,0,02!4〕オクタン一6−エンドーカル
ポキサルデヒドネオペンチルグリコールアセタール(式
LX:R55とR56を一緒に取ると、−CH2−C(
CH3)2−CH2− R63は−C−CH3、及び〜
はエンド))〔3,1,0〕ヘキズ−2−エン一6−エ
ンドーカルボキサルデヒドネオベンチルグリコールアセ
タール(B部、5.82g)及びm−アセトキシーベン
ズアルデヒド1649の溶液を、潜水できる水冷式コー
ルドフッカー及びフリツトガス入口管を備えたパイレツ
クス製の光分解容器へ仕込む。
ルによるシリカゲル上のTLC)。母液を更に仕上げる
と、追加生成物50〜1009を生ずる。C.d−8−
(m−アセトキシフエニル)−Jメ[オキサートリシクロ
〔4,2,0,02!4〕オクタン一6−エンドーカル
ポキサルデヒドネオペンチルグリコールアセタール(式
LX:R55とR56を一緒に取ると、−CH2−C(
CH3)2−CH2− R63は−C−CH3、及び〜
はエンド))〔3,1,0〕ヘキズ−2−エン一6−エ
ンドーカルボキサルデヒドネオベンチルグリコールアセ
タール(B部、5.82g)及びm−アセトキシーベン
ズアルデヒド1649の溶液を、潜水できる水冷式コー
ルドフッカー及びフリツトガス入口管を備えたパイレツ
クス製の光分解容器へ仕込む。
潜液中に窒素を泡立てて、溶存酸素を除去する。RUL
35OOλランプ6個を備えたレイオネツト型RB実験
用光化学反応器(ザ・サザーン・ニユーイングランド・
ウルトラバイオレツト社、コネチカツト州ミドルタウン
)により、混合物を350nmで照射する。24時間後
、光分解生成物を減圧下に薄黄色の油109まで濃縮す
る。
35OOλランプ6個を備えたレイオネツト型RB実験
用光化学反応器(ザ・サザーン・ニユーイングランド・
ウルトラバイオレツト社、コネチカツト州ミドルタウン
)により、混合物を350nmで照射する。24時間後
、光分解生成物を減圧下に薄黄色の油109まで濃縮す
る。
これをシリカゲルクロマトグラフイにかける。スケリソ
ブルB(異性体ヘキサン類混合物)中の10〜70%酢
酸エチルで溶離すると、回収される出発材料と式LX表
題化合物の薄黄色の油0.869の別々のフラクシヨン
を生ずる。NMRのピークは0.68,1.20,0.
8〜2.5,2.28,2.99,3.12〜3.88
,3.48,4.97〜5.52、及び6.78〜76
0δ。赤外線吸収帝は3040,2950,2860,
2840,1765,1610,1590,1485,
1470,1370,1205,1115,1020,
1005,990,790、及び700C!FL−1、
質量スづクトルのピークは358,357,116,1
15,108,107,79,70,69,45,43
、及び41。〔α〕D+55,(95%エタノール中の
c=0.7505)及びRfO.l8(混合異性体ヘキ
サン類中の25%酢酸エチルによるシリカゲル上のTL
C)。D.d−2−エキソ−〔m−(ピバロイロキシ)
ベンジル〕−3−エキソービバロイロキシ)一ビシクロ
〔3,1,0〕ヘキサン−6−エンドーカルボキサルデ
ヒドネォペンチルグリコールアセタール(式LXIV:
R55とR,6を一緒に取るとC(CH3)3及び〜は
エンド)。エチルアミン70m1中におけるリチウム0
.25gの混合物をO℃でつくり、−78℃に冷却する
。
ブルB(異性体ヘキサン類混合物)中の10〜70%酢
酸エチルで溶離すると、回収される出発材料と式LX表
題化合物の薄黄色の油0.869の別々のフラクシヨン
を生ずる。NMRのピークは0.68,1.20,0.
8〜2.5,2.28,2.99,3.12〜3.88
,3.48,4.97〜5.52、及び6.78〜76
0δ。赤外線吸収帝は3040,2950,2860,
2840,1765,1610,1590,1485,
1470,1370,1205,1115,1020,
1005,990,790、及び700C!FL−1、
質量スづクトルのピークは358,357,116,1
15,108,107,79,70,69,45,43
、及び41。〔α〕D+55,(95%エタノール中の
c=0.7505)及びRfO.l8(混合異性体ヘキ
サン類中の25%酢酸エチルによるシリカゲル上のTL
C)。D.d−2−エキソ−〔m−(ピバロイロキシ)
ベンジル〕−3−エキソービバロイロキシ)一ビシクロ
〔3,1,0〕ヘキサン−6−エンドーカルボキサルデ
ヒドネォペンチルグリコールアセタール(式LXIV:
R55とR,6を一緒に取るとC(CH3)3及び〜は
エンド)。エチルアミン70m1中におけるリチウム0
.25gの混合物をO℃でつくり、−78℃に冷却する
。
テトラヒドロフラン10m1中における式LXIId−
8−(m−アセトキシフエニル)ーJメ[オキサートリシ
クイ〔4,2,0,021〕−オクタン−6−エンドー
カルボキサルデヒドネオペンチルグリコールアセタール
(C部、1.83g)の溶液を約5分間に滴加する。−
.78℃で約3.5時間かきまぜてから、固体塩化アン
モニウム及び水一テトラヒドロフランで停止させる。混
合物を約25℃に徐々に暖め、エチルアミンを除去する
。残留物を希酢酸で中和し、塩水200m1と混合し、
酢酸エチルで抽出する。有機相を塩水及び塩水と飽和重
炭酸ナトリウムとの(1:1)混合物で洗い、硫酸ナト
リワム上で乾燥する。減圧下の濃縮は式LXジオールを
薄い淡褐色の油1.64gとして生ずる。RfO.O3
(混合異性体ヘキサン類中の25%酢酸エチル中でのシ
リカゲル上のクロマトグラフイ)。前節の生成物をピリ
ジン307n1中に溶解し、塩化ビバロイル1.5m1
により約25℃で22時間にわたつて処理する。反応混
合物を水と、次に塩水と混合し、酢酸エチルで抽出する
。有機相を塩水、水、飽和硫酸第二銅水溶液、重炭酸ナ
トリウム飽和水溶液及び塩水で次々に洗い、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥する。減圧下の濃縮は残留物2.539を
生ずる。これをシリカゲルクカマトグラフイにかけると
式LX表題化合物1,879を生ずる。NMRのビーク
は0.71,1.20,1.33,0.9〜3.1,3
.28〜4.00,4.17,4.7〜5.2、及び6
.77〜753δ。質量スペクトルのピークは486,
485,115,73,72,57,44,43,42
,41,30,29,15。〔α〕D+1f)(エタノ
ール中c=0.9340)。RfO.5O(混合異性体
ヘキサン申の25#)酢酸エチル中でのシリカゲル上の
TLC)。
8−(m−アセトキシフエニル)ーJメ[オキサートリシ
クイ〔4,2,0,021〕−オクタン−6−エンドー
カルボキサルデヒドネオペンチルグリコールアセタール
(C部、1.83g)の溶液を約5分間に滴加する。−
.78℃で約3.5時間かきまぜてから、固体塩化アン
モニウム及び水一テトラヒドロフランで停止させる。混
合物を約25℃に徐々に暖め、エチルアミンを除去する
。残留物を希酢酸で中和し、塩水200m1と混合し、
酢酸エチルで抽出する。有機相を塩水及び塩水と飽和重
炭酸ナトリウムとの(1:1)混合物で洗い、硫酸ナト
リワム上で乾燥する。減圧下の濃縮は式LXジオールを
薄い淡褐色の油1.64gとして生ずる。RfO.O3
(混合異性体ヘキサン類中の25%酢酸エチル中でのシ
リカゲル上のクロマトグラフイ)。前節の生成物をピリ
ジン307n1中に溶解し、塩化ビバロイル1.5m1
により約25℃で22時間にわたつて処理する。反応混
合物を水と、次に塩水と混合し、酢酸エチルで抽出する
。有機相を塩水、水、飽和硫酸第二銅水溶液、重炭酸ナ
トリウム飽和水溶液及び塩水で次々に洗い、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥する。減圧下の濃縮は残留物2.539を
生ずる。これをシリカゲルクカマトグラフイにかけると
式LX表題化合物1,879を生ずる。NMRのビーク
は0.71,1.20,1.33,0.9〜3.1,3
.28〜4.00,4.17,4.7〜5.2、及び6
.77〜753δ。質量スペクトルのピークは486,
485,115,73,72,57,44,43,42
,41,30,29,15。〔α〕D+1f)(エタノ
ール中c=0.9340)。RfO.5O(混合異性体
ヘキサン申の25#)酢酸エチル中でのシリカゲル上の
TLC)。
上 2−エキソ−〔m−(ピバロイロキシ)ベンジル〕
−3−エキソ−(ビバロイロキシ)ビシクロ〔3,1,
0〕ヘキサン−6−エンド−カルボ及び〜はエンド)式
LXIVアセタールすなわちd−2−エキソ−(m−ピ
バロイロキシ)ベンジル〕−3−エキソ−(ピバロイロ
キシ)−ビシクロ〔3,1,0〕ヘキサン−6−エンド
ーカルボキサルデヒドネオペンチルグリコールアセター
ル(D部、0.489)を0℃で88%蟻酸25m1に
より4時間処理する。
−3−エキソ−(ビバロイロキシ)ビシクロ〔3,1,
0〕ヘキサン−6−エンド−カルボ及び〜はエンド)式
LXIVアセタールすなわちd−2−エキソ−(m−ピ
バロイロキシ)ベンジル〕−3−エキソ−(ピバロイロ
キシ)−ビシクロ〔3,1,0〕ヘキサン−6−エンド
ーカルボキサルデヒドネオペンチルグリコールアセター
ル(D部、0.489)を0℃で88%蟻酸25m1に
より4時間処理する。
混合物を塩水200m1で希釈し、酢酸エチルで抽出す
る。有機相を塩水及び飽和重炭 .゛酸ナトリウム水溶
液で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥する。減圧下の濃
縮は油0.559を生じ、これをシリカゲルクロマトグ
ラフイにかける。スケリソブルB中の5〜15%酢酸エ
チルでの溶離は式LX表題化合物を油0.379と I
して生ずる。NMRのピークは1,20,1.33,0
.6〜3.2,5.1〜5.5,6.6〜7.5、及び
9.73δ。RfO.5O(混合異性体ヘキサン類中の
25%酢酸エチルによるシリカゲル上のTLC)。F.
2−エキソ−〔m−(ピバロイロキシ)ベンジル〕3−
3エキソ一(ビバロイロキシ)−6ーエンド−(シス一
1−ヘプテニノリービシクロ〔3,1,0〕ヘキサン(
式LX:L1部分のR3とR4は共に水素、R7はn−
ブチル、R66エンド)、及び2−エキソ−(m−ヒド
ロキシーベンジル)−3−エキソ−ヒドロキシ−6−エ
ンド−(シス一1−ヘプテニル)ビシクロ〔3,1,0
〕ヘキサン(式LX:L,部分のR3とR4は共に水素
、R7はn−ブチル、R53とR66は水素、及び〜は
エンド)。
る。有機相を塩水及び飽和重炭 .゛酸ナトリウム水溶
液で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥する。減圧下の濃
縮は油0.559を生じ、これをシリカゲルクロマトグ
ラフイにかける。スケリソブルB中の5〜15%酢酸エ
チルでの溶離は式LX表題化合物を油0.379と I
して生ずる。NMRのピークは1,20,1.33,0
.6〜3.2,5.1〜5.5,6.6〜7.5、及び
9.73δ。RfO.5O(混合異性体ヘキサン類中の
25%酢酸エチルによるシリカゲル上のTLC)。F.
2−エキソ−〔m−(ピバロイロキシ)ベンジル〕3−
3エキソ一(ビバロイロキシ)−6ーエンド−(シス一
1−ヘプテニノリービシクロ〔3,1,0〕ヘキサン(
式LX:L1部分のR3とR4は共に水素、R7はn−
ブチル、R66エンド)、及び2−エキソ−(m−ヒド
ロキシーベンジル)−3−エキソ−ヒドロキシ−6−エ
ンド−(シス一1−ヘプテニル)ビシクロ〔3,1,0
〕ヘキサン(式LX:L,部分のR3とR4は共に水素
、R7はn−ブチル、R53とR66は水素、及び〜は
エンド)。
ウイテイヒイリド(Ylid)試薬はベンゼン10m1
中で、n−ヘキシルトリフエニルホスホニウムブロマイ
ド0.799とn−ブチルリチウム(ヘキサン中の2,
32M溶液の0.6m1)から約25℃で0.5時間に
つくられる。
中で、n−ヘキシルトリフエニルホスホニウムブロマイ
ド0.799とn−ブチルリチウム(ヘキサン中の2,
32M溶液の0.6m1)から約25℃で0.5時間に
つくられる。
沈殿する臭化リチウムが沈降してから溶液を除き、冷い
(0℃)スラリーに式LXVアルデヒド(E部、0.3
7g)を加える。15分後、アセトン1.0m1を加え
、混合物を60℃で10分加熱する。
(0℃)スラリーに式LXVアルデヒド(E部、0.3
7g)を加える。15分後、アセトン1.0m1を加え
、混合物を60℃で10分加熱する。
混合物を減圧下に濃縮する。残留物をスケリンルブB中
の1001)酢酸エチルで洗い、これらの洗浄液を式L
X表題化合物の油0.339まで濃縮する。NMRのピ
ークは118,133,0.6〜3.2,4.5〜6.
01及び6.67〜7.62δ。RfO.78(スケリ
ソルブB中の25%酢酸エチルによるシリカゲル上のT
LC)。前節の前記生成物はナトリウムメトキシド(メ
タノール中の25%溶液2.5m1)での処理4時間に
続いて、固体ナトリウムメトキシド0.59を添加し、
更に25℃で15分次に還流下に6時間かきまぜること
によつて、式LXジオール−転化される。
の1001)酢酸エチルで洗い、これらの洗浄液を式L
X表題化合物の油0.339まで濃縮する。NMRのピ
ークは118,133,0.6〜3.2,4.5〜6.
01及び6.67〜7.62δ。RfO.78(スケリ
ソルブB中の25%酢酸エチルによるシリカゲル上のT
LC)。前節の前記生成物はナトリウムメトキシド(メ
タノール中の25%溶液2.5m1)での処理4時間に
続いて、固体ナトリウムメトキシド0.59を添加し、
更に25℃で15分次に還流下に6時間かきまぜること
によつて、式LXジオール−転化される。
混合物を冷却し、塩水300m1と混合し、酢酸エチル
で抽出する。有機相を塩水で洗い、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、減圧下に残留物0.279まで濃縮する。残
留物をンリカゲ゛ルクロマトグラフイにかけ、スケリソ
ブルB中の25〜35(f)酢酸エチルで溶離すると、
式LX表題化合物を油0.21gとして生ずる。NMR
のピークは0.87,0.6〜3.25,3.88〜4
.35,4.82〜5.92及び647〜7.33δ0
Rf0.13(スケリソルブB甲の25%酢酸エチル甲
でのシリカゲル上のTLC)。G.2−エキソ−{m−
〔(カルボキシ)メトキシ〕ベンジル}−3−エキソ−
ヒドロキシ−6−エンド−(シス一1−ヘプテニル)ビ
シクロ〔3,1,0]ヘキサン(式LX:L1部分のR
3とR4は共に水素、gは1、R7はn−ブチル、Rl
,R53及びR66は水素、及び〜はエンド)。
で抽出する。有機相を塩水で洗い、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、減圧下に残留物0.279まで濃縮する。残
留物をンリカゲ゛ルクロマトグラフイにかけ、スケリソ
ブルB中の25〜35(f)酢酸エチルで溶離すると、
式LX表題化合物を油0.21gとして生ずる。NMR
のピークは0.87,0.6〜3.25,3.88〜4
.35,4.82〜5.92及び647〜7.33δ0
Rf0.13(スケリソルブB甲の25%酢酸エチル甲
でのシリカゲル上のTLC)。G.2−エキソ−{m−
〔(カルボキシ)メトキシ〕ベンジル}−3−エキソ−
ヒドロキシ−6−エンド−(シス一1−ヘプテニル)ビ
シクロ〔3,1,0]ヘキサン(式LX:L1部分のR
3とR4は共に水素、gは1、R7はn−ブチル、Rl
,R53及びR66は水素、及び〜はエンド)。
式LXジオールすなわち2−エキソ(mヒドロキシベン
ジル)−3−エキソ−ヒドロキシ−6−エンド−(シス
一1−ヘブテニル)ビシクロ〔3,1,0〕ヘキサン(
F部、0.19f!)をジオキサン8m1中でプロモ酢
酸0.61f!及び1N水酸化ナトリウム水溶液6m1
で処理する。
ジル)−3−エキソ−ヒドロキシ−6−エンド−(シス
一1−ヘブテニル)ビシクロ〔3,1,0〕ヘキサン(
F部、0.19f!)をジオキサン8m1中でプロモ酢
酸0.61f!及び1N水酸化ナトリウム水溶液6m1
で処理する。
必要な時約10のPHを保持するため水酸化ナトリウム
溶液を加えながら混合物を還流下に3時間加熱してから
、混合物を冷却し、水100m1で希釈し、ジエチルエ
ーテルで抽出する。水相をPHl〜2まで酸性にし、酢
酸エチルで抽出すると、式LX表題化合物の薄黄色の油
0.209を生ずる。回収された式LXジオールは乾燥
と濃縮によりジエチル1−テル有機相から得られる。0
.0259。
溶液を加えながら混合物を還流下に3時間加熱してから
、混合物を冷却し、水100m1で希釈し、ジエチルエ
ーテルで抽出する。水相をPHl〜2まで酸性にし、酢
酸エチルで抽出すると、式LX表題化合物の薄黄色の油
0.209を生ずる。回収された式LXジオールは乾燥
と濃縮によりジエチル1−テル有機相から得られる。0
.0259。
H.3−オキサ−3,7−インターm−フエニレンー4
,5,6−トリノル一PGF,a(式LXX:L,部分
のR3とR4及びM1部分のR5とR6はすべて水素、
R7はn−ブチル、gは1、及びR1は水素)合合衆国
特許第3711515号に明らかにされた手順を応用し
て、式LXアルケンは表題化合物へ転化される。
,5,6−トリノル一PGF,a(式LXX:L,部分
のR3とR4及びM1部分のR5とR6はすべて水素、
R7はn−ブチル、gは1、及びR1は水素)合合衆国
特許第3711515号に明らかにされた手順を応用し
て、式LXアルケンは表題化合物へ転化される。
このように化合物LX(G部)は、四酸化オスミウムを
単独で、又はN−メチルモルホリンオキシド−過酸化水
素錯体と組合わせて使用して、この特許の参考例6の手
順により、図Bの式LXグリコールヘヒドロキシル化さ
れる。次にグリコールは(1)この特許の参考例7の手
順を応用して、スルホン化きれると例えばビスタンレー
トを生じ、次に表題化合物とその15一エピマ一との混
合物へ加水分解されるか、又は(2)この特許の参考例
20と21の手順を応用して実質的に100(!)の蟻
酸で処理されるとLXのジフオルメートを生じ、次に表
題化合物とその15エピマーとの混合物へ加水分解され
る。
単独で、又はN−メチルモルホリンオキシド−過酸化水
素錯体と組合わせて使用して、この特許の参考例6の手
順により、図Bの式LXグリコールヘヒドロキシル化さ
れる。次にグリコールは(1)この特許の参考例7の手
順を応用して、スルホン化きれると例えばビスタンレー
トを生じ、次に表題化合物とその15一エピマ一との混
合物へ加水分解されるか、又は(2)この特許の参考例
20と21の手順を応用して実質的に100(!)の蟻
酸で処理されるとLXのジフオルメートを生じ、次に表
題化合物とその15エピマーとの混合物へ加水分解され
る。
エピマー類をシリカゲルクロマトグラフイによつて分離
すると、表題化合物とその15−エピマーを生ずる。グ
リコールLXから化合物LXXへの第 三の径路は環式オルトエステルを経由するものである。
すると、表題化合物とその15−エピマーを生ずる。グ
リコールLXから化合物LXXへの第 三の径路は環式オルトエステルを経由するものである。
式申R74,R75及び〜は上に定義されたとおりであ
る。
る。
グリコールをベンゼン中の1〜20%溶液として、トリ
メチルオルトフオルメート(15〜10モル当量)及び
触媒量(グリコール重量の1%)のピリジン塩酸塩で約
25℃で 二処理する。反応をTLC(薄層クロマトグ
ラフイ)で追跡し、数分で完了する。こうして100%
収率で環式オルトエステルが得られる。次に環式オルト
エステルを20容量の100%蟻酸により約25℃で処
理する。
メチルオルトフオルメート(15〜10モル当量)及び
触媒量(グリコール重量の1%)のピリジン塩酸塩で約
25℃で 二処理する。反応をTLC(薄層クロマトグ
ラフイ)で追跡し、数分で完了する。こうして100%
収率で環式オルトエステルが得られる。次に環式オルト
エステルを20容量の100%蟻酸により約25℃で処
理する。
約10分で (反応混合物を水又は重炭酸アルカリの水
容液で停止させ、ジクロロメタンで抽出する。有機相を
5%重炭酸ナトリウム水浴液と共に振とうし、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、濃縮すると、対応するジエステルを
生ずる。ジエステルを10〜 550容量の無水メタノ
ール及びその重量の10〜20%の炭酸カリウムと25
℃で、エステル基が除去されるまで接触させる。こうし
て得られる15−エピマー類混合物を分離すると、式L
XX化合物又はその15−エピマーを生ずる。1.2−
エキソ−〔m−(2−カルボキシエチノリベンジル〕−
3−エキソ−ヒドロキシ−6−ニンド(シス一1−ヘプ
テノ(ハ)ピングロー〔3,1,0〕ヘキサン(式LX
XXl:Z3はメチレン、gは1、L,部分のR3とR
4は水素、R,はn−ブチル、R1とR,,は水素、及
び〜はエンド)図Cに関して、まず式LXXVIオキセ
タンがつくられる。
容液で停止させ、ジクロロメタンで抽出する。有機相を
5%重炭酸ナトリウム水浴液と共に振とうし、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、濃縮すると、対応するジエステルを
生ずる。ジエステルを10〜 550容量の無水メタノ
ール及びその重量の10〜20%の炭酸カリウムと25
℃で、エステル基が除去されるまで接触させる。こうし
て得られる15−エピマー類混合物を分離すると、式L
XX化合物又はその15−エピマーを生ずる。1.2−
エキソ−〔m−(2−カルボキシエチノリベンジル〕−
3−エキソ−ヒドロキシ−6−ニンド(シス一1−ヘプ
テノ(ハ)ピングロー〔3,1,0〕ヘキサン(式LX
XXl:Z3はメチレン、gは1、L,部分のR3とR
4は水素、R,はn−ブチル、R1とR,,は水素、及
び〜はエンド)図Cに関して、まず式LXXVIオキセ
タンがつくられる。
C部の手順に従うが、C部のm−アセトキシベンズアル
デヒドの代わりに〔式中R6,は上に定義されたとおり
〕 のアルデヒドを使用して、十分に発達した傾鎖をもつ対
応した式LXXオキセタン類が得られる。
デヒドの代わりに〔式中R6,は上に定義されたとおり
〕 のアルデヒドを使用して、十分に発達した傾鎖をもつ対
応した式LXXオキセタン類が得られる。
次に図D,E及びFの手順に従うが、D部の式LX川オ
キセタンの代わりにこの部の前節の手順で得られるオキ
セタンを使用して、対応する式LXXXI生成物が得ら
れる。
キセタンの代わりにこの部の前節の手順で得られるオキ
セタンを使用して、対応する式LXXXI生成物が得ら
れる。
最後に、各々のLXXXI化合物上の封鎖基を本発明細
書に明ら刀・にされた方法又はこの技術に知られた方法
によつて除去すると、式J.3,7−インターm−フエ
ニレン一4,5,6−トリノール−PGF,a(式LX
XXIV:R,は水素、L1部分のR3とR4及びM,
部分のR5とR6は水素、R7はn−ブチル、gは1、
Yはトランス一CH=CH一及びZ3は−CH2−)。
書に明ら刀・にされた方法又はこの技術に知られた方法
によつて除去すると、式J.3,7−インターm−フエ
ニレン一4,5,6−トリノール−PGF,a(式LX
XXIV:R,は水素、L1部分のR3とR4及びM,
部分のR5とR6は水素、R7はn−ブチル、gは1、
Yはトランス一CH=CH一及びZ3は−CH2−)。
H部の手順に従つて、式LXXXアルケンは幾つかの段
階で式LXXXIV化合物へ転化される。
階で式LXXXIV化合物へ転化される。
参考例14に述べる手順に従うが、種々の代わりの中間
体及び出発材料を使用して、本明細書で明らかにされた
種々の3−オキサ−3,7−インターm−フエニレンニ
又は3,7−インターm−フエニレン4,5,6−トリ
ノル一PGFla型化合物類がつくられる。参考例 1
5 PGD2又はPGD2メチルエステル(式CK)図E参
照。
体及び出発材料を使用して、本明細書で明らかにされた
種々の3−オキサ−3,7−インターm−フエニレンニ
又は3,7−インターm−フエニレン4,5,6−トリ
ノル一PGFla型化合物類がつくられる。参考例 1
5 PGD2又はPGD2メチルエステル(式CK)図E参
照。
A.PGF2a2.O9と塩化メチレン50TLIをn
一ブチルポロニツツアシツド688ηで処理する。
一ブチルポロニツツアシツド688ηで処理する。
反応混合物を激しくかきまぜ、佛とうするまで加熱し、
蒸発中に失われる量と置き代えるため5m1ずつの分量
の塩化メチレンを加える。この手順を約25分続け、塩
化メチレン約20〜25m1を加える。生ずる留出物は
透明になる。次にジヒドロピラン10m1を反応混合物
に加え、続いてビリジン塩酸塩1507n9を加える。
40℃で20時間後、反応は終了し、塩化メチレンを減
圧下に除去し、残留物をメタノール30m1及び3N水
酸化カリウム水溶液13dと一緒にする。
蒸発中に失われる量と置き代えるため5m1ずつの分量
の塩化メチレンを加える。この手順を約25分続け、塩
化メチレン約20〜25m1を加える。生ずる留出物は
透明になる。次にジヒドロピラン10m1を反応混合物
に加え、続いてビリジン塩酸塩1507n9を加える。
40℃で20時間後、反応は終了し、塩化メチレンを減
圧下に除去し、残留物をメタノール30m1及び3N水
酸化カリウム水溶液13dと一緒にする。
生ずる溶液を2時間放置してから、30%過酸化ナトリ
ウム5m1及び水30m1で処理する。メタノールを減
圧下に除去し、水性残留物を水100m1で希釈し、ジ
エチルエーテルで2回抽出する。次に水層を2N重硫酸
カリウム水溶液25m1で酸性化し、酢酸エチルで抽出
する。有機抽出液を一緒にして塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。減圧下の溶媒除去は油3.39
を生ずる。これを酸洗浄シリカゲル100g上のクロマ
トグラフイにかける。カラムにヘキサン中の75%酢酸
エチルで詰めてそれで溶離する。こうして式CIVPG
F2al5一(テトラヒドロピラニルエーテル)が得ら
れる。B.アセトン75m1中のPGF2al5−(テ
トラヒドロビラニルエーテル)29を−45℃に冷却す
る。
ウム5m1及び水30m1で処理する。メタノールを減
圧下に除去し、水性残留物を水100m1で希釈し、ジ
エチルエーテルで2回抽出する。次に水層を2N重硫酸
カリウム水溶液25m1で酸性化し、酢酸エチルで抽出
する。有機抽出液を一緒にして塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。減圧下の溶媒除去は油3.39
を生ずる。これを酸洗浄シリカゲル100g上のクロマ
トグラフイにかける。カラムにヘキサン中の75%酢酸
エチルで詰めてそれで溶離する。こうして式CIVPG
F2al5一(テトラヒドロピラニルエーテル)が得ら
れる。B.アセトン75m1中のPGF2al5−(テ
トラヒドロビラニルエーテル)29を−45℃に冷却す
る。
次にジヨーンズ試薬12miで処理する。混合物を−3
5ヨないし−45℃で30分かきまぜ、次いでイソプロ
パノール0.5m1で処理し、更に15分かきまぜる。
反応混合物を氷、水、ジエチルエーテルの混合物中に注
ぐ。次にジエチルエーテルで抽出し、一緒にしたエーテ
ル抽出液を塩水で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥する。
ろ過後、溶媒除去は回転蒸発によつて進行する。こうし
て得られる粗生成物1.8gをシリカゲル3609上の
クロマトグラフイにかけ、ヘキサン中の45%酢酸エチ
ルで溶離する。PGD2l5−テトラヒドロピラニノレ
エーテル800m9が得られる。C.酢酸20dと水1
0m1中におけるPGD2l5一(テトラヒドロピラニ
ルエーテノ(ハ)800ηを40℃で2時間加熱し、次
に水100m1で希釈してから凍結乾燥させる。
5ヨないし−45℃で30分かきまぜ、次いでイソプロ
パノール0.5m1で処理し、更に15分かきまぜる。
反応混合物を氷、水、ジエチルエーテルの混合物中に注
ぐ。次にジエチルエーテルで抽出し、一緒にしたエーテ
ル抽出液を塩水で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥する。
ろ過後、溶媒除去は回転蒸発によつて進行する。こうし
て得られる粗生成物1.8gをシリカゲル3609上の
クロマトグラフイにかけ、ヘキサン中の45%酢酸エチ
ルで溶離する。PGD2l5−テトラヒドロピラニノレ
エーテル800m9が得られる。C.酢酸20dと水1
0m1中におけるPGD2l5一(テトラヒドロピラニ
ルエーテノ(ハ)800ηを40℃で2時間加熱し、次
に水100m1で希釈してから凍結乾燥させる。
残留物をヘキサン中の20%酢酸エチルと共に詰めた酸
洗浄シリカゲル509上のクロマトグラフイにかける。
ヘキサン中の35〜6501)酢酸エチルで溶離すると
、無色の油500ηを生ずる。これは放置しておくと結
晶化する。融点は62.8〜63.3℃。実施例15の
手順に従うが、本明細書に記載の、又はこの技術に知ら
れた種々のPGFaの型化合物類の任意のものを使用し
て、対応するPGD型化合物がつくられる。
洗浄シリカゲル509上のクロマトグラフイにかける。
ヘキサン中の35〜6501)酢酸エチルで溶離すると
、無色の油500ηを生ずる。これは放置しておくと結
晶化する。融点は62.8〜63.3℃。実施例15の
手順に従うが、本明細書に記載の、又はこの技術に知ら
れた種々のPGFaの型化合物類の任意のものを使用し
て、対応するPGD型化合物がつくられる。
参考例 16
9−デオキシ−9,10−ジデヒドロ−PGD,(式C
X:R1は水素、Z,はシス一CH−CH−(CH2)
3、Yはトランス−CH=CH−、L1部分のR3とR
4及びM,部分のR5はすべて水素、及びR7はn−ブ
チノ(ハ)図Eを参照。
X:R1は水素、Z,はシス一CH−CH−(CH2)
3、Yはトランス−CH=CH−、L1部分のR3とR
4及びM,部分のR5はすべて水素、及びR7はn−ブ
チノ(ハ)図Eを参照。
多くのPGD2を(PGD2より)極性の低い不純物の
約3.99が溶離液フラクシヨンから得られるまでシリ
カゲルクロマトグラフイにかける。
約3.99が溶離液フラクシヨンから得られるまでシリ
カゲルクロマトグラフイにかける。
次に極性のより低い不純物3.99を、塩化メチレン中
の5%アセトンと共に詰めたシリカゲル11.2g上の
クロマトグラフイにかけ、塩化メチレン申の10〜15
%アセトンで溶離する。こうして得られる部分的に精製
された表題生成物1.29を、酢酸エチル、メタノール
及びクロロホルム(1:1:18)と共に詰めた中性シ
リカゲル2009上のクロマトグラフイにかける。この
カラムを酢酸エチル、メタノール及びクロロホルム(1
:1:48)800m1で洗い、その後上の部分的に精
製された生成物をカラムに加える。酢酸エチル、メタノ
ール及びクロロホルム(1:1:48)で溶離すると、
純粋な生成物を生ずる。参考例 179−デオキシ−P
GD2 図Eを参照。
の5%アセトンと共に詰めたシリカゲル11.2g上の
クロマトグラフイにかけ、塩化メチレン申の10〜15
%アセトンで溶離する。こうして得られる部分的に精製
された表題生成物1.29を、酢酸エチル、メタノール
及びクロロホルム(1:1:18)と共に詰めた中性シ
リカゲル2009上のクロマトグラフイにかける。この
カラムを酢酸エチル、メタノール及びクロロホルム(1
:1:48)800m1で洗い、その後上の部分的に精
製された生成物をカラムに加える。酢酸エチル、メタノ
ール及びクロロホルム(1:1:48)で溶離すると、
純粋な生成物を生ずる。参考例 179−デオキシ−P
GD2 図Eを参照。
A.参考例16の手順に従つて、参考例15のA部の反
応生成物を脱水すると、9,10−ジデヒドロ−9−デ
オキシ−PGD2l5−テトラヒドロピラニルエーテル
を生ずる。
応生成物を脱水すると、9,10−ジデヒドロ−9−デ
オキシ−PGD2l5−テトラヒドロピラニルエーテル
を生ずる。
B.−20℃で窒素雰囲気下にメタノール甲の溶解され
た段階Aの反応生成物のかきまぜた溶液に、水及びメタ
ノール甲の水素化ナトリウムほうそ(ソジユームボロハ
イドライド)の溶液を加える。
た段階Aの反応生成物のかきまぜた溶液に、水及びメタ
ノール甲の水素化ナトリウムほうそ(ソジユームボロハ
イドライド)の溶液を加える。
生ずる混合物を20分かきまぜ、酢酸を注意深く加える
。生ずる混合物を濃縮し、水を加え、…をくえん酸添加
によつて約3へ調整する。混合物をジクロロメタンで抽
出し、一緒にした有機の抽出液を水と塩水とで洗い、乾
燥して濃縮すると式CXX化合物を生ずる。C.−20
℃でアセトン中に溶解された段階Bの反応生成物の溶液
にかきまぜながら、ジヨーンズ試薬(三酸化クロム、水
及び濃硫酸)を1分間に亘づて加える。
。生ずる混合物を濃縮し、水を加え、…をくえん酸添加
によつて約3へ調整する。混合物をジクロロメタンで抽
出し、一緒にした有機の抽出液を水と塩水とで洗い、乾
燥して濃縮すると式CXX化合物を生ずる。C.−20
℃でアセトン中に溶解された段階Bの反応生成物の溶液
にかきまぜながら、ジヨーンズ試薬(三酸化クロム、水
及び濃硫酸)を1分間に亘づて加える。
生ずる混合物を−20℃で20分かきまぜ、次にイソプ
ロパノールを加え、混合物を−20℃で更に10分かき
まぜる。次に混合物を水で希釈し、ジエチルエーテルで
抽出する。エーテル抽出液を水と塩水で洗い、乾燥して
濃縮する。次に残留物をシリカゲル上のクロマトグラフ
イにかけると、純粋な式CXIV生成物を生ずる。D.
表題化合物は、参考例12の手順によつてC一15封鎖
基の加水分解によつてつくられる。
ロパノールを加え、混合物を−20℃で更に10分かき
まぜる。次に混合物を水で希釈し、ジエチルエーテルで
抽出する。エーテル抽出液を水と塩水で洗い、乾燥して
濃縮する。次に残留物をシリカゲル上のクロマトグラフ
イにかけると、純粋な式CXIV生成物を生ずる。D.
表題化合物は、参考例12の手順によつてC一15封鎖
基の加水分解によつてつくられる。
参考例16又は17の手順に従つて、参考例15の後に
述べたPGD型化合物類の各々に対応する9−デオキシ
−9,10−ジデヒドロ−PGD一又は9−デオキシ−
PGD型化合物類がつくられる。参考例 18 2,2−ジフルオロ−16−フエノキシ一17,18,
19,20−テトラノル一PGFlaビス−(テトラヒ
ドロピラニルエーテノリ参考例9の反応生成物220η
、木炭上の5%バラジウム40η、及び酢酸エチル16
m1の混合物を水素下に約0℃で、実質的にすべての出
発材料が薄層クロマトグラフイで示されるとおりに消費
される時までかきまぜる。
述べたPGD型化合物類の各々に対応する9−デオキシ
−9,10−ジデヒドロ−PGD一又は9−デオキシ−
PGD型化合物類がつくられる。参考例 18 2,2−ジフルオロ−16−フエノキシ一17,18,
19,20−テトラノル一PGFlaビス−(テトラヒ
ドロピラニルエーテノリ参考例9の反応生成物220η
、木炭上の5%バラジウム40η、及び酢酸エチル16
m1の混合物を水素下に約0℃で、実質的にすべての出
発材料が薄層クロマトグラフイで示されるとおりに消費
される時までかきまぜる。
次に生ずる混合物を触媒除去のためろ過し、残留物を減
圧下に濃縮し、クロマトグラフイにかけると、表題化合
物を生ずる。参考例18の手順に従つて、種々のPGF
2a又は11−デオキシ−PGF2a型化合物の各々は
、対応する11−デオキシ−PGFla一又はPGF,
a型化合物に転化される。
圧下に濃縮し、クロマトグラフイにかけると、表題化合
物を生ずる。参考例18の手順に従つて、種々のPGF
2a又は11−デオキシ−PGF2a型化合物の各々は
、対応する11−デオキシ−PGFla一又はPGF,
a型化合物に転化される。
参考例 19
シス一4,5−ジデヒドロ−15−メチル−17−フエ
ニル一18,19,20−トリノル一11−デオキシ−
PGE2aメチルエステルジクロロメタン47n1中に
おける参考例10の反応生成物の溶液に、三酸化クロム
0.269、ピリジン0.4m11及びジクロロメタン
167!11からつくられる溶液を加,える。
ニル一18,19,20−トリノル一11−デオキシ−
PGE2aメチルエステルジクロロメタン47n1中に
おける参考例10の反応生成物の溶液に、三酸化クロム
0.269、ピリジン0.4m11及びジクロロメタン
167!11からつくられる溶液を加,える。
混合物を約0℃で5分及び約25℃で5分かきまぜる。
次に生ずる生成物を酢酸エチル10TfL1で希釈し、
シリカゲルに通してろ過する。生ずる混合物を濃縮する
と表題化合物を生ずる。参考例19の手順に従つて、上
記の種々のPGFa一又は11−デオキシ−PGFa型
化合物類の各々は、対応するPGE一又は11−デオキ
シ−PGE型化合物に転化される。
次に生ずる生成物を酢酸エチル10TfL1で希釈し、
シリカゲルに通してろ過する。生ずる混合物を濃縮する
と表題化合物を生ずる。参考例19の手順に従つて、上
記の種々のPGFa一又は11−デオキシ−PGFa型
化合物類の各々は、対応するPGE一又は11−デオキ
シ−PGE型化合物に転化される。
参考例 20
シス一4,5−ジデヒドロ−15−メチ一17−フエニ
ル一11−デオキシ−PGF2aメチルエステノレメタ
ノール20d中における参考例19の反応生成物の溶液
を−10℃に冷却する。
ル一11−デオキシ−PGF2aメチルエステノレメタ
ノール20d中における参考例19の反応生成物の溶液
を−10℃に冷却する。
この冷却された混合物にナトリウムポロハイドライド8
0ワを加える。生ずる混合物を−100ないし−20℃
で40分かきまぜてから、酢酸及び水(1:1)混合物
2.5m1を加える。この混合物を減圧下に蒸発させ、
残留物を酢酸エチル及び水と共に振とうする。次に有機
相を重炭酸ナトリウム水溶液及び飽和塩水で洗い、硫酸
マグネシウム上で乾燥し、蒸発させると、粗生成物を生
じ、これをシリカゲル上のクロマトグラフイにかけると
、純粋な表題IUソ化合物を生ずる。
0ワを加える。生ずる混合物を−100ないし−20℃
で40分かきまぜてから、酢酸及び水(1:1)混合物
2.5m1を加える。この混合物を減圧下に蒸発させ、
残留物を酢酸エチル及び水と共に振とうする。次に有機
相を重炭酸ナトリウム水溶液及び飽和塩水で洗い、硫酸
マグネシウム上で乾燥し、蒸発させると、粗生成物を生
じ、これをシリカゲル上のクロマトグラフイにかけると
、純粋な表題IUソ化合物を生ずる。
参考例20の手順に従つて、種々のPGE一又は11−
デオキシ−PGE型化合物類の各々は、対応するPGF
β一又は11−デオキシ−PGFβ型化合物類へ転化さ
れる。
デオキシ−PGE型化合物類の各々は、対応するPGF
β一又は11−デオキシ−PGFβ型化合物類へ転化さ
れる。
参考例 21
シス一4,5−ジデヒドロ−15−メチル−17−フエ
ニル一18,19,20−トリノル一11−デオキシ−
PGA2メチルエステル参考例19の反応生成物、テト
ラヒドロフラン47n11及び0.5N塩酸4WL1の
溶液を25℃で24時間放置する。
ニル一18,19,20−トリノル一11−デオキシ−
PGA2メチルエステル参考例19の反応生成物、テト
ラヒドロフラン47n11及び0.5N塩酸4WL1の
溶液を25℃で24時間放置する。
塩水及びジクロロメタン−エーテル(1:3)を加え、
混合物をかきまぜる。有機相を分離して乾燥し、濃縮す
る。残宙物をジエチルエーテルに溶解し、生ずる溶液を
重炭酸ナトリウム飽和水溶液で抽出する。水相を希塩酸
で酸性にし、ジクロロメタンで抽出する。この抽出液を
乾燥し濃縮すると表題化合物を生ずる。参考例21の手
順に従つて、参考例19の後に述べる種々のPGE型化
合物の各々は対応するPGA型化合物に転化される。
混合物をかきまぜる。有機相を分離して乾燥し、濃縮す
る。残宙物をジエチルエーテルに溶解し、生ずる溶液を
重炭酸ナトリウム飽和水溶液で抽出する。水相を希塩酸
で酸性にし、ジクロロメタンで抽出する。この抽出液を
乾燥し濃縮すると表題化合物を生ずる。参考例21の手
順に従つて、参考例19の後に述べる種々のPGE型化
合物の各々は対応するPGA型化合物に転化される。
参考例 22
2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−2,2−ジ
フルオロ−16−フエノキシ一17,18,19,20
−テトラノル一PGF2a(式CXX:Z1はシス一C
H−CH−(CH2)2CF2−、Yはトランス−CH
=CH−、R7はフエノキシ、及びL1部分のR3とR
4及びM1部分はすべて水素)図Fを参照。
フルオロ−16−フエノキシ一17,18,19,20
−テトラノル一PGF2a(式CXX:Z1はシス一C
H−CH−(CH2)2CF2−、Yはトランス−CH
=CH−、R7はフエノキシ、及びL1部分のR3とR
4及びM1部分はすべて水素)図Fを参照。
A.水素化アルミニウムリチウム2.09とジエチルエ
ーテル100wL1の懸濁液を窒素雰囲気下に調製し、
次にジエチルエーテル100m1中における2,2−ジ
フルオロ−16−フエノキシ一17,18,19,20
−テトラノル一PGF2all,l5−ビス−(テトラ
ヒドロピラニルエーテル)、メチルエステル6.29の
溶液を徐々に加える。
ーテル100wL1の懸濁液を窒素雰囲気下に調製し、
次にジエチルエーテル100m1中における2,2−ジ
フルオロ−16−フエノキシ一17,18,19,20
−テトラノル一PGF2all,l5−ビス−(テトラ
ヒドロピラニルエーテル)、メチルエステル6.29の
溶液を徐々に加える。
反応混合物を15分かきまぜ、過剰の還元剤を酢酸エチ
ル及び水の注意深い添加によつて分解する。沈殿した無
機材料をろ過し、残留物をジエチルエーテルでゆすぐ。
一緒にしたエーテル抽出液を濃縮すると、粗生成物を生
ずる。B.A部に述べる粗生成物は、参考例12に述べ
る手順によつて加水分解される。
ル及び水の注意深い添加によつて分解する。沈殿した無
機材料をろ過し、残留物をジエチルエーテルでゆすぐ。
一緒にしたエーテル抽出液を濃縮すると、粗生成物を生
ずる。B.A部に述べる粗生成物は、参考例12に述べ
る手順によつて加水分解される。
参考例22の手順に従つて、上記の種々のPGFa一又
はPGFβ型化合物の各々は、対応する2−デカルボキ
シ一2−ヒドロキシ−メチル−PGFa一又はPGFβ
型化合物に転化される。
はPGFβ型化合物の各々は、対応する2−デカルボキ
シ一2−ヒドロキシ−メチル−PGFa一又はPGFβ
型化合物に転化される。
参考例 232−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル
−5−オキサ−PGE2図Fを参照。
−5−オキサ−PGE2図Fを参照。
A.合衆国特許第3636120号の参考例3,4又は
5の手順に従い、(出発材料として参考例13の生成物
を使用して参考例19で述べた手順に従つてつくられる
)5−オキサ−PGE2を使用して、それぞれ出発材料
のオキシム、メトキシム、又はセミカルパゾンがつくら
れる。
5の手順に従い、(出発材料として参考例13の生成物
を使用して参考例19で述べた手順に従つてつくられる
)5−オキサ−PGE2を使用して、それぞれ出発材料
のオキシム、メトキシム、又はセミカルパゾンがつくら
れる。
B.合衆国特許第3636120号の参考例6又は7の
手順に従つて、本参考例のA部の反応生成物は対応する
2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGE型化
合物に転化される。C.合衆国特許第3636120号
の例8の手順に従つて、B部の反応生成物は表題生成物
へ転化される。参考例23の手順に従うが、A部のオキ
シム、メトキシム又はセミカルパゾン形成の代わりにエ
エレンケタール化、及びC部のオキシム、メトキシム又
はセミカルパゾン除去の代わりに脱エチレンケタール化
を使用して、表題生成物がつくられる。
手順に従つて、本参考例のA部の反応生成物は対応する
2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−PGE型化
合物に転化される。C.合衆国特許第3636120号
の例8の手順に従つて、B部の反応生成物は表題生成物
へ転化される。参考例23の手順に従うが、A部のオキ
シム、メトキシム又はセミカルパゾン形成の代わりにエ
エレンケタール化、及びC部のオキシム、メトキシム又
はセミカルパゾン除去の代わりに脱エチレンケタール化
を使用して、表題生成物がつくられる。
参考例23の手順に従うが、上記のPGF型化合物類の
任意のものを使用して、対応する2−デカルボキシ一2
−ヒドロキシメチル−PGE型化合物がつくられる。
任意のものを使用して、対応する2−デカルボキシ一2
−ヒドロキシメチル−PGE型化合物がつくられる。
最後に、参考例23の手順に従うが、上記の種種のPG
Dl9−デオキシ−PGDl9,lO−ジデヒドロ−9
−デオキシ−PGDlll−デオキシ−PGE又はPG
A型化合物の各々を使用して、対応する2−デカルボキ
シ一2−ヒドロキシメチル−PG型化合物がつくられる
。
Dl9−デオキシ−PGDl9,lO−ジデヒドロ−9
−デオキシ−PGDlll−デオキシ−PGE又はPG
A型化合物の各々を使用して、対応する2−デカルボキ
シ一2−ヒドロキシメチル−PG型化合物がつくられる
。
参考例 24
2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチルーシス一4,
5−ジデヒドロ−PGFla、2−デカルボキシ一2−
ヒドロキシメチルーシス一4,5−ジデヒドロ−PGE
,、又は2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチルーシ
ス一4,5−ジデヒドローPGAl(式CXXXV又は
式CXXX:Z6はシス一CH2−CH=CH−(CH
2)2−、Yは′ ゝトランス−CH=CH−、M
,8はHOH又はIIlLl部分のR3とR4及びM1
部分のR5はすべて水素、及びR7はn−ブチノ(ハ)
図Gを参照。
5−ジデヒドロ−PGFla、2−デカルボキシ一2−
ヒドロキシメチルーシス一4,5−ジデヒドロ−PGE
,、又は2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチルーシ
ス一4,5−ジデヒドローPGAl(式CXXXV又は
式CXXX:Z6はシス一CH2−CH=CH−(CH
2)2−、Yは′ ゝトランス−CH=CH−、M
,8はHOH又はIIlLl部分のR3とR4及びM1
部分のR5はすべて水素、及びR7はn−ブチノ(ハ)
図Gを参照。
A.参考例8の手順に従うが、そこで使われているラク
トール出発材料の代わりに参考例7の反応生成物を使用
し、4,4−ジフルオロ−4−カルボキシブチルトリフ
エニルホスホニウムブロマイドの代わりに(4−テトラ
ヒドロビラニロキシブチル)トリフエニルホスホニウム
ブロマイドを使用して、2−デカルボキシ一2−テトラ
ヒドロピラニロキシメチルーシス一4,5−ジデヒドロ
−PGF,all,l5−ビス−(テトラヒドロピラニ
ルエーテノリがつくられる。
トール出発材料の代わりに参考例7の反応生成物を使用
し、4,4−ジフルオロ−4−カルボキシブチルトリフ
エニルホスホニウムブロマイドの代わりに(4−テトラ
ヒドロビラニロキシブチル)トリフエニルホスホニウム
ブロマイドを使用して、2−デカルボキシ一2−テトラ
ヒドロピラニロキシメチルーシス一4,5−ジデヒドロ
−PGF,all,l5−ビス−(テトラヒドロピラニ
ルエーテノリがつくられる。
B.参考例12の手順に従つて、A部の反応生成物は表
題のPGFla型生成物に加水分解される。C.参考例
19の手順に従つて、A部の反応生成物は対応するPG
E型11,15−ビス−(テトラヒドロピラニルエーテ
ル)へ転化される。次にこの化合物は、参考例12の手
順に従つて、表題のPGEl型生成物へ転化される。D
.参考例21の手順に従つて、C部の反応生成物を脱水
すると、表題のPGAl型生成物を生ずる。
題のPGFla型生成物に加水分解される。C.参考例
19の手順に従つて、A部の反応生成物は対応するPG
E型11,15−ビス−(テトラヒドロピラニルエーテ
ル)へ転化される。次にこの化合物は、参考例12の手
順に従つて、表題のPGEl型生成物へ転化される。D
.参考例21の手順に従つて、C部の反応生成物を脱水
すると、表題のPGAl型生成物を生ずる。
実施例 1
2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−15−メチ
ル−PGF,a又はその15−エピマ図Fを参照。
ル−PGF,a又はその15−エピマ図Fを参照。
A.l5−メチル−PGF2aメチルエステル4.09
をアセトン100m1に溶解し、−45℃に冷却してト
リメチルシリルジエチルアミン15dで処理する。
をアセトン100m1に溶解し、−45℃に冷却してト
リメチルシリルジエチルアミン15dで処理する。
次に反応混合物を−45℃で1時間かきまぜてから−1
0合ないしO℃で1.5時間かきまぜる。シリル化の進
行は、次の溶媒系を使用するシリカゲル薄層クロマトグ
ラフイによつて追跡される。酢酸エチル5007!V,
、メタノール5m1及び水50m1を振とうし、水層を
浩てる。次にTLCプレートにバナリン燐酸試薬を散布
し、加熱する。出発材料はRfO.55を示す。シリル
化生成物はRfO.9Oを示す。反応混合物をジエチル
エーテル500dS.び塩化メチレン1007n1で希
釈し、直ちに重炭酸ナトリウムの冷い希溶液及び塩化ナ
トリウム飽和溶液で洗う。次に混合物を無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥する。次に溶媒を減圧下に40℃で除去
すると、シリル化生成物6.22gを生ずる。ト.A部
の反応生成物をジエチルエーテル1007!Ll中に取
上げ、水素化アルミニウムリチウム3.09及びジエチ
ルエーテル100dの予めつくられた懸濁液に加える。
反応混合物を環境温度で15分かきまぜ、酢酸エチル及
び水の注意深い添加によつて過剰の試薬を分解する。無
機塩を反応混合物からろ過し、ろ液を乾燥して40℃で
減圧下に濃縮すると、4.8gを生ずる。RfO.35
(A部に述べた溶媒系を使用)。で. トリメチルシリ
ル保護基は、O℃でB部の生成物のメタノール溶液20
07111を酢酸10d及び水100m1で処理するこ
とによつて除去される。反応混合物を環境温度で15分
かきまぜ、ジエチルエーテル500m1及び塩化メチレ
ン150m1中に注ぐ。抽出液を重炭酸カリウムの氷冷
希溶液(水100Tn1中39)、重炭酸ナトリウムの
冷い希溶液及び塩水で洗う。生ずる混合物を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、40℃で減圧下に蒸発させると、粗生
成物4.09を生ずる。この生成物を、酢酸エチル40
aで部分的に不活性化されたイ一・タルク製7734シ
リカゲル100g上でクロマトグラフイにより精製する
。カラムを酢酸エチル中の5〜10%メタノールで溶離
すると、粗製出発材料1.30f!当り純粋な表題生成
物1.299を生ずる。RfはA部は述べる溶媒系を使
用して0.50。特徴的なNMR吸収は0.88,1.
28,3.65、及び5.33〜5.58δに見られる
。トリメチルシリル誘導体の質量スペクトルは642,
4330に親ピーク及び627,571,552,53
7,431及び462にその他のピークを示す。
0合ないしO℃で1.5時間かきまぜる。シリル化の進
行は、次の溶媒系を使用するシリカゲル薄層クロマトグ
ラフイによつて追跡される。酢酸エチル5007!V,
、メタノール5m1及び水50m1を振とうし、水層を
浩てる。次にTLCプレートにバナリン燐酸試薬を散布
し、加熱する。出発材料はRfO.55を示す。シリル
化生成物はRfO.9Oを示す。反応混合物をジエチル
エーテル500dS.び塩化メチレン1007n1で希
釈し、直ちに重炭酸ナトリウムの冷い希溶液及び塩化ナ
トリウム飽和溶液で洗う。次に混合物を無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥する。次に溶媒を減圧下に40℃で除去
すると、シリル化生成物6.22gを生ずる。ト.A部
の反応生成物をジエチルエーテル1007!Ll中に取
上げ、水素化アルミニウムリチウム3.09及びジエチ
ルエーテル100dの予めつくられた懸濁液に加える。
反応混合物を環境温度で15分かきまぜ、酢酸エチル及
び水の注意深い添加によつて過剰の試薬を分解する。無
機塩を反応混合物からろ過し、ろ液を乾燥して40℃で
減圧下に濃縮すると、4.8gを生ずる。RfO.35
(A部に述べた溶媒系を使用)。で. トリメチルシリ
ル保護基は、O℃でB部の生成物のメタノール溶液20
07111を酢酸10d及び水100m1で処理するこ
とによつて除去される。反応混合物を環境温度で15分
かきまぜ、ジエチルエーテル500m1及び塩化メチレ
ン150m1中に注ぐ。抽出液を重炭酸カリウムの氷冷
希溶液(水100Tn1中39)、重炭酸ナトリウムの
冷い希溶液及び塩水で洗う。生ずる混合物を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、40℃で減圧下に蒸発させると、粗生
成物4.09を生ずる。この生成物を、酢酸エチル40
aで部分的に不活性化されたイ一・タルク製7734シ
リカゲル100g上でクロマトグラフイにより精製する
。カラムを酢酸エチル中の5〜10%メタノールで溶離
すると、粗製出発材料1.30f!当り純粋な表題生成
物1.299を生ずる。RfはA部は述べる溶媒系を使
用して0.50。特徴的なNMR吸収は0.88,1.
28,3.65、及び5.33〜5.58δに見られる
。トリメチルシリル誘導体の質量スペクトルは642,
4330に親ピーク及び627,571,552,53
7,431及び462にその他のピークを示す。
15−エピ出発材料を使用して、対応する15エピ生成
物がつくられる。
物がつくられる。
辷施例 2
2ニデカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−2a,2b
−ジホモ−15−メチル−PG島。
−ジホモ−15−メチル−PG島。
1ノ5
又はその15−エピマー
図Fを参照。
テトラヒドロフラン40m1中の水素化アルミニウムリ
チウム0.679のかきまぜた混合物に、乾燥テトラヒ
ドロフラン30m1中の2a,2b−ジホモ−15−メ
チル−PGF2aメチルエステル1.09を13分間に
加える。
チウム0.679のかきまぜた混合物に、乾燥テトラヒ
ドロフラン30m1中の2a,2b−ジホモ−15−メ
チル−PGF2aメチルエステル1.09を13分間に
加える。
博層クロマトグラフイによつて反応完了を示される時、
混合物を環境温度で更に35分かきまぜる。混合物を氷
浴中で冷却し、その間に酢酸エチル10m1を滴加し、
続いて水10m1を滴加する。混合物をろ過し、フイル
ターケーキを酢酸エチル757n1で洗う。溶媒を一緒
にしたろ液と洗浄液から40℃で減圧下に蒸発させると
、水を含有する油を生ずる。次にこの材料を酢酸エチル
75m1に溶解し、硫酸マグネシウム上で乾燥させる。
溶媒を蒸発させると、油1.139を生ずる。この油を
シリカゲル509上のクロマトグラフイにかけ、20%
アセトン及び酢酸エチルで溶離する。純粋な表題生成物
を含有するフラクシヨンを一緒にすると、純粋な表題生
成物0.84gを生ずる。トリメチルシリル誘導体に対
する質量スペクトルは、670,4663に親ピークを
示す。NMR吸収は0.7〜1.1,11〜2.8,1
.25,3、48〜3.8,3.8〜4.3及び5.1
5〜5.6δに見られる。赤外線吸収は3340,30
00,2930,2860,1655,1460,11
25,1080,1055、及び970CII1−1に
見られる。上記の手順に従うが、15−エピ−2a,2
b−ジホモ−15−メチル−PGF2aメチルエステル
1.5gを使用して、2−デカルポキシ一2−ヒドロキ
シメチル−15−エピ−2a,2b−ジホモ−15−メ
チル−PGF2al.2l9が薄黄色の油としてつくら
れる。
混合物を環境温度で更に35分かきまぜる。混合物を氷
浴中で冷却し、その間に酢酸エチル10m1を滴加し、
続いて水10m1を滴加する。混合物をろ過し、フイル
ターケーキを酢酸エチル757n1で洗う。溶媒を一緒
にしたろ液と洗浄液から40℃で減圧下に蒸発させると
、水を含有する油を生ずる。次にこの材料を酢酸エチル
75m1に溶解し、硫酸マグネシウム上で乾燥させる。
溶媒を蒸発させると、油1.139を生ずる。この油を
シリカゲル509上のクロマトグラフイにかけ、20%
アセトン及び酢酸エチルで溶離する。純粋な表題生成物
を含有するフラクシヨンを一緒にすると、純粋な表題生
成物0.84gを生ずる。トリメチルシリル誘導体に対
する質量スペクトルは、670,4663に親ピークを
示す。NMR吸収は0.7〜1.1,11〜2.8,1
.25,3、48〜3.8,3.8〜4.3及び5.1
5〜5.6δに見られる。赤外線吸収は3340,30
00,2930,2860,1655,1460,11
25,1080,1055、及び970CII1−1に
見られる。上記の手順に従うが、15−エピ−2a,2
b−ジホモ−15−メチル−PGF2aメチルエステル
1.5gを使用して、2−デカルポキシ一2−ヒドロキ
シメチル−15−エピ−2a,2b−ジホモ−15−メ
チル−PGF2al.2l9が薄黄色の油としてつくら
れる。
トリメチルシリル訪導体に対する質量スペクトルは67
0,4650に親ピーク及び655,599,5805
65,509,490,400,317、及び187に
その他のピークを示す。NMR吸収は0.71〜1.1
,1.1〜2.6,1,25,3.58〜3,8,3.
8〜4.3、及び5.25〜5.6δに見られる。赤外
線吸収は3340,3000,2930,2860,1
655,1460,1125,1180,1055、及
び1070c!n−1に見られる。実施例 32−デカ
ルボキシ一2−ヒドロキシメチル−16,16−ジメチ
ル−PGF2a図Fを参照。
0,4650に親ピーク及び655,599,5805
65,509,490,400,317、及び187に
その他のピークを示す。NMR吸収は0.71〜1.1
,1.1〜2.6,1,25,3.58〜3,8,3.
8〜4.3、及び5.25〜5.6δに見られる。赤外
線吸収は3340,3000,2930,2860,1
655,1460,1125,1180,1055、及
び1070c!n−1に見られる。実施例 32−デカ
ルボキシ一2−ヒドロキシメチル−16,16−ジメチ
ル−PGF2a図Fを参照。
.. 16,16−ジメチル−PGF2all,l5ピ
ス一(テトラヒドロピラニルエーテル)2.8f!をジ
エチルエーテル70d甲に溶解し、ジエチルエーテル3
0m1中の水素化アルミニウムリチウム0.9gの懸濁
液に滴加する。
ス一(テトラヒドロピラニルエーテル)2.8f!をジ
エチルエーテル70d甲に溶解し、ジエチルエーテル3
0m1中の水素化アルミニウムリチウム0.9gの懸濁
液に滴加する。
反応混合物を環境温度で60分かきまぜる。過剰の還元
剤を酢酸エチル及び水の注意深い添加によつて分解する
。有機塩をろ過し、ろ液を減圧下に濃縮すると、2−デ
カルボキシ一2−ヒドロキシメチル−16,16−ジメ
チル−PGF2all,l5−ピス一(テトラヒドロピ
ラニルエーテル)2.399を生ずる。実施例1のA部
で述べた溶媒系を使用して、この生成物のRfは0.8
0である。出発材料のRfは同じ系を使用して0.45
である。B.A部の反応生成物109を酢酸15m11
水7m11及びテトラヒドロフラン2m1中に取上げる
。
剤を酢酸エチル及び水の注意深い添加によつて分解する
。有機塩をろ過し、ろ液を減圧下に濃縮すると、2−デ
カルボキシ一2−ヒドロキシメチル−16,16−ジメ
チル−PGF2all,l5−ピス一(テトラヒドロピ
ラニルエーテル)2.399を生ずる。実施例1のA部
で述べた溶媒系を使用して、この生成物のRfは0.8
0である。出発材料のRfは同じ系を使用して0.45
である。B.A部の反応生成物109を酢酸15m11
水7m11及びテトラヒドロフラン2m1中に取上げる
。
この混合物を40℃まで5時間暖める。生ずる生成物を
水15m1で希釈し、ドライアイス−アセトン浴中で凍
結させる。粗生成物を酢酸エチル40m1で部分的に不
活性化された酢酸エチルで湿潤されたイ一・メルクJモ
V34シリカゲル1009上のクロマトグラフイにかけ
る。カラムを酢酸エチル中のO〜10%メタノールで溶
離すると、純粋な表題生成物438ワを生ずる。特徴的
なNMR吸収は0.85,0.90、及び5.25〜5
.67δに見られる。トリメチルシリル誘導体の質量ス
ペクトルは、656,641,566,557,467
及び441にピークを示す。参考例 26 2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−15−メチ
ル−PGE2図Fを参照。
水15m1で希釈し、ドライアイス−アセトン浴中で凍
結させる。粗生成物を酢酸エチル40m1で部分的に不
活性化された酢酸エチルで湿潤されたイ一・メルクJモ
V34シリカゲル1009上のクロマトグラフイにかけ
る。カラムを酢酸エチル中のO〜10%メタノールで溶
離すると、純粋な表題生成物438ワを生ずる。特徴的
なNMR吸収は0.85,0.90、及び5.25〜5
.67δに見られる。トリメチルシリル誘導体の質量ス
ペクトルは、656,641,566,557,467
及び441にピークを示す。参考例 26 2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−15−メチ
ル−PGE2図Fを参照。
A.2−デカルボキシ一2−ヒドロキシメチル−15−
メチル−PGF2a2.559をアセトン100m1中
に溶解し、トリメチルシリルジエチルアミン15m1に
より−45ないし−40℃で4時間処理する。
メチル−PGF2a2.559をアセトン100m1中
に溶解し、トリメチルシリルジエチルアミン15m1に
より−45ないし−40℃で4時間処理する。
次に実施例1のA部に述べた手順によつて、シリル化反
応生成物を回収する。B6上のA部で侍られた残留物を
コリンズ試薬により15゜Cで15分処理する。
応生成物を回収する。B6上のA部で侍られた残留物を
コリンズ試薬により15゜Cで15分処理する。
この試薬ぼ酸化クロム4.251,ピリジン6.971
L1及び塩化メチレン150m1を15〜 200Cで
45分かきまぜることによつてつくられる。反応混合物
を同じ部のセライトろ過助剤及びイ一 ・メルクJモV3
4シリカゲルの詰物に通してろ過する。生ずる混合物を
減圧下に濃縮し、残留物をベンゼン中に取上げ、上記の
とおりクロム塩を除くためにろ過する。C.B部で得ら
れるろ液を再濃縮すると、粗製シリル化生成物2.61
を生ずる。
L1及び塩化メチレン150m1を15〜 200Cで
45分かきまぜることによつてつくられる。反応混合物
を同じ部のセライトろ過助剤及びイ一 ・メルクJモV3
4シリカゲルの詰物に通してろ過する。生ずる混合物を
減圧下に濃縮し、残留物をベンゼン中に取上げ、上記の
とおりクロム塩を除くためにろ過する。C.B部で得ら
れるろ液を再濃縮すると、粗製シリル化生成物2.61
を生ずる。
これを水100m1に溶解し、シリル基を加水分解する
ために、酢酸5TI11及び水50m1により0たCで
15分処理する。この反応混合物をジエチルエーテル4
00m1及び塩化メチレン100m1中に注ぎ、重炭酸
ナトリウムの冷い希薄溶液及び飽和塩水で洗つてから、
硫酸ナトリウム上で乾燥する。得られる抽出液を濃縮す
ると組生成物1.6yを生じ、これを酢酸エチル65m
1で部分的に不活性されヘキサン中の80(!)酢酸エ
チルで湿潤させたイ一 ・メルクJモV34シリカゲル1
602上でクロマトグラフイにかける。カラムをヘキサ
ン中の80(f)酢酸エチル、酢酸エチル、及び酢酸エ
チル中の501)メタノールで溶離する。こうして純粋
な表題生成物220即が得られる。特徴的なNMR吸収
は0.88,1.30,3.23〜 3.72、及び5
.26〜 5.67aに見られる。
ために、酢酸5TI11及び水50m1により0たCで
15分処理する。この反応混合物をジエチルエーテル4
00m1及び塩化メチレン100m1中に注ぎ、重炭酸
ナトリウムの冷い希薄溶液及び飽和塩水で洗つてから、
硫酸ナトリウム上で乾燥する。得られる抽出液を濃縮す
ると組生成物1.6yを生じ、これを酢酸エチル65m
1で部分的に不活性されヘキサン中の80(!)酢酸エ
チルで湿潤させたイ一 ・メルクJモV34シリカゲル1
602上でクロマトグラフイにかける。カラムをヘキサ
ン中の80(f)酢酸エチル、酢酸エチル、及び酢酸エ
チル中の501)メタノールで溶離する。こうして純粋
な表題生成物220即が得られる。特徴的なNMR吸収
は0.88,1.30,3.23〜 3.72、及び5
.26〜 5.67aに見られる。
特徴的な赤外線吸収は1750及び3400c7rLゝ
に見られる。
に見られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のプロスタグランジン類似体〔式中二重結合はシス、Y
はトランス−CH=CH−であり、M_1は▲数式、化
学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があ
ります▼であつて、ここでR_5は水素又はメチルであ
り、L_1は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数
式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表
等があります▼と▲数式、化学式、表等があります▼と
の混合物であつてR_3とR_4は水素又はメチルであ
り、gは1、2又は3であり、mは1〜5であるが、但
しR_3、R_4及びR_5の少なくとも1つがメチル
であることを条件としている。 〕。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US000000647369 | 1976-01-08 | ||
US05647369 US4032576A (ja) | 1976-01-08 | 1976-01-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5289650A JPS5289650A (en) | 1977-07-27 |
JPS5948822B2 true JPS5948822B2 (ja) | 1984-11-29 |
Family
ID=24596720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52000444A Expired JPS5948822B2 (ja) | 1976-01-08 | 1977-01-07 | Z−デカルボキシ−2−ヒドロキシメチルpgf型化合物 |
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---|---|
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JP (1) | JPS5948822B2 (ja) |
AU (1) | AU502672B2 (ja) |
BE (1) | BE850203A (ja) |
CH (1) | CH628316A5 (ja) |
DE (1) | DE2659216A1 (ja) |
FR (1) | FR2337714A1 (ja) |
NL (1) | NL7700116A (ja) |
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Cited By (1)
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TW197439B (ja) * | 1991-04-04 | 1993-01-01 | Ueno Pharmaceutics Applic Res Co Ltd | |
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US3932463A (en) * | 1974-06-03 | 1976-01-13 | American Cyanamid Company | 11-Deoxy-13-dihydro-prostaglandin-9-ketals |
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- 1976-12-20 ZA ZA767541A patent/ZA767541B/xx unknown
- 1976-12-28 DE DE19762659216 patent/DE2659216A1/de not_active Withdrawn
-
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- 1977-01-07 FR FR7700430A patent/FR2337714A1/fr active Granted
- 1977-01-07 NL NL7700116A patent/NL7700116A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-04-06 US US05/784,994 patent/US4097529A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-04-06 US US05/786,152 patent/US4088694A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-04-06 US US05/786,153 patent/US4139564A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-04-06 US US05/786,151 patent/US4088693A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-08-10 US US05/823,316 patent/USRE29926E/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0312489Y2 (ja) * | 1985-09-13 | 1991-03-25 |
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---|---|
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FR2337714A1 (fr) | 1977-08-05 |
ZA767541B (en) | 1977-11-30 |
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NL7700116A (nl) | 1977-07-12 |
FR2337714B1 (ja) | 1983-05-20 |
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