JPS5933983B2 - Method for manufacturing lead frames for semiconductor devices - Google Patents
Method for manufacturing lead frames for semiconductor devicesInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 7
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 5
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は半導体装置用リードフレームの製造方法に関
し、とくに複数個連結された形状のリードフレームをピ
ッチ精度よく経済的に製造することを目的とする。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device, and in particular, an object of the present invention is to economically manufacture lead frames having a plurality of connected lead frames with high pitch accuracy.
半導体装置に用いられるリードフレームは、た 、とえ
ば第1図に示すように複数個互に連絡された形状のもの
に形成され、それぞれの半導体ペレットの台座にペレッ
トの取着、ワイヤボンディングやモールド加工が加えら
れる。For example, a lead frame used in a semiconductor device is formed into a plurality of interconnected shapes as shown in FIG. Processing is added.
この場合各リードフレーム1間のピッチPにはそれぞれ
公差が定められ、その寸法公差がきびしくきめられる。
そのわけは全体としての寸法公差がある範囲内でないと
半導体装置としての組立作業に支障をきたすことになる
からである。たとえばリードフレームを25個接続して
形成されたものにおいて、各リードフレーム間のピッチ
が5.4±0.035關のとき、図のAの部分の寸法を
118.8±O、o577Iaとすれば、個々のペレッ
トのピッチがO、005u大きいか小さいかで、これら
が累積されてO、lluの誤差となり、Aの部分の規格
寸法にずれが生じて規格を満足せず不具合となる。前記
のリードフレームは第2図に示すような金型によつて連
続打抜き加工をほどこされて形成されるものである。In this case, a tolerance is determined for the pitch P between each lead frame 1, and the dimensional tolerance is strictly determined.
This is because if the overall dimensional tolerance is not within a certain range, assembly work of the semiconductor device will be hindered. For example, in a structure formed by connecting 25 lead frames, if the pitch between each lead frame is 5.4±0.035, then the dimensions of part A in the figure should be 118.8±O, o577Ia. For example, depending on whether the pitch of individual pellets is large or small by O,005u, these will accumulate and result in an error of O,llu, which will cause a deviation in the standard dimension of the part A, which will not satisfy the standard, resulting in a problem. The lead frame described above is formed by continuous punching using a die as shown in FIG.
たとえばリボン状の長尺の銅薄板がこの金型により図の
矢印の方向に搬送されながら順次打抜かれて型抜きされ
、半導体ペレットの台座6とそれをとりまくインナーリ
ードとが各リードを互に橋絡する部分子、8によつて連
接された形状に形成される。したがつて上述したような
Aの部分の寸法公差を所定の値におさめるには、金型の
各リードフレームに対応するピッチ加工精度を0.00
1〜0.002u程度におさえる必要があり、このよう
な金型を製作するには手数がかかり高価となる。また同
一形状のリードフレームを形成するときでもリボン状の
金属板の材質とか厚さや硬度が異なつたときには、金型
による打抜き時の側圧力と材料の各橋絡部分のバランス
が異なるので、それぞれに適応した別々の金型を用いな
ければならず、きわめて不経済である。この発明は前記
の欠点を除去するためになされ、複数個連結された半導
体装置用のリードフレームの改良された製造方法を提供
するものである。For example, a ribbon-shaped long thin copper plate is sequentially punched out while being conveyed in the direction of the arrow in the figure by this mold, and a semiconductor pellet pedestal 6 and an inner lead surrounding it bridge each lead with each other. It is formed in a shape connected by connecting part elements, 8. Therefore, in order to keep the dimensional tolerance of the part A as mentioned above within a predetermined value, the pitch machining accuracy corresponding to each lead frame of the mold should be set to 0.00.
It is necessary to keep the thickness to about 1 to 0.002 u, and manufacturing such a mold is labor-intensive and expensive. Furthermore, even when forming lead frames of the same shape, if the ribbon-shaped metal plates are made of different materials, thicknesses, and hardnesses, the balance between the side pressure during punching with the die and each bridging part of the material will be different. Separate molds must be used, which is extremely uneconomical. The present invention has been made to eliminate the above-mentioned drawbacks and provides an improved method for manufacturing lead frames for semiconductor devices in which a plurality of lead frames are connected.
すなわち金型のリードフレーム間のビツナ寸法を所定寸
法よりやや小さく形成したものを用いて、リホン状金属
板に連続打抜き加工を順次ほどこして、所定の形状が得
られた後、リードフレームのインナーリードの各橋絡部
分にノツチ加工をほどこし、各リードフレーム間のピツ
チをきわめて経済的に所定の値にする。図面を参照して
以下この発明について説明する。In other words, using a mold with a bit smaller dimension between the lead frames than the predetermined size, continuous punching is performed on a ribbon-like metal plate in order, and after the predetermined shape is obtained, the inner leads of the lead frame are formed. Each bridge section of the lead frame is notched to provide a predetermined pitch between each lead frame in a very economical manner. The present invention will be described below with reference to the drawings.
たとえば第2図の金型を用いてリボン状銅板(厚さ0.
35v1)に連続打抜き加工をほどこす場合について考
えると、金型の各リードフレーム間のピツチP1を正規
寸法5.4藺より小さく、すなわち5.395uに製作
し、25個取りのリードフレームを製造する。このとき
は所定のリードフレームの形状に打抜き加工がなされた
後に、リードフレームの各橋絡部分にノツチ加工がほど
こされる。その作業部分は図のC点が該当する。このよ
うにノツチ加工される状態は第3図に示すとおりであつ
て、形成されたリードフレームは第4図に示す。すなわ
ち銅からなる板11上に落下するノツチポンチ12の先
端の突起部13はH=0,12711J1,W=0.2
7V1に設定され、ノツチ加工により銅板に凹部が形成
される。このときリードフレームの打抜き時にその側圧
力により銅板に伸びを生じ←≠印)、ピツチ寸法が3μ
大となる。結局25個連接させて切断し形成したリード
フレーム(その一部を第4図に示す)においては.イン
ナーリード15の各橋絡部16にノツチ加工がほどこさ
れ凹部17が形成されて銅板の寸法が伸び、前記の各リ
ードフレーム間のピツチ寸法は5.4uとなつて、その
公差も0.001vt程度におさまることになる。この
ようにして25個取りの場合には第4図に示すピツチP
の値は所定の値におさまり、第1図におけるAに該当す
る部分の寸法精度も同じく所定の値におさまることにな
る。したがつて各リードフレームへのダイボンダー、ワ
イヤーボンダー工程において半導体ペレツトを順次リー
ドフレームの台座に接着させて行くときなどに位置ずれ
をおこすことなく能率的に作業を行なうことができ、組
立工程の生産性を向上させることができる。また金型の
寸法精度も従来程出さなくてもよいので経済的である。
前記のノツチ加工をほどこして金属板の寸法を少し伸ば
すわけであるが、その必要な伸びの量が微少な場合はノ
ッチポンチの上下の調整で必要な伸びが得られ、この範
囲をこえたときには第3図に示すノッチポンチの楔状の
突起部13の形状(図のW又はH)を適当に変えること
によつて伸びの調整をすることができる。For example, using the mold shown in Figure 2, a ribbon-shaped copper plate (thickness 0.
Considering the case of performing continuous punching on 35v1), the pitch P1 between each lead frame of the mold is made smaller than the standard dimension of 5.4 mm, that is, 5.395 mm, and a 25-cavity lead frame is manufactured. do. At this time, after the lead frame is punched into a predetermined shape, each bridge portion of the lead frame is notched. The work part corresponds to point C in the figure. The notched state is shown in FIG. 3, and the formed lead frame is shown in FIG. 4. That is, the protrusion 13 at the tip of the notch punch 12 falling onto the plate 11 made of copper is H=0, 12711J1, W=0.2.
7V1, and a recess is formed in the copper plate by notching. At this time, when the lead frame was punched, the copper plate elongated due to the pressure on that side (←≠ mark), and the pitch dimension was 3μ.
Becomes large. In the end, 25 pieces were connected and cut into a lead frame (part of which is shown in Figure 4). Each bridging portion 16 of the inner lead 15 is notched to form a recess 17, increasing the dimensions of the copper plate, and the pitch between each lead frame is 5.4u, with a tolerance of 0.001vt. It will come to an extent. In this way, in the case of 25 pieces, the pitch P shown in FIG.
The value of is within a predetermined value, and the dimensional accuracy of the portion corresponding to A in FIG. 1 is also within a predetermined value. Therefore, during the die bonder and wire bonder processes for each lead frame, when semiconductor pellets are sequentially bonded to the pedestal of the lead frame, work can be carried out efficiently without causing positional deviations, and production during the assembly process can be carried out efficiently. can improve sex. It is also economical because the dimensional accuracy of the mold does not have to be as high as conventional methods.
The dimensions of the metal plate are slightly elongated by performing the above-mentioned notch process, but if the amount of elongation required is minute, the necessary elongation can be obtained by adjusting the notch punch up and down, and when this range is exceeded, the size of the metal plate is slightly elongated. The elongation can be adjusted by appropriately changing the shape (W or H in the figure) of the wedge-shaped protrusion 13 of the notch punch shown in FIG.
従来は一つのリードフレームについてみると、相隣れる
リードフレームとのピツチ寸法が誤差範囲に収つていて
も多数個接続させて形成するときには全体長としてその
寸法誤差が規定値に収まらないものが発生していたが、
この発明の方法によつてそのような不具合なことの発生
がなくなり、寸法精度の高いリードフレームが製造でき
る。Conventionally, when looking at one lead frame, even if the pitch between adjacent lead frames falls within the error range, when connecting multiple lead frames to form one, the overall length may not fit within the specified value. It was occurring, but
The method of the present invention eliminates the occurrence of such problems and allows the manufacture of lead frames with high dimensional accuracy.
さらに同一形状のリードフレームを形成するとき、金属
板の材質や厚さなどが異なるとき別々の金型を使用して
いたのが、この発明によりノツチ加工するときのノツチ
ポンチの形状をかえるなどという僅かの調整で同じ金型
を使用してそれぞれ寸法精度が所定の値にされたものが
得られるという利点がある。また、ノツチ加工されてイ
ンナーリードの橋絡部分に凹部が形成されているので、
個々の半導体ペレツトの接着されるリードフレームに分
割するとき、きわめて容易に行なうことができる。Furthermore, when forming lead frames of the same shape, separate molds were used when the material and thickness of the metal plate were different, but with this invention, the shape of the notch punch when punching the notches can be changed. There is an advantage that the same mold can be used to adjust the dimensional accuracy to a predetermined value. In addition, since the notch is formed and a recess is formed in the bridging part of the inner lead,
Dividing the individual semiconductor pellets into bonded lead frames can be done very easily.
この発明の方法を図示した形状のリードフレームについ
て説明したが、これに限ることなく種々の形状のリード
フレームに対しても、また種々の材質の金属板に対して
も、この発明の要旨に従つて寸法精度を得る手段として
それぞれ適切なノツチ加工を行なうことにより同じよう
な効果を示すことは言うまでもなく、この発明の方法は
きわめて寸法精度の高い複数個連結されたリードフレー
ムを能率的かつ経済的に製造することのできるすぐれた
方法である。Although the method of the present invention has been described with respect to a lead frame having the shape shown in the drawing, it is not limited thereto, and the gist of the present invention can be applied to lead frames of various shapes and metal plates made of various materials. It goes without saying that the same effect can be obtained by appropriately notching each lead frame as a means of obtaining dimensional accuracy. This is an excellent method for manufacturing.
第1図は複数個連結されたリードフレームの平面図、第
2図は連続打抜き加工をしてリードフレームを形成する
金型の一部を説明する平面図、第3図は金属板にノツチ
加工をほどこす状態を示す断面図、第4図はインナーリ
ード橋絡部にノツチ加工されたリードフレームのAは平
面図、Bは側面図である。
1・・・・・・リードフレーム、11・・・・・・金属
板、12・・・・・・ノツチポンチ、15・・・・・・
インナーリード、16・・・・・・インナーリードの橋
絡部、17・・・・・・ノツチ加工がほどこされた凹部
。Fig. 1 is a plan view of a plurality of connected lead frames, Fig. 2 is a plan view illustrating a part of a mold that forms the lead frame by continuous punching, and Fig. 3 is a notch cut on a metal plate. FIG. 4 is a plan view of the lead frame in which the inner lead bridging portion is notched, and FIG. 4 is a side view of the lead frame. 1... Lead frame, 11... Metal plate, 12... Notch punch, 15...
Inner lead, 16... Bridging portion of the inner lead, 17... Concave portion subjected to notch processing.
Claims (1)
をほどこし、複数個連結された形状のリードフレームを
製造するにあたり、前記リードフレームにおける半導体
ペレットの台座をとりかこみインナーリードを形成し、
相隣れる前記インナーリード間の各橋絡部にノッチ加工
をほどこして、各リードフレーム間のピッチを所定の値
ならしめることを特徴とする半導体装置用リードフレー
ムの製造方法。1. Perform continuous punching on a ribbon-shaped metal plate using a mold to produce a plurality of connected lead frames, surrounding the pedestal of the semiconductor pellet in the lead frame to form an inner lead,
A method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device, characterized in that notching is performed on each bridge portion between the adjacent inner leads to adjust the pitch between each lead frame to a predetermined value.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5443477A JPS5933983B2 (en) | 1977-05-13 | 1977-05-13 | Method for manufacturing lead frames for semiconductor devices |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5443477A JPS5933983B2 (en) | 1977-05-13 | 1977-05-13 | Method for manufacturing lead frames for semiconductor devices |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53139973A JPS53139973A (en) | 1978-12-06 |
JPS5933983B2 true JPS5933983B2 (en) | 1984-08-20 |
Family
ID=12970597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5443477A Expired JPS5933983B2 (en) | 1977-05-13 | 1977-05-13 | Method for manufacturing lead frames for semiconductor devices |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5933983B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57210651A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-24 | Toshiba Corp | Lead frame and manufacture thereof |
JPS58593U (en) * | 1981-06-25 | 1983-01-05 | 松下電器産業株式会社 | speaker |
JPS5947780A (en) * | 1982-09-13 | 1984-03-17 | Toshiba Corp | Lead frame for semiconductor |
JPS60144248U (en) * | 1984-03-02 | 1985-09-25 | ロ−ム株式会社 | lead frame |
JPS61141164A (en) * | 1984-12-13 | 1986-06-28 | Tamagawa Kikai Kinzoku Kk | Method and device for manufacturing frames for semiconductor devices |
-
1977
- 1977-05-13 JP JP5443477A patent/JPS5933983B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS53139973A (en) | 1978-12-06 |
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