JPS59230642A - 選択的還元脱硝触媒及びそれを使用するガスの脱硝方法 - Google Patents
選択的還元脱硝触媒及びそれを使用するガスの脱硝方法Info
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- JPS59230642A JPS59230642A JP58105680A JP10568083A JPS59230642A JP S59230642 A JPS59230642 A JP S59230642A JP 58105680 A JP58105680 A JP 58105680A JP 10568083 A JP10568083 A JP 10568083A JP S59230642 A JPS59230642 A JP S59230642A
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- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガス中の窒素酸化物(以下、NOxと略称す
る)をアンモニアによって選択的に還元する触媒及び該
触媒を使用する、イオウ酸化物(以下、SOxと略称す
る)が高酸度に存在するNOx含有ガスの脱硝方法に関
するものである。
る)をアンモニアによって選択的に還元する触媒及び該
触媒を使用する、イオウ酸化物(以下、SOxと略称す
る)が高酸度に存在するNOx含有ガスの脱硝方法に関
するものである。
工業プラント、自動車等から排出される排ガス中のNO
xは光化学スモッグの発生原因ともなり得るので、その
効果的処理手段が望まれている。
xは光化学スモッグの発生原因ともなり得るので、その
効果的処理手段が望まれている。
従来から多数の脱硝方法が提案されており、中でもアン
モニアを還元剤とするNOxの接触還元法は、排ガス中
に酸素が多量に共存していても、次式で示されるように
アンモニアが選択的にNOxと反応し、NOxが無害な
窒素ガスと水蒸気に還元されるので好ましい方法とされ
ている。
モニアを還元剤とするNOxの接触還元法は、排ガス中
に酸素が多量に共存していても、次式で示されるように
アンモニアが選択的にNOxと反応し、NOxが無害な
窒素ガスと水蒸気に還元されるので好ましい方法とされ
ている。
6NO+ 4NH,= 5N2+ 6H206NO□+
8NHs = 7N2+ 12H,0この方法で使用
される触媒としては種々提案され、例えば、白金、パラ
ジウム、ロジウム等の貴金属成分を担体に担持させた触
媒、あるいは銅。
8NHs = 7N2+ 12H,0この方法で使用
される触媒としては種々提案され、例えば、白金、パラ
ジウム、ロジウム等の貴金属成分を担体に担持させた触
媒、あるいは銅。
鉄、バナジウム、クロム、モリブデン等の卑金属成分を
担体に担持させた触媒がある。しかし、一般的に前者の
場合、排ガス中に存在するKlxによって被毒される欠
点を有しており、又、後者の場合は、高い活性を得るの
に反応温度を高<シ、かつ接触時間を長(するという不
利な乗件で処理を行う必要がある。その他の触媒として
結晶性アルミノ珪酸塩(以下、ゼオライトという)を用
いる方法が提案されている。例えば、水素型合成ゼオラ
イト、特にHX、 、HY、 Hモルデナイトを触媒
とする方法が特開昭57−1j0.628号公報に開示
されている。この方法は、500〜700℃と高温でな
げれば高い脱硝率が得られない。又、銅イオンで一部陽
イオン交換したNaYゼオライト(以下、04m)−N
aYと略称する)を触媒とする方法も提案されている。
担体に担持させた触媒がある。しかし、一般的に前者の
場合、排ガス中に存在するKlxによって被毒される欠
点を有しており、又、後者の場合は、高い活性を得るの
に反応温度を高<シ、かつ接触時間を長(するという不
利な乗件で処理を行う必要がある。その他の触媒として
結晶性アルミノ珪酸塩(以下、ゼオライトという)を用
いる方法が提案されている。例えば、水素型合成ゼオラ
イト、特にHX、 、HY、 Hモルデナイトを触媒
とする方法が特開昭57−1j0.628号公報に開示
されている。この方法は、500〜700℃と高温でな
げれば高い脱硝率が得られない。又、銅イオンで一部陽
イオン交換したNaYゼオライト(以下、04m)−N
aYと略称する)を触媒とする方法も提案されている。
本発明者らもOu (m)−NaYに関し幅広い研究を
重ね次の知見を得た。
重ね次の知見を得た。
即ち、cu(m)−NaYは200〜300℃という低
温でも高い活性を示す。ところが、排ガスに水分が含ま
れていると、低温では水の細孔凝縮が起こり活性が低下
する。更には、Boxが含まれていると、特に200卿
以上含まれていると不可逆的な活性劣化を起こすので実
用触媒としては不適当である。
温でも高い活性を示す。ところが、排ガスに水分が含ま
れていると、低温では水の細孔凝縮が起こり活性が低下
する。更には、Boxが含まれていると、特に200卿
以上含まれていると不可逆的な活性劣化を起こすので実
用触媒としては不適当である。
本発明者らは、これら知見を背景に低温でも活性が高<
、特にSOx共存系でも活性劣化のない触媒を開発すべ
く鋭意研究を重ねた結果、銅イオンを含み、かつ特定の
結晶構造を有するゼオライトがアンモニアによるNOx
の選択的還元触媒として極めて高い活性を有し、又、そ
の高い活性はSOxが共存した場合でも不可逆的な劣化
をすることなく、更には長時間その活性が維持されるこ
とを見い出し、本発明を完成させるに至った。
、特にSOx共存系でも活性劣化のない触媒を開発すべ
く鋭意研究を重ねた結果、銅イオンを含み、かつ特定の
結晶構造を有するゼオライトがアンモニアによるNOx
の選択的還元触媒として極めて高い活性を有し、又、そ
の高い活性はSOxが共存した場合でも不可逆的な劣化
をすることなく、更には長時間その活性が維持されるこ
とを見い出し、本発明を完成させるに至った。
以下、本発明を詳+NBに説明する。
ゼオライトの基本構造は、珪素を中心として形成される
4つの酸素が頂点に配置した5in4四面体と、この珪
素の代りにアルミニウムが置換したAtO,四面体とが
、(+/(sl−+−Az)の原子比が2となるように
、酸素を共有しながら規則正しく三次元的に配列してい
る。
4つの酸素が頂点に配置した5in4四面体と、この珪
素の代りにアルミニウムが置換したAtO,四面体とが
、(+/(sl−+−Az)の原子比が2となるように
、酸素を共有しながら規則正しく三次元的に配列してい
る。
A40.四面体の負電荷はアルカリ金属やアルカリ土類
金属の陽イオンを含むことによってバランスさ几ている
。又、四面体の配列の仕方で種々の大きさの、細孔が形
成され、細孔内に通常水分子や交侯可能な嶋イオンが存
在している。脱水活性イヒれたゼオライトは、その刺孔
形状に応じ、特定の分子をその11JI孔に捕捉するこ
とができるので、分子1’jIIiとして使用されてい
る。又、陽イオンをプロトンや他の金属陽イオンに置換
することによって酸性質を示すので、固体酸として炭化
水素の転化反応j911媒として使用される。
金属の陽イオンを含むことによってバランスさ几ている
。又、四面体の配列の仕方で種々の大きさの、細孔が形
成され、細孔内に通常水分子や交侯可能な嶋イオンが存
在している。脱水活性イヒれたゼオライトは、その刺孔
形状に応じ、特定の分子をその11JI孔に捕捉するこ
とができるので、分子1’jIIiとして使用されてい
る。又、陽イオンをプロトンや他の金属陽イオンに置換
することによって酸性質を示すので、固体酸として炭化
水素の転化反応j911媒として使用される。
ゼオライトは、イーリ1々の結晶溝造、化学組成を持つ
ものが知ら肚ており、XfN粉末回折で明瞭に区別でき
る。K1その徹いにより吸着特性、イオン交4・々特注
、触媒!ト芋性が異なり、夫々異なるゼオライト名が付
けられている。これらの内、モルデナイト、オフレタイ
ト、エリオナイト、クリノプチロライト、チャバサイト
などは天然にも産し、又、水熱合成によっても合成でき
る。ゼオライFAIX、Yは天然には産せず、水熱合成
によってのみ合成できる。
ものが知ら肚ており、XfN粉末回折で明瞭に区別でき
る。K1その徹いにより吸着特性、イオン交4・々特注
、触媒!ト芋性が異なり、夫々異なるゼオライト名が付
けられている。これらの内、モルデナイト、オフレタイ
ト、エリオナイト、クリノプチロライト、チャバサイト
などは天然にも産し、又、水熱合成によっても合成でき
る。ゼオライFAIX、Yは天然には産せず、水熱合成
によってのみ合成できる。
本触媒の基剤となりうるのは、これら多種類にわたるゼ
オライトの中でも特定のゼオライトに限られる。本発明
で特定するゼオライトは天然には存在せず、例えば次の
ような方法で合成することができる。S10.源、
At20.源+ Naz’#i及び水とから、酸化物
モル比で表わして下記の組成の反応混合物を調製する。
オライトの中でも特定のゼオライトに限られる。本発明
で特定するゼオライトは天然には存在せず、例えば次の
ような方法で合成することができる。S10.源、
At20.源+ Naz’#i及び水とから、酸化物
モル比で表わして下記の組成の反応混合物を調製する。
5102/At20s = 20〜20ONa2o/5
1o2= o、os 〜0.3H20/ 5i02
= 12 〜70次に、該反応混合物を120〜2
20℃で10〜200時間加熱結晶化する。生成物を固
液分離。
1o2= o、os 〜0.3H20/ 5i02
= 12 〜70次に、該反応混合物を120〜2
20℃で10〜200時間加熱結晶化する。生成物を固
液分離。
水洗、乾燥すると、次の組成のゼオライトを得る。
([l18〜2)Na20IIAt20.・(15〜6
0)s1o2・zH7゜(ただし、2は0又は正の故で
乾燥程度で異なる。)本触媒を製造する上で、このよう
にして得たゼオライトを基剤とすることが必須であるこ
とから、該ゼオライトを本触媒基剤と呼ぶこととする。
0)s1o2・zH7゜(ただし、2は0又は正の故で
乾燥程度で異なる。)本触媒を製造する上で、このよう
にして得たゼオライトを基剤とすることが必須であるこ
とから、該ゼオライトを本触媒基剤と呼ぶこととする。
本触媒基剤は、X線粉末回折図から判断し、三次元的に
発達、構成された5〜6Xの細孔を有する、10員葭累
環型ノ・イシリカゼオライトであると推定できる。なお
、合成に際し、原料反応混合物には結晶化を促進する適
当な有機物あるいは無ト22物の鉱化剤を含んでいても
良い。ただし、その場合、前述した生成物のNaイオン
の一部は添加した陽イオンで一部置換される。そのよう
な例として、テトラプロピルアンモニウムイオンを共存
させて合成する、いわゆるZSM−5がある。本触媒基
剤としてZSM−5も使用することができる。
発達、構成された5〜6Xの細孔を有する、10員葭累
環型ノ・イシリカゼオライトであると推定できる。なお
、合成に際し、原料反応混合物には結晶化を促進する適
当な有機物あるいは無ト22物の鉱化剤を含んでいても
良い。ただし、その場合、前述した生成物のNaイオン
の一部は添加した陽イオンで一部置換される。そのよう
な例として、テトラプロピルアンモニウムイオンを共存
させて合成する、いわゆるZSM−5がある。本触媒基
剤としてZSM−5も使用することができる。
本触媒基剤を、不純物が無く、高品質でかつ経隣的に製
造する目的で最も好ましい製造は、珪酸ソーダ水浴液な
どのアルカリ金属珪酸塩水溶液と、硫酸アルミニウム水
浴液などの含アルミニウム水f6 ’1(f−とを連続
的に反応させることによって得た粒状無定形アルミノ珪
酸塩均一化合物を、アルカリ金属水溶液及び/又はアル
カリ金机珪酸塩水浴液中で加熱、結晶化する方法である
。この方法については、本出願人が先にした特許出願(
%願昭57−162,123)明細書に詳細に開示され
ている。然るに、このようにして得た本触媒基剤をその
まま脱硝反応に供しても殆ど活性を示さない。
造する目的で最も好ましい製造は、珪酸ソーダ水浴液な
どのアルカリ金属珪酸塩水溶液と、硫酸アルミニウム水
浴液などの含アルミニウム水f6 ’1(f−とを連続
的に反応させることによって得た粒状無定形アルミノ珪
酸塩均一化合物を、アルカリ金属水溶液及び/又はアル
カリ金机珪酸塩水浴液中で加熱、結晶化する方法である
。この方法については、本出願人が先にした特許出願(
%願昭57−162,123)明細書に詳細に開示され
ている。然るに、このようにして得た本触媒基剤をその
まま脱硝反応に供しても殆ど活性を示さない。
本発明法の触媒(以下、本触媒と略称する)は、本触媒
基剤を塩化銅などの鉱酸塩、酢酸銅などの有機酸塩水浴
液などと接触させることによって得られる。銅イオンを
含む水浴液との接触によって、2+ 銅イオンはCu、 Ou 、 0uOH+として本触
媒基剤のNa+ と交換するものと思われる。望ましい
銅イオンの含有率は、CuO//At208モル比で表
示してα5〜2である。又、本触媒の5i027に12
03モル比は15〜60であることが必須であり、好ま
しくは18〜40である。SiO□At2o3モル比が
40を越えるとBox共存による触媒劣化が無視できな
くなる。本触媒のS i 02 /A t203 モル
比ハ、使用する本触媒基剤のそれと実質的に変らない。
基剤を塩化銅などの鉱酸塩、酢酸銅などの有機酸塩水浴
液などと接触させることによって得られる。銅イオンを
含む水浴液との接触によって、2+ 銅イオンはCu、 Ou 、 0uOH+として本触
媒基剤のNa+ と交換するものと思われる。望ましい
銅イオンの含有率は、CuO//At208モル比で表
示してα5〜2である。又、本触媒の5i027に12
03モル比は15〜60であることが必須であり、好ま
しくは18〜40である。SiO□At2o3モル比が
40を越えるとBox共存による触媒劣化が無視できな
くなる。本触媒のS i 02 /A t203 モル
比ハ、使用する本触媒基剤のそれと実質的に変らない。
父、本触媒の特異的結晶構造は本触媒基剤のそれと基本
的に変わることなく、常法によるx緋粉末回折法で求め
た第1表に示す格子面間隔(d−値)で特徴づけること
ができる。
的に変わることなく、常法によるx緋粉末回折法で求め
た第1表に示す格子面間隔(d−値)で特徴づけること
ができる。
本触媒がアンモニアによるNOxの選択的還元脱硝反応
に際して、極めて商い活性を示し、かつその高い活性が
SOxの共存下でも低下することな(置く維持されるi
市は定かではないが、本融媒基剤ゼオライトの高純度性
、高い疎水性、結晶安定性及び特異的な結晶構造と銅イ
オンのRedox触媒作用とが、複合的に作用し俊れた
脱硝性能を発現したものと推察される。
に際して、極めて商い活性を示し、かつその高い活性が
SOxの共存下でも低下することな(置く維持されるi
市は定かではないが、本融媒基剤ゼオライトの高純度性
、高い疎水性、結晶安定性及び特異的な結晶構造と銅イ
オンのRedox触媒作用とが、複合的に作用し俊れた
脱硝性能を発現したものと推察される。
本触媒の工業的使用に際しては、適当な形に成形して使
用するのが望ましい。シリカ、アルミナ等の無機酸化物
又は粘土を)くインダーとし、場合により有機物等の成
形助剤を使用し、球状、柱状。
用するのが望ましい。シリカ、アルミナ等の無機酸化物
又は粘土を)くインダーとし、場合により有機物等の成
形助剤を使用し、球状、柱状。
ハニカム等に成形する。銅イオンで交換する前に成形し
、成形体をイオン交侠して製造した触媒も本発明の触媒
とみなす。又、成形体の大きさは特に制限されない。
、成形体をイオン交侠して製造した触媒も本発明の触媒
とみなす。又、成形体の大きさは特に制限されない。
次に本触媒を用いる脱硝法について説明する。
第1表
格子面間隔(d−値) 相対強度
11.1 ± 0.6 強 い1α0
± 03 強 いZ4 ± (L2
弱 いZl ± α2
弱 いん3 ± 0.2 弱
い&04± α2 弱 い5.
56± α1 弱 い5.01十 0
.1 弱 い4.60士 α08
弱 い 4.25± Q、08 弱 い五85±
(107非常に強い 五71± Q、05 強 い3.04±
α03 弱 い2.99± Q、0
2 弱 い2.94± 0.02
弱 いNOxは燃焼過程で生成するものと、
窒素化合物の反応によって生成するものとに分類できる
。後者の場合としては硝酸工場の排ガスなどがあげられ
るが、この場合はNOx濃iが高い上Boxやダスト分
が少なく、その除去は比較的容易である。本触媒がより
効果的に使用できるのは前者の場合、即ち、煙道排ガス
、自動車排ガス等の脱硝である。
± 03 強 いZ4 ± (L2
弱 いZl ± α2
弱 いん3 ± 0.2 弱
い&04± α2 弱 い5.
56± α1 弱 い5.01十 0
.1 弱 い4.60士 α08
弱 い 4.25± Q、08 弱 い五85±
(107非常に強い 五71± Q、05 強 い3.04±
α03 弱 い2.99± Q、0
2 弱 い2.94± 0.02
弱 いNOxは燃焼過程で生成するものと、
窒素化合物の反応によって生成するものとに分類できる
。後者の場合としては硝酸工場の排ガスなどがあげられ
るが、この場合はNOx濃iが高い上Boxやダスト分
が少なく、その除去は比較的容易である。本触媒がより
効果的に使用できるのは前者の場合、即ち、煙道排ガス
、自動車排ガス等の脱硝である。
煙道排ガスは、石炭又は石油ケ燃料とした場合、代表的
には次の組成を有する。
には次の組成を有する。
NOx 約100〜1,000ppmSOx 約1
00〜3,000ppmO2約 5〜 7% Co、 約 7〜16% H,O+灼 7〜13チ 排ガス中のNOx含有量は、燃料中の窒素化合物の歇や
空気量、温IW等の燃焼条件に依存し、その成分は主に
No、 No、である。又、SOxの含有量は燃料中
のイオウ化合物の量に左右される。脱硝に際し、排ガス
に供給する還元剤としてのアンモニアの量は、排ガス中
に含まれるNOxに対し容量比でα5〜t5倍供給する
のが好ましく、少なければ脱硝率が低下し、多ければ未
反応のアンモニアがそのまま排出される。最も好ましく
はほぼ同量である。
00〜3,000ppmO2約 5〜 7% Co、 約 7〜16% H,O+灼 7〜13チ 排ガス中のNOx含有量は、燃料中の窒素化合物の歇や
空気量、温IW等の燃焼条件に依存し、その成分は主に
No、 No、である。又、SOxの含有量は燃料中
のイオウ化合物の量に左右される。脱硝に際し、排ガス
に供給する還元剤としてのアンモニアの量は、排ガス中
に含まれるNOxに対し容量比でα5〜t5倍供給する
のが好ましく、少なければ脱硝率が低下し、多ければ未
反応のアンモニアがそのまま排出される。最も好ましく
はほぼ同量である。
脱硝を行なうガスと触媒との接触方法は、特に制限され
ないが、通常は触媒の固定層にガスを流通させる方式が
採用される。又、目的によっては流動式も勿論採用され
る。
ないが、通常は触媒の固定層にガスを流通させる方式が
採用される。又、目的によっては流動式も勿論採用され
る。
好ましい排ガスの空間速度は2.ooo〜100,00
0hr ”−’であり、更に好ましくは5,000〜2
0,000 hr、−’である。又、好ましい反応帯域
の温度は150〜500℃である。本発明の触媒を用い
ると後述の実施例からもわかる通り、200〜250℃
でほぼ100チの脱硝率が得られる。
0hr ”−’であり、更に好ましくは5,000〜2
0,000 hr、−’である。又、好ましい反応帯域
の温度は150〜500℃である。本発明の触媒を用い
ると後述の実施例からもわかる通り、200〜250℃
でほぼ100チの脱硝率が得られる。
so:c濃度200−以上の高濃度でも、SOxによる
活性劣化は250〜500℃では殆ど認められず、20
0℃では本触媒基剤のEl 102 /AA2 Q s
モル比18〜40であれば活性劣化は僅かである。しか
し、40を越えると低温におけるSOxによる活性劣化
の程度は無視できなくなる。
活性劣化は250〜500℃では殆ど認められず、20
0℃では本触媒基剤のEl 102 /AA2 Q s
モル比18〜40であれば活性劣化は僅かである。しか
し、40を越えると低温におけるSOxによる活性劣化
の程度は無視できなくなる。
ところ力瓢驚くべきことにはその活性劣化はCu (m
)−NaYの場合と異なり不可逆的ではなく、SOx
7771度が低下することによって回復する。
)−NaYの場合と異なり不可逆的ではなく、SOx
7771度が低下することによって回復する。
本発明は、窒−一化物を含むガスの脱硝に極めて効果的
であり、同ガス中にイオウ酸化物が共存する場合でも、
その効果は減退しない。
であり、同ガス中にイオウ酸化物が共存する場合でも、
その効果は減退しない。
以下、実施例及び比較例をもって詳細に説明する。
実施例1(本触媒基剤の製造例)
71.71QQlfi 57−162.123に示す方
法に準じて製造した。即ち、攪拌状態にある実容積2ノ
のオーバーフロータイプ反応槽に、珪酸ソーダ水浴液(
Sin2153.4%、 Na2O49,9q、
At、0. 0.8%)と、硫酸添加した硫酸アルミニ
ウム水ffl# (At20358.4%、 H2S
04 275.4 ’/z )とをそれぞれl 2
L/hr。
法に準じて製造した。即ち、攪拌状態にある実容積2ノ
のオーバーフロータイプ反応槽に、珪酸ソーダ水浴液(
Sin2153.4%、 Na2O49,9q、
At、0. 0.8%)と、硫酸添加した硫酸アルミニ
ウム水ffl# (At20358.4%、 H2S
04 275.4 ’/z )とをそれぞれl 2
L/hr。
o、 a /7/hrの速度で連続供給した。反応温度
は60〜32℃、連続して溢流するスラリーの虞は/)
、4〜&6であった。
は60〜32℃、連続して溢流するスラリーの虞は/)
、4〜&6であった。
排出スラリーを遠心分離機で固液分離し、充分水洗後、
Na、O1,72wt%、 At2o、 2.58
wt4゜Sin、 39Jwt%、 H2O56,
4wt%の微粒状無定形アルミノ珪酸塩均一化合物から
なる湿ケーキを得た。
Na、O1,72wt%、 At2o、 2.58
wt4゜Sin、 39Jwt%、 H2O56,
4wt%の微粒状無定形アルミノ珪酸塩均一化合物から
なる湿ケーキを得た。
この湿ケーキ2.84Orと1.39 wtq6のNa
OH水溶液5.160 Fとを107のオートクレーブ
に仕込み、158℃で72時間加熱攪拌し結晶化した。
OH水溶液5.160 Fとを107のオートクレーブ
に仕込み、158℃で72時間加熱攪拌し結晶化した。
全仕込み組成は、2.34 Na20eAt2o、 s
25.9 Sin、 *518 H2Oである。生成物
を固液分離後、水洗、乾燥し、本触媒基剤ゼオライトを
得た。これをTSz−820と呼ぶ。
25.9 Sin、 *518 H2Oである。生成物
を固液分離後、水洗、乾燥し、本触媒基剤ゼオライトを
得た。これをTSz−820と呼ぶ。
TSZ−820のX線粉末回折図を第1図に示す(X線
粉末回折は銅のにα二重線を用いて測定した)。
粉末回折は銅のにα二重線を用いて測定した)。
更に、同様に実施してS i 02 /)1203モル
比の異なる本触媒基剤TSZ−840,TSZ−850
を調製した。そのX線粉末回折図をそれぞれ第2図、第
3図に示す。
比の異なる本触媒基剤TSZ−840,TSZ−850
を調製した。そのX線粉末回折図をそれぞれ第2図、第
3図に示す。
実施例2(本触媒の製造例)
本触媒基剤T S Z −52o、T、5z−La4o
、 TSZ=850をそれぞれ502用意し、21のc
L[15M酢酸銅水浴液に浸漬することによって銅イオ
ン含有の触媒A、B、OをそれぞれA製した。
、 TSZ=850をそれぞれ502用意し、21のc
L[15M酢酸銅水浴液に浸漬することによって銅イオ
ン含有の触媒A、B、OをそれぞれA製した。
その組成を酸化物モル比で次に示す。
触媒A
O,740uO*0.’28Na20・AL2o、 m
21.95in2e11.3H,0)独媒B 1.17 Cu0aO,25Na20mA1203
m38.6Sio、 m17.5H20触媒C 1,500uOa0.24Na20*At、03 m4
4.I Sin、 m21.5H20又、触媒A、B、
CのX線粉末回折図をそれぞれ第4〜6図に示す。何れ
も第1表の格子面間隔(d−値)によって特徴づけられ
る。
21.95in2e11.3H,0)独媒B 1.17 Cu0aO,25Na20mA1203
m38.6Sio、 m17.5H20触媒C 1,500uOa0.24Na20*At、03 m4
4.I Sin、 m21.5H20又、触媒A、B、
CのX線粉末回折図をそれぞれ第4〜6図に示す。何れ
も第1表の格子面間隔(d−値)によって特徴づけられ
る。
比較例1(比較触媒の製造例)
組成0.95Na20eAt203 m5.2SiO2
e&5H,Oなるゼオライ) NaYを実施例2と同様
に処理し、比較触媒cu(I[)−NaYを調製した。
e&5H,Oなるゼオライ) NaYを実施例2と同様
に処理し、比較触媒cu(I[)−NaYを調製した。
実施例3(脱硝例)
排ガスは次の組成のガスを調製して使用した。
調製排ガス 1、 ■
No 9戸 250 250
SO之ppm −s o 。
NH,9戸 250 250
0、L チ 11
N2 チ バランス バランスH20チ
12 12常圧固定床流通式反応管に2
8〜60メツシユに整粒した触媒A、B、Oをそれぞれ
1.Of充填した。予め空気を流し300℃で1時間加
熱処理した。150’Q、200’C,250’Cで排
ガスをS V= 12,000 hr−”で通気し脱硝
率を求めた。
12 12常圧固定床流通式反応管に2
8〜60メツシユに整粒した触媒A、B、Oをそれぞれ
1.Of充填した。予め空気を流し300℃で1時間加
熱処理した。150’Q、200’C,250’Cで排
ガスをS V= 12,000 hr−”で通気し脱硝
率を求めた。
脱硝率は次のように定義する。
未反応のNOxの定量は、自動NOx計測器(柳本製K
OI、−77A型)及びガスクロを使用した。
OI、−77A型)及びガスクロを使用した。
条件とその結果を第2表に示す。
本触媒が比較触媒に比べて高い脱硝率を示していること
がわかる。又、特に触媒A、触媒BはsOx共存系でも
高い脱錆率を示している。
がわかる。又、特に触媒A、触媒BはsOx共存系でも
高い脱錆率を示している。
比較1列2
比1咬触媒を使用して、実施例6と同様に行い脱硝性能
を比較した。条件とその結果を第2表に示す。
を比較した。条件とその結果を第2表に示す。
実励例4(rIllす久試験)
触媒A及び比戦触媒を用いて耐久試験を行った。
実施例3と同様の装置及び排ガス■を使用し、5V=4
8,000)1r−1,温度300℃で脱硝率の経時変
化を調べたところ、触媒Aは6日後においてもほぼ10
0チの脱硝率を維持した。し”かしながら比較触媒は僅
か15時間後に41.5%に低下した。
8,000)1r−1,温度300℃で脱硝率の経時変
化を調べたところ、触媒Aは6日後においてもほぼ10
0チの脱硝率を維持した。し”かしながら比較触媒は僅
か15時間後に41.5%に低下した。
第2表
第1〜5図は、実施例1によって得られた本触媒基剤の
X線粉末回折図で、第1図はTSZ−820、第2図は
TBZ−840,第3図はTSZ−850である。又、
第4〜6図は実施例2によって得られた本触媒の)l+
tj粉末回折図で、第4図は触媒A、 第5図は触媒B
、第6図は触媒Cである。 特許出願人 東洋曹達工業株式会社
X線粉末回折図で、第1図はTSZ−820、第2図は
TBZ−840,第3図はTSZ−850である。又、
第4〜6図は実施例2によって得られた本触媒の)l+
tj粉末回折図で、第4図は触媒A、 第5図は触媒B
、第6図は触媒Cである。 特許出願人 東洋曹達工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 t X線粉末回折による格子面間隔(d−値)が第1
表に示す結晶性アルミノ珪酸塩であって、そのS io
、 /At、 O8モル比が15〜60であり、かつ、
銅イオンを含む選択的還元脱硝触媒。 2、 ガス中の窒素酸化物をアンモニアによって選択的
に還元する窒素酸化物を含むガスの脱硝方法において、
X線粉末回折による格子面間+11’FI(d−値)が
第1表に示す結晶性アルミノ珪酸塩であって、そのSi
O□/A 403モル比が15〜60であり、かつ、う
)司イオンを含む触媒を使用することを特徴とする方法
。 6、 ガス中にイオウ酸化物を含む特許請求の範囲第2
項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105680A JPS59230642A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 選択的還元脱硝触媒及びそれを使用するガスの脱硝方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105680A JPS59230642A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 選択的還元脱硝触媒及びそれを使用するガスの脱硝方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59230642A true JPS59230642A (ja) | 1984-12-25 |
JPH0417096B2 JPH0417096B2 (ja) | 1992-03-25 |
Family
ID=14414134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58105680A Granted JPS59230642A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 選択的還元脱硝触媒及びそれを使用するガスの脱硝方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59230642A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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GB2238489A (en) * | 1988-05-30 | 1991-06-05 | Hitachi Shipbuilding Eng Co | Adsorption method and apparatus |
US5154902A (en) * | 1988-10-03 | 1992-10-13 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Exhaust gas purifying catalyst and exhaust gas purifying process |
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JPS57140628A (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-31 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Catalytic reductive decomposition of nitrogen oxides |
-
1983
- 1983-06-15 JP JP58105680A patent/JPS59230642A/ja active Granted
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