JPS59180315A - スル−ホ−ル検査法 - Google Patents
スル−ホ−ル検査法Info
- Publication number
- JPS59180315A JPS59180315A JP5422483A JP5422483A JPS59180315A JP S59180315 A JPS59180315 A JP S59180315A JP 5422483 A JP5422483 A JP 5422483A JP 5422483 A JP5422483 A JP 5422483A JP S59180315 A JPS59180315 A JP S59180315A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- hole
- mask
- base material
- fluorescent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１） 発明の技術分野
本発明は基材内のスルーホールの欠陥を検知する方法に
係り、特に前記スルーホールの欠陥からの透過光のコン
トラストを向上させ検知するスルーホール検査方法に関
する。
係り、特に前記スルーホールの欠陥からの透過光のコン
トラストを向上させ検知するスルーホール検査方法に関
する。
（２） 技術の背景
近年、プリント基板等が実装密度を上げる為多層基板と
成り、その製造技術の向上と共に信頼性の上からも検査
技術の高度化が要望されている。
成り、その製造技術の向上と共に信頼性の上からも検査
技術の高度化が要望されている。
このプリント基板に設けられているスルーホールの検査
はスルーホールの中の欠陥を発見するもので有る。即ち
これはプリント基板に嵌通孔をあげ。
はスルーホールの中の欠陥を発見するもので有る。即ち
これはプリント基板に嵌通孔をあげ。
その中にメッキ液を入れ半田メッキ等を施す時。
スルーホールが細長い為、メッキ液が入らずスルーホー
ルに欠陥を生じる事による為に必要なものである。従っ
てこのプリント基板のスルーホールの検査は製品の信頼
性上欠かせないものである。
ルに欠陥を生じる事による為に必要なものである。従っ
てこのプリント基板のスルーホールの検査は製品の信頼
性上欠かせないものである。
（３） 従来技術と問題点
従来、前述のスルーホールの検査は目視により行なわれ
ていたが多層プリント基板でスルーホールが細長くなり
目視では無理が生じ、而も検査出来る数も限られる欠点
を有していた。更に、上述の欠点を踏まえて自動的に検
査する方法がある。
ていたが多層プリント基板でスルーホールが細長くなり
目視では無理が生じ、而も検査出来る数も限られる欠点
を有していた。更に、上述の欠点を踏まえて自動的に検
査する方法がある。
この方法は被検査体のスルーボールに遮光マスクを設け
、マスク以外からの照射光がスルーボールの欠陥から透
過するのを検知するものである。然し乍ら、被検査体の
スルーホールの欠陥が小さいと透過する光量が少なく、
高速で検査するにはスルーボールとマスクを僅かに離さ
なければならず。
、マスク以外からの照射光がスルーボールの欠陥から透
過するのを検知するものである。然し乍ら、被検査体の
スルーホールの欠陥が小さいと透過する光量が少なく、
高速で検査するにはスルーボールとマスクを僅かに離さ
なければならず。
その隙間から漏れた光とコントラストかつかず。
区別が出来ない為に正確な検査が不可能になる欠点を有
していた。
していた。
（４） 発明の目的
本発明は上記従来の欠点に鑑み、被検査体のスルーホー
ルの欠陥からの透過光と前述スルーホールとマスクの隙
間から漏れた光のコントラスト向−トの為に基材内に螢
光物質を混入させ、前述のスルーホールの欠陥から前述
の漏れた光と異なる波長の透過光を検知するスルーホー
ル検査方法を提供することを目的とするものである。
ルの欠陥からの透過光と前述スルーホールとマスクの隙
間から漏れた光のコントラスト向−トの為に基材内に螢
光物質を混入させ、前述のスルーホールの欠陥から前述
の漏れた光と異なる波長の透過光を検知するスルーホー
ル検査方法を提供することを目的とするものである。
（５） 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば光を珀いてスルーホー
ルの欠陥を検知する方法に於いて、前記スノーホールが
設けられている基材内に前記光と異なる波長を発する螢
光物質を混入し、前記スルーボールの下面に該スルーホ
ールを遮光するマスクを設けて、前記マスクの下方向部
から該マスクと該マスクの回りに前記光を照射する事に
より。
ルの欠陥を検知する方法に於いて、前記スノーホールが
設けられている基材内に前記光と異なる波長を発する螢
光物質を混入し、前記スルーボールの下面に該スルーホ
ールを遮光するマスクを設けて、前記マスクの下方向部
から該マスクと該マスクの回りに前記光を照射する事に
より。
前記スルーホールの上方向部に前記スルーホールの欠陥
を透過した前記基材内の螢光を検知する装置を設けた事
を特徴とするスルーホール検査法を提供することによっ
て達成される。
を透過した前記基材内の螢光を検知する装置を設けた事
を特徴とするスルーホール検査法を提供することによっ
て達成される。
（６） 発明の実施例
以下本発明一実施例を図面に基づいて詳述する。
図は本発明一実施例の動作を示す一部断面図の概略図で
ある。同図に於いて、マスク７の下方向部からの光１３
例えば紫外線の照射で基材４例えば多層のプリント基板
には透明部材１４例えばガラスを透過した光８が入射す
る。 前述の光８は基材４内で散乱し、螢光物質９例え
ば硫化亜鉛（ＺｎＳ）を励起し、螢光１０をスルーホー
ル５の欠陥６より放出する。この螢光は集光部３．光り
検知器１等の装置に検知される。集光部３の例えばレン
ズは前述のスルーホール５の上方向部に配置し、螢光１
．０とスルーホール５とマスク７の隙間からの漏れ光１
１の合成光１２を集光する。前述集光された合成光１２
は例えばフィルター２で螢光１０を透過し光検知器１で
検知する構成となっている。
ある。同図に於いて、マスク７の下方向部からの光１３
例えば紫外線の照射で基材４例えば多層のプリント基板
には透明部材１４例えばガラスを透過した光８が入射す
る。 前述の光８は基材４内で散乱し、螢光物質９例え
ば硫化亜鉛（ＺｎＳ）を励起し、螢光１０をスルーホー
ル５の欠陥６より放出する。この螢光は集光部３．光り
検知器１等の装置に検知される。集光部３の例えばレン
ズは前述のスルーホール５の上方向部に配置し、螢光１
．０とスルーホール５とマスク７の隙間からの漏れ光１
１の合成光１２を集光する。前述集光された合成光１２
は例えばフィルター２で螢光１０を透過し光検知器１で
検知する構成となっている。
同図に於いて、スルーホール５が設けられている基材４
に高エネルギー（波長の短い）光８を照射する。 この
時、被検査体であるスルーホール下方向部にはマスク７
が配設されており３マスク７以外の部分の基材４には光
８が照射される事になる。 プリント基板等の基材４に
は硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の螢光物質９が混入しているの
で、透明部材１４を透過した光８は基材４内を散乱して
。
に高エネルギー（波長の短い）光８を照射する。 この
時、被検査体であるスルーホール下方向部にはマスク７
が配設されており３マスク７以外の部分の基材４には光
８が照射される事になる。 プリント基板等の基材４に
は硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の螢光物質９が混入しているの
で、透明部材１４を透過した光８は基材４内を散乱して
。
その散乱光８′により螢光物質を発光させる事になる。
この発光した光はスルーホール５の欠陥部６から透過光
１０として放出する。この時、スルーホール５から放出
する光１２には前述の透過光１０とスルーホール５とマ
スク７の隙間からの漏れ光１１が含まれる事に成る。次
は前述の光をレンズ等の集光部３で集光させる。゛そし
てこの集光部３は僅かな光でものちの光検知器１で検出
出来る役目をしている。この集光された光には透過光１
０と漏れ光１１が含まれているので、検査に不必要な漏
れ光１１を除去する為フィルター２を通して、透過光１
０が光検知器１に入射する様にする。尚、このフィルタ
ー２は基材４に照射した光が紫外線である場合、紫外線
カツトフィルターとする事により透過光 １０を透過す
る。従って。
１０として放出する。この時、スルーホール５から放出
する光１２には前述の透過光１０とスルーホール５とマ
スク７の隙間からの漏れ光１１が含まれる事に成る。次
は前述の光をレンズ等の集光部３で集光させる。゛そし
てこの集光部３は僅かな光でものちの光検知器１で検出
出来る役目をしている。この集光された光には透過光１
０と漏れ光１１が含まれているので、検査に不必要な漏
れ光１１を除去する為フィルター２を通して、透過光１
０が光検知器１に入射する様にする。尚、このフィルタ
ー２は基材４に照射した光が紫外線である場合、紫外線
カツトフィルターとする事により透過光 １０を透過す
る。従って。
光検知器１にはフィルター２を通った透過光１０が入射
するの−でスルーホール５の欠陥６の検知が容易となる
。所謂、透過光１０と漏れ光１１の波長が著しく異なる
のでＳ／Ｎが良く、検出のコントラスト向上に繋がって
いる。故にマスクバターン上の基材４を僅かに離せるの
で、基材４を高速で移動させスルーポールの検査が高速
で処理される。尚、このマスクパターンは２図示されて
いない治具で固定されている。そして基材４は図示され
ていない例えばＸ−Ｙステージにより高速に移動する。
するの−でスルーホール５の欠陥６の検知が容易となる
。所謂、透過光１０と漏れ光１１の波長が著しく異なる
のでＳ／Ｎが良く、検出のコントラスト向上に繋がって
いる。故にマスクバターン上の基材４を僅かに離せるの
で、基材４を高速で移動させスルーポールの検査が高速
で処理される。尚、このマスクパターンは２図示されて
いない治具で固定されている。そして基材４は図示され
ていない例えばＸ−Ｙステージにより高速に移動する。
（７） 発明の効果
以上、詳細に説明した様に２本発明によればスルーボー
ルの僅かな欠陥からの非常に少量の透過光でもスルーホ
ールの欠陥からの透過光とスルーホールとマスクの隙間
からの漏れ光の波長が著しく異なり、而も光検知器の前
に漏れ光を除去するフィルターを配設しであるので、容
易に検出し。
ルの僅かな欠陥からの非常に少量の透過光でもスルーホ
ールの欠陥からの透過光とスルーホールとマスクの隙間
からの漏れ光の波長が著しく異なり、而も光検知器の前
に漏れ光を除去するフィルターを配設しであるので、容
易に検出し。
スルーホールの欠陥を検知出来る有用な効果を有□
する。更に、自動的にスルーホールの欠陥を検査する際
は、マスクをスルーホールに密着せず、僅かに離して行
なえるので、高速で動作を行なえる効果を有する。
する。更に、自動的にスルーホールの欠陥を検査する際
は、マスクをスルーホールに密着せず、僅かに離して行
なえるので、高速で動作を行なえる効果を有する。
図は本発明一実施例の一部断血図の概略的構成図である
。 １・・・光検知器 ２・・・フィルター３・・・集
光部 ４・・・基材 ５・・・スルーホール
６・・・欠陥部７・・・マスク ９・・・螢光物
質１４・・・透明部材
。 １・・・光検知器 ２・・・フィルター３・・・集
光部 ４・・・基材 ５・・・スルーホール
６・・・欠陥部７・・・マスク ９・・・螢光物
質１４・・・透明部材
Claims (3)
- （１） 光を几いてスルーホールの欠陥を検知する方法
に於いて、前記スルーホールが設けられている基材′内
に前記光と異なる波長を発する螢光物質を混入し、前記
スルーホールの下面に該スルーホールを遮光するマスク
を設けて、前記マスクの下方向部から該マスクと該マス
クの回りに前記光を照射する事により、前記スルーホー
ルの上方向部に前記スルーホールの欠陥を透過した前記
基材内の螢光を検知する装置を設けた事を特徴とするス
ルーホール検査法。 - （２）〜補記光が紫外線で、前記螢光を検知する装置が
前記スルーホールよりの光を集光する手段と前記螢光を
透過する手段と、前記透過した光を検知する手段である
事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のスルーホー
ル検査法。 - （３） 前記透過手段が紫外線カントフィルターである
事を特徴とする特許請求の範囲第２項記載のスルーホー
ル検査法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5422483A JPS59180315A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | スル−ホ−ル検査法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5422483A JPS59180315A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | スル−ホ−ル検査法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59180315A true JPS59180315A (ja) | 1984-10-13 |
| JPH0361884B2 JPH0361884B2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=12964562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5422483A Granted JPS59180315A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | スル−ホ−ル検査法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59180315A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61169708A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-31 | Fujitsu Ltd | パタ−ン検知方法とその装置 |
| JPS61290311A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Hitachi Ltd | はんだ付部の検査装置及びその方法 |
| JPS61205009U (ja) * | 1985-05-20 | 1986-12-24 |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP5422483A patent/JPS59180315A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61169708A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-31 | Fujitsu Ltd | パタ−ン検知方法とその装置 |
| JPH0476405B2 (ja) * | 1985-01-22 | 1992-12-03 | Fujitsu Ltd | |
| JPS61205009U (ja) * | 1985-05-20 | 1986-12-24 | ||
| JPH0439523Y2 (ja) * | 1985-05-20 | 1992-09-16 | ||
| JPS61290311A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Hitachi Ltd | はんだ付部の検査装置及びその方法 |
| JPH0572961B2 (ja) * | 1985-06-19 | 1993-10-13 | Hitachi Ltd |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0361884B2 (ja) | 1991-09-24 |
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