JPS59119538A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPS59119538A JPS59119538A JP57234817A JP23481782A JPS59119538A JP S59119538 A JPS59119538 A JP S59119538A JP 57234817 A JP57234817 A JP 57234817A JP 23481782 A JP23481782 A JP 23481782A JP S59119538 A JPS59119538 A JP S59119538A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、磁気記録媒体、特にいわゆる斜め蒸A法によ
る連続薄ljQ型の磁性層を有する磁気記録媒体に関す
る。
る連続薄ljQ型の磁性層を有する磁気記録媒体に関す
る。
先行技術とその問題点
ビデオ用、オーディオ用等の磁り記録媒体として、デー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
このような連続薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したC05Co−Ni 、
Co−0、Co −Ni −0系等の蒸着膜が最も好適
である。
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したC05Co−Ni 、
Co−0、Co −Ni −0系等の蒸着膜が最も好適
である。
しかし、このような磁性層は、走行摩擦が大きく、膜強
度が低く、ヘッドタッチも悪く、特に、走行耐久性が低
く、くりかえし走行によって出力がイ氏下してしまう。
度が低く、ヘッドタッチも悪く、特に、走行耐久性が低
く、くりかえし走行によって出力がイ氏下してしまう。
また、ビデオ用の媒体では、スチルと称される静止画像
モードでの耐久時間が小さい。
モードでの耐久時間が小さい。
さらに、いわゆるドロップアウトも多い。
このような実状から、従来、斜め蒸着膜磁性層のトップ
コート膜が種々提案されている。
コート膜が種々提案されている。
例えば、直鎖の飽和脂肪酸ないしそのエステルの蒸着膜
や塗布膜等である。
や塗布膜等である。
しかし、従来のトップコート膜は、いずれも、上記走行
耐久性、スチル耐久性、ドロップアウト等の点で、未だ
不十分な結果しか得られていない。
耐久性、スチル耐久性、ドロップアウト等の点で、未だ
不十分な結果しか得られていない。
且 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、走行摩擦が小さく、膜強度、潤滑
性、ヘッドタッチ性にすぐれ、走行耐久性、スチル耐久
性が高く、ドロップアウトの発生の少ない新規なトップ
コート膜を有する、斜め蒸着法による磁性層をもつ磁気
記録媒体を提供することにある。
、その主たる目的は、走行摩擦が小さく、膜強度、潤滑
性、ヘッドタッチ性にすぐれ、走行耐久性、スチル耐久
性が高く、ドロップアウトの発生の少ない新規なトップ
コート膜を有する、斜め蒸着法による磁性層をもつ磁気
記録媒体を提供することにある。
このような目的は、以下の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、
基体上に、COlまたはCOならびKNi、Crおよび
Oのうちの1〜3種を含む磁性層を有し、この母性層上
に、下記式で示される化合物からなる膜を有す゛ること
を特徴とする磁気、i己録を基体である。
Oのうちの1〜3種を含む磁性層を有し、この母性層上
に、下記式で示される化合物からなる膜を有す゛ること
を特徴とする磁気、i己録を基体である。
式 RNH2
[上記式において、Rは、炭素原子数10〜22の直鎖
の飽和アルキル基である。)111 発明の具体的構
成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
の飽和アルキル基である。)111 発明の具体的構
成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、基体上に磁性層を有する。
イ厩性層は、Coを必須成分とし、Co 、 ’Co十
Ni、Co+0、またはCo −1−Ni −1−Qか
らなる。
Ni、Co+0、またはCo −1−Ni −1−Qか
らなる。
すなわち、Co単独からなってもよく、C。
とNiとからなってもよい。 Co 十Niである場合
、Co/Niの重量比は、15以上であることが好まし
い。
、Co/Niの重量比は、15以上であることが好まし
い。
さらに、COまたはCo 4− Niに加え、0が含ま
れていてもよい。 0が含まれたときには、電磁変換特
性や走行耐久性の点で、より好ましい結果を得る。
れていてもよい。 0が含まれたときには、電磁変換特
性や走行耐久性の点で、より好ましい結果を得る。
このような場合、O/Co(Nrが含まれない場合)あ
るいは0/(Co+Ni)の原子比は0.2以下、特に
0.01〜0.1であることが好まし℃1.。
るいは0/(Co+Ni)の原子比は0.2以下、特に
0.01〜0.1であることが好まし℃1.。
一方、磁性層中には、Co 、 Co、−1−Ni 、
C。
C。
+0、あるいはCo+Ni+Qに加え、Crが含有され
ると、より一層好ましい結果を得る。
ると、より一層好ましい結果を得る。
これは、電磁変換特性が向上し、出力およびS/N比が
向上し、さらに膜強度が向上するからである。
向上し、さらに膜強度が向上するからである。
このような場合、Cr / Co (Niが含まれない
場・合)あるいはCr / (Co+Ni ) (’)
ffit比は0.001〜0.1であることが好ましい
。
場・合)あるいはCr / (Co+Ni ) (’)
ffit比は0.001〜0.1であることが好ましい
。
この場合、Cr / CoあるイハCr/(Co十Ni
)の重量比は、0.005〜0.05であると、より一
層好ましい結果を得る。
)の重量比は、0.005〜0.05であると、より一
層好ましい結果を得る。
なお、このような磁性層中には、さらに、他の(故地成
分、特に遣移金属元素、例えばF’e。
分、特に遣移金属元素、例えばF’e。
Mn 、 V 、 Zr 、 Nb 、 Ta 、 M
o 、 W 、 Ti 、 Cu 。
o 、 W 、 Ti 、 Cu 。
Zn等カー含まれていてもよい。
このような磁性層は、基体の主面の法線に対して、傾斜
した柱状結晶構造の粒子の集合体であることが好ましい
。 これにより電磁変換特性が向上する。
した柱状結晶構造の粒子の集合体であることが好ましい
。 これにより電磁変換特性が向上する。
このような場合、各柱状結晶構造の粒子は、基体の主面
の法線に対して、20〜60°の範囲で傾斜しているこ
とが好ましい、 また、谷柱状結晶粒子は、通常、第1磁性層の厚さ方向
全域に亘る長さをもち、その短径は、一般に50〜50
0A程度とされる。
の法線に対して、20〜60°の範囲で傾斜しているこ
とが好ましい、 また、谷柱状結晶粒子は、通常、第1磁性層の厚さ方向
全域に亘る長さをもち、その短径は、一般に50〜50
0A程度とされる。
そして、Coと、必要に応じ添加されるN1゜Cr等は
この柱状結晶自体を構成するものであり、Oが添加され
たとき、Oは、通常、各柱状結晶粒子の表面に主として
酸化物の形で存在している。
この柱状結晶自体を構成するものであり、Oが添加され
たとき、Oは、通常、各柱状結晶粒子の表面に主として
酸化物の形で存在している。
このような磁性層は1通常0.05〜0.5μmn=I
J)厚さに形成される。
J)厚さに形成される。
この場合、磁性層は、基体上に直接設けられていてもよ
く、あるいは基体上に、下地周を介して設けられていて
もよい。
く、あるいは基体上に、下地周を介して設けられていて
もよい。
また、(+B磁性層1通常、単一の層として形成される
が、場合によっては、中間層を弁して複数の層を積層し
て形成されていてもよい。
が、場合によっては、中間層を弁して複数の層を積層し
て形成されていてもよい。
このような磁性層は、通常、斜め蒸着法によって形成さ
れる。
れる。
用いる斜め蒸着法としては、公知の斜め蒸着法を用いれ
ばよく、基体法線に対する入射角の最小値は30°以上
とすることが好ましい。
ばよく、基体法線に対する入射角の最小値は30°以上
とすることが好ましい。
なお、蒸着条件および住処理法等は、公知の条件および
方法に従えばよい。 この場合、有効な後処理法として
は、磁性層中へのO導入のための公知の各棹処理法等が
ある。
方法に従えばよい。 この場合、有効な後処理法として
は、磁性層中へのO導入のための公知の各棹処理法等が
ある。
このような磁性層上には、上記式に示されるモノ直鎖明
相アルキルアミンからなる114 カ形成される。
相アルキルアミンからなる114 カ形成される。
上記式において、1(は、炭素原子数10〜22の直鎖
の巨利アルキル基である。
の巨利アルキル基である。
1tの炭素原子数が10未満となると、臨界的に走?i
M擦が大きくなってしまい、しかもに行耐久性、メチル
耐久性が臨界的に城少し、ドロップアウトも臨界的に増
大してしま5゜また、 I(の炭素原子数が22をこえ
ると、臨界的に、ドロップアウトが増大する。
M擦が大きくなってしまい、しかもに行耐久性、メチル
耐久性が臨界的に城少し、ドロップアウトも臨界的に増
大してしま5゜また、 I(の炭素原子数が22をこえ
ると、臨界的に、ドロップアウトが増大する。
このようなトソフコート膜は、単分子層以上0.3μm
以下、より好ましくは0.005〜0.1t1mの厚さ
とされる。
以下、より好ましくは0.005〜0.1t1mの厚さ
とされる。
そして、このようなトップコート1戻は、繞ッHないし
スパッタリンクによって形成することが好ましい。
スパッタリンクによって形成することが好ましい。
蒸着ないしスパッタリンクによらず、塗布等によるとき
には、!模厚を5すくして、しかもjL)−な厚さで設
層することがむずかしい。
には、!模厚を5すくして、しかもjL)−な厚さで設
層することがむずかしい。
ナオ、蒸ノnないしスパッタリングの際の条件は、公知
の条件に従えばよい。
の条件に従えばよい。
用いる基体には特に制限はないが、特に6丁と5141
ユの基体、特にポリエステル、ポリイミド、ポリフ゛ロ
ビレ/等の441月旨芽虜のものでキ〕ることか好まし
い。
ユの基体、特にポリエステル、ポリイミド、ポリフ゛ロ
ビレ/等の441月旨芽虜のものでキ〕ることか好まし
い。
また、その厚さは、(虫々σ)ものであってよいが、特
に5〜20μ雷であることが好ましい。
に5〜20μ雷であることが好ましい。
そして、その磁性層形成面の裏向の表面あが好ましい。
これにより、電磁変換特性が向上する。
■ 発明の具体的作用効果
本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用、オーディオ甲等の
磁気記録媒体として有用である。
磁気記録媒体として有用である。
本発明によれば、炭素原子数10〜22の直鎖の飽オl
アルギル基を有するモノアルキルアミ/からなるトップ
コート1戻を用いるので、走行摩擦が、臨界的に減少す
る。
アルギル基を有するモノアルキルアミ/からなるトップ
コート1戻を用いるので、走行摩擦が、臨界的に減少す
る。
また、その膜強度、画情性、ヘッドタッチ性もきわめて
商い。
商い。
このため、走行耐久性、スチル耐久性が臨界的に向上し
、ドロップアウトが臨界的に減少する。
、ドロップアウトが臨界的に減少する。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例
Co/NiのM量比4のCoNi合金、およびCo /
Ni / Cr ノ重量比75/2015のCo N
iCr合金を用い、10μm厚のポリエチレンテレフタ
レ−1−(Pl:T)フィルム上に、それぞれ斜め蒸着
法により、磁性層を0,2μ悟厚にて形成し、サンプル
Aoおよび13oを作成した。
Ni / Cr ノ重量比75/2015のCo N
iCr合金を用い、10μm厚のポリエチレンテレフタ
レ−1−(Pl:T)フィルム上に、それぞれ斜め蒸着
法により、磁性層を0,2μ悟厚にて形成し、サンプル
Aoおよび13oを作成した。
斜め蒸着における入射角は45°とし、蒸涜雰囲気は、
PA、=2×1O−2Pa、POQ=]X]O”Paと
した。
PA、=2×1O−2Pa、POQ=]X]O”Paと
した。
得られた磁性層は、ともに対応する合金の組成ヲモチ、
トもニO/ (Co+N1)=0.01(原子比)であ
り、基体主面法線に対し、約400傾斜した、短径0.
O1μ駕の厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶粒子
の集合体であった。
トもニO/ (Co+N1)=0.01(原子比)であ
り、基体主面法線に対し、約400傾斜した、短径0.
O1μ駕の厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶粒子
の集合体であった。
また、イオンミリングを行いながらオージェ分光分析を
行ったところ、COは表面近くで少なく、またOは化学
シフトしており、しかも表面近くに多いプロファイルを
もち、0が柱状粒子の表面に金属と結合した状態で存在
していることが確認された。
行ったところ、COは表面近くで少なく、またOは化学
シフトしており、しかも表面近くに多いプロファイルを
もち、0が柱状粒子の表面に金属と結合した状態で存在
していることが確認された。
次いで、上記AoおよびBOの磁性層上に、各種有機化
合物を蒸発源として、PA、=4X]0 ”Paの雰
囲気にて、’0.01μ情厚の表1に示されるトラフコ
ート膜を形成して、サンプルA1〜A1□および81〜
B8を得た。
合物を蒸発源として、PA、=4X]0 ”Paの雰
囲気にて、’0.01μ情厚の表1に示されるトラフコ
ート膜を形成して、サンプルA1〜A1□および81〜
B8を得た。
これら各サンプルにつき、以下の測定を行った。
1)走行摩擦
サンプルの動摩擦係数μを、40℃、相対湿度80%で
、初期と50パス後に測定した。
、初期と50パス後に測定した。
2)走行耐久性
各サンプル忙対し、市販のv ’i’ 1を装置を用い
て、50パス試験を行い、4MHzの信号の減少量(d
B)を測定した。
て、50パス試験を行い、4MHzの信号の減少量(d
B)を測定した。
3)スチル耐久性
市販のV ’l’ It装置にて、スチルモードにて、
画像が消失するに至る時間(分)を測定した。
画像が消失するに至る時間(分)を測定した。
4)ドロップアウト
1分間あたりの16dB以上の出力低下(個/分)を測
定した。
定した。
これらの結果を表1に示す。
jklに示される結果から、本発明による臨界的効果が
あきらかである。
あきらかである。
出願人 東京電気化学工業株式会社
代狸人 弁理士 石 井 陽 −
−F続補装置(自発)
昭和58年10月 7日
1、’に件の表示
昭和57年特許願第234817号
2、発明の名称
磁気記録媒体
3、補正をする者
・11件との関係 特許出願人任 所
東京都中央区日木橘−丁目13番1号名 称
(306) ティーディーケイ株式会社代表者
大 歳 寛 4、代理人 〒171 住 所 東京都豊島区西池袋五丁目17番11
号矢部ビル1階 電話 988−1680明細書のlr
2、特許請求の範囲」の欄およびf3、発明の詳細な説
明」の欄 6、補正の内容 1)明細書の1特許請求の範囲1の欄の記載を別紙のと
おり補正する。
東京都中央区日木橘−丁目13番1号名 称
(306) ティーディーケイ株式会社代表者
大 歳 寛 4、代理人 〒171 住 所 東京都豊島区西池袋五丁目17番11
号矢部ビル1階 電話 988−1680明細書のlr
2、特許請求の範囲」の欄およびf3、発明の詳細な説
明」の欄 6、補正の内容 1)明細書の1特許請求の範囲1の欄の記載を別紙のと
おり補正する。
2)明細書の「発明の詳細な説明1の欄の記載を下記の
とおり補正する。
とおり補正する。
i)第6ページ第7行に、ず0.2以下、特に0.01
〜0.1」とあるを、Fo、45以下、特に0.15〜
0.4」と補正する。
〜0.1」とあるを、Fo、45以下、特に0.15〜
0.4」と補正する。
薗)第7ページ第12行に、「第1jとあるを削除する
。
。
1ii)第11ページ下から4行目に、「0.01」と
あるを、ll’0 、2j と補正する。
あるを、ll’0 、2j と補正する。
2、特許請求の範囲
(1) 基体−ヒに、CO5またはCoならびにNi
、CrおよびOのうちの1〜3種を含む磁性層を有し、
この磁性層上に、下記式で示される化合物からなる膜を
有することを特徴とする磁気記録媒体。
、CrおよびOのうちの1〜3種を含む磁性層を有し、
この磁性層上に、下記式で示される化合物からなる膜を
有することを特徴とする磁気記録媒体。
式 RNH2
(上記式において、Rは、炭素原子数lO〜22の直鎖
の2ルキル基である。) (2) fluが蒸着ないしスパッタリング膜である
特許請求の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
の2ルキル基である。) (2) fluが蒸着ないしスパッタリング膜である
特許請求の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
(3) 膜の厚さが0 、31Lm以下である特許請求
の範囲第1項または第2項に記載の磁気記録媒体。
の範囲第1項または第2項に記載の磁気記録媒体。
(4) 磁性層がNiを含み、Co / N iの重量
比が1.5以上である特許請求の範囲第1項ないし第3
項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
比が1.5以上である特許請求の範囲第1項ないし第3
項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(5) 磁性層がCrを含み、Cr/(CoまたはCo
+Ni)の重量比がo、oot〜0゜lである特許請求
の範囲第1項ないし第4項Qり二f」1φごに記載の磁
気記録媒体。
+Ni)の重量比がo、oot〜0゜lである特許請求
の範囲第1項ないし第4項Qり二f」1φごに記載の磁
気記録媒体。
(6) 磁性層がOを含み、O/(GoまたはGo+N
i)の原子比が0.1j以下である特許請求の範囲第1
項ないし第5項Δ鳳ヱ九jに記載の磁気記録媒体。
i)の原子比が0.1j以下である特許請求の範囲第1
項ないし第5項Δ鳳ヱ九jに記載の磁気記録媒体。
(7) 磁性層が、基体法線に対して傾斜した柱状結晶
構造粒子の集合体である特許請求の範囲第1項ないし第
6項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
構造粒子の集合体である特許請求の範囲第1項ないし第
6項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(8) 磁性層の厚さが0.05〜0.5p、mである
特許請求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載の
磁気記録媒体。
特許請求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載の
磁気記録媒体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上に、COlまたはCOならびにNi、Crお
よび0のうちの1〜3種を含む磁性層を有し、この磁性
層上K、下記式で示される化合物からなる膜を有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 式 ILNH2 (上記式において、Rは、炭素・原子数10〜22の直
鎖の飽和アルキル基である。)2、 膜が蒸着ないしス
パッタリング膜である特許請求の範囲第1項に記載の磁
気記録媒体。 3、膜の厚さが0.3μ惰以下である特許請求の範囲第
1項または第2項に記載の磁気記録媒体。 4、磁性層がNiを含み、Co / Niの重量比が1
.5以上である特許請求の範囲第1項ないし第3項のい
ずれかに記載の磁気記録媒体。 5、磁性層がCrを含み、Cr / (CoまたはCo
−1−Ni)ノ重量比が0.001〜0.1である特許
請求の範囲第1項ないし第4項に記載の磁気記録媒体。 6、磁性層が0を含み、0/(coまたはCo−1−N
i )の原子比が0.2以下である特許請求の範囲第1
項ないし第5項に記載の磁気記録媒体。 7、 第1af性層が、基体法線に対して傾斜した柱状
結晶構造粒子の集合体である特許請求の範囲第1項ない
し第6項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 8、磁性層の厚さが0.05〜0.5μ惰である特許請
求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57234817A JPS59119538A (ja) | 1982-12-25 | 1982-12-25 | 磁気記録媒体 |
US06/563,512 US4592948A (en) | 1982-12-25 | 1983-12-20 | Magnetic recording medium |
GB08334186A GB2133315B (en) | 1982-12-25 | 1983-12-22 | Magnetic recording medium |
FR8320646A FR2538594B1 (fr) | 1982-12-25 | 1983-12-23 | Perfectionnements aux supports d'enregistrement magnetiques |
DE3346770A DE3346770C2 (de) | 1982-12-25 | 1983-12-23 | Magnetischer Aufzeichnungsträger |
NLAANVRAGE8304424,A NL189219C (nl) | 1982-12-25 | 1983-12-23 | Magnetisch registratiemedium. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57234817A JPS59119538A (ja) | 1982-12-25 | 1982-12-25 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59119538A true JPS59119538A (ja) | 1984-07-10 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57234817A Pending JPS59119538A (ja) | 1982-12-25 | 1982-12-25 | 磁気記録媒体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JPS59119538A (ja) |
DE (1) | DE3346770C2 (ja) |
FR (1) | FR2538594B1 (ja) |
GB (1) | GB2133315B (ja) |
NL (1) | NL189219C (ja) |
Cited By (1)
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GB2096920B (en) * | 1981-02-19 | 1984-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Metallic magnetic medium and process for its production |
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-
1982
- 1982-12-25 JP JP57234817A patent/JPS59119538A/ja active Pending
-
1983
- 1983-12-20 US US06/563,512 patent/US4592948A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-12-22 GB GB08334186A patent/GB2133315B/en not_active Expired
- 1983-12-23 NL NLAANVRAGE8304424,A patent/NL189219C/xx not_active IP Right Cessation
- 1983-12-23 FR FR8320646A patent/FR2538594B1/fr not_active Expired
- 1983-12-23 DE DE3346770A patent/DE3346770C2/de not_active Expired
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---|---|---|---|---|
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---|---|
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GB2133315B (en) | 1986-02-26 |
GB2133315A (en) | 1984-07-25 |
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DE3346770A1 (de) | 1984-07-05 |
GB8334186D0 (en) | 1984-02-01 |
NL8304424A (nl) | 1984-07-16 |
NL189219B (nl) | 1992-09-01 |
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US4592948A (en) | 1986-06-03 |
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