JPS59117734A - Magnetic recording medium - Google Patents
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Classifications
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- G11B5/736—Non-magnetic layer under a soft magnetic layer, e.g. between a substrate and a soft magnetic underlayer [SUL] or a keeper layer
Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は磁気記録媒体に関し、一層詳細にはバック層
にカーボンブラック、グラファイト等のかわりに界面活
性剤を用いることによってバック層の表面粗さを無視で
き、しかもバンク層の樹脂の柔軟性の効果を充分に生か
すことができるように改良された磁気記録媒体に関する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic recording medium, and more specifically, the surface roughness of the back layer can be ignored by using a surfactant instead of carbon black, graphite, etc. in the back layer, and the bank layer The present invention relates to a magnetic recording medium that has been improved so as to be able to take full advantage of the flexibility of the resin.
現在、磁気テープはオーディ第5ビデオ、コンピュータ
ーの分野で広範囲に使用されるようになってきた。それ
に伴い、媒体に記録する情報量も年々増加し、媒体には
記録密度の高いことがまずます要求されるようになった
。At present, magnetic tape has come to be widely used in the audio, video, and computer fields. Along with this, the amount of information recorded on media has increased year by year, and media are increasingly required to have high recording density.
磁気へノーを用いる現在の記録方式においては、チープ
ルヘラド間のスペーシンク損失は54.[i ’λ
(dB)(d:テーブーヘソト°間距離、λ:記録波長
)で表される。この式かられかるように、記録密度の高
い短波長記録においては、スペーシングによる出力低下
の割合が長波長のそれより著しく大きくなる。従って、
小さな異物がテープ表面」二にあっても、それがドロッ
プアウトとし゛C検出されるごとになる。In current recording systems using magnetic helenoids, the spacing loss between cheap healds is 54. It is expressed as [i'λ (dB) (d: distance between the tapes, λ: recording wavelength). As can be seen from this equation, in short wavelength recording with high recording density, the rate of output reduction due to spacing is significantly greater than that in long wavelength recording. Therefore,
Even if a small foreign object is present on the tape surface, it will be detected as a dropout.
ドロップアウトの原因として考えられるのは、繰り返し
応力がかかることによる塗膜の劣化から生ずる磁気テー
プ塗膜表面の磁性粉脱落あるいは、走行中にヘースが削
り取られたものや、ホ:1り等が静電的にベース面に付
着しさらにそれが塗膜面に転移したものか挙げられる。Possible causes of dropouts include falling off of magnetic powder from the surface of the magnetic tape coating due to deterioration of the coating due to repeated stress, or magnetic powder being scraped off during running, or due to scratches such as It may be electrostatically attached to the base surface and then transferred to the coating surface.
ごれらを防止するため、例えば後者の原因に列しては、
磁気テープo> Tl?性面と反対の支持体表面(ハッ
ク面)に、カーホンブラックあるいはグラファイト等を
自機バインダーとともに混練した塗料を塗布しヘースの
強靭化をはかりヘースの削れを少なくする等の方法、が
考案されている。これらの処理により、繰り返し走行に
対するドロップアウトの増加の傾向はかなり抑えること
ができる。しかしその程度は、完全ではなく、さらにド
ロップアウトを少なくする必要がある。その発生原因を
^°を細に凋べた結果を本出願人は特願昭56−543
62号に記しである。In order to prevent this, for example, following the latter cause,
Magnetic tape o> Tl? A method was devised in which a paint made by kneading carphone black or graphite with a proprietary binder was applied to the surface of the support (the hack side) opposite to the steel surface to strengthen the heath and reduce the possibility of abrasion of the heath. ing. Through these processes, the tendency for dropouts to increase due to repeated running can be significantly suppressed. However, the degree of dropout is not perfect, and it is necessary to further reduce dropout. The applicant has submitted a patent application filed in 1986-543 to find out the cause of the occurrence in detail.
It is written in No. 62.
また結合剤としては通富熱硬化樹脂が使用される。Moreover, Tsufu thermosetting resin is used as a binder.
その場合、ハック層が塗布された後、テープは巻き取ら
れ、熱硬化処理が施されることになる。しかし、塗布が
終わった時点においては、ハック層中ではまだ硬化反応
が始まっておらずその塗膜は弱く、しかもハック面と磁
性面とは密着状態であるため、ハック層塗膜中に充填さ
れたカーボンブラック、グラファイト、あるいは他の無
機充Iii剤を含んたハック面塗膜表面は、それが接触
している反対側の磁性層表面に転移し易く、その転移し
たものがドロップアウトやヘッド目づまりの1原因とな
っていることがわかった。またこの現象はpi(可塑性
樹脂であっても同様な現象が起こりうると考えられる。In that case, after the hack layer has been applied, the tape will be wound up and subjected to a heat curing treatment. However, at the time the coating is finished, the curing reaction has not yet started in the hack layer and the coating is weak.Moreover, the hack surface and the magnetic surface are in close contact with each other, so the coating is filled into the hack layer coating. Hacked surface coatings containing carbon black, graphite, or other inorganic fillers tend to transfer to the magnetic layer surface on the opposite side with which they are in contact, resulting in dropouts and head defects. It turns out that this is one of the causes of blockages. Furthermore, it is thought that this phenomenon may occur even with pi (plastic resin).
ハック層を設けることにより、繰り返し走行によるドロ
ップアウトの増加を抑えることはできるが、走行回数の
少ない段階においてドロップアウトがそれほど低くない
のはこの理由のためである。By providing a hack layer, it is possible to suppress an increase in dropouts due to repeated running, but this is the reason why dropouts are not so low when the number of runs is small.
ハック層形成工程での上記のような不具合を解消するた
め、放射線感応樹脂(放射線の照射で硬化しうる樹脂)
をバインダーとしてカーホンブラックまたはクラファイ
トあるいは他の無機充填剤と混練した塗料でハック層を
形成した後活性エネルギー線源により放射線を照射し、
硬化処理を施すか、あるいはそのまま表面処理を行った
後硬化処理を施し、ハ、り層中に三次元架橋を生じさせ
、強靭な塗膜とした後、そのテープを巻き取るごとによ
り、上記のよ・うな原因によるト1」ノプヱウ1〜を減
少させるものがある。この方法によればテープが巻き取
られるのは塗膜の架橋反応が終rした後であるから、巻
き取りによりハック層か磁性層Gこ密着してもハック層
から磁性層への転移は起きないとなっている。In order to eliminate the above-mentioned problems in the hack layer formation process, we use radiation-sensitive resin (resin that can be cured by irradiation with radiation).
After forming a hack layer with a paint kneaded with carphone black or graphite or other inorganic fillers as a binder, irradiation is performed with an active energy ray source,
After applying a hardening treatment, or directly performing a surface treatment and then a hardening treatment to create three-dimensional crosslinking in the adhesive layer and create a strong coating film, each time the tape is wound, the above-mentioned There are things that can cause a decrease in ``to1'' due to such causes. According to this method, the tape is wound up after the crosslinking reaction of the coating film has finished, so even if the hack layer or the magnetic layer G is brought into close contact with each other during winding, no transition from the hack layer to the magnetic layer occurs. It says no.
しかし、カーボンブラック、グラフアイ(・等を樹脂中
に多量に入れなければ、帯電に対する効果が出ない。こ
のようにカーボンブラック、グラファイト等を多量に入
れると、バック層の表面粗さが問題となり、磁性層での
出力低下が起ごろ。However, unless a large amount of carbon black, graphite, etc. is added to the resin, there will be no effect on static electricity.If such a large amount of carbon black, graphite, etc. is added, the surface roughness of the back layer becomes a problem. , the output decreases in the magnetic layer.
本発明の目的は上記欠点を解決するため、カーボンブラ
ック、グラファイト等のかわりに、界面活性剤を用いる
ごとにより、帯電が防の、バンク層の表面粗さが無視で
き、しかもバック層の樹脂の柔軟性の効果を充分生かす
ことができ出力増加につながる磁気記録媒体を提供する
にある。The object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks by using a surfactant instead of carbon black, graphite, etc., which prevents static electricity, makes the surface roughness of the bank layer negligible, and further improves the resin of the back layer. The object of the present invention is to provide a magnetic recording medium that can fully utilize the effect of flexibility and lead to an increase in output.
本発明で用いる放射線感応樹脂とは、放射線によりラジ
カルを発生し架橋構造をη;しるような、分子鎖中に不
飽和二重結合を2個以上含むものであり、これはまた熱
可塑性樹脂を放射線感応変性することによっても可能で
ある。The radiation-sensitive resin used in the present invention is one that contains two or more unsaturated double bonds in its molecular chain, such that radicals are generated by radiation to form a crosslinked structure, and this is also a thermoplastic resin. It is also possible to make the radiation sensitive to radiation.
放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合性を有
する不飽和二重結合を示すアクリル酸。A specific example of radiation-sensitive modification is acrylic acid, which exhibits an unsaturated double bond that is radically polymerizable.
メタクリル酸あるいはそれらのエステル化合物のような
アクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよ・うなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合!の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥す
る基を分子中に導入することである。Acrylic double bonds such as methacrylic acid or its ester compounds, allylic double bonds such as diallyl phthalate, unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives! It is the introduction of a group into the molecule that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation.
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合で
あれば用いる事が出来る。Any unsaturated double bond that undergoes cross-linking polymerization upon irradiation with radiation can be used.
放射線感応樹脂に変性できる熱可塑性1品・1脂を以下
に示す。One thermoplastic product/one resin that can be modified into a radiation-sensitive resin is shown below.
(2)塩化ヒニール系共重合体
塩化ヒニールー酢酸ヒニール〜ヒニールアルコール共巾
合体、塩化ヒニールーヒニールアルコール共重合体、塩
化ヒニールーヒニールアルコール−ゾロピオン酸ヒニー
ル共重合体、塩化ヒニー月か一酢酸ヒニールーマレイン
酸共重合体。(2) Hinyl chloride-based copolymer, hinyl chloride-hinyl acetate-hinyl alcohol copolymer, hinyl chloride-hinyl alcohol copolymer, hinyl chloride-hinyl alcohol-zoropionate copolymer, hinyl chloride-hinyl chloride copolymer Acetate hinyl-maleic acid copolymer.
塩化ヒニールー酢酸ヒニールー末端OH側梢アルキル基
共重合体、たとえはUCC社踵(1+1.VYNC。Hinychloride-Hynylacetate-terminated OH side alkyl group copolymer, for example, UCC (1+1.VYNC).
V V F G X等またUCC社VERR等が挙げら
れる。Examples include V V FG X, and UCC's VERR.
L記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸二重結合、アリル系二重結合を導入し
放射線感応変性を行う。By the method described later, an acrylic double bond, a maleic acid double bond, and an allylic double bond are introduced into the L copolymer to perform radiation sensitivity modification.
(+))飽和ポリエステル樹脂
フタル酸、イソフタル酸7テしノフクル酸、コハク酸、
アジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸とエヂレ
ンクリコール、シエチレングリニJ−ル、グリセリン、
1−リンチロールプロパン、1.2プロピレングリコー
ル、1.3フクンジオール、ジプロピレングリコール、
1.4フタンジオール11.6ヘキ号ンジオール、ペン
タエリスリット、ソルヒトール、グリセリン、ネオペン
チルグリコール、1.4 シクロヘキサンジメタツール
のような多価アルコールとのエステル結合により得られ
る飽和ポリエステル樹脂又はこれらのポリエステル樹脂
を50λNa等で変性した樹脂(バイロン53S)。こ
れらを後に述べる手法により放射線感応変性を行う。(+)) Saturated polyester resin phthalic acid, isophthalic acid 7-thiophucric acid, succinic acid,
Saturated polybasic acids such as adipic acid and sebacic acid and ethylene glycol, ethylene glycol, glycerin,
1-lyncholpropane, 1.2 propylene glycol, 1.3 fucundiol, dipropylene glycol,
1.4 Phthanediol 11.6 Hexane diol, pentaerythritol, solhitol, glycerin, neopentyl glycol, 1.4 Saturated polyester resins obtained by ester bonding with polyhydric alcohols such as cyclohexane dimetatool, or polyesters thereof A resin modified with 50λNa etc. (Vylon 53S). Radiation sensitivity degeneration is performed using the methods described below.
(c)不飽和ポリエステル樹脂
分子鎖「l喝こ放射線硬化性不飽和二重結合を含有する
ポリエステル化合物、例えば第(b)r−qの熱可塑性
樹脂として記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル
結合から成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部を
マし・イン酸とじた放射線硬化性不飽和二重結合を含有
する不飽和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリ−1
マーを挙けることができる。(c) An unsaturated polyester resin molecular chain containing a radiation-curable unsaturated double bond, e.g. Radiation-curable unsaturated polyester resin containing unsaturated double bonds, prepolymer, Oli-1, which is made by combining a part of polybasic acid with inic acid and saturated polyester resin consisting of ester bonds.
Can raise a mark.
飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および第1i+1iア
ルコール成分は第(a)項に記載した各化合物を挙りる
ことができ、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレ
イン酸、フマル酸を挙りることかできる。Examples of the polybasic acid and 1i+1i alcohol components of the saturated polyester resin include the compounds listed in item (a), and examples of the radiation-curable unsaturated double bond include maleic acid and fumaric acid. I can do it.
放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分1種以」−と多価アルコール成分1種以−ヒにマ
レイン酸、フマル酸等を加え審決、ずなわぢ触媒存在1
80〜200°C窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコー
ル反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1
mm11gの減圧1・縮合反応によりポリエステル樹脂
を得ることかできる。マレイン酸やフマル酸等の含有量
は、製造肋の架橋。The manufacturing method of radiation-curable unsaturated polyester resin is to add one or more polybasic acid components, one or more polyhydric alcohol components, maleic acid, fumaric acid, etc.
After dehydration or dealcoholization reaction in a nitrogen atmosphere at 80-200°C, the temperature is raised to 240-280°C, and 0.5-1
A polyester resin can be obtained by condensation reaction of 11 g of mm under reduced pressure. The content of maleic acid, fumaric acid, etc. is determined by the crosslinking of the manufacturing ribs.
放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル%で好ましく
は10〜30モル%である。From the viewpoint of radiation curability, etc., it is 1 to 40 mol%, preferably 10 to 30 mol%, in the acid component.
((j)ボリヒニルアルコール系樹脂
ボリヒニルアルコール、フチラール+AJ 脂、アセク
ール樹脂、ポルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体
。これら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べる手法によ
り放射線感応化変性を行・う。((j) Borihinyl alcohol resin Borihinyl alcohol, phthyral + AJ resin, acecool resin, Polmar resin, and copolymers of these components. The hydroxyl groups contained in these resins are modified by radiation sensitization using the method described later. conduct.
(e)エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂ヒスフェノール
Aとエビクロルヒト−リン、メヂルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製(エピコー1
−152.154,828゜1001.1004.10
07) 、ダウケミカル製(1)EN 431゜DER
732,DIミR511,DER331)、大ロ木イン
キ製(エビクロン−400,エビクロン−800) 、
更に−に記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フ
ェノキシ樹脂(PKHA、 PKIIC,P旧111)
臭素化ヒスフェノールAとエピク【コルヒドリンとの共
重合体、大日本インキ化学工業製(エビクロン1.45
.152.153.1120 )等。(e) Epoxy resin, phenoxy resin Epoxy resin produced by the reaction of hisphenol A, epichlorohydrin, and medyl epichlorohydrin - manufactured by Ciel Chemical (Epicor 1)
-152.154,828°1001.1004.10
07), manufactured by Dow Chemical (1) EN 431°DER
732, DI MiR511, DER331), manufactured by Dairoki Ink (Ebikuron-400, Ebikuron-800),
Furthermore, phenoxy resin manufactured by UCC (PKHA, PKIIC, P former 111) which is a high polymerization degree resin of epoxy mentioned in -
Copolymer of brominated hisphenol A and Epicron [copolymer with colhydrin, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals (Epicron 1.45
.. 152.153.1120) etc.
これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行う。Radiation sensitivity modification is performed using the epoxy groups contained in these resins.
(f)繊維素誘導体
各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、セルロースアセ1ヘブチレートエチル
セルロース、ブチルセルローズ、アセチルセルロース等
が好適であり、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる手
法により放射線感応変性を行う。(f) Cellulose derivatives Cellulose derivatives of various molecular weights are also effective as thermoplastic components. Among these, particularly effective ones are nitrified cotton, cellulose ace-1-hebutyrate ethylcellulose, butylcellulose, acetylcellulose, etc., and radiation sensitivity modification is carried out by activating the hydroxyl groups in the resin and using the method described later.
その他、放射線感応変性に用いる。二とのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリヒニルピロリトン樹脂及び誘導体(1’)
V Pオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリ
イミド樹脂、フェノール樹脂。In addition, it is used for radiation sensitivity degeneration. Resins that can be used with 2 include polyfunctional polyester resins, polyether ester resins, polyhinylpyrrolitone resins, and derivatives (1')
VP olefin copolymer), polyamide resin, polyimide resin, phenolic resin.
スピlJアセクール樹脂、水酸基を含有するアクリルエ
ステル及びメタクリルエステルを少なくともI種以−に
重合成分として含むアクリル系樹脂等も有効である。Also effective are SpillJ acecool resin and acrylic resins containing acrylic esters and methacrylic esters containing hydroxyl groups as polymerization components of at least type I.
さらに十記放射線感応変性熱可塑性摺脂Gこ熱可塑性エ
ラストーマー又はプレポリマーをブレンドすることによ
り、−・層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下
記に述べるように、これらエラストマーあるいはプレポ
リマーが、同様に放射線感応性に変性された場合は、よ
り効果的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合
わiることのできるエラストマー又はプレポリマーを挙
げる。Furthermore, by blending the radiation-sensitive modified thermoplastic resin G with a thermoplastic elastomer or prepolymer, a tough coating film can be obtained. Furthermore, as described below, it is more effective if these elastomers or prepolymers are similarly modified to be radiation sensitive. Listed below are elastomers or prepolymers that can be combined with the radiation-sensitive resin described above.
(g)ポリウレタンエラストマー及びプレポリマー及び
テロマー
ポリウレタン上ラス1−マーは、耐摩耗性、POETフ
ィルムへの接着性が良い点で特に有効である。(g) Polyurethane elastomers, prepolymers and telomers Polyurethane superlaminants are particularly effective in terms of good abrasion resistance and good adhesion to POET films.
このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、2.4−1−ルエンジイソンアネート26−
トルニンシイソシアネート1.3−キシレンジイソシア
ネート、1.4−キシレンジイソシアネート、1.5−
ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシ
アネート、p−フェニレンジイソシアネート、3.3゜
−ジメチル−4,4° −ジフェニルメタンジイソシア
ネート、 4.4 ’ −シフェニルメタンシイソシ
アネ−1−、3,3’ −シメチルヒフェニレンジイ
ソシアネート、 4.4 ’ −ヒフエニレンシイソ
シアネー1〜.ヘキザメチレンジイソシアネー1−。Examples of such urethane compounds include 2,4-1-ruene diisonanate 26-
tolunincyisocyanate 1.3-xylene diisocyanate, 1.4-xylene diisocyanate, 1.5-
Naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3.3°-dimethyl-4,4°-diphenylmethane diisocyanate, 4.4'-cyphenylmethane diisocyanate-1-,3,3'-dimethyl Hyphenylene diisocyanate, 4.4'-hyphenylene diisocyanate 1~. Hexamethylene diisocyanate 1-.
イソフオロンジイソシアネート ジシクロヘキシルメク
ンジイソシアネート、デスモジュールL、デスモジュー
ルN等の各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエス
テル(エチレングリコール、ジエチレングリコール、グ
リセリン。Various polyvalent isocyanates such as isophorone diisocyanate, dicyclohexylmecune diisocyanate, Desmodur L, and Desmodur N, and linear saturated polyesters (ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin.
1−リンチロールプロパン、1.4−ブタンジオール、
1.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソル
ビトール、ネオペンチルグリコール。1-lyncholpropane, 1,4-butanediol,
1.6-hexanediol, pentaerythritol, sorbitol, neopentyl glycol.
1.4−シクロヘキサンジメタツールの様な多価アルコ
ールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハ
ク酸、アジピン酸、セバシン酸。1. Polyhydric alcohols such as 4-cyclohexane dimetatool and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid.
の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和
ポリエーテル(ボリエヂレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコール)やカプ
ロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒ
ドロキシル含有メタクリルエステル等の各種ポリエステ
ル頓の縮重合物より成るポリウレタン上ラス1−マー、
プレポリマー、テロマーが有効である。(condensation polymerization with saturated polybasic acids such as A polyurethane lath 1-mer made of a condensation product of polyester,
Prepolymers and telomers are effective.
これらのエラストーマーを放射線感応変性の各種呼ζ可
塑性プラスチックスとそのまま組み合わせても良いが、
更にウレタンエラス1−マーの末端のイソシアネー1−
基又は水酸基と反応するアクリル系二重結合又はアリル
系二重結合等を有する単量体と反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非雷に効果的である。These elastomers may be combined with various types of radiation-sensitive plastics, but
Furthermore, the isocyanate 1-mer at the end of the urethane elastomer
By reacting with a monomer having an acrylic double bond or an allylic double bond that reacts with a group or a hydroxyl group,
Modification to radiation sensitivity is effective for non-lightning.
(h)アクリルニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー
シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリクイソドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリルニト
リル−ブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本
ゼオン社製ハイカー1432 J等のエラストマーは、
特にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを
生し架橋及び重合させるエラストマー成分として通ずる
。(h) Acrylonitrile-butadiene copolymer elastomer An elastomer such as an acrylonitrile-butadiene copolymer prepolymer with a terminal hydroxyl group commercially available as PolyBD Liquisodorecin manufactured by Sinclairvetro Chemical Co., Ltd. or Hiker 1432 J manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. ,
In particular, the double bond in butadiene generates radicals when exposed to radiation, leading to crosslinking and polymerization as an elastomer component.
(i)ポリブタジエンエラストマー
シンアペトロケミカル社製、ポリBDリクイソトレジン
R−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマー
が特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。R−
15プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となって
いる為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付加する
ことにより放射線感応性を高めることが可能であり、バ
インターとして更に有利となる。(i) Polybutadiene Elastomersin A prepolymer having a low molecular weight terminal hydroxyl group, such as PolyBD Liquisotresin R-15 manufactured by Apetrochemical Co., Ltd., is particularly suitable in terms of compatibility with thermoplastic resins. R-
Since the 15 prepolymer has a hydroxyl group at the end of the molecule, it is possible to increase the radiation sensitivity by adding an acrylic unsaturated double bond to the end of the molecule, making it more advantageous as a binder.
また、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム製C旧i
−M !101も熱可塑性樹脂との組合わせによりすく
れ/;: (!1:能を発揮する。特に、環化されたポ
リブタジェンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結
合のラジカルにより放射線による架橋重合の効率が良く
、バインダーとして優れた性質を有している。In addition, polybutadiene cyclized product Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.
-M! 101 is also effective in combination with thermoplastic resin. In particular, cyclized polybutadiene has a high efficiency of crosslinking polymerization by radiation due to the radicals of unsaturated bonds inherent in polybutadiene. It has excellent properties as a binder.
その地熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの系
で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化コム、アクリルコム、イソプレンコム及びその環化物
(日本合成ゴム141clR7(It )1ボキン変性
コム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(I l″(−
MJjバイロン#−300)、等のエラストマーも下記
に述べる放射線感応変性処理を施すことによりa効に利
用できる。Suitable geothermal plastic elastomers and prepolymer systems include styrene-butadiene rubber, chloride comb, acrylic comb, isoprene comb, and their cyclized products (Japan Synthetic Rubber 141clR7 (It), 1 Boquin modified comb, internally plasticized saturated Linear polyester (I l″(-
Elastomers such as MJj Byron #-300) can also be used for a-effect by subjecting them to the radiation sensitivity modification treatment described below.
また高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間
に架橋を起こすものか知られている。分子間に架橋を起
こすものとしては、ポリ、エチレン。Furthermore, it is known that some polymers disintegrate when irradiated with radiation, while others cause cross-linking between molecules. Examples of substances that cause crosslinking between molecules are poly and ethylene.
ポリプロピレン2ポリスチレン、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリアクリルアミド、ポリ塩化ヒニール、ポリエス
テル、ボリヒニールピロリドンゴム。Polypropylene 2 polystyrene, polyacrylic acid ester, polyacrylamide, polyhynyl chloride, polyester, polyhynyl pyrrolidone rubber.
ポリヒニールアルコール、ポリアクロレインがある。こ
の様な架橋型ポリマーであれば1−記のような変性を特
に施さなくても、架橋反応が起こるので、そのまま放射
線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。There are polyhinyl alcohol and polyacrolein. If such a crosslinked polymer is used, the crosslinking reaction will occur even without special modification as described in 1-, so it can be used as is as a backcoat resin for radiation crosslinking.
さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をハックコート用として用いることもで
きる。Furthermore, according to this method, even a solvent-free resin that does not use a solvent can be cured in a short time, so such a resin can also be used for hack coating.
本発明に使用される帯電防止剤としての界面活性剤は、
アニオン型として、カルホン酸塩、硫酸誘導体、りん酸
誘導体、ペンタアルキルボリボスフエ−1〜、ヘキサア
ルキルナ1〜ラボリボスフエート、ジアルキルホスホン
酸、スルボン酸等である。The surfactant as an antistatic agent used in the present invention is
Examples of the anionic acid salts include carbonic acid salts, sulfuric acid derivatives, phosphoric acid derivatives, pentaalkyl boribosphate, hexaalkyl boribosphate, dialkylphosphonic acid, sulfonic acid, and the like.
またカチオン型として、アミン、第4級アンモニウム塩
、イミダソリン、アミン酸化エチレン付加体、フィチン
酸第4級等である。Examples of cationic types include amines, quaternary ammonium salts, imidasoline, amine oxidized ethylene adducts, and quaternary phytic acid.
ノニオン型として、多価アルコール、多1iIliアル
コールエステル、アルキルフェノール酸化エチレン伺加
体、脂肪酸化エチレン伺加俸、アミ]・酸化エチレンf
J加体、アミン酸化エチレンイ1加休、アミl−等であ
る。Nonionic types include polyhydric alcohols, polyalcohol esters, alkylphenol ethylene oxide compounds, fatty acid ethylene oxides, amino]・ethylene oxide f
These include amine oxide, ethylene oxide, amyl, and the like.
両性型として、カルボン酸、スルホン酸、金属塩、アル
キルヘタイン等である。Amphoteric types include carboxylic acids, sulfonic acids, metal salts, and alkylhetaines.
界面活性剤の量としては樹脂に対し1重量部界トでない
と、ハック層の帯電防1]−効県がなく、20重量部以
」二になると、表面へのにしめたしが出るため望ましく
ない。If the amount of surfactant is less than 1 part by weight based on the resin, the hack layer will not be effective in preventing static electricity, and if it exceeds 20 parts by weight, it will cause stains on the surface. Undesirable.
また、これらの界面活性剤として末端にアクリCH。In addition, these surfactants include acrylic CH at the end.
ル系二重結合を付加してCl1z = CC00C11
2SOJ It 。By adding a double bond, Cl1z = CC00C11
2SOJ It.
CI+、 (+
11
Cllz −C−(ニー 0−− CG−R7−C(l
R,−(1)Jl のようにしたものを用いたり、
潤滑剤としてやはり末端にアクリル二重結合を付加する
ごとによってCI(2=ClIC0OR,CI+、 −
CIICONHCI+20COR(I7はCnllzr
m −+ Cn1lzn −、Cn1Lzn−x 等で
よい)などを用いることによって、分散性やン%性を良
好にすると共に、アクリル系二重結合が放射線の照射処
理によってラジカルを発生し、バインダー成分に生じた
ラジカルと反応して強固に結合し、表面性が一層優れ、
電磁特性も向上する。CI+, (+ 11 Cllz -C-(nee 0-- CG-R7-C(l
R, - (1) Jl or
CI (2=ClICOOR, CI+, -
CIICONHCI+20COR (I7 is Cnllzr
m −+ Cn1lzn −, Cn1Lzn-x, etc.), etc.), the dispersibility and percent property are improved, and the acrylic double bond generates radicals by radiation treatment and becomes a binder component. It reacts with the generated radicals to form a strong bond, resulting in even better surface properties.
Electromagnetic properties are also improved.
また、高温保存下で、バックINの界面活性剤かにしみ
出し、磁性層へ転位するのを押さえるために、必要に応
じて、顔料として5i07 、 Ti0z 、八l、Q
I。In addition, in order to prevent the surfactant in the back IN from seeping out and dislocating to the magnetic layer during high-temperature storage, pigments such as 5i07, Ti0z, 8l, and Q are added as necessary.
I.
CrzO3,SiC、CeO>、 CaC0J、酸化亜
鉛、ケーサイト、 αFezOa 、 クルク、カオ
リン、 (:aSOu 、窒化硼素、テフロン粉末、フ
ッ化黒鉛、二硫化モリブテン、ジルコニア、 Ca5i
02.アスベスト チタンボワイト、ホワイトカーホン
、クロム・イエロー。CrzO3, SiC, CeO>, CaC0J, zinc oxide, casite, αFezOa, Kuruk, kaolin, (:aSOu, boron nitride, Teflon powder, graphite fluoride, molybdenum disulfide, zirconia, Ca5i
02. Asbestos titanium white, white carphone, chrome yellow.
オイルイエロー、オイルブルー、オイルl/ 7ドtり
どのものが適宜添加される。Oil yellow, oil blue, oil 1/7 dot, etc. are added as appropriate.
なお、界面活性剤、顔料は必ずしも1種ずつ使用すると
は限らず、2種、3種と混合する場合もある。Incidentally, the surfactant and the pigment are not necessarily used one by one, but two or three kinds may be mixed.
また、本発明のハックコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
CO′°を線源としたγ−線、Sr”を線源としたβ−
線、X線発生器を線源としたX−線、紫外線照射等が使
用される。In addition, the active energy rays used for crosslinking the hack coat of the present invention include electron beams using a radiation accelerator as a radiation source;
γ-rays using CO'° as a radiation source, β-rays using Sr'' as a radiation source
X-rays, X-rays using an X-ray generator as a radiation source, ultraviolet irradiation, etc. are used.
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation heater from the viewpoints of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, and shielding ionizing radiation.
ハック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜750KV好ましくは
150〜300KVの放射線加速器を用い吸収線量を0
.5〜20メガラツドになるようC1叫(6射するのが
好都合である。The radiation characteristics used when curing the hack layer are as follows:
From the perspective of penetrating power, a radiation accelerator with an accelerating voltage of 100 to 750 KV, preferably 150 to 300 KV is used to reduce the absorbed dose to 0.
.. C1 scream (it is convenient to shoot 6 times) to get 5 to 20 megarads.
本発明のハック層硬化に際しては、米国エナーシーナイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放A・j線
加速器(エレクl〜ロカーテンシステム)及びRP社の
加速器等がテープコープインク加]ニラインへの導入、
加速器内部の2次X線の遮蔽等に極めて有利である。When curing the hack layer of the present invention, a low-dose type radiation A/J-ray accelerator (Elecrocurtain System) manufactured by Enercineaience Inc. in the United States and an accelerator manufactured by RP Co., Ltd. are used to apply tape cop ink. Introduction to Niline,
This is extremely advantageous for shielding secondary X-rays inside the accelerator.
勿論、従来より放射線加速材として広(活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。Of course, a van de Graaf type accelerator, which has been widely used as a radiation accelerating material, may also be used.
また、放射線架橋に際しては、Nカス、11eガス等の
不活性ガス気流中で放射線をハック層に照射することが
重要であり、空気中で放射線を照射することは、バイン
グー成分の架橋に際し放射線照射により生じた03等の
影響でポリマー中6□二生じたラジカルが有利に架橋反
応に働くことを阻害するので極めて不利である。In addition, when crosslinking with radiation, it is important to irradiate the hack layer with radiation in an inert gas stream such as N scum or 11e gas. This is extremely disadvantageous because it prevents the radicals generated in the polymer from working advantageously in the crosslinking reaction.
従って、活性エネルギー源を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で1%のNl、 lle、 CO2
等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。Therefore, the atmosphere in the area where the active energy source is irradiated is
In particular, Nl, lle, CO2 with a maximum oxygen concentration of 1%
It is important to maintain an inert gas atmosphere such as
紫外線照射の場合は、放射線硬化性ケ料に、さらに1〜
10重量%の光重合増感剤を含有する。In the case of ultraviolet irradiation, add 1 to
Contains 10% by weight of photopolymerizable sensitizer.
紫外線の場合は電子線よりも不活性カスでの影響が少な
いので、大気中での照射が可能である。顔料の量として
は多くなりすぎると塗膜がもろくなる。そのため、20
0重量部以下が適当である。In the case of ultraviolet rays, the influence of inert scum is less than that of electron beams, so irradiation in the atmosphere is possible. If the amount of pigment is too large, the coating film will become brittle. Therefore, 20
A suitable amount is 0 parts by weight or less.
さらに、この様なパンク層を設けるべき磁気テープとし
ζは、オーディオテープ、ビデオテープ。Furthermore, such a puncture layer should be provided on magnetic tape and ζ for audio tape and video tape.
−2ンビ、7.−ター用テープ、エントレステープがあ
るか、中でも、ドロップアウトが最も重要な特性の一つ
であるヒデオテープ、コンビJ−−ター用テープに用い
る、ことはかなり有効である。-2mbi, 7. Among them, it is quite effective to use it for video tapes and combination J-ter tapes, in which dropout is one of the most important characteristics.
磁P1°塗料中に含まれる磁性体微粉末は、αPeJ3
゜FerOw、CoトープrFezoJ+coドープr
Fe2O,+ −Pei(Ig固溶体、 CrO
gco系化合物被着型r Fe2O3゜Co系化合物
被着型PejOy (γl’ ex OJ との中間
酸化状態も含む。又ここで言うCO系化合物とは、酸化
コバルト水f%を化コバルト、コハル1〜フェライト:
1パル1−イオン吸着物等コバルトの磁気異方性を保磁
力向上に活用する場合を示す。)、又00゜Fe−Co
、Fe−Co−Ni、 Co−Ni等の強磁性金属元素
を主成分とする。その製法はNaBIls等の還元剤に
よる瀞弐還元法や一酸化鉄表面をSi化合物で処理後1
1zガス等により乾式還元法によって、あるいは低圧ア
ルゴンガス気流中で真空范発させる事Cによって得られ
る手法等があげられる。又単結晶ハリウJ・フェライト
i7i’(粉も使用できる。The magnetic fine powder contained in the magnetic P1° paint is αPeJ3
゜FerOw, Co-doped rFezoJ+co-doped r
Fe2O, + -Pei (Ig solid solution, CrO
gco-based compound adhesion type r Fe2O3゜Co-based compound adhesion type PejOy (including intermediate oxidation state with γl' ex OJ ~Ferrite:
A case is shown in which the magnetic anisotropy of cobalt, such as a 1-pal 1-ion adsorbent, is utilized to improve coercive force. ), also 00°Fe-Co
The main component is a ferromagnetic metal element such as , Fe-Co-Ni, Co-Ni, etc. The manufacturing method is a reduction method using a reducing agent such as NaBIls, or after treatment of the iron monoxide surface with a Si compound.
Examples include a dry reduction method using 1z gas or the like, or a method obtained by generating a vacuum in a low-pressure argon gas stream. Also, single crystal Hariu J Ferrite i7i' (powder can also be used).
以上の磁性体微粒子は針状形感あるい、は粒4に形態の
ものを使用し、磁気記録媒体とし一ζ用いる用途によっ
て選択される。The above-mentioned magnetic fine particles have an acicular shape or a grain shape, and are selected depending on the purpose of use as a magnetic recording medium.
また、バインダーも熱可塑性、硬化性、放射線硬化性の
いずれであってもよい。Further, the binder may also be thermoplastic, curable, or radiation curable.
一方、バンク層には潤滑剤を適宜用途に合わせて活用す
る事も有効である。On the other hand, it is also effective to use a lubricant in the bank layer depending on the purpose.
光増感剤としては、例えば、ヘンゾイン、ヘンゾインメ
チルエーテル、ベンヅインエチルエーテル、ヘンゾイン
イソプロビルエーテル、α−メチルヘンゾイン、α−フ
ェニルヘンゾイン等のヘンジイン系化合物、アントラキ
ノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合
物、ヘンシル:ジアセチル、アセトフェノン、ヘンシフ
エノン等のフェニルケ1−ン化合物、ジフェニルジスル
フィド、テトラメチルチウラムスルフィド等のスルフィ
ド化合物、α−クロルメチルナフタリン、アントラセン
およびヘキザクロロブタジエン、ペンタクロロブタジェ
ンなどのハロケン化炭化水素などを挙げることができる
。光重合増感剤は、樹脂固形分に対し、0.1〜10%
の範囲が望ましい。Examples of photosensitizers include henzoin, henzoin methyl ether, benzin ethyl ether, henzoin isopropyl ether, α-methylhenzoin, α-phenylhenzoin, and other hendiin compounds, anthraquinone, methylanthraquinone, and the like. anthraquinone compounds, phenylkene compounds such as hensyl diacetyl, acetophenone, hensifhenone, sulfide compounds such as diphenyl disulfide and tetramethylthiuram sulfide, α-chloromethylnaphthalene, anthracene and hexachlorobutadiene, pentachlorobutadiene, etc. Examples include halogenated hydrocarbons. The photopolymerization sensitizer is 0.1 to 10% based on the solid content of the resin.
A range of is desirable.
以1;実施例について述べる。Below 1: Examples will be described.
〔実施例1]
アクリル変性塩ヒー酸ヒーヒニールアルコール共重合体
(n)60部
7クリル変1生ポリウレタンコニラス1−マー(g)4
部
第4級アンモニウム塩 7部混合溶剤
600部
上記混合物をボールミル中5時間分11にさせ、磁性面
が形成されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚
0.1 μになるように塗布し、エレクトロカーテン
タイプ電子線加速装置を用い′C加速電圧1.50KV
、電極電流10mA、吸収線15Mrad、N2カス中
で電子線をハック層に照射し、硬化を行った後巻き取り
、1 /2″′ヒデオrpに切断し、V HSテノキに
て感度(4MIIz)を測定した。[Example 1] Acrylic modified salt arsenic acid arsenic alcohol copolymer (n) 60 parts 7 Acrylic modified 1 raw polyurethane conylas 1-mer (g) 4
Part: Quaternary ammonium salt: 7 parts: Mixed solvent: 600 parts The above mixture was heated to 11 for 5 hours in a ball mill, applied to the back side of a polyester film on which a magnetic surface was formed to a dry thickness of 0.1 μm, and electrolyzed. Using a curtain type electron beam accelerator, the acceleration voltage was 1.50KV.
, electrode current 10 mA, absorption line 15 Mrad, the hack layer was irradiated with an electron beam in N2 scum, cured, wound up, cut into 1/2'' Hideo RP, and tested with a V HS tenoki for sensitivity (4 MIIz). was measured.
〔比較例1〕
実施例1にて、第4級アンモニウム塩の代わりに、Si
O・100重量部添加した。[Comparative Example 1] In Example 1, Si was used instead of the quaternary ammonium salt.
100 parts by weight of O was added.
表1に示すとおり、
表1
へツク層が放射線感応性樹脂と界面活性剤よりなる場合
は感度のアンプがある事がわかる。ハック層の影響が顕
著に異なる事がわかる。As shown in Table 1, it can be seen that there is a sensitivity amplifier when the layer is made of a radiation-sensitive resin and a surfactant. It can be seen that the influence of the hack layer is significantly different.
〔実施例2〕
アクリル変性ポリエステル樹脂 100部アルコー
ルよりなるリン酸エステル
誘導体 2部
混合溶剤 600部
0.2μ塗布
〔実施例3〕
塩化ビニール、酢酸ビニールアルコール共重合体 60
部
アクリル変性ポリウレタンエラス1−マー 40部第3
級アミン 100部混/8刑
61) Of!B表2
()、1μ塗布
実施例3において、高温多湿保存下に短期間1〜211
保存では問題がなかったが、3日間具I−にZ(イ]と
、ハック層中の界面活性剤かにし7のだし、粘着が出−
ζきて好ましくなかった。そこで顔料5i02を添加し
てみると、粘着も押さえられ、出力低1Fも、わずかで
済んだ。[Example 2] Acrylic modified polyester resin 100 parts Phosphoric acid ester derivative consisting of alcohol 2 parts Mixed solvent 600 parts 0.2μ coating [Example 3] Vinyl chloride, vinyl acetate alcohol copolymer 60
Part acrylic modified polyurethane elastomer 1-mer 40 parts Part 3
grade amine 100 parts/8 sentences
61) Of! B Table 2 (), 1 μ coating Example 3, 1 to 211 for a short period of time under high temperature and humid storage
There were no problems during storage, but for 3 days Z (A) was added to Ingredients I-, and the surfactant crab 7 in the hack layer became sticky.
ζI didn't like it. Then, when I added pigment 5i02, the stickiness was suppressed and the low output of 1F was only slight.
そのため、必要に応じ顔料を添加すうことは効果的であ
る。実施例4で示す。Therefore, it is effective to add pigments as necessary. This is shown in Example 4.
〔実施例4〕 実施例3に対し 5iOL20重量部 1 μ塗布 表3 5段階で1が一番良い。[Example 4] For Example 3 5iOL20 parts by weight 1 μ coating Table 3 On a scale of 5 to 1, 1 is the best.
〔実施例5〕
実施例4に対し
ヘンジインエチルエーテル o、3部上記組成物
を紫外線照射した。塗布厚がlμ番こなるようにした。[Example 5] In contrast to Example 4, the above composition was irradiated with ultraviolet rays using 3 parts of hengeine ethyl ether. The coating thickness was set to lμ.
表4
なお、顔料を増加させていくと、電磁変換特性も低下し
、200重量部を越えると塗膜がもろくなることがわか
った。200重量部以内なら、感度が十F1.4 dI
l以−トであり、良好であった。Table 4 It was found that as the amount of pigment was increased, the electromagnetic conversion characteristics also deteriorated, and when the amount exceeded 200 parts by weight, the coating film became brittle. If it is within 200 parts by weight, the sensitivity is 10 F1.4 dI
It was better than 1.
以下本発明につき好適な実施例を挙げて種々説明したが
、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るのは
もちろんのことである。The present invention has been variously explained below with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to these embodiments, and it goes without saying that many modifications can be made without departing from the spirit of the invention. It is.
特許出願人
東京電気化学工業株式会社
代表者素野福次部
代理人(7762)弁理士 1
手続補正書
1、事件の表示
昭和5741E4剋′1願第231 (197号2、発
明の名称
磁気記録媒体
3、補正をする者
事件との関係 特ε′1出19毘友
4、イ“(Jコ4.ム、
自発
)(、補正の内容
I)特許請求の範囲の欄を次のように補正する。Patent Applicant Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Representative Fukujibe Sono (7762) Patent Attorney 1 Procedural Amendment 1, Case Description Showa 5741E4'1 Application No. 231 (197 No. 2, Name of Invention Magnetic Recording) Medium 3, Relationship with the case of the person making the amendment Patent ε'1, Ex. to correct.
「1.支持体の一方の面に磁性層を、他方の面にハック
層を設りた磁気記録媒体において、ハック層が放射線感
応樹脂を含む結合相中に充1i■月として界面活性剤お
よび必要に応じ叩利を分t1!!、シ硬化してなること
を特徴とする磁気記録媒体。1. In a magnetic recording medium in which a magnetic layer is provided on one side of a support and a hack layer is provided on the other side, the hack layer is a binder phase containing a radiation-sensitive resin and contains a surfactant and A magnetic recording medium characterized in that it can be hardened for a minute t1!! if necessary.
2、顔料か、5i(la、 Tie、、八I、[]、
、 Cr、0. 。2. Pigment, 5i(la, Tie,, 8I, [],
, Cr, 0. .
Sic 、 CeO,、Ca[:O,、j!II、
化111i 19 、 −オーご!ジー1乙−)1(J
tゴじ一欽、αl’e、03 、 クルク、カオリン
、C+1SO4。Sic, CeO,, Ca[:O,, j! II,
111i 19, -Oh! G1 Otsu-)1 (J
t Goji Ikkin, αl'e, 03, Kuruku, Kaolin, C+1SO4.
窒化硼素、テフI」ン1′5)末、ソノ化用鉛、−硫化
モリソう一ン、ノルコニア、 l−a S i Oz
、7z’ス・\スl、−J−タンボワイト、十1ノ、(
+・カーホン。Boron nitride, Teflon 1'5) powder, lead for sonification, moriso sulfide, norconia, la SiOz
, 7z's \sl, -J-tanbowight, 11no, (
+・Carphone.
り1−I)、イエ+:r−、Jイルイエ+:+−,;(
イルツルー又はオイルレットごある4”I’ A’l”
nIf求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。ri1-I), ie +: r-, J ile ie +: +-,;(
Il true or oil let 4"I'A'l"
The magnetic recording medium according to item 1, which is the range of nIf.
3、磁性層がr FezJ、Coトープしたγl B、
Ll 3 +メタルよりなるl[に許請求の範囲第1
jn又d第21、fi記戦の磁気記録媒体。3. The magnetic layer is r FezJ, Co-topped γl B,
Ll 3 + l made of metal [Claim 1]
Jnmata d 21st, fi-kisen magnetic recording medium.
4、放射線が電子線である特許請求の範囲第1項又は第
2項又は第3項記載の磁気記録媒体。4. The magnetic recording medium according to claim 1, 2, or 3, wherein the radiation is an electron beam.
5、結合材中の放射線硬化塗料がさらに1〜10重量%
の光重合増感剤を含有し、紫外線照射によりバック層が
形成された特許請求の範囲第1項又は第2項又は第3項
記載の磁気記録媒体。j
2)明細書第18頁第11行目〜第12行目の「ケーラ
イト」を「オキシ水酸化鉄」と補正する。5. Further 1 to 10% by weight of radiation-curing paint in the binder
The magnetic recording medium according to claim 1, 2, or 3, wherein the magnetic recording medium contains a photopolymerizable sensitizer and has a back layer formed by irradiation with ultraviolet rays. j 2) "Kahlite" on page 18, lines 11 to 12 of the specification is corrected to "iron oxyhydroxide."
3)明細書第21頁第6行目の[αFe工O,Jを「γ
Feよ0.」と補正する。3) [αFe process O, J on page 21, line 6 of the specification]
Feyo0. ” he corrected.
Claims (1)
を設けた磁気記録媒体において、ハ7り層が放射線感応
樹脂を含む結合材中に充tie 44として界面活性剤
および必要に応じ顔料を分散し硬化してなることを特徴
とする磁気記録媒体。 2、顔料が、5iOz、 TiO2,^1,03 、
Cr2+1.3 。 SiC、Ce(lz、 CaC0J、酸化亜鉛、ゲーサ
イト。 αFezO3,タルク、カオリン、 Ca5Op 、窒
化硼素、テフロン粉末、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン
、ジルコニア、 Ca5iOz、アスベスト。 ナクンボワイト、ホワイ1−カーボン、クロムイエl」
−、オイルイエロー、オイルブルー又はオイルレッドで
ある特許請求の範囲第1項記戦の磁気記録媒体。 3、磁性層かr F e 20J 、 Coドープした
γre、O,,メタルよりなる特許請求の範囲第1項又
は第2項記載の磁気記録媒体。 4、放射線が電子線である特許請求の範囲第1項又は第
2項又は第3項記載の磁気記録媒体。 5、結合材中の放射線硬化塗料がさらに1〜10重量%
の光重合増感剤を含有し、紫外線照射によりバンク層が
形成された特許請求の範囲第1項又は第2項又は第3項
記載の磁気記録媒体。[Claims] 1. A magnetic recording medium in which a magnetic layer is provided on one side of a support and a bank layer is provided on the other side, in which the radial layer is filled in a binder containing a radiation-sensitive resin. A magnetic recording medium characterized in that it is obtained by dispersing and curing a surfactant and, if necessary, a pigment. 2. The pigment is 5iOz, TiO2,^1,03,
Cr2+1.3. SiC, Ce(lz, CaC0J, zinc oxide, goethite. αFezO3, talc, kaolin, Ca5Op, boron nitride, Teflon powder, graphite fluoride, molybdenum disulfide, zirconia, Ca5iOz, asbestos. Nakumboyite, white carbon, chromite l”
-, oil yellow, oil blue or oil red. 3. The magnetic recording medium according to claim 1 or 2, wherein the magnetic layer is made of r Fe 20 J , Co-doped γre, O,, metal. 4. The magnetic recording medium according to claim 1, 2, or 3, wherein the radiation is an electron beam. 5. Further 1 to 10% by weight of radiation-curing paint in the binder
The magnetic recording medium according to claim 1, 2, or 3, wherein the magnetic recording medium contains a photopolymerizable sensitizer and has a bank layer formed by irradiation with ultraviolet rays.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57231097A JPS59117734A (en) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57231097A JPS59117734A (en) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Magnetic recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59117734A true JPS59117734A (en) | 1984-07-07 |
Family
ID=16918244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57231097A Pending JPS59117734A (en) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Magnetic recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59117734A (en) |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP57231097A patent/JPS59117734A/en active Pending
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