JPS5834171A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、多数の被蒸着体に対する膜厚制御が容易な電
子ビームを蒸発パワーとする真空蒸着装置に関する。

従来から物体の表面に薄膜を形成する手段としては真空
蒸着装置が広く使用されているが、そのうち蒸着膜厚の
制御が必要な場合には電子ビームｌ蒸発パワーとする真
空蒸着装置が主として採用されている。

そこで、このような電子ビームを蒸発パワーとする真空
蒸着装置の一例を第１図に示す。

図において、１はペルジャー（真空容器）、２はベース
（基台）、３Ｆｉ覗き室、４は電子ビーム源、Ｓは蒸発
源、６は蒸発源の容器（ハース）、Ｔはシャッタ、８は
プラネタリ治具、９は被蒸着物な保持させる回転板、１
０は蒸着膜厚検出器。

１１は制御回路、１２は電子ビーム源動作用の電源回路
である。

ペルジャー１はベース２の上に図示してないバッキング
を介して載置され、これも図示してない真空ポンプなど
Ｋより内部な高真空状態に保つことができるよ５にしで
ある。

電子ビームｉ！［４は陰極となるフィラメントと、陽極
となる加速電極、それにビーム形成用の電極などからな
〕、電源回路１２からフィラメント加熱用の電力と電子
ビーム１Ｘｉ速用の高電圧の供給を受け、数１０ｋＶの
加速電圧の下でアンペアオーダーに％達す為電子ビーム
を発生する。この電子ビームは図示してない偏向１Ｎｉ
ｔ　（ｆｉｔ、ｔけ磁界型のもの）Ｋよや偏向され、ア
ルミニウムのインゴットなどの蒸発＃ＳＫ対して図の上
方から？！げ画直な方向て射突畜せられる。

従って、蒸発ｍｓ＃ｉこの電子ビームの射突によシ局部
的に溶解し、蒸発し定分子は図の破線の矢印のように飛
散する。

プラネタリ治具・はそれ自体が図の垂直方向な中心軸と
して水平に回転しなからさらに軸支した璽数枚の浅％Ａ
ｌｌ状をした回転板９を回転させるように動作す為。

そこで、いま１回転板９の内側面に被蒸着体を所定の数
だけ取付け、ペルジャー１の中を所定の真蜜虞に保ち、
プラネタリ治具８を動作させながらシャツ＃７を蒸発源
５の上方から外せば、図の破線の矢印て示すように蒸発
源５かも蒸着物質が被蒸着体の表面に飛来し、蒸着か行
なわれる。

そして、このときの被蒸着体に対する蒸着膜厚の制御は
次のようｋして行なう。即ち、ペルジャー１の頂部には
蒸着膜厚検出器１０が設けられているから、前述のよう
にして蒸着を開始するとこの検出器１０の検出面にも蒸
着膜が形成されてゆき、この検出−１０からはその形成
され始め良港着膜の厚さに応じｔ検出信号が出力されて
制御回路１１に供給される。

そこで、制御回路１１は供給された検出信号に応じて電
源回路１２を制御し、電子ビーム＃４に供給しているフ
ィラメント加熱電力などを変化させ、あらかじめ設定し
である所定の蒸着速度に対応した検出信号が蒸着膜厚検
出器１０から得られるようｋすれは膜厚の制御ｌ′１に
：行なうことができる。

ところが、このような従来の真空蒸着装置においては、
ペルジャー１０頂部に設けである蒸着膜厚検出器１０に
１９蒸着速度を検出しているだけなので、プラネタリ治
具−の回転板９の全面に対する膜厚分布の違いや蒸着操
作ごとく生じる膜厚分布の違いを補正するような制御か
できず、そのため、被蒸着体ごとの蒸着膜厚にバラツキ
を生じやすいという欠点かあった。

本発明の目的は、上記し几従来技術の欠点を除Ｉ１．被
蒸着体ごとの蒸着膜厚にほとんどバラツキが生じないよ
５Ｋした真空蒸着装置を提供するにある。

この目的を達成するため１本発明は、蒸発源から被蒸着
体方向ＫＲ来する蒸着物質の飛来方向分１１ｖ検出し、
それに応じて蒸着物質の飛来方向分布な制御するように
した点な特徴とする。

以下１本発明による真空蒸着装置の実施例な図１ｉＫク
ーで説明する。

第！図は本発明の一実施例で、第１図の従来例と同一も
しくは開部の部分には同じ符号を付し。

その評しい説明は省略しである。図において、２Ｇ。

２０’、２Ｆは蒸着膜厚検出器、２１は蒸発源位置制御
機構、２２は制御駆動機構である。

蒸着膜厚検出器２０　、２０’、　２０’は蒸発［！！
に対して斜め上方″ｃｌＩＩ転板９の下側になる部分で
、かつ頂部の蒸着膜厚検出器１０に対してほば対称な位
置に取シ付けられ、それぞれ膜厚検出信号を制御回路１
１に供給するようになっている。

蒸発源位置制御機構２１は制御駆動機構２２によって駆
動され、八−ス６に収容されているアル１−ラムインボ
ッドなどの蒸発ｉ１［５の位置を図の矢印の方向に任意
に変化させるように動作する。

そして、このときの制御駆動機構２２に対する制御信号
は制御回路１１から供給されるようになっている。

次に動作について説明する。

第１図に示した従来例と同様にして蒸着が開始されると
、各検出器１，２０．２０’、２ｆＫも蒸着膜が形成さ
れる−ようＫなり、そのため、これらの検出器から検出
信号がそれぞれ制ｍ＠Ｎ　１１　Ｋ供給される。

そこで、制御面１！ｉ１１は全ての検出器１Ｇ、２０゜
２０’、２０彎検出される蒸着速度があらかじめ設定し
であるｌ１ｌＫ等しくなるよ５に制御駆動機構２２に制
御信号を与えて蒸発Ｉ１５の上下方向の位置な制御する
と共に電＃！回路１２を介して電子ビームｊ１４からの
電子ビームの出力を制御する。なお。

図示してないが、このとき偏向装置を制御し、蒸発源ｓ
ｋ対する電子ビームの射突位置ｔも制御するようにして
もよい。

蒸発源Ｉを上下方向に変位させ７？、す、それに対す石
電子ビームの射突位置な変化させてやれば。

蒸発原藻から飛散する蒸着物質の飛散方向分布を駅える
ことができるから、上述のように制御回路１１１Ｃよｐ
制御駆動機構２２ＹＩＩＩＩＩＬｙｔ６．偏向装置Ｖｌ
ｌ制御してやれば、各検出１）１０　、２０　、２０’
。

２０’　Ｋよりそれぞれ検出されている蒸着速度か等し
くなゐよ５な膜厚制御が可能になる。

従って、この実ｍ＊によれば、プラネタリ治具−の一転
ｌｌ１ｔｓのいずれの部分においても充分に均一な膜厚
か得られることｋなシ、回転板９に保持し九多数の被蒸
着体の膜厚にバラツキが生じるのを充分に防止すること
がてきる。

また、このような蒸着膜厚分布のバラツキは、蒸着操作
ととに変化する。従って１１１１図に示した従来同では
蒸着操作ごとの被蒸着体間での膜厚のバラツキかかなｐ
多くなシ、均一な製品を得ることか困難で６つ几が、こ
の実施例によれば、常に蒸着物質の分布の制御が可能に
なるため、蒸着操作が異なっても膜厚にバラツキを生じ
る虞れがなくなり、充分に均一な膜厚の製品を安定して
得ることができる。

なお、以上の実施例では、全部で４個の検出器１０．２
０．２０’＊２０’Ｙ設けているか、検出器の数は４個
に限らず任意に定めてよ（、このとぎ、検ｔＢ器の数は
多い程、均一な膜厚制御が可能になるのはい５ｔでもな
いことである。

ｉ穴、これら複数個の検出器の取付位置についても第２
図に示し友実施例は例示にす「ず、被蒸着体方向に飛来
する蒸着物質の飛来分布を検出できるならどのような配
置にしてもかまわないのはいうまで４ない。

以上説明したように１本発明によれば、被蒸着体が保持
された部分での蒸着膜厚分布な充分均一に保つことかで
きるから、従来技術の欠点を除幹。

精密な膜厚制御を必要とする弾性表面波素子などの製造
に際して充分な性能の素子を高い歩留りのもとで得るこ
とができる真空蒸着装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】 第１図は電子ビームを蒸発パワーとした真空蒸着装置の
従来ｆｌｌＹ示す模式図、第２図は本発明による真空蒸
着装置の一実施＊”を示す模式図である。 １・・・・・・ペルジャー、２・・・・・・ベース、３
・・・・・・覗き室、４・・・・・・電子ビーム源、５
・・・・・・蒸発源、６・・・・・・八−ス、７−・・
・・・シャッタ、８・・・・・・プラネタリ治具、Ｓ　
・−・・−回転板、１０，２０．２０’、２０’・・−
蒸着膜厚検出器、１１・・・・・・制御回路、１２・・
・・・・電源回路、２１・・・・・・蒸発源位瞳制御機
構、２２・・・・・・制卿駆動機構第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　電子ビームを蒸発パワーとする真空蒸着装置
   において、蒸着物質が蒸発源から飛来する方向の所定の
   範１ｉＫわたって分布して設置しｔ複数個の蒸着膜厚検
   出ａを設け、これら複数個の蒸着膜厚検出器からの膜厚
   検出信号に応じて上記蒸着１質の飛来方向の分布状態を
   制御するように構成したことを特徴とする真空蒸着ａｔ
   ・ （７）特許請求の範囲第１項において、上記蒸着物質の
   飛来方向の分布状ｔｌＡｙｔ制御する几めの手段を電子
   ビームの入射方向に対して蒸発源の位置を変位畜せる手
   段で構成したことン特徴とする真空蒸着装置。