JPS58164554A - ３，４′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 - Google Patents
３，４′−ジアミノベンゾフエノンの製造法Info
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- JPS58164554A JPS58164554A JP57045691A JP4569182A JPS58164554A JP S58164554 A JPS58164554 A JP S58164554A JP 57045691 A JP57045691 A JP 57045691A JP 4569182 A JP4569182 A JP 4569182A JP S58164554 A JPS58164554 A JP S58164554A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
規な製造方法に関する。さらに詳しくは、一般式（式中
、Ｘはハロゲン原子を示す）で表わされるベンゾフェノ
ン化合物を還元触媒および脱ハロゲン化水素剤の存在下
に接触還元、脱ハロゲン化させることを特徴とする３，
４′−ジアミノベンゾフェノンの製造方法に関する。
、Ｘはハロゲン原子を示す）で表わされるベンゾフェノ
ン化合物を還元触媒および脱ハロゲン化水素剤の存在下
に接触還元、脱ハロゲン化させることを特徴とする３，
４′−ジアミノベンゾフェノンの製造方法に関する。
６、４′−ジアミノベンゾフェノンは耐熱性高分子単量
体、農医薬および染料中間体等に有用であり、特に耐熱
性ボリアミド、ポリイミドの原料となる重要な物質であ
る。
体、農医薬および染料中間体等に有用であり、特に耐熱
性ボリアミド、ポリイミドの原料となる重要な物質であ
る。
３、４′−ジアミノベンゾフェノンは、従来、３．４’
一ンニトロペンゾフエノンを還元して製造する方法が知
られている。しかしながら、３．４’−ジニトロベンゾ
フェノンを工業的に安価に製造する方法は見出されてい
ない。３，イージニトロベンゾフェノンを製造する方法
としては、例えば、４−ニトロペノジルアルコールとニ
トロベンゼンよリ３． ４’−ジニトロジフェニルメタ
ンを得、ソれラフロム酸により酸化して製造する方法（
Ｐ．Ｊ．Ｍｏｎｔａｇｎｅら、Ｂｅｒ 、、 ４９
２２９３〜２２９４ （１ ９１ ６） ）、ジフェ
ニル酢酸を発煙硝酸でニトロ化して３．４′−ジニトロ
ジフェニル酢酸を得、これをクロム酸により酸化して製
造する方法（工、Ｍｏｙｅｒ 、Ｈｕｎｓｂｅｒｇｅｒ
ら１、Ｔ、Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 ｓｏｃ、、 ７１２６
３５−２６３９（１９４９） ）、４−＝トロベンゾフ
ェノンをニトロ化して製造スル方法（Ｖｅｒｎｏｎ、Ｌ
、Ｂｅｊｌら、Ｊ ｏｆ、Ｐｏｌｙｍｅｒ、 ｃｈ−ｅ
ｍ、、１４２２７７（１９７６） ）が知られている
。しかしながら、これらの方法は反応が複雑であったり
、かつ多量に副生ずる異性体等の除去のため、再結晶精
製を繰り返し行なう必要があり、また、廃酸、反金属の
処理等に多大の経費を要する等の欠点がある。したがっ
て、３．イージニトロベンゾフェノンを原料としてろ、
４′−ジアミノベンゾフェノンを工業的に製造すること
は極めて困難である。
一ンニトロペンゾフエノンを還元して製造する方法が知
られている。しかしながら、３．４’−ジニトロベンゾ
フェノンを工業的に安価に製造する方法は見出されてい
ない。３，イージニトロベンゾフェノンを製造する方法
としては、例えば、４−ニトロペノジルアルコールとニ
トロベンゼンよリ３． ４’−ジニトロジフェニルメタ
ンを得、ソれラフロム酸により酸化して製造する方法（
Ｐ．Ｊ．Ｍｏｎｔａｇｎｅら、Ｂｅｒ 、、 ４９
２２９３〜２２９４ （１ ９１ ６） ）、ジフェ
ニル酢酸を発煙硝酸でニトロ化して３．４′−ジニトロ
ジフェニル酢酸を得、これをクロム酸により酸化して製
造する方法（工、Ｍｏｙｅｒ 、Ｈｕｎｓｂｅｒｇｅｒ
ら１、Ｔ、Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 ｓｏｃ、、 ７１２６
３５−２６３９（１９４９） ）、４−＝トロベンゾフ
ェノンをニトロ化して製造スル方法（Ｖｅｒｎｏｎ、Ｌ
、Ｂｅｊｌら、Ｊ ｏｆ、Ｐｏｌｙｍｅｒ、 ｃｈ−ｅ
ｍ、、１４２２７７（１９７６） ）が知られている
。しかしながら、これらの方法は反応が複雑であったり
、かつ多量に副生ずる異性体等の除去のため、再結晶精
製を繰り返し行なう必要があり、また、廃酸、反金属の
処理等に多大の経費を要する等の欠点がある。したがっ
て、３．イージニトロベンゾフェノンを原料としてろ、
４′−ジアミノベンゾフェノンを工業的に製造すること
は極めて困難である。
本発明者らは、上記のような欠点のない５．４’−ジア
ミノベンゾフェノンの製造方法について鋭意検討した。
ミノベンゾフェノンの製造方法について鋭意検討した。
その結果、４−ハロゲノ−イーニトロベンゾフェノンの
ニトロ化により容易に製造出来る４−ハロゲン−６、（
−ジニトロペンツフェノンを原料とし、これを還元触媒
および脱ハロゲンｆヒ水素剤の存在下で接触還元、脱・
・ロゲン化させるノンを製造しうろことを見出し本発明
の方法を完成した。すなわち、本発明の方法は一般式（
１）、（式中、Ｘは）・ロゲン原子を示す）で表わされ
るベンゾフェノン化合物を還元触媒および脱ノ・ロゲン
化水素剤の存在下で接触還元、脱・・ロゲンさせること
によって、ろ、４′−ジアミノベンゾフェノンを木造す
る方法である。
ニトロ化により容易に製造出来る４−ハロゲン−６、（
−ジニトロペンツフェノンを原料とし、これを還元触媒
および脱ハロゲンｆヒ水素剤の存在下で接触還元、脱・
・ロゲン化させるノンを製造しうろことを見出し本発明
の方法を完成した。すなわち、本発明の方法は一般式（
１）、（式中、Ｘは）・ロゲン原子を示す）で表わされ
るベンゾフェノン化合物を還元触媒および脱ノ・ロゲン
化水素剤の存在下で接触還元、脱・・ロゲンさせること
によって、ろ、４′−ジアミノベンゾフェノンを木造す
る方法である。
本発明の方法で使用する４−・・コゲノー６．イージニ
トロペンゾフエノンハハラニトロベンソイルクロライド
と７・ロゲノベンゼンとの縮合により得られる４−ハロ
ゲン−４′−二トロペンゾフエノンをニトロ化すること
により容易に製造出来る（ＰＪ 、Ｍｏｎｔａｇｎｅら
、Ｂｅｒ、、 ４９２２６７〜２２７０（１９１６）ｏ
、ｓ、ｕｉｒｏｎｏｖら、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、ｏｆ
ＵＳＳＲ，８１５３８〜１５４ろ（１９７２） ）
。
トロペンゾフエノンハハラニトロベンソイルクロライド
と７・ロゲノベンゼンとの縮合により得られる４−ハロ
ゲン−４′−二トロペンゾフエノンをニトロ化すること
により容易に製造出来る（ＰＪ 、Ｍｏｎｔａｇｎｅら
、Ｂｅｒ、、 ４９２２６７〜２２７０（１９１６）ｏ
、ｓ、ｕｉｒｏｎｏｖら、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、ｏｆ
ＵＳＳＲ，８１５３８〜１５４ろ（１９７２） ）
。
一方、４−ハロゲン−ろ、４′−ジニトロベンゾフェノ
ンの還元については知られているが、還元生成物は４−
ハロゲン−３，イージアミノベンゾフェノンまたは６，
４′−ジアミノベンゾヒトロールである（ ＰＪ、Ｍｏ
ｎｔａｇｎｅら、Ｂｅｒ、、４２２２６８〜２２７１
（１９１６））。
ンの還元については知られているが、還元生成物は４−
ハロゲン−３，イージアミノベンゾフェノンまたは６，
４′−ジアミノベンゾヒトロールである（ ＰＪ、Ｍｏ
ｎｔａｇｎｅら、Ｂｅｒ、、４２２２６８〜２２７１
（１９１６））。
このように、４−・・コゲノー３，４′−ジニトロベ／
シフエノンの還元において、ニトロ基がアミン基へ還元
されること、反応条件および還元剤によっては還元とと
もに脱ノ・ロゲン化反応も進行するが、ベンゾフェノン
のカルボニル基がサラにベンゾヒトロール化合物まで還
元されてしまう。
シフエノンの還元において、ニトロ基がアミン基へ還元
されること、反応条件および還元剤によっては還元とと
もに脱ノ・ロゲン化反応も進行するが、ベンゾフェノン
のカルボニル基がサラにベンゾヒトロール化合物まで還
元されてしまう。
すなわち、４−ノ・ロゲノーＳ、４′−ジニ）ａベンゾ
フェノンより５．４′−ジアミノベンゾフェノンを製造
すること、および４−ノ・ログノー６．４′−ジニトロ
ベンゾフエノンの還元において、カルボニル基の還元反
応を抑制し、ニトロ基のアミノ基への還元と脱ノ・ロゲ
ン化反応のみを進行させる方法については全く知られて
おらず、本願発明は５．４’−７アミノベンゾフエノン
を工業的に製造しうる新規な方法である。
フェノンより５．４′−ジアミノベンゾフェノンを製造
すること、および４−ノ・ログノー６．４′−ジニトロ
ベンゾフエノンの還元において、カルボニル基の還元反
応を抑制し、ニトロ基のアミノ基への還元と脱ノ・ロゲ
ン化反応のみを進行させる方法については全く知られて
おらず、本願発明は５．４’−７アミノベンゾフエノン
を工業的に製造しうる新規な方法である。
本発明の方法に使用される原料は前記一般式（１）で表
わされる４−・・ロゲノーろ，４′−ジニトロベンゾフ
ェノンであって、一般式（１）においてＸが示す・・ロ
ゲン原子は塩素、臭素、沃素、弗素のいずれのものも用
いられる。例えば、４−クロロ−６、４′ーシニトロペ
ンゾフエノン、４−ブロモ−３．４’−ジニトロベンゾ
フェノン、４−ヨード−５，４′−ジニトロベンゾフェ
ノン、４−フルオロ−６、４′−ジニトロベンゾフェノ
ンがあげられる。なかでも、ハロゲンが塩素原子である
ものが工業的に有利に使用される。
わされる４−・・ロゲノーろ，４′−ジニトロベンゾフ
ェノンであって、一般式（１）においてＸが示す・・ロ
ゲン原子は塩素、臭素、沃素、弗素のいずれのものも用
いられる。例えば、４−クロロ−６、４′ーシニトロペ
ンゾフエノン、４−ブロモ−３．４’−ジニトロベンゾ
フェノン、４−ヨード−５，４′−ジニトロベンゾフェ
ノン、４−フルオロ−６、４′−ジニトロベンゾフェノ
ンがあげられる。なかでも、ハロゲンが塩素原子である
ものが工業的に有利に使用される。
本発明の方法で使用される還元触媒としては、一般に接
触還元に使用されている金属触媒、例えば、ニッケル、
パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、
銅等を使用することができる。工業的にはパラジウム触
媒を使用するのが好ましい。これらの触媒は金属の状態
でも使用することができるが、通常はカーボン、硫酸バ
リウム、シリカゲル、アルミナ等の担体表面に付着させ
て用いたり、また、ニッケル、コバルト、銅等はう不一
触媒としても用いられる。触媒の使用量は、原料の４−
ハロゲン−６，４′−ジニトロベンゾフェノンに対して
、金属として０．０１〜１ｏ重Ｊｉｔ％の範囲であり、
通常、金属の状態で使用する場合は２〜８重量％、担体
に付着させた場合では０１〜５重量％の範囲で゛ある。
触還元に使用されている金属触媒、例えば、ニッケル、
パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、
銅等を使用することができる。工業的にはパラジウム触
媒を使用するのが好ましい。これらの触媒は金属の状態
でも使用することができるが、通常はカーボン、硫酸バ
リウム、シリカゲル、アルミナ等の担体表面に付着させ
て用いたり、また、ニッケル、コバルト、銅等はう不一
触媒としても用いられる。触媒の使用量は、原料の４−
ハロゲン−６，４′−ジニトロベンゾフェノンに対して
、金属として０．０１〜１ｏ重Ｊｉｔ％の範囲であり、
通常、金属の状態で使用する場合は２〜８重量％、担体
に付着させた場合では０１〜５重量％の範囲で゛ある。
本発明の方法に使用される脱ハロゲン化水素剤としては
、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水酸
化物、炭酸塩、重炭酸塩、あるいはアンモニアまたは通
常の有機アミン類等である。
、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水酸
化物、炭酸塩、重炭酸塩、あるいはアンモニアまたは通
常の有機アミン類等である。
例えば、炭酸カルシウム、水酸化ナトリウム、酸化マグ
ネンウム、重炭酸アンモン、酸化力ルンウム、水酸化リ
チウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、トリー〇−ブチル
アｄン、トリエタノールアミン、ピリジンおよびＮ〜メ
チルモルポリンがあげられる。これら脱ハロゲン化水素
剤は必要により２種以上を混合してもよい。脱ハロゲン
化水素剤の使用量は原料の４−ハロゲノ−３，ど−ジニ
トロベンゾフェノンに対して通常ｏ５〜３倍モ本発明の
方法は、通常、反応溶媒を使用する。
ネンウム、重炭酸アンモン、酸化力ルンウム、水酸化リ
チウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、トリー〇−ブチル
アｄン、トリエタノールアミン、ピリジンおよびＮ〜メ
チルモルポリンがあげられる。これら脱ハロゲン化水素
剤は必要により２種以上を混合してもよい。脱ハロゲン
化水素剤の使用量は原料の４−ハロゲノ−３，ど−ジニ
トロベンゾフェノンに対して通常ｏ５〜３倍モ本発明の
方法は、通常、反応溶媒を使用する。
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば、特に
限定されるものでなく、例えは、メタノール、エタノー
ル、イングロビルアルコール等ノアルコール類、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類
、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチル
セロンルブ等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素
、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエ
タン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類お
よびＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等が使用出来る。なお、水と混和し々い反応溶媒を
使用した際に、反応の進行が遅い場合は四級アンモニウ
ム塩、四級ホスホニウム塩のような一般に使用されてい
る相間移動触媒を加えることによって速めることが出来
る。
限定されるものでなく、例えは、メタノール、エタノー
ル、イングロビルアルコール等ノアルコール類、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類
、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチル
セロンルブ等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素
、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエ
タン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類お
よびＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等が使用出来る。なお、水と混和し々い反応溶媒を
使用した際に、反応の進行が遅い場合は四級アンモニウ
ム塩、四級ホスホニウム塩のような一般に使用されてい
る相間移動触媒を加えることによって速めることが出来
る。
溶媒の使用量は、原料の４−ハロゲン−６，４′−ジニ
トロベンゾフェノンを懸濁させるか、あるいは完全に溶
解させるに足る量で十分であり、特に限定され彦いが、
通常、原料に対して０５〜１０重量倍で十分である。
トロベンゾフェノンを懸濁させるか、あるいは完全に溶
解させるに足る量で十分であり、特に限定され彦いが、
通常、原料に対して０５〜１０重量倍で十分である。
反応温度は、゛特に限定はない。一般的には２０〜２０
０℃の範囲、特に２０〜１００℃が好ましい。
０℃の範囲、特に２０〜１００℃が好ましい。
また、反応圧力は、通常、常圧〜５０ Ｋｇ／ ｃｒｒ
ｌ−Ｇ程度である。
ｌ−Ｇ程度である。
本発明の方法の一般的な実施態様として、■４−ハロ’
ｙ’ ／−３，４’ −シニトロペンゾフエノンヲ溶媒
に溶解または懸濁した状態下に、還元触媒を添加し、つ
いで攪拌下、所定の温度で水素を導入してニトロ基の還
元を行なわしめた後、脱ハロゲン化水素剤を加え、引き
続き脱・・ロゲン化反応を行なうか、■還元触媒の添加
時に脱・・ロゲン化水素剤を加えついで攪拌下、所定の
温度で水素を導入してニトロ基の還元と脱ハロゲン化反
応を同時に行なう等の方法があげられる。いずれの場合
も反応は円滑に進行し、目的物の６．４′−ジアミノベ
ンゾフェノンが製造出来る。しかしながら、原料である
４−ハロゲノ−ろ、４１ 、／ニトロベンゾフェノン
の４位のハロゲン原子は求核性を有するために、条件に
よっては脱ハロゲン化水素剤との副反応を起し、目的物
の収率を低下させる場合があるので、■の方法が好まし
い。
ｙ’ ／−３，４’ −シニトロペンゾフエノンヲ溶媒
に溶解または懸濁した状態下に、還元触媒を添加し、つ
いで攪拌下、所定の温度で水素を導入してニトロ基の還
元を行なわしめた後、脱ハロゲン化水素剤を加え、引き
続き脱・・ロゲン化反応を行なうか、■還元触媒の添加
時に脱・・ロゲン化水素剤を加えついで攪拌下、所定の
温度で水素を導入してニトロ基の還元と脱ハロゲン化反
応を同時に行なう等の方法があげられる。いずれの場合
も反応は円滑に進行し、目的物の６．４′−ジアミノベ
ンゾフェノンが製造出来る。しかしながら、原料である
４−ハロゲノ−ろ、４１ 、／ニトロベンゾフェノン
の４位のハロゲン原子は求核性を有するために、条件に
よっては脱ハロゲン化水素剤との副反応を起し、目的物
の収率を低下させる場合があるので、■の方法が好まし
い。
反応の進行は理論量の水素吸収量によるが、あるいは薄
層クロマトグラフィーにより追跡することが出来る。
層クロマトグラフィーにより追跡することが出来る。
上記の方法によって得られた反応液を熱口ヵ、または抽
出等によって触媒および無機塩を除いたのち、必要に応
じて濃縮を行ないろ、４′−ジアミノベンゾフェノンを
結晶として析出させる。または触媒および無機塩を除い
た反応液に塩化水素ガスを吹き込み、３．４’−シアば
ノベンゾフェノンの塩酸塩として単離することも出来る
。
出等によって触媒および無機塩を除いたのち、必要に応
じて濃縮を行ないろ、４′−ジアミノベンゾフェノンを
結晶として析出させる。または触媒および無機塩を除い
た反応液に塩化水素ガスを吹き込み、３．４’−シアば
ノベンゾフェノンの塩酸塩として単離することも出来る
。
本発明の方法は、３．４’−ジアミノベンゾフェノンを
高収率で安価に製造しうる方法であり、従来法にともな
う廃棄物による環境汚染の問題もなく、捷た、単離した
製品の純度も高く、煩雑な精製工程を必要としない等、
工業的な製造方法として好適である。
高収率で安価に製造しうる方法であり、従来法にともな
う廃棄物による環境汚染の問題もなく、捷た、単離した
製品の純度も高く、煩雑な精製工程を必要としない等、
工業的な製造方法として好適である。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
温度計、攪拌器を備えたガラス製密閉容器に、４−ブロ
モ−３； ４’−ジニトロベンゾフェノン１０５２（０
３モル）、５％パラジウム／活性炭触媒（日本エンゲル
ハルト社）５２およびジオキサン３００ＷＬｌを装入、
７０〜８０℃の温度において、かきまぜながら水素を導
入すると約１１時間で４１ｔ（１，８３モル）の水素を
吸収した。次に、内温か６０℃になるまで冷却したのち
、３０チアンモニア水５８５ ｆ （０，５５モル）を
加えて、引き続き３０〜４０℃の温度でかきまぜながら
水素を導入すると７時間で７．２１ （０３２モル）吸
収した。
モ−３； ４’−ジニトロベンゾフェノン１０５２（０
３モル）、５％パラジウム／活性炭触媒（日本エンゲル
ハルト社）５２およびジオキサン３００ＷＬｌを装入、
７０〜８０℃の温度において、かきまぜながら水素を導
入すると約１１時間で４１ｔ（１，８３モル）の水素を
吸収した。次に、内温か６０℃になるまで冷却したのち
、３０チアンモニア水５８５ ｆ （０，５５モル）を
加えて、引き続き３０〜４０℃の温度でかきまぜながら
水素を導入すると７時間で７．２１ （０３２モル）吸
収した。
同温度で反応溶液を口過して触媒を除去し、放冷すると
６．４′−ンアミノペンゾフエノンが黄色結晶として析
出した。結晶を日別、５０チジオキサン水溶液５０ｍ１
で洗浄後、乾燥した。収量５８ｖ（収率９１％）融点１
２１〜１２３℃ 元素分析 ＣＨＮ 計算値＠）７ろ５ ５．７ １３．２測定値（％）
７３．１ ６．ｏ １３．１実施例２〜７ 原料の４−ハロゲン−３，４′−ジニトロベンゾフェノ
ンの種類、触媒の種類と使用量、溶媒の種類と使用量、
脱ハロゲン化水素剤の種類と使用量、反応温度および圧
力を表−１のように変えたほかは実施例１と同様に反応
を行ない目的物を得た。
６．４′−ンアミノペンゾフエノンが黄色結晶として析
出した。結晶を日別、５０チジオキサン水溶液５０ｍ１
で洗浄後、乾燥した。収量５８ｖ（収率９１％）融点１
２１〜１２３℃ 元素分析 ＣＨＮ 計算値＠）７ろ５ ５．７ １３．２測定値（％）
７３．１ ６．ｏ １３．１実施例２〜７ 原料の４−ハロゲン−３，４′−ジニトロベンゾフェノ
ンの種類、触媒の種類と使用量、溶媒の種類と使用量、
脱ハロゲン化水素剤の種類と使用量、反応温度および圧
力を表−１のように変えたほかは実施例１と同様に反応
を行ない目的物を得た。
結果を表−１に示した。
実施例８
温度計、攪拌器を備えたガラス製密閉容器に４−クロロ
−３，４′−ジニトロベンゾフェノン３０．７９（０１
モル）、パラジウムプラック触媒１ｖおよびペンゼ／３
００ｍ／を装入し、６５〜７０℃の温度においてかき壕
せながら水素を導入すると、約９時間で１３．３１ （
０，５９モル）の水素を吸収した。
−３，４′−ジニトロベンゾフェノン３０．７９（０１
モル）、パラジウムプラック触媒１ｖおよびペンゼ／３
００ｍ／を装入し、６５〜７０℃の温度においてかき壕
せながら水素を導入すると、約９時間で１３．３１ （
０，５９モル）の水素を吸収した。
次に、１５チ苛性カリ水溶液４５９（０，１２モル）お
よびトリオクチルメチルアンモニウムクロリド９０チ水
溶液（東京化成試薬）２１を加えて、引き続き６５〜７
０℃の温度でかきまぜながら水素を導入し、約６時間で
２３５ｔの水素（０，１０５モル）を吸収した。同温度
で反応溶液を口過し、触媒を除去したのち、口液の有機
層を分液する。
よびトリオクチルメチルアンモニウムクロリド９０チ水
溶液（東京化成試薬）２１を加えて、引き続き６５〜７
０℃の温度でかきまぜながら水素を導入し、約６時間で
２３５ｔの水素（０，１０５モル）を吸収した。同温度
で反応溶液を口過し、触媒を除去したのち、口液の有機
層を分液する。
その有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水したのち、乾
燥塩化水素ガスを十分飽和となるまで吹き込んだ。析出
した結晶を日別、ベンゼン５０ｍ／で洗浄後、乾燥して
３．イージアミノベンゾフェノン塩酸塩の結晶を得た。
燥塩化水素ガスを十分飽和となるまで吹き込んだ。析出
した結晶を日別、ベンゼン５０ｍ／で洗浄後、乾燥して
３．イージアミノベンゾフェノン塩酸塩の結晶を得た。
収量２６４２、（収率８２％）２０チ含水イングロパノ
ールより再結晶して淡黄色針状結晶の純品を得た。融点
２５０℃以上元以上析 ＣＨＮ Ｃ１ 計算値（％） ５４．７ ４．９ ９，８ ２４．
９測定値（％） ５４．３ ５．４ ９，７ ２４
．８実施例９ ４−クロロ−６，４′−ジニトロベンゾフェノン”ｒＯ
，７ｆ （０，１モル）、炭酸ナトリウム１ｏ６ｆ（０
１モル）、５チパラジウム／アルミナ触媒（日本エンゲ
ルハルト社）１？および１．２−ジクロロエタン２５０
＋＋＋／をオートクレーブに装入する。
ールより再結晶して淡黄色針状結晶の純品を得た。融点
２５０℃以上元以上析 ＣＨＮ Ｃ１ 計算値（％） ５４．７ ４．９ ９，８ ２４．
９測定値（％） ５４．３ ５．４ ９，７ ２４
．８実施例９ ４−クロロ−６，４′−ジニトロベンゾフェノン”ｒＯ
，７ｆ （０，１モル）、炭酸ナトリウム１ｏ６ｆ（０
１モル）、５チパラジウム／アルミナ触媒（日本エンゲ
ルハルト社）１？および１．２−ジクロロエタン２５０
＋＋＋／をオートクレーブに装入する。
６０〜３５℃の温度範囲において、かきまぜながら水素
を導入して、圧力を常時１０に９／Ｃｄ−Ｇに保ちつつ
、１０時間反応を行なった。反応終了後、反応混合物を
７０℃に昇温し、熱ロカして触媒および無機塩を除去し
た。放冷することにより３．４′−ジアミノベンゾフェ
ノンが黄色針状結晶として得られた。結晶を日別、１．
２−ジクロロエタン２ｏｙｎｌで洗浄後乾燥した。
を導入して、圧力を常時１０に９／Ｃｄ−Ｇに保ちつつ
、１０時間反応を行なった。反応終了後、反応混合物を
７０℃に昇温し、熱ロカして触媒および無機塩を除去し
た。放冷することにより３．４′−ジアミノベンゾフェ
ノンが黄色針状結晶として得られた。結晶を日別、１．
２−ジクロロエタン２ｏｙｎｌで洗浄後乾燥した。
収量１７６２（収率８５チ）、融点１２１〜１２２℃エ
タノールから再結晶して黄色針状結晶の純品を得た。
タノールから再結晶して黄色針状結晶の純品を得た。
融点１２２〜１２２５℃
特許出願人
三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）一般式（１） （式中、Ｘは）・ロゲン原子を示す）で表わされるベン
ゾフェノン化合物を還元触媒および脱・・ロゲン化水素
剤の存在下に接触還元、脱ノ・ロゲン化させることを特
徴とする６、４′−ジアミノベンゾフェノンの製造方法
。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57045691A JPS58164554A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | ３，４′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 |
| US06/454,973 US4556738A (en) | 1982-01-12 | 1983-01-03 | Process for preparation of 3,3'- or 3,4'-diamino benzophenone |
| GB08300598A GB2116168B (en) | 1982-01-12 | 1983-01-11 | Process for preparing of 3,3'- or 3,4' -diamino benzophenone |
| KR1019830000075A KR860001857B1 (ko) | 1982-01-12 | 1983-01-11 | 3,3'-또는 3,4'-디아미노벤조페논(diamino benzophenone)의 제조방법 |
| NLAANVRAGE8300074,A NL189406C (nl) | 1982-01-12 | 1983-01-11 | Werkwijze voor de bereiding van 3,3'- of 3,4'-diaminobenzofenon. |
| CA000419346A CA1182129A (en) | 1982-01-12 | 1983-01-12 | Process for preparation of 3,3'-or 3,4'- diaminobenzophenones |
| CH137/83A CH655304A5 (fr) | 1982-01-12 | 1983-01-12 | Procede de preparation de la diamino-3,3' ou -3,4' benzophenone. |
| FR8300403A FR2519631B1 (fr) | 1982-01-12 | 1983-01-12 | Procede de preparation de 3,3'- ou 3,4'-diamino benzophenone |
| DE3300821A DE3300821C2 (de) | 1982-01-12 | 1983-01-12 | Verfahren zur Herstellung von 3,3'- oder 3,4'-Diaminobenzophenon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57045691A JPS58164554A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | ３，４′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58164554A true JPS58164554A (ja) | 1983-09-29 |
| JPH0354095B2 JPH0354095B2 (ja) | 1991-08-19 |
Family
ID=12726404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57045691A Granted JPS58164554A (ja) | 1982-01-12 | 1982-03-24 | ３，４′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58164554A (ja) |
-
1982
- 1982-03-24 JP JP57045691A patent/JPS58164554A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0354095B2 (ja) | 1991-08-19 |
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