JPH1171255A - 光保護性化粧品組成物およびそれを用いた美容処理方法 - Google Patents
光保護性化粧品組成物およびそれを用いた美容処理方法Info
- Publication number
- JPH1171255A JPH1171255A JP10192159A JP19215998A JPH1171255A JP H1171255 A JPH1171255 A JP H1171255A JP 10192159 A JP10192159 A JP 10192159A JP 19215998 A JP19215998 A JP 19215998A JP H1171255 A JPH1171255 A JP H1171255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- composition according
- compound
- skin
- hair
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
- A61K8/35—Ketones, e.g. benzophenone
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
- A61K8/36—Carboxylic acids; Salts or anhydrides thereof
- A61K8/368—Carboxylic acids; Salts or anhydrides thereof with carboxyl groups directly bound to carbon atoms of aromatic rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/59—Mixtures
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明は、4−メチルベンジリデンショウノ
ウ、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイ
ルメタン、およびこれらの混合物から選択される溶解対
象遮蔽成分を化粧品として許容される担体中に含有する
局所使用用皮膚および/または髪の光保護化粧品組成物
であって、サリチル酸ホモメンチル、サリチル酸オクチ
ル、およびこれらの混合物から選択される溶解性遮蔽成
分を、前記溶解対象遮蔽成分の全てを溶解するのに十分
な量を用いて溶解させることにより製造された組成物に
関する。 【効果】 該組成物は、増強した太陽光線保護ファクタ
ーを有するものであり、紫外線に対して、皮膚および/
または髪を保護するために適用される。
ウ、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイ
ルメタン、およびこれらの混合物から選択される溶解対
象遮蔽成分を化粧品として許容される担体中に含有する
局所使用用皮膚および/または髪の光保護化粧品組成物
であって、サリチル酸ホモメンチル、サリチル酸オクチ
ル、およびこれらの混合物から選択される溶解性遮蔽成
分を、前記溶解対象遮蔽成分の全てを溶解するのに十分
な量を用いて溶解させることにより製造された組成物に
関する。 【効果】 該組成物は、増強した太陽光線保護ファクタ
ーを有するものであり、紫外線に対して、皮膚および/
または髪を保護するために適用される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特に紫外線から皮膚お
よび/または髪を光保護するための局所使用用の新規な
化粧品組成物(以下、該組成物を、耐太陽光線組成物と
称する)、ならびに、上記美容的な適用における組成物
の使用に関する。より詳細には、本発明は、化粧品とし
て許容される担体中に、少なくとも2つの特別な親油性
遮蔽剤類を共存させて含有した組成物に関し、該遮蔽剤
の1つは、他の遮蔽剤に対して溶解特性を有するもので
ある。
よび/または髪を光保護するための局所使用用の新規な
化粧品組成物(以下、該組成物を、耐太陽光線組成物と
称する)、ならびに、上記美容的な適用における組成物
の使用に関する。より詳細には、本発明は、化粧品とし
て許容される担体中に、少なくとも2つの特別な親油性
遮蔽剤類を共存させて含有した組成物に関し、該遮蔽剤
の1つは、他の遮蔽剤に対して溶解特性を有するもので
ある。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】28
0nmから400nmまでの間の波長を有する光線によっ
て、ヒトの表皮は日焼けをするが、UV−B光線として知
られている280nmから320nmまでの間の波長を有す
る光線では、自然な日焼けを損なう紅班および火傷を起
こすことが知られている。したがって、このUV−B光線
は遮へいされなければならないものである。また、皮膚
に日焼けを起こす320nmから400nmまでの間の波長
を有するUV−A光線は、特に、敏感肌または太陽光線に
連続してさらされた皮膚の場合には、皮膚に害を与える
可能性がある。特に、UV−A光線によって、皮膚の弾性
が失われ、しわが発現して、老化を早発させることにな
る。UV−A光線は、紅班反応の触発を促進し、または、
この反応をある主体において強調し、光毒性または光ア
レルギー性反応の原因にもなりうるものである。したが
って、UV−A光線も同様に遮へいすることが望まれる。
0nmから400nmまでの間の波長を有する光線によっ
て、ヒトの表皮は日焼けをするが、UV−B光線として知
られている280nmから320nmまでの間の波長を有す
る光線では、自然な日焼けを損なう紅班および火傷を起
こすことが知られている。したがって、このUV−B光線
は遮へいされなければならないものである。また、皮膚
に日焼けを起こす320nmから400nmまでの間の波長
を有するUV−A光線は、特に、敏感肌または太陽光線に
連続してさらされた皮膚の場合には、皮膚に害を与える
可能性がある。特に、UV−A光線によって、皮膚の弾性
が失われ、しわが発現して、老化を早発させることにな
る。UV−A光線は、紅班反応の触発を促進し、または、
この反応をある主体において強調し、光毒性または光ア
レルギー性反応の原因にもなりうるものである。したが
って、UV−A光線も同様に遮へいすることが望まれる。
【0003】多くの皮膚の光保護(UV−Aおよび/また
はUV−B)用化粧品組成物が提案されている。特に、よ
り良好な使用感を得るための種々の理由(柔軟性、緩和
性、適用のしやすさ等)から、近年の耐太陽光線組成物
は、通常、水中油形エマルション形態(すなわち、水性
分散連続相と油性分散不連続相とからなる化粧品として
許容される担体である)であり、種々の濃度で、有害な
UV線を選択的に吸収可能な、1以上の標準有機遮蔽剤を
含有するものである。該遮蔽剤類は、所望の保護ファク
ター(保護ファクター(PF)は、UV遮へい剤なしでの紅
班発生限界に達するのに必要な照射期間に対する、UV遮
へい剤を用いた場合の紅班発生限界に達するのに必要な
照射期間の比率によって数学的に表わされる)の性質に
応じて選択される。遮へい剤の親油性、または、親水性
に依存して、遮へい剤は、最終組成物の脂肪相または水
相のいずれかに分布可能である。
はUV−B)用化粧品組成物が提案されている。特に、よ
り良好な使用感を得るための種々の理由(柔軟性、緩和
性、適用のしやすさ等)から、近年の耐太陽光線組成物
は、通常、水中油形エマルション形態(すなわち、水性
分散連続相と油性分散不連続相とからなる化粧品として
許容される担体である)であり、種々の濃度で、有害な
UV線を選択的に吸収可能な、1以上の標準有機遮蔽剤を
含有するものである。該遮蔽剤類は、所望の保護ファク
ター(保護ファクター(PF)は、UV遮へい剤なしでの紅
班発生限界に達するのに必要な照射期間に対する、UV遮
へい剤を用いた場合の紅班発生限界に達するのに必要な
照射期間の比率によって数学的に表わされる)の性質に
応じて選択される。遮へい剤の親油性、または、親水性
に依存して、遮へい剤は、最終組成物の脂肪相または水
相のいずれかに分布可能である。
【0004】特に有利で現在まで広く使用されている2
つの遮蔽剤は、特にメルク社から”ユーソレックス(EU
SOLEX)6300”の商品名で販売されている、4−メ
チルベンジリデンショウノウ、および、特にギバウダン
(Givaudan)社から”パルソル(PARSOL)1789”の
商品名で販売されている、4−(tert−ブチル)−4’
−メトキシジベンゾイルメタンである。
つの遮蔽剤は、特にメルク社から”ユーソレックス(EU
SOLEX)6300”の商品名で販売されている、4−メ
チルベンジリデンショウノウ、および、特にギバウダン
(Givaudan)社から”パルソル(PARSOL)1789”の
商品名で販売されている、4−(tert−ブチル)−4’
−メトキシジベンゾイルメタンである。
【0005】該2つの遮蔽剤は親油性遮蔽剤であり、2
つの遮蔽剤のうちの最初の遮蔽剤が、UV−B領域におい
て非常に活性があり、第2の遮蔽剤が、UV−A領域にお
いて非常に活性があるものであるが、両者とも室温では
固体であるという欠点を有する。結果としては、耐太陽
光線化粧品組成物において、該2つの遮蔽剤を別々にま
たは組み合わせて使用することは、製剤性およびその使
用に関して、特に、単独でまたは共に適当に溶解可能な
溶媒を見つけることに関しては、幾分無理なものがあ
る。この点に関して、現在まで通常は、エステル類、特
にC12〜C15アルキルベンゾアート類(ファインテッ
クス(Finetex)社から販売されている”フィンソルブ
(FINSOLV)TN”)等のオイル類、または、トリグリセ
リド類、特に、C8〜C12脂肪酸トリグリセリド類(ヒ
ュールス(Huls)”マイグリオール(MIGLYOL)81
2”)、または、モノアルコール類またはポリオール
類、たとえばエタノール、またはこれらの混合物が使用
されている。これらには、上記2つの遮蔽剤に対する溶
解特性はあるが、これらの製品はやはり、UV、UV−Aま
たはUV−B光線のいずれかの遮蔽に関して、実質的な活
性がないという欠点を有するものである。
つの遮蔽剤のうちの最初の遮蔽剤が、UV−B領域におい
て非常に活性があり、第2の遮蔽剤が、UV−A領域にお
いて非常に活性があるものであるが、両者とも室温では
固体であるという欠点を有する。結果としては、耐太陽
光線化粧品組成物において、該2つの遮蔽剤を別々にま
たは組み合わせて使用することは、製剤性およびその使
用に関して、特に、単独でまたは共に適当に溶解可能な
溶媒を見つけることに関しては、幾分無理なものがあ
る。この点に関して、現在まで通常は、エステル類、特
にC12〜C15アルキルベンゾアート類(ファインテッ
クス(Finetex)社から販売されている”フィンソルブ
(FINSOLV)TN”)等のオイル類、または、トリグリセ
リド類、特に、C8〜C12脂肪酸トリグリセリド類(ヒ
ュールス(Huls)”マイグリオール(MIGLYOL)81
2”)、または、モノアルコール類またはポリオール
類、たとえばエタノール、またはこれらの混合物が使用
されている。これらには、上記2つの遮蔽剤に対する溶
解特性はあるが、これらの製品はやはり、UV、UV−Aま
たはUV−B光線のいずれかの遮蔽に関して、実質的な活
性がないという欠点を有するものである。
【0006】しかしながら、本出願人は、予想外で驚く
べきことに、サリチル酸ホモメンチル(以後、ホモサラ
ート(homosalate)と称する)とサリチル酸オクチル
を、単独でまたは混合したものが、上記2つの固体遮蔽
剤、すなわち、4−メチルベンジリデンショウノウ、お
よび/または、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシ
ジベンゾイルメタンの注目すべき溶媒であることを発見
した。該2つの固体遮蔽剤は、上記ホモサラートとサリ
チル酸オクチルに、非常に高い溶解度を有し、全ての場
合において、該溶媒は、現在まで使用されていたその他
の溶媒全てにおいて得られる溶解度に顕著に優るもので
ある。すなわち、該2つの溶媒は、同量溶媒において、
使用される遮蔽剤をより多くの量、溶解可能である。サ
リチル酸ホモメンチルおよびサリチル酸オクチルは、UV
−B活性があるとして既に知られている液状親油性遮蔽
剤であるが、上記2つの固体遮蔽剤に対する溶解特性は
これまで開示されていなかった。該発見は、4−メチル
ベンジリデンショウノウおよび/または4−(tert−ブ
チル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンをこれまで
知られている溶媒以外の溶媒でそれ自体UV−B活性を有
するという優位性がある溶媒、サリチル酸ホモメンチル
およびサリチル酸オクチルで溶解可能とした点、およ
び、最終耐太陽光線組成物において該2つの遮蔽剤、4
−メチルベンジリデンショウノウおよび4−(tert−ブ
チル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンを、遮蔽効
果を有さない従来の溶媒に溶解した場合と、サリチル酸
ホモメンチルおよびサリチル酸オクチルに溶解した(本
願)場合とで比較すると、本願による遮蔽組成物の方
が、耐太陽光線レベルが向上可能であるという点で、2
倍の効果を有する。該発見が本発明の基となるものであ
る。
べきことに、サリチル酸ホモメンチル(以後、ホモサラ
ート(homosalate)と称する)とサリチル酸オクチル
を、単独でまたは混合したものが、上記2つの固体遮蔽
剤、すなわち、4−メチルベンジリデンショウノウ、お
よび/または、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシ
ジベンゾイルメタンの注目すべき溶媒であることを発見
した。該2つの固体遮蔽剤は、上記ホモサラートとサリ
チル酸オクチルに、非常に高い溶解度を有し、全ての場
合において、該溶媒は、現在まで使用されていたその他
の溶媒全てにおいて得られる溶解度に顕著に優るもので
ある。すなわち、該2つの溶媒は、同量溶媒において、
使用される遮蔽剤をより多くの量、溶解可能である。サ
リチル酸ホモメンチルおよびサリチル酸オクチルは、UV
−B活性があるとして既に知られている液状親油性遮蔽
剤であるが、上記2つの固体遮蔽剤に対する溶解特性は
これまで開示されていなかった。該発見は、4−メチル
ベンジリデンショウノウおよび/または4−(tert−ブ
チル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンをこれまで
知られている溶媒以外の溶媒でそれ自体UV−B活性を有
するという優位性がある溶媒、サリチル酸ホモメンチル
およびサリチル酸オクチルで溶解可能とした点、およ
び、最終耐太陽光線組成物において該2つの遮蔽剤、4
−メチルベンジリデンショウノウおよび4−(tert−ブ
チル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンを、遮蔽効
果を有さない従来の溶媒に溶解した場合と、サリチル酸
ホモメンチルおよびサリチル酸オクチルに溶解した(本
願)場合とで比較すると、本願による遮蔽組成物の方
が、耐太陽光線レベルが向上可能であるという点で、2
倍の効果を有する。該発見が本発明の基となるものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段および作用】本発明によれ
ば、4−メチルベンジリデンショウノウ(化合物A)、
4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメ
タン(化合物B)、およびこれらの混合物から選択され
る溶解対象遮蔽成分を化粧品として許容される担体中に
含有する局所使用用皮膚および/または髪の光保護化粧
品組成物であって、サリチル酸ホモメンチル(化合物
C)、サリチル酸オクチル(化合物D)、およびこれらの
混合物から選択される溶解性遮蔽成分を、前記溶解対象
遮蔽成分の全てを溶解するのに十分な量を用いて溶解さ
せることにより製造された新規な組成物が提供される。
ば、4−メチルベンジリデンショウノウ(化合物A)、
4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメ
タン(化合物B)、およびこれらの混合物から選択され
る溶解対象遮蔽成分を化粧品として許容される担体中に
含有する局所使用用皮膚および/または髪の光保護化粧
品組成物であって、サリチル酸ホモメンチル(化合物
C)、サリチル酸オクチル(化合物D)、およびこれらの
混合物から選択される溶解性遮蔽成分を、前記溶解対象
遮蔽成分の全てを溶解するのに十分な量を用いて溶解さ
せることにより製造された新規な組成物が提供される。
【0008】また、本発明によれば、特に太陽光線等の
紫外線に対して、皮膚および/または髪を保護するため
の美容処理方法において、本発明による組成物を有効
量、皮膚および/または髪に適用することを主な工程と
する美容処理方法が提供される。
紫外線に対して、皮膚および/または髪を保護するため
の美容処理方法において、本発明による組成物を有効
量、皮膚および/または髪に適用することを主な工程と
する美容処理方法が提供される。
【0009】本発明の他の特徴部、優位点等は、以下の
詳細な記載から明らかとなるであろう。
詳細な記載から明らかとなるであろう。
【0010】上記のように、4−メチルベンジリデンシ
ョウノウ(溶解されるべき化合物A)は、UV−B領域にお
いて活性で、それ自体知られている遮蔽剤であり、固体
形態で、メルク社から”ユーソレックス(EUSOLEX)6
300”の商品名で、または、ギバウダン(Givaudan)
社から”パルソル(PARSOL)5000”の商品名で販売
されている。該製品は、以下の化学式(I):
ョウノウ(溶解されるべき化合物A)は、UV−B領域にお
いて活性で、それ自体知られている遮蔽剤であり、固体
形態で、メルク社から”ユーソレックス(EUSOLEX)6
300”の商品名で、または、ギバウダン(Givaudan)
社から”パルソル(PARSOL)5000”の商品名で販売
されている。該製品は、以下の化学式(I):
【0011】
【化1】
【0012】で表わされる。同様に、4−(tert−ブチ
ル)−4’−メトキシジベンゾイルメタン(溶解される
べき化合物B)は、UV−A領域において活性であり、それ
自体既に知られている固体遮蔽剤であり、特にギバウダ
ン(Givaudan)社から”パルソル(PARSOL)1789”
の商品名で販売されている。該製品は、以下の化学式
(II):
ル)−4’−メトキシジベンゾイルメタン(溶解される
べき化合物B)は、UV−A領域において活性であり、それ
自体既に知られている固体遮蔽剤であり、特にギバウダ
ン(Givaudan)社から”パルソル(PARSOL)1789”
の商品名で販売されている。該製品は、以下の化学式
(II):
【0013】
【化2】
【0014】で表わされる。ホモサラートとしても知ら
れているサリチル酸ホモメンチル(化合物Aおよび/ま
たは化合物Bを溶解するための化合物C)はまた、商業的
に入手可能であり、ウイトコ(Witco)社から”ケメス
テール(KEMESTER)HMS”として特に販売されている。
該化合物は、以下の化学式(III):
れているサリチル酸ホモメンチル(化合物Aおよび/ま
たは化合物Bを溶解するための化合物C)はまた、商業的
に入手可能であり、ウイトコ(Witco)社から”ケメス
テール(KEMESTER)HMS”として特に販売されている。
該化合物は、以下の化学式(III):
【0015】
【化3】
【0016】で表わされる。最後に、サリチル酸オクチ
ル(化合物Aおよび/または化合物Bを溶解するために、
化合物Cとともに、または単独で使用される化合物D)
は、BASF社から”ユビナル(UVINUL)O−18”の商品
名で特に販売されており、以下の化学式(IV):
ル(化合物Aおよび/または化合物Bを溶解するために、
化合物Cとともに、または単独で使用される化合物D)
は、BASF社から”ユビナル(UVINUL)O−18”の商品
名で特に販売されており、以下の化学式(IV):
【0017】
【化4】
【0018】で表わされる。化合物Aおよび/またはB
(溶解されるべき遮蔽剤類)は、組成物の全重量に対し
て0.25重量%から15重量%までの濃度で存在して
もよい。本発明の特徴によれば、これらの化合物類は、
単独でまたは混合して、最終組成物に、完全な、または
実質的に完全な溶解状態で存在しなければならない。化
合物Cおよび/またはD(溶解剤類)は、組成物の全重量
に対して0.5重量%から20重量%までの濃度で存在
してもよい。本発明による組成物の特徴によれば、これ
らの化合物類は、単独でまたは混合して、組成物に存在
する化合物Aまたは化合物Bまたは混合物[(化合物A)
+(化合物B)]の全てまたは実質的に全てを溶解する
のに十分な量で使用されなければならない。固体遮蔽剤
(類)を完全にしかも安定に溶解するための溶媒の最小
限量は、通常、該溶媒における前記遮蔽剤の溶解パラメ
ーターを検討することによって決定可能である。
(溶解されるべき遮蔽剤類)は、組成物の全重量に対し
て0.25重量%から15重量%までの濃度で存在して
もよい。本発明の特徴によれば、これらの化合物類は、
単独でまたは混合して、最終組成物に、完全な、または
実質的に完全な溶解状態で存在しなければならない。化
合物Cおよび/またはD(溶解剤類)は、組成物の全重量
に対して0.5重量%から20重量%までの濃度で存在
してもよい。本発明による組成物の特徴によれば、これ
らの化合物類は、単独でまたは混合して、組成物に存在
する化合物Aまたは化合物Bまたは混合物[(化合物A)
+(化合物B)]の全てまたは実質的に全てを溶解する
のに十分な量で使用されなければならない。固体遮蔽剤
(類)を完全にしかも安定に溶解するための溶媒の最小
限量は、通常、該溶媒における前記遮蔽剤の溶解パラメ
ーターを検討することによって決定可能である。
【0019】一般的には、室温で、化合物Aは、化合物
溶媒Cに40重量%、化合物溶媒Dに50重量%溶解可能
であり;化合物Bは、化合物溶媒Cに50重量%、化合物
溶媒Dに30重量%溶解可能であり;化合物AとBの3:
1の比率の混合物は、化合物溶媒Cに55重量%、化合
物溶媒Dに57重量%溶解可能である。さらに、化合物A
および/またはB、および、化合物Cおよび/またはDの
濃度は、最終組成物の太陽光線保護ファクターが好まし
くは少なくとも2であるように、選択されるのが一般的
である。
溶媒Cに40重量%、化合物溶媒Dに50重量%溶解可能
であり;化合物Bは、化合物溶媒Cに50重量%、化合物
溶媒Dに30重量%溶解可能であり;化合物AとBの3:
1の比率の混合物は、化合物溶媒Cに55重量%、化合
物溶媒Dに57重量%溶解可能である。さらに、化合物A
および/またはB、および、化合物Cおよび/またはDの
濃度は、最終組成物の太陽光線保護ファクターが好まし
くは少なくとも2であるように、選択されるのが一般的
である。
【0020】本発明による組成物の特に優位な特徴によ
れば、該組成物は好ましくは、上記化合物Cおよび/ま
たはD以外の、化合物A、Bまたは(A+B)用溶解剤を含
有しない、または実質的に含有しないものである。本発
明によれば、ある化合物が他の化合物に関して溶解特性
がないとされるのは、後者の化合物が、前者の化合物に
おいて、約1重量%よりも小さい溶解度を有する場合で
ある。さらに本発明の好ましい実施態様によれば、化合
物A、B、CまたはDが含有されている、化粧品として許容
される担体は、水中油形エマルションである。
れば、該組成物は好ましくは、上記化合物Cおよび/ま
たはD以外の、化合物A、Bまたは(A+B)用溶解剤を含
有しない、または実質的に含有しないものである。本発
明によれば、ある化合物が他の化合物に関して溶解特性
がないとされるのは、後者の化合物が、前者の化合物に
おいて、約1重量%よりも小さい溶解度を有する場合で
ある。さらに本発明の好ましい実施態様によれば、化合
物A、B、CまたはDが含有されている、化粧品として許容
される担体は、水中油形エマルションである。
【0021】最後に、本発明の特に好ましい他の実施態
様によれば、本発明による溶解形態における遮蔽溶液
は、上記2つの固体親油性遮蔽剤、すなわち、4−メチ
ルベンジリデンショウノウであるUV−B遮蔽剤と、4−
(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタン
であるUV−A遮蔽剤との組み合わせからなり、最終的に
は有害なUV領域(280nm〜400nm)において最大の
保護を行う、有用な耐太陽光線製剤とすることが可能で
あるため、該組成物は、さらに完全な安定性を有するも
のである。
様によれば、本発明による溶解形態における遮蔽溶液
は、上記2つの固体親油性遮蔽剤、すなわち、4−メチ
ルベンジリデンショウノウであるUV−B遮蔽剤と、4−
(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタン
であるUV−A遮蔽剤との組み合わせからなり、最終的に
は有害なUV領域(280nm〜400nm)において最大の
保護を行う、有用な耐太陽光線製剤とすることが可能で
あるため、該組成物は、さらに完全な安定性を有するも
のである。
【0022】本発明による耐太陽光線化粧品組成物は、
明らかに、上記親油性遮蔽剤以外の、UV−Aおよび/ま
たはUV−B領域で活性な親水性または親油性遮へい剤を
1以上含有可能である。これらのさらなる遮へい剤は特
に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘
導体、トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベ
ンゾイルメタン誘導体、β,β−ジフェニルアクリラー
ト誘導体、p−アミノ安息香酸誘導体、および特許出願W
O−93−04665に記載の遮蔽シリコーン類および
遮蔽ポリマー類から選択される。有機遮蔽剤類の他の例
としては、特許出願EP−A−0,487,404に記載
されたものが挙げられる。
明らかに、上記親油性遮蔽剤以外の、UV−Aおよび/ま
たはUV−B領域で活性な親水性または親油性遮へい剤を
1以上含有可能である。これらのさらなる遮へい剤は特
に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘
導体、トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベ
ンゾイルメタン誘導体、β,β−ジフェニルアクリラー
ト誘導体、p−アミノ安息香酸誘導体、および特許出願W
O−93−04665に記載の遮蔽シリコーン類および
遮蔽ポリマー類から選択される。有機遮蔽剤類の他の例
としては、特許出願EP−A−0,487,404に記載
されたものが挙げられる。
【0023】本発明による組成物はまた、皮膚を人工的
に日焼けさせる、および/または、着色するための薬剤
(自己着色剤類)、たとえば、ジヒドロキシアセトン
(DHA)等を含有してもよい。本発明による化粧品組成
物はまた、被覆または非被覆の金属酸化物のピグメント
類またはナノピグメント類(主要粒子の平均粒子径:一
般的には5nmから100nmまでの間、好ましくは10nm
から50nmまでの間)、たとえば、酸化チタン(ルチル
および/またはアナターゼ形態に結晶化したものまたは
アモルファスのもの)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコ
ニウム、または酸化セリウムのナノピグメント類を更に
含有可能である。該ナノピグメント類は、それ自体良く
知られている光保護剤類であり、物理的にUV光線をブロ
ック(反射および/または散乱)することにより作用す
るものである。通常の被覆剤類は、さらに、アルミナお
よび/またはステアリン酸アルミニウムである。被覆ま
たは非被覆の金属酸化物ナノピグメント類は、特に、特
許出願EP−A−0,518,772およびEP−A−0,5
18,773に開示されている。
に日焼けさせる、および/または、着色するための薬剤
(自己着色剤類)、たとえば、ジヒドロキシアセトン
(DHA)等を含有してもよい。本発明による化粧品組成
物はまた、被覆または非被覆の金属酸化物のピグメント
類またはナノピグメント類(主要粒子の平均粒子径:一
般的には5nmから100nmまでの間、好ましくは10nm
から50nmまでの間)、たとえば、酸化チタン(ルチル
および/またはアナターゼ形態に結晶化したものまたは
アモルファスのもの)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコ
ニウム、または酸化セリウムのナノピグメント類を更に
含有可能である。該ナノピグメント類は、それ自体良く
知られている光保護剤類であり、物理的にUV光線をブロ
ック(反射および/または散乱)することにより作用す
るものである。通常の被覆剤類は、さらに、アルミナお
よび/またはステアリン酸アルミニウムである。被覆ま
たは非被覆の金属酸化物ナノピグメント類は、特に、特
許出願EP−A−0,518,772およびEP−A−0,5
18,773に開示されている。
【0024】本発明の組成物は、脂肪類、有機溶媒類、
イオンまたは非イオン性増粘剤類、柔軟剤類、特に抗フ
リーラジカル酸化防止剤等の酸化防止剤類、乳白剤類、
安定化剤類、緩和剤類、シリコーン類、α−ヒドロキシ
酸類、消泡剤類、水和剤類、ビタミン類、香料類、防腐
剤類、界面活性剤類、充填剤類、金属イオン封止剤類、
ポリマー類、推進剤類、塩基性化または酸性化剤類、お
よび、染料類から選択される従来の添加物、または化粧
品において一般的に使用される、特にエマルション形態
の耐太陽光線組成物の製造において使用される他の成分
から選択される添加物を更に含有可能である。
イオンまたは非イオン性増粘剤類、柔軟剤類、特に抗フ
リーラジカル酸化防止剤等の酸化防止剤類、乳白剤類、
安定化剤類、緩和剤類、シリコーン類、α−ヒドロキシ
酸類、消泡剤類、水和剤類、ビタミン類、香料類、防腐
剤類、界面活性剤類、充填剤類、金属イオン封止剤類、
ポリマー類、推進剤類、塩基性化または酸性化剤類、お
よび、染料類から選択される従来の添加物、または化粧
品において一般的に使用される、特にエマルション形態
の耐太陽光線組成物の製造において使用される他の成分
から選択される添加物を更に含有可能である。
【0025】脂肪類は、オイルまたはワックスまたはこ
れらの混合物からなるものであってもよく、脂肪酸類、
脂肪アルコール類、および、脂肪酸エステル類も含有す
る。オイル類は、動物油、植物油、鉱油または合成油、
特に、流動ワセリン、パラフィン油、揮発性または非揮
発性シリコーン油類、イソパラフィン類、およびポリ−
α−オレフィン類、フッ素油、および過フッ素油から選
択される。同様に、ワックス類としては、それ自体知ら
れている、動物、化石、植物、鉱物、または合成ワック
ス類が挙げられる。有機溶媒類としては、低級ポリオー
ル類およびアルコール類が挙げられる。
れらの混合物からなるものであってもよく、脂肪酸類、
脂肪アルコール類、および、脂肪酸エステル類も含有す
る。オイル類は、動物油、植物油、鉱油または合成油、
特に、流動ワセリン、パラフィン油、揮発性または非揮
発性シリコーン油類、イソパラフィン類、およびポリ−
α−オレフィン類、フッ素油、および過フッ素油から選
択される。同様に、ワックス類としては、それ自体知ら
れている、動物、化石、植物、鉱物、または合成ワック
ス類が挙げられる。有機溶媒類としては、低級ポリオー
ル類およびアルコール類が挙げられる。
【0026】増粘剤類は、特に、架橋ポリアクリル酸
類、変性または無変性のグアガム類およびセルロース
類、たとえばヒドロキシプロピルグアガム、メチルヒド
ロキシエチルセルロース、およびヒドロキシプロピルメ
チルセルロースから選択可能である。本発明の組成物
は、水中油形または油中水形エマルション類の合成にお
いて特に当業者に良く知られている技術にしたがって調
製可能である。該組成物は、クリーム、乳液、ゲルまた
はクリームゲル等の単純なまたは複合した(O/W、W/
O、O/W/O、またはW/O/W)エマルション形態、また
は固形スティック形態であってもよく、また、任意にエ
アゾールとして容器に収容されたり、フォームまたはス
プレーの形態としても提供可能である。
類、変性または無変性のグアガム類およびセルロース
類、たとえばヒドロキシプロピルグアガム、メチルヒド
ロキシエチルセルロース、およびヒドロキシプロピルメ
チルセルロースから選択可能である。本発明の組成物
は、水中油形または油中水形エマルション類の合成にお
いて特に当業者に良く知られている技術にしたがって調
製可能である。該組成物は、クリーム、乳液、ゲルまた
はクリームゲル等の単純なまたは複合した(O/W、W/
O、O/W/O、またはW/O/W)エマルション形態、また
は固形スティック形態であってもよく、また、任意にエ
アゾールとして容器に収容されたり、フォームまたはス
プレーの形態としても提供可能である。
【0027】エマルションの場合には、該エマルション
の水相は、公知の方法(文献:Bangham, Standish and
Watkins, J. Mol. Biol. 13、238(1965)、F
R−2,315,991およびFR−2,416,00
8)にしたがって調製された非イオン性小胞分散液を含
有してもよい。本発明の化粧品組成物は、ヒトの表皮ま
たは髪を紫外線から保護するための組成物として、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ製品用組成物
として使用可能である。
の水相は、公知の方法(文献:Bangham, Standish and
Watkins, J. Mol. Biol. 13、238(1965)、F
R−2,315,991およびFR−2,416,00
8)にしたがって調製された非イオン性小胞分散液を含
有してもよい。本発明の化粧品組成物は、ヒトの表皮ま
たは髪を紫外線から保護するための組成物として、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ製品用組成物
として使用可能である。
【0028】本発明による化粧品組成物がヒトの表皮を
紫外線から保護するための組成物として、または、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ用組成物とし
て使用される場合には、溶媒類または脂肪類中における
懸濁液または分散液の形態で、非イオン性小胞分散液の
形態で、または、好ましくは水中油形であるエマルショ
ンの形態で、たとえば、クリームまたは乳液、または、
軟膏、ゲル、クリームゲル、固形スティック、スティッ
ク、エアゾールフォーム、またはスプレー形態で提供可
能である。
紫外線から保護するための組成物として、または、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ用組成物とし
て使用される場合には、溶媒類または脂肪類中における
懸濁液または分散液の形態で、非イオン性小胞分散液の
形態で、または、好ましくは水中油形であるエマルショ
ンの形態で、たとえば、クリームまたは乳液、または、
軟膏、ゲル、クリームゲル、固形スティック、スティッ
ク、エアゾールフォーム、またはスプレー形態で提供可
能である。
【0029】本発明による化粧品組成物が、髪を保護す
るために使用される場合には、シャンプー、ローショ
ン、ゲル、エマルション、非イオン性小胞分散液、また
はヘアースプレーの形態で提供可能であり、たとえば、
シャンプーの前後、染色または脱色の前後、またはパー
マネントウエーブまたはストレートパーマ処理の前、処
理中、または処理後に適用される、洗い流される組成
物、スタイリングまたはトリートメントローションまた
はゲル、ブローまたはヘアーセット用ローションまたは
ゲル、パーマネントウエーブまたはストレートパーマ処
理、染色または脱色用組成物を構成するものであっても
よい。本発明による組成物が、表皮トリートメントクリ
ーム、ファンデーション、リップスティック、アイシャ
ドウ、ブラッシャー、マスカラ、または”アイライナ
ー”等のまつげ、眉毛、または皮膚用メークアップ製品
として使用される場合には、無水または水性、固形また
はペースト状形態、たとえば、水中油形または油中水形
エマルション、非イオン性小胞分散液または懸濁液とし
て存在可能である。
るために使用される場合には、シャンプー、ローショ
ン、ゲル、エマルション、非イオン性小胞分散液、また
はヘアースプレーの形態で提供可能であり、たとえば、
シャンプーの前後、染色または脱色の前後、またはパー
マネントウエーブまたはストレートパーマ処理の前、処
理中、または処理後に適用される、洗い流される組成
物、スタイリングまたはトリートメントローションまた
はゲル、ブローまたはヘアーセット用ローションまたは
ゲル、パーマネントウエーブまたはストレートパーマ処
理、染色または脱色用組成物を構成するものであっても
よい。本発明による組成物が、表皮トリートメントクリ
ーム、ファンデーション、リップスティック、アイシャ
ドウ、ブラッシャー、マスカラ、または”アイライナ
ー”等のまつげ、眉毛、または皮膚用メークアップ製品
として使用される場合には、無水または水性、固形また
はペースト状形態、たとえば、水中油形または油中水形
エマルション、非イオン性小胞分散液または懸濁液とし
て存在可能である。
【0030】一般的には、水中油形エマルションの担体
を有する本発明による耐太陽光線製品としては、水相
は、一般的には製品の全重量に対して、50重量%から
95重量%、好ましくは70重量%から90重量%存在
し、(特に溶解されるおよび溶解する親油性遮蔽剤を含
有する)油相は、一般的には製品の全重量に対して、5
重量%から50重量%、好ましくは10重量%から30
重量%存在し、(共)乳化剤(類)は、製品の全重量に
対して、0.5重量%から20重量%、好ましくは2重
量%から10重量%存在する。本発明によれば、該エマ
ルションの脂肪相は、上記遮蔽剤(類)Aおよび/また
はBが溶解される、化合物Cおよび/またはD(溶媒有機
遮蔽剤)、任意にさらなる遮蔽剤類、および他の従来の
親油性化粧品アジュバント類を主成分とすることが可能
である。
を有する本発明による耐太陽光線製品としては、水相
は、一般的には製品の全重量に対して、50重量%から
95重量%、好ましくは70重量%から90重量%存在
し、(特に溶解されるおよび溶解する親油性遮蔽剤を含
有する)油相は、一般的には製品の全重量に対して、5
重量%から50重量%、好ましくは10重量%から30
重量%存在し、(共)乳化剤(類)は、製品の全重量に
対して、0.5重量%から20重量%、好ましくは2重
量%から10重量%存在する。本発明によれば、該エマ
ルションの脂肪相は、上記遮蔽剤(類)Aおよび/また
はBが溶解される、化合物Cおよび/またはD(溶媒有機
遮蔽剤)、任意にさらなる遮蔽剤類、および他の従来の
親油性化粧品アジュバント類を主成分とすることが可能
である。
【0031】本発明の開示の最初に記載したように、本
発明によれば、紫外線に対して、皮膚または髪を保護す
るための、皮膚または髪用美容処理方法が提供され、該
方法は、皮膚または髪に、上記化粧品組成物を有効量適
用することからなる。以下、本発明を例解する実施例を
記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
発明によれば、紫外線に対して、皮膚または髪を保護す
るための、皮膚または髪用美容処理方法が提供され、該
方法は、皮膚または髪に、上記化粧品組成物を有効量適
用することからなる。以下、本発明を例解する実施例を
記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【0032】
実施例1 水中油形エマルション:−4−メチルベンジリデンショ
ウノウ(”ユーソレックス(EUSOLEX)6300”)・
・・・・・6g −4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイル
メタン(”パルソル(PARSOL)1789”)・・・・・
・2g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・10g −ナノピグメント級のTiO2・・・・・・4g −セチルステアリルアルコールと33モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物(ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス(SINNOWAX)AO”)(乳化剤)・・・・・・
7g −グリセリル=モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物(共乳化剤)・・・・・・2g -C8〜C12脂肪酸トリグリセリド類(”ミグリオール
(MIGLYOL)812”)・・・・・・3g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・1.5g −セチルアルコール・・・・・・1.5g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計100g 上記エマルションは、遮蔽剤を脂肪相に溶解し、次いで
約80℃にした該脂肪相に(共)乳化剤を添加して、最
後に、これを急速に攪拌しながら、同温で予め加熱され
た水相を添加することによって調製した。
ウノウ(”ユーソレックス(EUSOLEX)6300”)・
・・・・・6g −4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイル
メタン(”パルソル(PARSOL)1789”)・・・・・
・2g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・10g −ナノピグメント級のTiO2・・・・・・4g −セチルステアリルアルコールと33モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物(ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス(SINNOWAX)AO”)(乳化剤)・・・・・・
7g −グリセリル=モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物(共乳化剤)・・・・・・2g -C8〜C12脂肪酸トリグリセリド類(”ミグリオール
(MIGLYOL)812”)・・・・・・3g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・1.5g −セチルアルコール・・・・・・1.5g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計100g 上記エマルションは、遮蔽剤を脂肪相に溶解し、次いで
約80℃にした該脂肪相に(共)乳化剤を添加して、最
後に、これを急速に攪拌しながら、同温で予め加熱され
た水相を添加することによって調製した。
【0033】実施例2 水中油形エマルション: −4−メチルベンジリデンショウノウ(”ユーソレック
ス(EUSOLEX)6300”)・・・・・・3g −4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイル
メタン(”パルソル(PARSOL)1789”)・・・・・
・1g −サリチル酸オクチル・・・・・・8g −ベンゼン−1,4−[ジ(3−メチリデンショウノウ
−10−スルホン)]酸・・・・・・1.5g −セチルステアリルアルコールと33モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物(ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス(SINNOWAX)AO”)(乳化剤)・・・・・・
7g −グリセリル=モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物(共乳化剤)・・・・・・2g −C8〜C12脂肪酸トリグリセリド類(”ミグリオール
(MIGLYOL)812”)・・・・・・3g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・1.5g −セチルアルコール・・・・・・1.5g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計100g 該エマルションは、実施例1と同様に調製した。
ス(EUSOLEX)6300”)・・・・・・3g −4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイル
メタン(”パルソル(PARSOL)1789”)・・・・・
・1g −サリチル酸オクチル・・・・・・8g −ベンゼン−1,4−[ジ(3−メチリデンショウノウ
−10−スルホン)]酸・・・・・・1.5g −セチルステアリルアルコールと33モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物(ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス(SINNOWAX)AO”)(乳化剤)・・・・・・
7g −グリセリル=モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物(共乳化剤)・・・・・・2g −C8〜C12脂肪酸トリグリセリド類(”ミグリオール
(MIGLYOL)812”)・・・・・・3g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・1.5g −セチルアルコール・・・・・・1.5g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計100g 該エマルションは、実施例1と同様に調製した。
【0034】実施例3 油中水形エマルション: −4−メチルベンジリデンショウノウ(”ユーソレック
ス(EUSOLEX)6300”)・・・・・・6g −4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイル
メタン(”パルソル(PARSOL)1789”)・・・・・
・2g −サリチル酸オクチル・・・・・・8g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・5g −20モルのプロピレンオキシドと30モルのエチレン
オキシド含有の[イソステアリン酸およびヒドロキシス
テアリン酸ソルビトールおよびグリセリル]混合物(IC
I社から販売されている”アルラセル(ARLACEL)78
0”)・・・・・・2.5g −防腐剤 ・・・・・・適量 −香料 ・・・・・・適量 −水・・・・・・合計100g
ス(EUSOLEX)6300”)・・・・・・6g −4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイル
メタン(”パルソル(PARSOL)1789”)・・・・・
・2g −サリチル酸オクチル・・・・・・8g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・5g −20モルのプロピレンオキシドと30モルのエチレン
オキシド含有の[イソステアリン酸およびヒドロキシス
テアリン酸ソルビトールおよびグリセリル]混合物(IC
I社から販売されている”アルラセル(ARLACEL)78
0”)・・・・・・2.5g −防腐剤 ・・・・・・適量 −香料 ・・・・・・適量 −水・・・・・・合計100g
Claims (17)
- 【請求項1】 4−メチルベンジリデンショウノウ(化
合物A)、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベ
ンゾイルメタン(化合物B)、およびこれらの混合物か
ら選択される溶解対象遮蔽成分を化粧品として許容され
る担体中に含有する局所使用用皮膚および/または髪の
光保護化粧品組成物であって、サリチル酸ホモメンチル
(化合物C)、サリチル酸オクチル(化合物D)、および
これらの混合物から選択される溶解性遮蔽成分を、前記
溶解対象遮蔽成分の全てを溶解するのに十分な量を用い
て溶解させることにより製造された組成物。 - 【請求項2】 前記溶解対象遮蔽成分が、化合物Aおよ
び化合物Bの混合物からなることを特徴とする、請求項
1に記載の組成物。 - 【請求項3】 前記溶解対象遮蔽成分が、組成物の全重
量に対して0.25重量%から15重量%までの濃度で
存在することを特徴とする、請求項1または2に記載の
組成物。 - 【請求項4】 前記溶解性遮蔽成分が、組成物の全重量
に対して0.5重量%から20重量%までの濃度で存在
することを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか1
項に記載の組成物。 - 【請求項5】 前記組成物が、化合物Cおよび/またはD
以外に、化合物A、B、または(A+B)の溶解剤を全く含
有しない、または、実質的に含有しないことを特徴とす
る、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項6】 前記化粧品として許容される担体が、水
中油形エマルション形態であることを特徴とする、請求
項1ないし5のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項7】 UV−Aおよび/またはUV−B領域において
活性な、1以上のさらなる親水性または親油性有機遮蔽
剤類をさらに含有することを特徴とする、請求項1ない
し6に記載の組成物。 - 【請求項8】 前記さらなる有機遮蔽剤類が、ケイ皮酸
誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、トリア
ジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタ
ン誘導体、β,β−ジフェニルアクリラート誘導体、p
−アミノ安息香酸誘導体、遮蔽ポリマー類、および遮蔽
シリコーン類から選択されることを特徴とする、請求項
7に記載の組成物。 - 【請求項9】 さらなる光保護剤類として、拡散および
/または反射によって、紫外線を物理的に遮蔽可能な、
被覆または非被覆の金属酸化物類のピグメント類または
ナノピグメント類をさらに含有することを特徴とする、
請求項1ないし8のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項10】 前記ピグメント類またはナノピグメン
ト類が、被覆または非被覆の、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、およびこれ
らの混合物から選択されることを特徴とする、請求項9
に記載の組成物。 - 【請求項11】 皮膚を人工的に日焼けさせる、および
/または着色するための、少なくとも1つの薬剤をさら
に含有することを特徴とする、請求項1ないし10のい
ずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項12】 脂肪類、有機溶媒類、イオンまたは非
イオン性増粘剤類、柔軟剤類、酸化防止剤類、乳白剤
類、安定化剤類、緩和剤類、シリコーン類、α−ヒドロ
キシ酸類、消泡剤類、水和剤類、ビタミン類、香料類、
防腐剤類、界面活性剤類、充填剤類、金属イオン封止剤
類、ポリマー類、推進剤類、塩基性化または酸性化剤
類、および、染料類から選択される少なくとも1つの添
加物をさらに含有することを特徴とする、請求項1ない
し11のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項13】 ヒトの表皮を保護するための組成物ま
たは耐太陽光線組成物であり、非イオン性小胞分散液、
エマルション、クリーム、乳液、ゲル、クリームゲル、
懸濁液、分散液、粉末、固形スティック、フォーム、ま
たはスプレーの形態であることを特徴とする、請求項1
ないし12のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項14】 まつげ、眉毛、または皮膚をメークア
ップするための組成物であり、無水または水性、固形ま
たはペースト形態、エマルション形態、懸濁液形態、ま
たは分散液形態であることを特徴とする、請求項1ない
し12のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項15】 紫外線から髪を保護するための組成物
であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルショ
ン、非イオン性小胞分散液、またはヘアースプレーの形
態であることを特徴とする、請求項1ないし12のいず
れか1項に記載の組成物。 - 【請求項16】 少なくとも2の皮膚への保護ファクタ
ーを有することを特徴とする、請求項1ないし15のい
ずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項17】 紫外線に対して、皮膚および/または
髪を保護するための美容処理方法において、請求項1な
いし16のいずれか1項に記載の組成物を有効量、皮膚
および/または髪に適用することを特徴とする、美容処
理方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9406830 | 1994-06-03 | ||
FR9406830A FR2720639B1 (fr) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | Compositions cosmétiques photoprotectrices et utilisations. |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7133068A Division JP2837824B2 (ja) | 1994-06-03 | 1995-05-31 | 光保護性化粧品組成物およびその使用方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1171255A true JPH1171255A (ja) | 1999-03-16 |
JP3024102B2 JP3024102B2 (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=9463865
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7133068A Expired - Fee Related JP2837824B2 (ja) | 1994-06-03 | 1995-05-31 | 光保護性化粧品組成物およびその使用方法 |
JP10192159A Expired - Fee Related JP3024102B2 (ja) | 1994-06-03 | 1998-07-07 | 光保護性化粧品組成物およびそれを用いた美容処理方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7133068A Expired - Fee Related JP2837824B2 (ja) | 1994-06-03 | 1995-05-31 | 光保護性化粧品組成物およびその使用方法 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5667765A (ja) |
EP (1) | EP0685222B2 (ja) |
JP (2) | JP2837824B2 (ja) |
AT (1) | ATE142480T1 (ja) |
AU (1) | AU677119B2 (ja) |
BR (1) | BR9502181A (ja) |
CA (1) | CA2150867C (ja) |
DE (1) | DE69500040T3 (ja) |
DK (1) | DK0685222T4 (ja) |
ES (1) | ES2094667T5 (ja) |
FR (1) | FR2720639B1 (ja) |
GR (2) | GR3021922T3 (ja) |
HU (1) | HU217352B (ja) |
PL (1) | PL180759B1 (ja) |
RU (1) | RU2146514C1 (ja) |
ZA (1) | ZA954007B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6578061B1 (en) | 1999-01-19 | 2003-06-10 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method and apparatus for data permutation/division and recording medium with data permutation/division program recorded thereon |
JP2007524593A (ja) * | 2003-06-03 | 2007-08-30 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 光安定性有機日焼け止め組成物 |
JP2009518330A (ja) * | 2005-12-09 | 2009-05-07 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 安定化組成物 |
US8198335B2 (en) | 2008-10-06 | 2012-06-12 | Parahermosa Co., Ltd. | Cosmetic material |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3877802B2 (ja) * | 1995-05-02 | 2007-02-07 | 株式会社リコー | エマルジョンインク及びこれを用いた印刷方法 |
US5827508A (en) * | 1996-09-27 | 1998-10-27 | The Procter & Gamble Company | Stable photoprotective compositions |
US5783173A (en) * | 1996-11-21 | 1998-07-21 | The C. P. Hall Company | Stable sunscreen composition containing dibenzoylmethane derivative, E. G., PARSOL 1789, and C12, C16, C18, branched chain hydroxybenzoate and/or C12, C16, branched chain benzoate stabilizers/solubilizers |
US6048517A (en) * | 1996-11-25 | 2000-04-11 | Schering-Plough Healthcare Products, Inc. | High SPF sunscreen formulations |
FR2768730B1 (fr) * | 1997-09-25 | 1999-12-31 | Jean Noel Thorel | Procede de photostabilisation du 4-(ter.butyl) 4'-methoxy dibenzoylmethane, compositions filtrantes ainsi obtenues et leurs utilisations |
DE19808066A1 (de) * | 1998-02-26 | 1999-09-09 | Beiersdorf Ag | Verwendung von Lichtschutzfilterkombinationen gegen die Zersetzung von Dihydroxyaceton in kosmetischen Zubereitungen |
US5962018A (en) * | 1998-04-28 | 1999-10-05 | Avon Products, Inc. | Method of treating the skin with organic acids in anhydrous microsphere delivery systems |
US6071501A (en) * | 1999-02-05 | 2000-06-06 | The Procter & Gamble Company | Photostable UV protection compositions |
DE19949826A1 (de) * | 1999-10-15 | 2001-04-19 | Beiersdorf Ag | Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen in Form von O/W-Makroemulsionen oder O/W-Mikroemulsionen, mit einem Gehalt an Dihydroxyaceton |
DE19955375A1 (de) * | 1999-11-17 | 2001-06-07 | Nestle Sa | Verschäumbares Sonnenschutzmittel |
FR2800991A1 (fr) * | 1999-11-17 | 2001-05-18 | Bio Sources Ind | Procede de photostabilisation de butylmethoxydibenzoylmethane et utilisation dans des compositions cosmetiques anti-solaires |
US20030113357A1 (en) * | 2000-05-23 | 2003-06-19 | The Procter & Gamble Company | Skin Care Compositions |
GB0119645D0 (en) * | 2001-08-11 | 2001-10-03 | Boots Co Plc | Personal care compositions |
US6830746B2 (en) | 2001-09-21 | 2004-12-14 | Playtex Products, Inc. | Sunscreen compositions |
US20050037087A1 (en) * | 2001-11-08 | 2005-02-17 | Noa Lapidot | Compositions containing oils having a specific gravity higher than the specific gravity of water |
BR0309308A (pt) * | 2002-04-17 | 2005-02-15 | Ciba Sc Holding Ag | Compostos de aminofenilbenzotiazol |
US7108860B2 (en) * | 2002-06-06 | 2006-09-19 | Playtex Products, Inc. | Sunscreen compositions |
AU2004242983B2 (en) * | 2003-05-29 | 2008-01-03 | Sun Pharmaceuticals Corporation | Emulsion base for skin care compositions |
EP1893164A2 (en) | 2005-06-20 | 2008-03-05 | Playtex Products, Inc. | Non-irritating compositions |
US20070141008A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Jones Dennis R | Cosmetic remover composition |
MX2009001024A (es) * | 2006-07-27 | 2009-02-06 | Ciba Holding Inc | Uso de derivados de aminofenilbenzotriazol para proteger la piel y el pelo de humanos y de animales de los efectos perjudiciales de la radiacion uv, y composiciones cosmeticas de los mismos. |
US20080102050A1 (en) * | 2006-10-26 | 2008-05-01 | Mingxla Li | Water-based skin care composition with polyalkylsilsesquioxane powder emulsion and method for making the same |
JP5416511B2 (ja) * | 2009-08-28 | 2014-02-12 | 花王株式会社 | O/w型日焼け止め化粧料 |
US8173108B2 (en) * | 2009-11-04 | 2012-05-08 | Conopco, Inc. | Sunscreen composition |
US8206691B2 (en) * | 2009-11-04 | 2012-06-26 | Conopco, Inc. | Sunscreen composition with fatty acid alkanolamides |
US20110104082A1 (en) * | 2009-11-04 | 2011-05-05 | Conopco, Inc., D/B/A Unilever | Enhanced photo protection |
CN102655849B (zh) * | 2009-12-09 | 2015-04-15 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 新颖的化合物 |
KR20130102460A (ko) | 2010-05-10 | 2013-09-17 | 세게티스, 인코포레이티드. | 알킬 케탈 에스터를 함유하는 퍼스널 케어 조제물 및 제조방법 |
BR112012029317B1 (pt) | 2010-05-17 | 2018-05-08 | Mary Kay Inc | gel, método para a aplicação de uma composição cosmética para a pele, para aumentar a sua duração e para sua proteção da degradação sobre a pele |
FR2973233B1 (fr) * | 2011-03-28 | 2013-04-26 | Oreal | Procede cosmetique pour filtrer les radiations uv utilisant un derive de betaine |
US9295622B2 (en) | 2011-12-06 | 2016-03-29 | Mary Kay Inc. | Substantive sunscreen formulation |
US9402794B2 (en) | 2011-12-07 | 2016-08-02 | Mary Kay Inc. | Topical skin care formulation |
US9005588B2 (en) | 2011-12-22 | 2015-04-14 | Mary Kay Inc. | Substantive sunscreen formulation |
US8795640B2 (en) | 2011-12-22 | 2014-08-05 | Mary Kay Inc. | Lip formulation |
BR112015012471B1 (pt) | 2012-11-29 | 2020-05-19 | Segetis Inc | cetais de carbóxi éster , métodos de fabricação e uso dos mesmos. |
DE102017201947A1 (de) * | 2017-02-08 | 2018-08-09 | Beiersdorf Ag | Kosmetischer Sonnenschutzstift |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2268105A1 (en) * | 1974-04-18 | 1975-11-14 | Raquin Pierre | High-speed heated cutter for fabrics - forming strong, clear-cut selvedges, with good thermal conductivity of blade |
DE3206398A1 (de) † | 1982-02-23 | 1983-09-01 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | S-triazinderivate und ihre verwendung als lichtschutzmittel |
LU86703A1 (fr) * | 1986-12-08 | 1988-07-14 | Oreal | Composition cosmetique photostable contenant un filtre uv-a et un filtre uv-b,son utilisation pour la protection de la peau contre les rayons uv et procede de stabilisation du filtre uv-a par le filtre uv-b |
FR2636530B1 (fr) * | 1988-08-24 | 1992-05-07 | Oreal | Composition cosmetique filtrante photostable sous forme d'emulsion contenant un filtre hydrosoluble a large bande d'absorption et au moins un filtre uv-a liposoluble et son utilisation pour la protection de la peau contre le rayonnement ultraviolet |
GB9114317D0 (en) * | 1991-07-02 | 1991-08-21 | Unilever Plc | Cosmetic composition |
FR2680105B1 (fr) * | 1991-08-07 | 1994-01-07 | Oreal | Composition cosmetique filtrante photostable contenant un filtre uv-a et un 4-methoxy benzylidene cyanoacetate. |
EP0654989B1 (en) * | 1992-08-13 | 1997-09-24 | The Procter & Gamble Company | Photostable sunscreen compositions |
-
1994
- 1994-06-03 FR FR9406830A patent/FR2720639B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-05-05 DE DE69500040T patent/DE69500040T3/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-05-05 DK DK95401056T patent/DK0685222T4/da active
- 1995-05-05 EP EP95401056A patent/EP0685222B2/fr not_active Expired - Lifetime
- 1995-05-05 ES ES95401056T patent/ES2094667T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-05-05 AT AT95401056T patent/ATE142480T1/de active
- 1995-05-17 ZA ZA954007A patent/ZA954007B/xx unknown
- 1995-05-22 AU AU20227/95A patent/AU677119B2/en not_active Ceased
- 1995-05-31 JP JP7133068A patent/JP2837824B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-02 BR BR9502181A patent/BR9502181A/pt not_active IP Right Cessation
- 1995-06-02 PL PL95308893A patent/PL180759B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1995-06-02 HU HU9501612A patent/HU217352B/hu not_active IP Right Cessation
- 1995-06-02 CA CA002150867A patent/CA2150867C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-02 RU RU95108869/14A patent/RU2146514C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1995-06-05 US US08/461,015 patent/US5667765A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-12-06 GR GR960403327T patent/GR3021922T3/el unknown
-
1998
- 1998-07-07 JP JP10192159A patent/JP3024102B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-09-13 GR GR20000402078T patent/GR3034388T3/el not_active IP Right Cessation
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6578061B1 (en) | 1999-01-19 | 2003-06-10 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method and apparatus for data permutation/division and recording medium with data permutation/division program recorded thereon |
US6850960B2 (en) | 1999-01-19 | 2005-02-01 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Inverse calculation apparatus and recording medium having stored thereon a program for executing inverse calculation |
US6859818B2 (en) | 1999-01-19 | 2005-02-22 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method and apparatus for permuting input data and recording medium having stored thereon a program for executing permutation |
JP2007524593A (ja) * | 2003-06-03 | 2007-08-30 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 光安定性有機日焼け止め組成物 |
JP2009518330A (ja) * | 2005-12-09 | 2009-05-07 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 安定化組成物 |
US8198335B2 (en) | 2008-10-06 | 2012-06-12 | Parahermosa Co., Ltd. | Cosmetic material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0685222A1 (fr) | 1995-12-06 |
DK0685222T3 (ja) | 1997-02-24 |
FR2720639A1 (fr) | 1995-12-08 |
JP2837824B2 (ja) | 1998-12-16 |
HUT72624A (en) | 1996-05-28 |
EP0685222B2 (fr) | 2000-06-21 |
RU2146514C1 (ru) | 2000-03-20 |
DK0685222T4 (da) | 2000-12-04 |
FR2720639B1 (fr) | 1996-07-05 |
PL180759B1 (pl) | 2001-04-30 |
ES2094667T5 (es) | 2000-11-01 |
DE69500040D1 (de) | 1996-10-17 |
AU677119B2 (en) | 1997-04-10 |
DE69500040T3 (de) | 2000-12-21 |
HU217352B (hu) | 2000-01-28 |
US5667765A (en) | 1997-09-16 |
BR9502181A (pt) | 1996-03-05 |
RU95108869A (ru) | 1997-06-10 |
GR3034388T3 (en) | 2000-12-29 |
PL308893A1 (en) | 1995-12-11 |
ES2094667T3 (es) | 1997-01-16 |
DE69500040T2 (de) | 1997-01-23 |
ATE142480T1 (de) | 1996-09-15 |
JP3024102B2 (ja) | 2000-03-21 |
CA2150867C (fr) | 1999-08-17 |
CA2150867A1 (fr) | 1995-12-04 |
HU9501612D0 (en) | 1995-07-28 |
EP0685222B1 (fr) | 1996-09-11 |
GR3021922T3 (en) | 1997-03-31 |
ZA954007B (en) | 1996-01-17 |
AU2022795A (en) | 1996-01-04 |
JPH07330562A (ja) | 1995-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3024102B2 (ja) | 光保護性化粧品組成物およびそれを用いた美容処理方法 | |
JP2688186B2 (ja) | 抗日光化粧品組成物およびその使用方法 | |
US5605679A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising at least one solid organic sunscreen compound and diphenylacrylate solvent therefor | |
JP2650873B2 (ja) | 耐uv化粧品組成物およびその使用方法 | |
JP2702091B2 (ja) | スクリーン剤と微細顔料との相互作用混合物をベースとする光保護化粧品組成物およびその使用方法 | |
JP2723484B2 (ja) | 光防御化粧品組成物およびその使用方法 | |
JP2650872B2 (ja) | 遮蔽剤の相乗的混合物をベースとした光保護性化粧品組成物およびその使用方法 | |
JP3848308B2 (ja) | 4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、1,3,5−トリアジン誘導体および(α−シアノ)−β,β’−ジフェニルアクリル酸アルキルを含有する組成物とその用途 | |
JP3043427B2 (ja) | アミド含有化合物を含む光保護化粧品組成物 | |
JP2845775B2 (ja) | 遮蔽剤の相乗的混合物をベースとした光保護性化粧品組成物とその使用方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080121 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090121 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |