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JPH1160562A - スルホンアニリド誘導体及び除草剤 - Google Patents

スルホンアニリド誘導体及び除草剤

Info

Publication number
JPH1160562A
JPH1160562A JP17398098A JP17398098A JPH1160562A JP H1160562 A JPH1160562 A JP H1160562A JP 17398098 A JP17398098 A JP 17398098A JP 17398098 A JP17398098 A JP 17398098A JP H1160562 A JPH1160562 A JP H1160562A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
halogen atom
alkyl
alkoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17398098A
Other languages
English (en)
Inventor
Takumi Yoshimura
巧 吉村
Masahiro Miyazaki
雅弘 宮崎
Chiharu Suzuki
千治 鈴木
Masahisa Nakatani
昌央 中谷
Masatoshi Tamaru
雅敏 田丸
Yoshimasa Ono
至正 小野
Tomohisa Ida
智久 井田
Katsutada Yanagisawa
克忠 柳沢
Hideo Sadohara
英雄 佐土原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ihara Chemical Industry Co Ltd, Kumiai Chemical Industry Co Ltd filed Critical Ihara Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP17398098A priority Critical patent/JPH1160562A/ja
Publication of JPH1160562A publication Critical patent/JPH1160562A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水田における有害雑草に対して優れた除草効
果を有するとともに作物に安全性が高いスルホンアニリ
ド誘導体を提供する。 【解決手段】一般式[I] {式中、Rはアルキル基又はアルケニル基[該基はい
ずれもハロゲン原子等で置換されてもよい。]を示し、
は水素原子、ハロゲン原子又はアルコキシ基等を示
し、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキシカルボ
ニル基等を示し、Qは基−CH(NR)−[ここ
でR、Rは水素原子、アルキル基等を示す。]又は
基−C(=NR)−[ここでRは水素原子、アルキ
ル基等を示す。]を示し、mは1〜4の整数を示す。}
で示されるスルホンアニリド誘導体及びその塩、該スル
ホンアニリド誘導体を有効成分として含有する除草剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なスルホンアニリド
誘導体およびそれを有効成分として含有することを特徴
とする除草剤に関するものである。
【0002】
【従来技術】特表平7−501053号公報明細書及び
WO96/41799号公報明細書にはアニリドの2’
位にピリミジン−2−イル基が置換したスルホンアニリ
ド化合物が除草活性を有することが記載されている。
【0003】しかしながら、該公報明細書に中には、ア
ニリドの2’位へのピリミジン−2−イル基の置換にお
いて、ピリミジン2位とアニリド2’位との結合が、メ
チレン基、ハロゲン置換メチレン基、カルボニル基、ヒ
ドロキシル基、オキソメチレン基、アルコキシ基、チオ
キソメチレン基又はアルキルチオ基である化合物及びそ
れらの誘導体が記載されているものの、本発明スルホン
アニリド誘導体のように、ピリミジン2位とアニリドの
2’位との結合にアミノメチレン基、イミノメチレン基
を有する化合物については知られていない。即ち、本発
明スルホンアニリド誘導体およびそれを有効成分とする
除草剤について具体的な除草効果や製造法は今まで知ら
れていない。更に特表平7−501053号公報明細書
及びWO96/41799号公報明細書に記載の化合物
は除草活性が不充分であったり、作物と雑草間の選択性
に劣ることから満足すべきものとは言い難い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】現在、水田においては
カヤツリグサ科雑草等、種々の難防除雑草が問題になっ
ている。これらの雑草は発生が不揃いで、しかも水稲の
栽培時期に長期間に渡って発生してくるため、その防除
は難しい課題となっている。このため、それらを防除で
きる処理適期幅の広い薬剤の開発が望まれている。ま
た、現在の水稲除草剤では、葉齢の小さい水稲や移植深
度の浅い水稲に対しても安全に除草剤を使用すること
は、極めて難しい課題となっている。特に水稲に対し高
い安全性を有する除草剤の出現は、移植時に除草剤の同
時処理を可能にし、稲作作業の合理化、大型化にとって
大いに切望されている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な状況に鑑み種々検討した結果、新規なスルホンアニリ
ド誘導体とその製造方法を案出し、該化合物が上述のよ
うな欠点の少ない優れた除草作用を有することを見出
し、本発明を完成するに至った。
【0006】即ち、本発明は(1)一般式[I]
【0007】
【化3】 {式中、Rはアルキル基(該基はハロゲン原子又はシ
アノ基で置換されてもよい。)又はアルケニル基(該基
はハロゲン原子で置換されてもよい。)を示し、R
各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基
又はアルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、アルコ
キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、モノ又はジアルキルアミノ基で置換され
てもよい。)を示し、Rは水素原子、アルキル基(該
基はハロゲン原子、水酸基、アルケニルオキシ基、アル
キニルオキシ基、モノ又はジアルキルアミノ基、アルコ
キシ基又はアルキルチオ基で置換されてもよい。)、ベ
ンジル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換さ
れたカルバモイル基、置換されたチオカルバモイル基又
は基−SO(ここでRは前記と同じ意味を示
す。)を示し、Qは基−CH(NR)−[ここで
、Rは同一か又は相異なり、水素原子、アルキル
基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基又はフェニル基で置換されてもよ
い。)、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル
基、フェニル基(該基はハロゲン原子、アルキル基又は
アルコキシ基で置換されてもよい。)、アシル基、アル
コキシカルボニル基、置換されたカルバモイル基、置換
されたチオカルバモイル基、基−SO(ここでR
は前記と同じ意味を示す。)、基−NR[ここ
でR、Rは同一か又は相異なり、水素原子、アルキ
ル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基又はフェニル基で置換されても
よい。)、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキ
ル基、フェニル基(該基はハロゲン原子、アルキル基又
はアルコキシ基で置換されてもよい。)、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、基−SO(ここでR
前記と同じ意味を示す。)、置換されたカルバモイル基
又は置換されたチオカルバモイル基を示す。]又は基−
OR[ここでRは水素原子、アルキル基(該基はハ
ロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコキシ基、アルキ
ルチオ基、フェニル基で置換されてもよい。)、アルケ
ニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、フェニル基
(該基はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基で置
換されてもよい。)、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アルキルスルホニル基(該基はハロゲン原子で置換
されてもよい。)、置換されたカルバモイル基又は置換
されたチオカルバモイル基を示す。]を示し、或いは場
合により、R及びRはこれらの結合した窒素原子と
合わせて一つ又はそれ以上のヘテロ原子を有する含窒素
ヘテロ環基を形成してもよい。]又は基−C(=N
)−[ここでRは水素原子、アルキル基(該基は
ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコキシ基、アル
キルチオ基、フェニル基で置換されてもよい。)、アル
ケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、フェニル
基(該基はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基で
置換されてもよい。)、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、置換されたカルバモイル基、置換されたチオカル
バモイル基、基−SO(ここでRは前記と同じ
意味を示す。)、基−NR(ここでR及びR
は前記と同じ意味を示す。)又は基−OR(ここでR
は前記と同じ意味を示す。)を示す。]を示し、mは
1〜4の整数を示す。}で示されるスルホンアニリド誘
導体及びその塩、(2)一般式[I]で示される化合物
の製造中間体となる一般式[II]
【0008】
【化4】 {式中、R及びmは前記と同じ意味を示す。}で示さ
れる4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル誘導体及
び、(3)一般式[I]記載のスルホンアニリド誘導体
又はその塩を有効成分とする除草剤を提供するものであ
る。
【0009】尚、本明細書において、用いられる用語の
定義を以下に示す。
【0010】ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。
【0011】アルキル基とは、特に限定しない限り、炭
素数が1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を意味
し、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソア
ミル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシ
ル基、3,3−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、n
−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等を挙げる
ことができる。
【0012】アシル基とは、ホルミル基、ベンゾイル基
又はアルキル部分が上記の意味を示す(アルキル)−C
O−基を示し、例えばアセチル基、プロピオニル基等を
挙げることができる。
【0013】アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の
意味を示す(アルキル)−O−基を示し、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ
基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキ
シ基、tert−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、
n−オクチルオキシ基等を挙げることができる。
【0014】アルコキシカルボニル基とは、アルコキシ
部分が上記の意味を示す(アルコキシ)−CO−基を示
し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基等を挙げることができる。
【0015】アルケニル基とは、炭素数が2〜6の直鎖
又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル基、
プロペニル基等を挙げることができる。
【0016】アルケニルオキシ基とは、アルケニル部分
が上記の意味を示す(アルケニル)−O−基を示し、例
えばアリルオキシ基等を挙げることができる。
【0017】アルキニル基とは、炭素数が2〜6の直鎖
又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばプロパルギ
ル基等を挙げることができる。
【0018】アルキニルオキシ基とは、アルキニル部分
が上記の意味を示す(アルキニル)−O−基を示し、例
えばプロパルギルオキシ基等を挙げることができる。
【0019】シクロアルキル基とは、炭素数3〜7のシ
クロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シク
ロペンチル基等を挙げることができる。
【0020】アルキルチオ基及びアルキルスルホニル基
とは、アルキル部分が上記の意味である(アルキル)−
S−基、(アルキル)−SO−基を示し、例えばメチ
ルチオ基、エチルチオ基、メチルスルホニル基、エチル
スルホニル基等を挙げることができる。
【0021】モノ又はジアルキルアミノ基とは、アルキ
ル部分が上記の意味である、(アルキル)−NH−基、
(アルキル)N−基を示し、例えばメチルアミノ基、
ジメチルアミノ基等を挙げることができる。
【0022】置換されたカルバモイル基とは、N−モノ
置換又はN,N−ジ置換されたカルバモイル基を示し、
例えばN,N−ジメチルカルバモイル基等を挙げること
ができる。
【0023】置換されたチオカルバモイル基とは、N−
モノ置換又はN,N−ジ置換されたチオカルバモイル基
を示し、例えばN−メチルチオカルバモイル基等を挙げ
ることができる。
【0024】アシルオキシ基及びアルキルスルホニルオ
キシ基とは、アシル又はアルキルスルホニル部分がそれ
ぞれ上記の意味である(アシル)−O−基、(アルキル
スルホニル)−O−基を示し、例えばアセトキシ基又は
メシルオキシ基等を挙げることができる。
【0025】含窒素ヘテロ環基とは、5〜6員環の含窒
素ヘテロ環基を示し、例えばピペリジノ基、モルホリノ
基、イミダゾリル基等を挙げることができる。
【0026】塩とは、一般式[I]で表される化合物と
酸との塩又は、一般式[I]で表される化合物の、スル
ホンアミドと金属或いは有機塩基との塩であり、酸とし
ては塩酸や臭化水素酸等のハロゲン化水素酸又は硫酸や
メタンスルホン酸等のスルホン酸を挙げることができ、
金属としてはナトリウムやカリウム等のアルカリ金属、
マグネシウムやカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げ
ることができ、有機塩基としてはトリエチルアミン、ジ
イソプロピルアミン等を挙げることができる。
【0027】前記一般式[I]において、好ましい化合
物群としては、Rがトリフルオロメチル基又はジフル
オロメチル基であり、Rが水素原子、炭素数が1〜3
のアルキル基及び炭素数が1〜3のアルコキシ基、ハロ
ゲン原子又はメトキシメチル基であり、Rが水素原子
又はメトキシメチル基であり、Qが基−CH(NR
)−であり、R、Rは同一か又は相異なり、水素
原子又は炭素数が1〜6のアルキル基であり、mが1又
は2で表される化合物群が挙げられる。
【0028】
【発明の実施の形態】次に、一般式[I]、[II]で
表される本発明化合物の代表的な化合物例を表1〜表3
5に示すが、本発明化合物はこれらに限られるものでは
ない。尚、化合物番号は以後の記載において参照され
る。
【0029】本明細書における表中の次の表記は下記の
通りそれぞれ該当する基を表す。
【0030】 Me :メチル基、 Et :エチル基、 Pr :プロピル基、 Pr−i:イソプロピル基、 Bu :ブチル基、 Bu−i:イソブチル基、 Bu−s:sec−ブチル基、 Bu−t:tert−ブチル基、 Pen:n−ペンチル基、 Bn :ベンジル基、 Pr−c:シクロプロピル基、 Bu−c:シクロブチル基、 Pen−c:シクロペンチル基、 Ph :フェニル基、
【0031】
【表1】
【0032】
【表2】
【0033】
【表3】
【0034】
【表4】
【0035】
【表5】
【0036】
【表6】
【0037】
【表7】
【0038】
【表8】
【0039】
【表9】
【0040】
【表10】
【0041】
【表11】
【0042】
【表12】
【0043】
【表13】
【0044】
【表14】
【0045】
【表15】
【0046】
【表16】
【0047】
【表17】
【0048】
【表18】
【0049】
【表19】
【0050】
【表20】
【0051】
【表21】
【0052】
【表22】
【0053】
【表23】
【0054】
【表24】
【0055】
【表25】
【0056】
【表26】
【0057】
【表27】
【0058】
【表28】
【0059】
【表29】
【0060】
【表30】
【0061】
【表31】
【0062】
【表32】
【0063】
【表33】
【0064】
【表34】
【0065】
【表35】
【0066】次に、一般式[I]で示される本発明化合
物は、以下に示す製造法に従って製造することができる
が、これらの方法に限定されるものではない。
【0067】<製造法1>
【0068】
【化5】 (式中、Aは基−C(=O)−、基−CH(OH)−又
はQ[ここでQは前記と同じ意味を示す。]を示し、X
はハロゲン原子を示し、R,R,R,mは前記と
同じ意味を示す。)
【0069】一般式[III]で示されるアニリン誘導
体1モルに対し、スルホニルハライド誘導体もしくはス
ルホン酸誘導体の無水物1〜2倍モルを無溶媒、或いは
適当な溶媒0.5〜5l中、塩基1〜2倍モルの存在下
で反応させることにより、一般式[IV]で示される目
的のスルホンアニリド誘導体を得ることができる。
【0070】ここで溶媒としてはn−ヘキサン等の炭化
水素、シクロヘキサン等の環状炭化水素、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、1,4−ジオキサン、テ
トラヒドロフラン(THF)等のエーテル類、N,N−
ジメチルホルムアミド(DMF)等のアミド類、N,N
−ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン等の
硫黄化合物、キノリン、ピリジン等の芳香族含窒素化合
物、N,N−ジエチルアニリン等のアニリン誘導体、酢
酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、酢酸エチル等のエス
テル類、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、アセト
ニトリル等のニトリル類、ニトロベンゼン等の芳香族ニ
トロ化合物類、メタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ−ル
類、水等を例示できる。
【0071】また、塩基としては、水素化ナトリウム等
の金属水素化物、n−ブチルリチウム等の有機金属化合
物、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等のアルカリ
金属またはアルカリ土類金属の炭酸化合物、同水酸化化
合物、同炭酸水素化合物、さらにナトリウムメトキシ
ド、カリウム t−ブトキシド等のアルコ−ルの金属塩
等を例示できる。
【0072】反応温度は−70℃〜250℃の温度範囲
で行い、好ましくは−20℃から室温の温度範囲であ
り、反応時間は5分から1週間で終了する。
【0073】<製造法2>
【0074】
【化6】 (式中、Bは基−NHR、基−NR(SO
又はニトロ基を示し、m,R,R,R,Rは前
記と同意味を示す。)
【0075】一般式[V]で示されるカルボニル化合物
1モルに対し、RNHで示されるアミン類1〜5倍
モルを無溶媒又は適当な溶媒(ベンゼン等の芳香族炭化
水素類、メタノール等のアルコール類等を例示でき
る。)0.5〜5l中で、脱水縮合させる事により、一
般式[VI]で示される目的のイミン化合物を得ること
ができる。ここで、場合により適当な触媒(四塩化チタ
ン等のルイス酸類、酢酸カリウム等の塩基類等を例示で
きる。)0.01〜2倍モルを添加しても良い。
【0076】反応温度は−70℃〜250℃の温度範囲
で行い、好ましくは−20℃から150℃の温度範囲で
あり、反応は5分から1週間で終了する。
【0077】<製造法3>
【0078】
【化7】 (式中、m,B,R,R,R,Xは前記と同じ意
味を示す。)
【0079】一般式[VII]で示される化合物1モル
の水酸基を、無溶媒又は適当な溶媒(製造法1に記載と
同様である。)0.5〜5l中で、ハロゲン化剤(塩化
チオニル等のハロゲン化硫黄類を例示できる。)1〜5
倍モルを用いてハロゲン化して一般式[VIII]で示
される化合物を得た後、無溶媒又は適当な溶媒(製造法
1に記載と同様である。)0.5〜5l中、一般式R
NHで示されるアミン類1〜5倍モルと反応させる
ことにより、一般式[IX]で示される目的のアミン化
合物を得ることができる。ここで、場合により適当な塩
基(水素化ナトリウム等の金属水素化物、n−ブチルリ
チウム等の有機金属化合物、ピリジン、トリエチルアミ
ン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
カルシウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の
炭酸化合物、同水酸化化合物、同炭酸水素化合物、さら
にナトリウムメトキシド、カリウム t−ブトキシド等
のアルコ−ルの金属塩等を例示できる。)1〜5倍モル
を添加しても良い。
【0080】反応温度は−70℃〜250℃の温度範囲
で行い、好ましくは−20℃から100℃の温度範囲で
あり、反応は5分から1週間で終了する。
【0081】<製造法4>
【0082】
【化8】 (式中、Lはハロゲン原子、アシルオキシ基、アルキ
ルスルホニルオキシ基、1−イミダゾリル基等の脱離基
を示し、R,R,R,Aは前記と同じ意味を示
す。)
【0083】一般式[IVa]で示される化合物(1モ
ル)に対し、一般式R−Lで示されるアルキル化
剤、アシル化剤又はスルホニル化剤(1〜2倍モル)を
無溶媒又は適当な溶媒(製造法1に記載と同様であ
る。)0.5〜5l中、塩基(水素化ナトリウム等の金
属水素化物、n−ブチルリチウム等の有機金属化合物、
ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等のアルカリ金属
またはアルカリ土類金属の炭酸化合物、同水酸化化合
物、同炭酸水素化合物、さらにナトリウムメトキシド、
カリウム t−ブトキシド等のアルコ−ルの金属塩等を
例示できる。)1〜2倍モルの存在下で反応させること
により、一般式[IV]で示される目的のスルホンアニ
リド誘導体を得ることができる。
【0084】反応温度は−70℃〜250℃の温度範囲
で行い、好ましくは−20℃から100℃の温度範囲で
あり、反応は5分から1週間で終了する。
【0085】なお、一般的なスルホンアニリド類の製造
法に関しては、前述の特表平7−501053号公報明
細書及びWO96/41799号公報明細書に記載があ
るほか、ジャーナル・オブ・アグリカルチュラル・フー
ド・ケミストリー(J.Agr.Food Che
m.)、第22巻(6)、第1111貢(1974年)
等に記載がある。
【0086】次に、一般式[II]で示される本発明化
合物及び製造法1〜4に記載の一般式[III]、
[V]、[VII]で示される中間体の内の幾つかは、
例えば化9に示すスキ−ムに従って製造することができ
るが、これらの方法に限定されるものではない。
【0087】
【化9】 (式中、Lはハロゲン原子又はアルキルスルホニル基
等の脱離基を示し、m,R,R,Xは前記と同じ意
味を示す。)
【0088】<製造法5> 一般式[XII]及び[XIV]で示される中間体の製
造法。
【0089】一般式[Xa]又は[XIII]で示され
るベンジルシアニド誘導体1モルと、一般式[XIa]
で示されるピリミジン誘導体1〜2倍モルとを無溶媒ま
たは適当な溶媒(製造法1に記載と同様である。)0.
5〜5l中で、適当な塩基(製造法1に記載と同様であ
る。)1〜5倍モルの存在下で縮合させることにより、
目的の一般式[XII]又は[XIV]で示される化合
物を得ることができる。
【0090】あるいは、一般式[Xb]で示されるニト
ロ化合物1モルと、一般式[XIb]で示されるピリミ
ジン誘導体1〜2倍モルとを無溶媒または適当な溶媒
(製造法1に記載と同様である。)0.5〜5l中で、
適当な塩基(製造法1に記載と同様である。)1〜5倍
モルの存在下で縮合させることにより、目的の一般式
[XII]で示される化合物を得ることができる。
【0091】いずれの場合も反応温度は−70℃から2
50℃の温度範囲で行い、好ましくは−20℃から10
0℃の温度範囲であり、反応は5分から1週間で終了す
る。
【0092】<製造法6> 一般式[Va]及び[Vc]で示される中間体の製造
法。
【0093】一般式[XII]又は[XIV]で示され
るシアン化合物1モルを、適当な溶媒(製造法1に記載
と同様である。)0.5〜5l中、酸化剤(m−クロロ
過安息香酸等の有機過酸類などを例示できる。)1〜2
倍モルで処理した後、適当な溶媒(水などを例示でき
る。)0.5〜5l中、適当な塩基(水酸化ナトリウム
等のアルカリ金属類などを例示できる。)1〜10倍モ
ルと処理することにより酸化的脱シアノ化反応を行い、
一般式[Va]又は[Vc]で示される目的のカルボニ
ル化合物を得ることができる。
【0094】反応温度は−70℃から溶媒の沸点の温度
範囲で行い、好ましくは−20℃から100℃の温度範
囲であり、反応は5分から1週間で終了する。
【0095】<製造法7> 一般式[II]で示される4,6−ジメトキシピリミジ
ン誘導体の製造法。
【0096】一般式[Vc]で示されるカルボニル化合
物1モルを、適当な溶媒(N,N−ジメチルホルムアミ
ド等のアミド類、N,N−ジメチルスルホキシド(DM
SO)、スルホラン等の硫黄化合物などを例示でき
る。)0.5〜5l中、アジ化ナトリウム等1〜5倍モ
ルと処理することにより、一般式[II]で示される目
的の4,6−ジメトキシピリミジン誘導体を得ることが
できる。
【0097】反応温度は−70℃から溶媒の沸点の温度
範囲で行い、好ましくは−20℃から150℃の温度範
囲であり、反応は5分から1週間で終了する。
【0098】<製造法8> 一般式[Vb]及び[VIIb]で示される中間体の製
造法。
【0099】一般式[II]で示される4,6−ジメト
キシピリミジン誘導体あるいは一般式[Va]、[VI
Ia]で示されるニトロ化合物1モルを、適当な溶媒
(製造法1に記載と同様である。)0.5〜5l中、適
当な還元剤(鉄等の金属類などを例示できる。)1〜5
倍モルで還元することにより、対応する一般式[Vb]
及び[VIIb]で示される目的のアミノ化合物を得る
ことができる。場合により触媒として酸(酢酸等の有機
酸類などを例示できる。)0.01〜1倍モルを添加し
ても良い。
【0100】或いは、一般式[II]で示される4,6
−ジメトキシピリミジン誘導体あるいは一般式[V
a]、[VIIa]で示されるニトロ化合物1モルを、
適当な溶媒(製造法1に記載と同様である。)0.5〜
5l中、触媒(パラジウム等の金属類などを例示でき
る。)0.01〜1倍モルの存在下で、適当な還元剤
(ギ酸アンモニウム或いは水素等を例示できる。)1〜
5倍モルで還元することにより、対応する一般式[V
b]及び[VIIb]で示される目的のアミノ化合物を
得ることができる。
【0101】いずれの場合も、反応温度は−70℃から
溶媒の沸点の温度範囲で行い、好ましくは−20℃から
100℃の温度範囲であり、反応は5分から1週間で終
了する。
【0102】<製造法9> 一般式[VIIa]、[VIIb]あるいは[VII
c]で示される中間体の製造法。
【0103】一般式[Va]、[Vb]あるいは[V
d]で示されるカルボニル化合物1モルを、適当な溶媒
(製造法1に記載と同様である。)0.5〜5l中、適
当な還元剤(水素化ホウ素ナトリウム等のアルカリ金属
水素化錯化合物類などを例示できる。)1〜5倍モルで
還元することにより、対応する一般式[VIIa]、
[VIIb]あるいは[VIIc]で示される目的のア
ルコール化合物を得ることができる。
【0104】反応温度は−70℃から溶媒の沸点の温度
範囲で行い、好ましくは−20℃から100℃の温度範
囲であり、反応は5分から1週間で終了する。
【0105】<製造法10> 一般式[Vd]で示される中間体の製造法。
【0106】一般式[Vc]で示される化合物1モル
を、無溶媒又は適当な溶媒(製造法1に記載と同様であ
る。)0.5〜5l中で、一般式RNHで示される
アミン類1〜5倍モルと反応させることにより、一般式
[Vd]で示される目的のアミン化合物を得ることがで
きる。
【0107】反応温度は−70℃から250℃の温度範
囲で行い、好ましくは−20℃から150℃の温度範囲
であり、反応は5分から1週間で終了する。
【0108】なお、上述の中間体の合成に関しては、ジ
ャーナル・オブ・ケミカル・リサーチ(S)(J.Ch
em.Research(S))第186貢(1977
年)、ヘテロサイクルズ(Heterocycles)
第38巻(1)、第125貢(1994年)及びWO9
4/08975号公報明細書等に類似の反応例が記載さ
れている。
【0109】
【実施例】次に、実施例をあげて本発明化合物の製造
法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化
合物の製造中間体の製造法も合わせて記載する。
【0110】<実施例1> 2’−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−(4−モルホリノ)メチル]−1,1−ジフ
ルオロメタンスルホンアニリド(本発明化合物番号I−
296)の製造
【0111】(1)2−[1−(4,6−ジメトキシピ
リミジン−2−イル)−1−(4−モルホリノ)メチ
ル]アニリン(化合物III)の製造 2−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−ヒドロキシメチル]アニリン2.0g(7.
7ミリモル)をクロロホルム30mlに溶解し、0℃に
て撹拌しつつ塩化チオニル1.0g(8.4ミリモル)
を滴下した。0℃から室温にて30分撹拌後、室温にて
モルホリン1.4g(16ミリモル)を滴下し、室温に
て30分撹拌した後、さらに加熱還流下30分撹拌し
た。反応液を5%塩酸水にて抽出し、抽出液を飽和重曹
水で中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒、酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3)で
精製し、淡褐色粘稠液体の2−[1−(4,6−ジメト
キシピリミジン−2−イル)−1−(4−モルホリノ)
メチル]アニリン0.5g(収率20%)を得た。
【0112】(2)2’−[1−(4,6−ジメトキシ
ピリミジン−2−イル)−1−(4−モルホリノ)メチ
ル]−1,1−ジフルオロメタンスルホンアニリド(本
発明化合物番号I−296)の製造 2−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−(4−モルホリノ)メチル]アニリン0.5
g(1.5ミリモル)、ピリジン0.3g(3.8ミリ
モル)をクロロホルム15mlに溶解し、室温にて撹拌
しながら1,1−ジフルオロメタンスルホン酸クロリド
0.6g(4.0ミリモル)を滴下した。室温にて3時
間撹拌を続けた後、反応液を氷水中にあけ、クロロホル
ムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒、酢
酸エチル:n−ヘキサン=1:3)で精製し、白色粉末
(融点:143〜144℃)の2’−[1−(4,6−
ジメトキシピリミジン−2−イル)−1−(4−モルホ
リノ)メチル]−1,1−ジフルオロメタンスルホンア
ニリド0.3g(収率45%)を得た。
【0113】<実施例2> 2’−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−(メトキシイミノ)メチル]−1,1,1−
トリフルオロメタンスルホンアニリド(本発明化合物番
号II−55)の製造
【0114】(1)2’−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イルカルボニル)−1,1,1−トリフルオ
ロメタンスルホンアニリド(化合物V)の製造 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルカルボ
ニル)アニリン3.0g(11.6ミリモル)、トリエ
チルアミン1.5g(14.8ミリモル)をジクロロメ
タン50mlに溶解し、0℃にて撹拌しながら1,1,
1−トリフルオロメタンスルホン酸無水物3.9g(1
3.8ミリモル)を約10分間で滴下し、そのまま1時
間撹拌を続けた。反応液を氷水中にあけ5%水酸化ナト
リウム水溶液(20ml)で2回抽出し、水層を集め、
10%塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有
機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した粗結晶をジイ
ソプロピルエーテルで洗浄し、黄土色粉末(融点:10
2〜104℃)の2’−(4,6−ジメトキシピリミジ
ン−2−イルカルボニル)−1,1,1−トリフルオロ
メタンスルホンアニリド3.0g(収率69%)を得
た。
【0115】(2)2’−[1−(4,6−ジメトキシ
ピリミジン−2−イル)−1−(メトキシイミノ)メチ
ル]−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアニリ
ド(本発明化合物番号II−55)の製造 2’−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルカル
ボニル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンア
ニリド3.0g(7.7ミリモル)、酢酸カリウム4.
0g(40.8ミリモル)及びメトキシアミン塩酸塩
4.0g (47.9ミリモル)をエタノール50ml
に懸濁させ、加熱環流下に撹拌した。反応液を氷水中に
あけ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒、酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3)で精
製し、白色結晶(融点:89〜91℃)の2’−[1−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)−1−
(メトキシイミノ)メチル]−1,1,1−トリフルオ
ロメタンスルホンアニリド0.9g(収率28%)を得
た。
【0116】<実施例3> 2’−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−(エチルアミノ)メチル]−6’−メトキシ
メチル−1,1−ジフルオロメタンスルホンアニリド
(本発明化合物番号I−359)の製造
【0117】(1)2’−[1−(4,6−ジメトキシ
ピリミジン−2−イル)−1−ヒドロキシメチル]−
6’−メトキシメチル−1,1−ジフルオロメタンスル
ホンアニリド(化合物VII)の製造 2−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−ヒドロキシメチル]−6−メトキシメチルア
ニリン4.0g(13.1ミリモル)及びピリジン2.
0g(25.3ミリモル)をジクロロメタン30mlに
溶解させ、室温にて撹拌しながら 1,1−ジフルオロ
メタンスルホン酸クロリド 3.6g(23.9ミリモ
ル)を滴下した。室温にて7日間撹拌を続けた後、反応
液を氷水中にあけ、ジクロロメタンで抽出した。有機層
を5%塩酸水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残査をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒、酢酸エチル:n
−ヘキサン=1:3)で精製し、無色粒状結晶(融点7
6〜77℃)の2’−[1−(4,6−ジメトキシピリ
ミジン−2−イル)−1−ヒドロキシメチル]−6’−
メトキシメチル−1,1−ジフルオロメタンスルホンア
ニリド2.0g(収率36%)を得た。
【0118】(2)2’−[1−クロロ−1−(4,6
−ジメトキシピリミジン−2−イル)メチル]−6’−
メトキシメチル−1,1−ジフルオロメタンスルホンア
ニリド(化合物VIII)の製造 2’−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−ヒドロキシメチル]−6’−メトキシメチル
−1,1−ジフルオロメタンスルホンアニリド2.0g
(4.8ミリモル)及び塩化チオニル0.7g(5.9
ミリモル)をクロロホルム15mlに溶解させ、室温に
て2時間撹拌を続けた。溶媒及び過剰の塩化チオニルを
減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒、酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3)で
精製し、淡黄色結晶(融点 88〜89℃)の2’−
[1−クロロ−1−(4,6−ジメトキシピリミジン−
2−イル)メチル]−6’−メトキシメチル−1,1−
ジフルオロメタンスルホンアニリド2.0g(収率95
%)を得た。
【0119】(3)2’−[1−(4,6−ジメトキシ
ピリミジン−2−イル)−1−(エチルアミノ)メチ
ル]−6’−メトキシメチル−1,1−ジフルオロメタ
ンスルホンアニリド(本発明化合物番号I−359)の
製造 2’−[1−クロロ−1−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イル)メチル]−6’−メトキシメチル−
1,1−ジフルオロメタンスルホンアニリド 1.0g
(2.3ミリモル)をテトラヒドロフラン10mlに溶
解させ、室温にて撹拌しながらエチルアミン0.3g
(6.7ミリモル)を滴下した。室温にて1時間撹拌を
続けた後、溶媒を減圧留去した。残査をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶媒、酢酸エチル:n−ヘ
キサン=1:1)で精製し、淡赤色粉末(融点188〜
189℃)の2’−[1−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イル)−1−(エチルアミノ)メチル]−
6’−メトキシメチル−1,1−ジフルオロメタンスル
ホンアニリド0.9g(収率88%)を得た。
【0120】<実施例4> N−メトキシメチル−2’−[1−(4,6−ジメトキ
シピリミジン−2−イル)−1−(ジエチルアミノ)メ
チル]−1,1−ジフルオロメタンスルホンアニリド
(本発明化合物番号I−256)の製造 2’−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)−1−(ジエチルアミノ)メチル]−1,1−ジフ
ルオロメタンスルホンアニリド0.8g(1.9ミリモ
ル)及び炭酸カリウム1.0g(7.2ミリモル)を
N,N−ジメチルホルムアミド15mlに懸濁させ、室
温にて撹拌しながらクロロメチルメチルエーテル0.5
g(6.2ミリモル)を滴下した。室温にて3時間撹拌
を続けた後、反応液を氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒、酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:5)で精製し、無色結晶(融点
67〜69℃)のN−メトキシメチル−2’−[1−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)−1−
(ジエチルアミノ)メチル]−1,1−ジフルオロメタ
ンスルホンアニリド0.8g(収率91%)を得た。
【0121】<実施例5> 3−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)−4
−フルオロ−2,1−ベンゾイソオキサゾール(本発明
化合物番号III−2)の製造 2−(2,6−ジフルオロベンゾイル)−4,6−ジメ
トキシピリミジン 4.0g(14.3ミリモル)およ
びアジ化ナトリウム1.1g(16.9ミリモル)を
N,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解させ、1
20℃で3時間撹拌した。反応液を室温に戻して氷水中
にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水にて
洗浄後、乾燥した。溶媒を減圧留去し、結晶残査をジイ
ソプロピルエーテルにて洗浄して赤色粉末(融点145
〜147℃)の3−(4,6−ジメトキシピリミジン−
2−イル)−4−フルオロ−2,1−ベンゾイソオキサ
ゾール1.8g(収率46%)を得た。
【0122】(中間体の製造例) <参考例1> (1)2−(2−ニトロフェニル)−2−(4,6−ジ
メトキシピリミジン−2−イル)アセトニトリル(化合
物XII)の製造 2−(2−ニトロフェニル)アセトニトリル50g
(0.31モル)を500mlのN,N−ジメチルホル
ムアミドに溶解し、60%水素化ナトリウム24.7g
(0.62モル)を添加し、室温にて2時間撹拌した。
次に2−メチルスルホニル−4,6−ジメトキシピリミ
ジン67.7g(0.31モル)を加え、80℃で1時
間撹拌した。反応液を水にあけ、10%塩酸水で中和し
た後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
留去した。残査をエタノールより結晶化し、白色粉末
(融点88〜89℃)の2−(2−ニトロフェニル)−
2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アセ
トニトリル73.3g(収率79%)を得た。
【0123】(2)2−(2,6−ジフルオロフェニ
ル)−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)アセトニトリル(化合物XIV)の製造 2−(2,6−ジフルオロフェニル)アセトニトリル1
2g(78ミリモル)を100mlのN,N−ジメチル
ホルムアミドに溶解し、60%水素化ナトリウム6.3
g(0.16モル)を添加し、室温にて2時間撹拌し
た。次に2−メチルスルホニル−4,6−ジメトキシピ
リミジン17g(78ミリモル)を加え、80℃で1時
間撹拌した。反応液を水にあけ、10%塩酸水で中和し
た後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
留去した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒、酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3)で精
製し、無色アメ状物質の2−(2,6−ジフルオロフェ
ニル)−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)アセトニトリル19g(収率83%)を得た。
【0124】(3)2−(4−フルオロ−2−ニトロフ
ェニル)−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−
イル)アセトニトリル(化合物XII)の製造 60%水素化ナトリウム11.2g(0.28モル)を
N,N−ジメチルホルムアミド100mlに縣濁させ氷
水浴で10℃以下に冷却し、撹拌しながら2−(4,6
−ジメトキシピリミジン−2−イル)アセトニトリル2
5g(0.14モル)のN,N−ジメチルホルムアミド
100ml溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて水素
の発生がなくなるまで撹拌した。再び氷水浴中で10℃
以下に冷却し撹拌しながら、2,5−ジフルオロニトロ
ベンゼン22g(0.14モル)のN,N−ジメチルホ
ルムアミド100ml溶液を滴下した。室温にて12時
間撹拌後、反応液を氷水にあけ10%塩酸水で酸性にし
た後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
留去した。析出した粗結晶をエタノール/イソプロピル
エーテル混合溶媒で洗浄し、無色粒状結晶(融点111
〜112℃)の2−(4−フルオロ−2−ニトロフェニ
ル)−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ル)アセトニトリル42g(収率94%)を得た。
【0125】同様に(1)及び(3)の方法で以下に示
す化合物(化合物XII)を得た。 2−(3−メチル−2−ニトロフェニル)−2−(4,
6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アセトニトリ
ル:淡赤色粒状結晶(融点108〜110℃) 2−(3−エチル−2−ニトロフェニル)−2−(4,
6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アセトニトリ
ル:茶褐色粉末(融点113〜114℃) 2−(3−メトキシメチル−2−ニトロフェニル)−2
−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アセト
ニトリル:赤褐色粉末(融点112〜113℃)
【0126】<参考例2> (1)5−フルオロ−2−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イルカルボニル)ニトロベンゼン(化合物V
a)の製造 2−(4−フルオロ−2−ニトロフェニル)−2−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アセトニ
トリル3.2g(10ミリモル)、m−クロロ過安息香
酸(50%)6.0g(17ミリモル)をクロロホルム
30mlに溶解させ、室温にて12時間撹拌した。つい
で10%水酸化ナトリウム水溶液15mlを加え室温に
て1時間撹拌した後、クロロホルム50mlを加え抽出
した。有機層を5%塩酸水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残査
をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(溶出溶媒、酢
酸エチル:n−ヘキサン=1:5)で精製し、白色粒状
結晶(融点187〜189℃)の5−フルオロ−2−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルカルボニ
ル)ニトロベンゼン2.7g(収率88%)を得た。
【0127】(2)2−(2,6−ジフルオロベンゾイ
ル)−4,6−ジメトキシピリミジン(化合物Vc)の
製造 2−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−(4,6−
ジメトキシピリミジン−2−イル)アセトニトリル19
g(65ミリモル)、m−クロロ過安息香酸(50%)
30g(87ミリモル)をクロロホルム150mlに溶
解させ、加熱還流下6時間撹拌した。ついで室温に戻し
10%水酸化ナトリウム水溶液15mlを加え室温にて
2時間撹拌した後、クロロホルム50mlを加え抽出し
た。有機層を5%塩酸水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残査を
シリカゲルカラムクロマトグラフィ−(溶出溶媒、酢酸
エチル:n−ヘキサン=1:3)で精製し、白色結晶
(融点104〜105℃)の2−(2,6−ジフルオロ
ベンゾイル)−4,6−ジメトキシピリミジン13g
(収率71%)を得た。
【0128】同様の方法で以下に示す化合物(化合物V
a)を得た。 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルカルボ
ニル)ニトロベンゼン:淡褐色結晶(融点164〜16
5℃) 6−フルオロ−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−
2−イルカルボニル)ニトロベンゼン:淡褐色粒状結晶
(融点181〜183℃) 6−メチル−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2
−イルカルボニル)ニトロベンゼン:無色粒状結晶(融
点166〜171℃) 6−エチル−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2
−イルカルボニル)ニトロベンゼン:白色粉末(融点1
16〜117℃) 6−メトキシメチル−2−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イルカルボニル)ニトロベンゼン:白色粉末
(融点111〜113℃)
【0129】<参考例3> (1)5−フルオロ−2−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イルカルボニル)アニリン(化合物Vb)の
製造 5−フルオロ−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−
2−イルカルボニル)ニトロベンゼン3.1g(10ミ
リモル)、鉄粉3g(54ミリモル)、水 20ml、
酢酸エチル150ml及び酢酸1mlの混合物を加熱還
流下5時間撹拌した。反応液中の不溶物をろ過助剤を用
いて除去し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した粗
結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、淡黄色粒状結
晶(融点177〜179 ℃)の5−フルオロ−2−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルカルボニ
ル)アニリン2.4g(収率87%)を得た。
【0130】(2)3−フルオロ−2−(4,6−ジメ
トキシピリミジン−2−イルカルボニル)アニリン(化
合物Vb)の製造 3−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)−4
−フルオロ−2,1−ベンゾイソオキサゾール1.2g
(4.4ミリモル)、パラジウム炭素0.1g及びギ酸
アンモニウム0.8g(12.7ミリモル)をメタノー
ル100mlに懸濁させ加熱還流下1時間撹拌した。反
応液中の不溶物をロ別し、メタノールを減圧留去後10
0mlの水を加え酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した粗結晶
をジイソプロピルエーテルで洗浄し、黄色粒状結晶(融
点129〜130℃)の3−フルオロ−2−(4,6−
ジメトキシピリミジン−2−イルカルボニル)アニリン
1.1g(収率91%)を得た。
【0131】同様に(1)の方法で以下に示す化合物
(化合物Vb)を得た。 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルカルボ
ニル)アニリン:黄色結晶(融点166〜167℃) 6−フルオロ−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−
2−イルカルボニル)アニリン:黄色粒状結晶(融点1
31〜134℃) 6−メチル−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2
−イルカルボニル)アニリン:黄色粒状結晶(融点13
0〜132℃) 6−エチル−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2
−イルカルボニル)アニリン:黄色粉末(融点122〜
123℃) 6−メトキシメチル−2−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イルカルボニル)アニリン:蛍光黄色結晶
(融点100〜101℃)
【0132】<参考例4> 1−(2−アミノ−4−フルオロフェニル)−1−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)メタノ−
ル(化合物VIIb)の製造 5−フルオロ−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−
2−イルカルボニル)アニリン1.1g(4.0ミリモ
ル)をテトラヒドロフラン:水=1:1の混合溶媒50
mlに溶解させ、室温で撹拌しながら水素化ホウ素ナト
リウム0.3g(7.9ミリモル)を加え、さらに2時
間室温で撹拌を続けた。氷水50mlを加え、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウム乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した粗
結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、無色粒状結晶
(融点94〜95℃)の1−(2−アミノ−4−フルオ
ロフェニル)−1−(4,6−ジメトキシピリミジン−
2−イル)メタノ−ル 1.0g(収率90%)を得
た。
【0133】同様の方法で以下に示す化合物(化合物V
IIb)を得た。 1−(2−アミノフェニル)−1−(4,6−ジメトキ
シピリミジン−2−イル)メタノ−ル:白色粉末(融点
78〜80℃) 1−(2−アミノ−3−フルオロフェニル)−1−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)メタノ−
ル:無色粒状結晶(融点92〜94℃) 1−(2−アミノ−6−フルオロフェニル)−1−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)メタノ−
ル:白色粉末(融点109〜110℃) 1−(2−アミノ−3−メチルフェニル)−1−(4,
6−ジメトキシピリミジン−2−イル)メタノ−ル:無
色粒状結晶(融点109〜112℃) 1−(2−アミノ−3−エチルフェニル)−1−(4,
6−ジメトキシピリミジン−2−イル)メタノ−ル:白
色結晶(融点85〜86℃) 1−(2−アミノ−3−メトキシメチルフェニル)−1
−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)メタノ
−ル:白色結晶(融点40〜42℃)
【0134】本発明の除草剤は、一般式[I]で示され
るスルホンアニリド誘導体を有効成分としてなる。
【0135】本発明化合物を除草剤として使用するには
本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般
的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤又は補助剤等
を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤又は粒剤等に
製剤して使用することもできる。
【0136】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシ
ウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプ
ロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチル
ナフタレン等の液体担体等があげられる。
【0137】界面活性剤又は分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル
アリールスルホン酸塩ホルマリン縮合物、リグニンスル
ホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられ
る。
【0138】補助剤としては、例えばカルボキシメチル
セルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等
があげられる。
【0139】使用に際しては適当な濃度に希釈して散布
するか又は直接施用する。
【0140】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用又は
水面施用等により使用することができる。有効成分の配
合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又
は粒剤とする場合は0.01〜10%(重量)、好まし
くは0.05〜5%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよ
い。また、乳剤及び水和剤とする場合は1〜50%(重
量)、好ましくは5〜30%(重量)の範囲から適宜選
ぶのがよい。
【0141】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤又は粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として10アール当り
0.1g〜5kg、好ましくは1g〜1kgの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤又は水和剤のように液状
で使用する場合は、0.1〜50,000ppm、好ま
しくは10〜10,000ppmの範囲から適宜選ぶの
がよい。
【0142】また、本発明化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。
【0143】次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具
体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。
【0144】〈製剤例1〉 水和剤 化合物(I−253)の10部にポリオキシエチレンオ
クチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンス
ルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪
藻土の20部、クレーの69部を混合粉砕し、水和剤を
得る。
【0145】〈製剤例2〉 水和剤 化合物(I−353)の10部にポリオキシエチレンオ
クチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンス
ルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪
藻土の20部、ホワイトカーボンの5部、クレーの64
部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【0146】〈製剤例3〉 水和剤 化合物(I−367)の10部にポリオキシエチレンオ
クチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンス
ルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪
藻土の20部、ホワイトカーボンの5部、炭酸カルシウ
ムの64部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【0147】〈製剤例4〉 乳剤 化合物(I−335)の30部にキシレンとイソホロン
の等量混合物60部、界面活性剤ポリオキシエチレンソ
ルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルア
リールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混
合物の10部を加え、これらをよくかきまぜることによ
って乳剤を得る。
【0148】〈製剤例5〉 粒剤 化合物(I−269)の10部、タルクとベントナイト
を1:3の割合で混合した増量剤の80部、ホワイトカ
ーボンの5部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタ
ンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリール
ポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の
5部に水10部を加え、よく練ってペースト状としたも
のを直径0.7mmのふるい穴から押し出して乾燥した
後に0.5〜1mmの長さに切断し、粒剤を得る。
【0149】次に試験例をあげて本発明化合物の奏する
効果を説明する。
【0150】〈試験例1〉 水田湛水処理による除草効
果試験 100cmのプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、タイヌビエ(Ec)、コナギ(Mo)及び
ホタルイ(Sc)の各種子を播種し、水深3cmに湛水
した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希
釈し、水面に滴下処理した。施用量は、有効成分を10
アール当り100gとした。その後、温室内で育成し、
処理後28日目に表36の基準に従って除草効果を調査
した。結果を表37〜表43に示す。
【0151】
【表36】
【0152】
【表37】
【0153】
【表38】
【0154】
【表39】
【0155】
【表40】
【0156】
【表41】
【0157】
【表42】
【0158】
【表43】
【0159】〈試験例2〉 水田湛水処理による作物選
択性試験 100cmのプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、コナギ(Mo)およびホタルイ(Sc)の
各種子を0.5cmの深さに播種し、さらに2葉期の水
稲(Or)を移植深度2cmで2本移植し、水深3cm
に湛水した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤の
所定有効成分量(ai,g/10a)を水で希釈し、水
面に滴下処理した。その後、温室内で育成し、処理後2
8日目に表36の基準に従って除草効果および薬害程度
を調査した。結果を表44〜表49に示す。
【0160】
【表44】
【0161】
【表45】
【0162】
【表46】
【0163】
【表47】
【0164】
【表48】
【0165】
【表49】
【0166】
【発明の効果】一般式[I]で表される本発明の化合物
は、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナ
ギ、アゼナ等の一年生雑草及びヘラオモダカ、ホタル
イ、ウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ等
の多年生雑草に対し、発生前から生育期の広い範囲にわ
たって、雑草の発生および生育を長期間抑制し、低薬量
で防除することができる。一方、同時にイネに対して高
い安全性を有するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07D 403/06 233 C07D 403/06 233 413/04 239 413/04 239 (72)発明者 鈴木 千治 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の1 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 中谷 昌央 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の1 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 田丸 雅敏 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の1 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 小野 至正 静岡県静岡市敷地2丁目13番地の10 (72)発明者 井田 智久 静岡県小笠郡菊川町町加茂3353番地 (72)発明者 柳沢 克忠 静岡県小笠郡菊川町半済3061番地の88 (72)発明者 佐土原 英雄 埼玉県新座市堀ノ内2丁目9番地の3

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式[I] 【化1】 {式中、Rはアルキル基(該基はハロゲン原子又はシ
    アノ基で置換されてもよい。)又はアルケニル基(該基
    はハロゲン原子で置換されてもよい。)を示し、R
    各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基
    又はアルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、アルコ
    キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ア
    ルキルチオ基、モノ又はジアルキルアミノ基で置換され
    てもよい。)を示し、Rは水素原子、アルキル基(該
    基はハロゲン原子、水酸基、アルケニルオキシ基、アル
    キニルオキシ基、モノ又はジアルキルアミノ基、アルコ
    キシ基又はアルキルチオ基で置換されてもよい。)、ベ
    ンジル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換さ
    れたカルバモイル基、置換されたチオカルバモイル基又
    は基−SO(ここでRは前記と同じ意味を示
    す。)を示し、Qは基−CH(NR)−[ここで
    、Rは同一か又は相異なり、水素原子、アルキル
    基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコキ
    シ基、アルキルチオ基又はフェニル基で置換されてもよ
    い。)、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル
    基、フェニル基(該基はハロゲン原子、アルキル基又は
    アルコキシ基で置換されてもよい。)、アシル基、アル
    コキシカルボニル基、置換されたカルバモイル基、置換
    されたチオカルバモイル基、基−SO(ここでR
    は前記と同じ意味を示す。)、基−NR[ここ
    でR、Rは同一か又は相異なり、水素原子、アルキ
    ル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコ
    キシ基、アルキルチオ基又はフェニル基で置換されても
    よい。)、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキ
    ル基、フェニル基(該基はハロゲン原子、アルキル基又
    はアルコキシ基で置換されてもよい。)、アシル基、ア
    ルコキシカルボニル基、基−SO(ここでR
    前記と同じ意味を示す。)、置換されたカルバモイル基
    又は置換されたチオカルバモイル基を示す。]又は基−
    OR[ここでRは水素原子、アルキル基(該基はハ
    ロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコキシ基、アルキ
    ルチオ基、フェニル基で置換されてもよい。)、アルケ
    ニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、フェニル基
    (該基はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基で置
    換されてもよい。)、アシル基、アルコキシカルボニル
    基、アルキルスルホニル基(該基はハロゲン原子で置換
    されてもよい。)、置換されたカルバモイル基又は置換
    されたチオカルバモイル基を示す。]を示し、或いは場
    合により、R及びRはこれらの結合した窒素原子と
    合わせて一つ又はそれ以上のヘテロ原子を有する含窒素
    ヘテロ環基を形成してもよい。]又は基−C(=N
    )−[ここでRは水素原子、アルキル基(該基は
    ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アルコキシ基、アル
    キルチオ基、フェニル基で置換されてもよい。)、アル
    ケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、フェニル
    基(該基はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基で
    置換されてもよい。)、アシル基、アルコキシカルボニ
    ル基、置換されたカルバモイル基、置換されたチオカル
    バモイル基、基−SO(ここでRは前記と同じ
    意味を示す。)、基−NR(ここでR及びR
    は前記と同じ意味を示す。)又は基−OR(ここでR
    は前記と同じ意味を示す。)を示す。]を示し、mは
    1〜4の整数を示す。}で示されるスルホンアニリド誘
    導体及びその塩。
  2. 【請求項2】 一般式[II] 【化2】 (式中、R及びmは請求項1に記載と同じ意味を示
    す。)で示される請求項1に記載のスルホンアニリド誘
    導体の製造中間体である4,6−ジメトキシピリミジン
    −2−イル誘導体。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載のスルホンアニリド誘導
    体又はその塩を有効成分として含有することを特徴とす
    る除草剤。
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