JPH11354709A - 半導体装置および増幅器 - Google Patents
半導体装置および増幅器Info
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Abstract
ョンを大きくすることができ、両パッド間で信号が結合
した場合に、生じる閉ループにおいて起こる発振を抑制
することができる小型で安定な半導体装置およびこの半
導体装置を用いた増幅器を得る。 【解決手段】 半導体基板上に入出力の向きが逆方向で
ある複数のHBT素子15,18を並べて配置した半導
体装置において、複数のHBT素子の間にグランドライ
ン21を1本以上挿入する。
Description
マイクロ波通信、移動体通信等に使用するマイクロ波・
ミリ波の半導体素子例えばHBT(Hetero−ju
nction Bipolar Transisto
r)素子を含む半導体装置およびこの半導体装置を用い
た増幅器に関するものである。
T、HBTといった半導体デバイスを用いて構成される
が、多段増幅器モジュールを作製する場合、半導体デバ
イスを作製する半導体基板のチップサイズにを小さくす
ることによってモジュールの低価格化を図ることができ
る。また、モジュール自身を小型化することも重要であ
る。
1996 Microwaveand Millim
eter−Wave Monolithic Circ
uits Symposium Digest pp.
13−16に記述されている増幅素子がFETの場合の
半導体基板上に作製されたFET(図5a)と、それを用
いて作製された2段増幅器モジュール(図5b)の例であ
る。図5において、1は例えばGaAsといった半導体
基板、2は前段用FET、3は前段用FETの入力パッ
ド、4は前段用FETの出力パッド、5は後段用FE
T、6は後段用FETの入力パッド、7は後段用FET
の出力パッド、8は例えばセラミックで作製されたMI
C(Microwave Integrated Ci
rcuit)基板、9は入力整合回路、10は段間整合
回路、11は出力整合回路、12は入力端子、13は出
力端子、14は接続用ワイヤである。
に入力した信号は、MIC基板8上に形成された入力整
合回路9、接続用ワイヤ14を介して、前段用FETの
入力パッド3、そして、前段用FET2に入力する。入
力された信号は前段用FET2で増幅された後、前段用
FETの出力パッド4、接続用ワイヤ14を介して、M
IC基板8上に形成された段間整合回路10によって整
合された後、接続用ワイヤ14、後段用FETの入力パ
ッド6を介して後段用FET5へ入力される。入力され
た信号は後段用FET5で増幅された後、後段用FET
の出力パッド7から接続用ワイヤ14を介して、MIC
基板8上に形成された出力整合回路11によって整合さ
れた後、出力端子13より出力される。
幅素子である前段用FET2と後段用FET5のみが作
製されており、半導体基板1のチップサイズは小さくす
ることができている。また、半導体基板1は1チップで
構成されているため、金属キャリア等に行う半田づけも
1回で済み低価格を実現することができる。また、図5
のように、前段用FET2と後段用FET5が入出力の
向きを逆にして作製されているため、半導体基板外のM
IC基板8上に小さなサイズで入力整合回路9、段間整
合回路10、出力整合回路11を形成でき、増幅器モジ
ュール自体を小型に構成することができる。
例のFET素子を用いた場合、前段FETの入力パッド
と、後段FETの出力パッドが極めて近接しており、ま
た、それぞれのパッドとMIC基板を接続するワイヤも
近接してため、両パッド間もしくはワイヤ間で信号が結
合する可能性がある。また、前段FETの入力パッドか
ら、後段FETの出力パッドに至るまでに信号は2段の
FETにより増幅されているため20〜30dB程度増
幅されている。したがって、両パッド間もしくはワイヤ
間で信号が結合した場合に、その結合によって生じる閉
ループにおいて発振条件を満足し、そのために不安定に
なる可能性があるという問題点があった。
ためになされたもので、小型で安定な半導体装置および
この半導体装置を用いた増幅器を得ることを目的とす
る。
導体装置は、半導体基板上に入出力の向きが逆方向であ
る複数の半導体素子を並べて配置した半導体装置におい
て、上記複数の半導体素子の間に設けられた少なくとも
1本のグランドラインを備えたものである。
項1の発明において、上記グランドラインの代わりにグ
ランドライン用の伝送線路を用いるものである。
項1の発明において、上記グランドラインの代わりに上
記半導体素子のベースへ定電圧を供給するバイアス回路
を用いるものである。
項1〜3のいずれかに記載の発明において、上記半導体
素子がHBT素子であるものである。
項1〜4のいずれかに記載の半導体装置と、該半導体装
置に接続され、上記複数の半導体素子に入出力される信
号の整合をとる整合手段とを備えたものである。
の発明において、上記半導体装置の複数の半導体素子の
間に設けられた少なくとも1本のグランドライン用の伝
送線路と、上記整合手段の基板上に設けられたグランド
端子とを接続したものである。
の発明において、上記半導体装置の複数の半導体素子の
間に設けられたバイアス回路と、上記整合手段の基板上
に設けられたバイアス印加端子とを接続したものであ
る。
を、半導体素子としてHBT素子を用いた場合を例にと
り、図を参照して説明する。実施の形態1.図1はこの
発明に係わる実施の形態1を示す構成図である。図にお
いて、1Aは例えばGaAsといった半導体基板、15
は前段用HBT、16は前段用HBTの入力パッド、1
7は前段用HBTの出力パッド、18は後段用HBT、
19は後段用HBTの入力パッド、20は後段用HBT
の出力パッド、21は前段用HBT15と後段用前段H
BT18の間に挿入された1本以上のグランドライン、
22は半導体基板1上に設けられたスルーホール(バイ
アホール)、23は半導体基板1を半田付けした金属キ
ャリア23、24はグランドライン21を金属キャリア
23に接地するためのワイヤである。
に示すHBT素子においては、前段用HBTの入力パッ
ド16に入力した信号は、前段用HBT15で増幅され
た後、前段用HBTの出力パッド17より、半導体基板
1の外部に形成された段間整合回路を介して、再び、後
段用HBTの入力パッド19を介して後段用HBT18
へ入力される。入力された信号は、後段用HBT18で
増幅された後、後段用HBTの出力パッド20から出力
される。
いては、図1(b)に示すように半導体基板1上に作製
したスルーホール(バイアホール)22を介して、半導
体基板1の裏面の導体に接地する方法や、図1(c)に
示すように、半導体基板1を半田付けした金属キャリア
23上にワイヤ24を用いて接地する方法などがある。
BT15と後段用前段HBT18の間にグランドライン
21が1本以上挿入されているため、前段用HBTの入
力パッド16と、後段HBTの出力パッド20との間の
アイソレーションを大きくすることができ、両パッド間
で信号が結合した場合に、生じる閉ループにおいて起こ
る発振を抑制することができ、安定なHBT増幅器を得
ることができる。
施の形態2を示す構成図である。本実施の形態は、図1
のHBT素子を用いてHBT2段増幅器を構成する場合
である。図2において、図1および図5と対応する部分
には同一符号を付し、その詳細説明を省略する。ここで
は、半導体基板1A上の前段用HBTの入力パッド16
を入力整合回路9の出力側に接続するとともに、その出
力パッド17を段間整合回路10の入力側に接続し、同
様にはワイヤ14を介して段間整合回路10の出力側を
後段用HBTの入力パッド19に接続するとともに、そ
の後段用HBTの出力パッド20を出力整合回11の入
力側に接続する。
に入力した信号は、MIC基板8上に形成された入力整
合回路9、接続用ワイヤ14を介して、前段用HBTの
入力パッド16、そして、前段用HBT15に入力す
る。入力された信号は、前段用HBT15で増幅された
後、前段用HBTの出力パッド17、接続用ワイヤ14
を介して、MIC基板8上に形成された段間整合回路1
0によって整合された後、接続用ワイヤ14、後段用H
BTの入力パッド19を介して後段用HBT18へ入力
される。入力された信号は、後段用HBT18で増幅さ
れた後、後段用HBTの出力パッド20から接続用ワイ
ヤ14を介して、MIC基板8上に形成された出力整合
回路11によって整合された後、出力端子13より出力
される。
HBT15と後段用前段HBT18の間にグランドライ
ン21が1本以上挿入されているため、前段用HBTの
入力パッド16と、後段HBTの出力パッド20との間
のアイソレーションを大きくすることができ、両パッド
間で信号が結合した場合に、生じる閉ループにおいて起
こる発振を抑制することができ、安定な2段HBT増幅
器を得ることができる。なお、グランドラインの接地方
法については実施の形態1と同様である。
施の形態3を示す構成図である。本実施の形態は、図1
のHBT素子を用いて実施の形態2と同様にHBT2段
増幅器を構成する場合である。図3において、図2と対
応する部分には同一符号を付し、その詳細説明を省略す
る。図において、1Bは例えばGaAsといった半導体
基板、8Bは例えばセラミックで作製されたMIC基
板、25はグランドライン用伝送線路、26はグランド
ライン用パッド、27はMIC基板上のグランド端子で
ある。そして、実施の形態2と同様にワイヤ14を介し
て半導体基板1Bの前段用HBTの入力パッド16を入
力整合回路9の出力側に接続するとともに、その出力パ
ッド17を段間整合回路10の入力側に接続し、ワイヤ
14を介して段間整合回路10の出力側を後段用HBT
の入力パッド19に接続するとともに、その後段用HB
Tの出力パッド20をは出力整合回11の入力側に接続
する。また、ワイヤ14を介してグランドライン用パッ
ド26とMIC基板上のグランド端子27を接続する。
に入力した信号は、MIC基板8A上に形成された入力
整合回路9、接続用ワイヤ14を介して、前段用HBT
の入力パッド16、そして、前段用HBT15に入力す
る。入力された信号は、前段用HBT15で増幅された
後、前段用HBTの出力パッド17、接続用ワイヤ14
を介して、MIC基板8A上に形成された段間整合回路
10によって整合された後、接続用ワイヤ14、後段用
HBTの入力パッド19を介して後段用HBT18へ入
力される。入力された信号は、後段用HBT18で増幅
された後、後段用HBTの出力パッド20から接続用ワ
イヤ14を介して、MIC基板8上に形成された出力整
合回路11によって整合された後、出力端子13より出
力される。
BT15と後段用前段HBT18の間に挿入されたグラ
ンドライン用伝送線路25はグランドライン用パッド2
6から接続用ワイヤ14を介してMIC基板上のグラン
ド27へと接地されている。したがって、前段用HBT
の入力パッド16と、後段HBTの出力パッド20との
間のアイソレーションを大きくすることができ、さら
に、接続用ワイヤ間のアイソレーションを大きくするこ
とができる。そのため、両パッド間もしくは両接続ワイ
ヤ間で信号が結合した場合に、生じる閉ループにおいて
起こる発振を抑制することができ、安定なHBT2段増
幅器を得ることができる。
施の形態4を示す構成図である。本実施の形態は、図1
のHBT素子を用いて実施の形態2同様HBT2段増幅
器を構成する場合である。図4において、図2と対応す
る部分には同一符号を付し、その詳細説明を省略する。
図において、1Cは例えばGaAsといった半導体基
板、8Bは例えばセラミックで作製されたMIC基板、
15は前段用HBT、16は前段用HBTの入力パッ
ド、17は前段用HBTの出力パッド、18は後段用H
BT、28は前段用HBT用定電圧ベースバイアス回
路、29は後段用HBT用定電圧ベースバイアス回路、
30はMIC基板上のバイアス印加端子ある。
を介して半導体基板1Cの前段用HBTの入力パッド16
を入力整合回路9の出力側に接続するとともに、その出
力パッド17を段間整合回路10の入力側に接続し、ワ
イヤ14を介して段間整合回路10の出力側を後段用H
BTの入力パッド19に接続するとともに、その後段用
HBTの出力パッド20をは出力整合回11の入力側に
接続する。また、ワイヤ14を介して前段用HBT用定
電圧ベースバイアス回路28および後段用HBT用定電
圧ベースバイアス回路29とMIC基板上のバイアス印
加端子30を接続する。
に入力した信号は、MIC基板8B上に形成された入力
整合回路9、接続用ワイヤ14を介して、前段用HBT
の入力パッド16、そして、前段用HBT15に入力す
る。入力された信号は、前段用HBT15で増幅された
後、前段用HBTの出力パッド17、接続用ワイヤ14
を介して、MIC基板8B上に形成された段間整合回路
10によって整合された後、接続用ワイヤ14、後段用
HBTの入力パッド19を介して後段用HBT18へ入
力される。入力された信号は、後段用HBT18で増幅
された後、後段用HBTの出力パッド20から接続用ワ
イヤ14を介して、MIC基板8B上に形成された出力
整合回路11によって整合された後、出力端子13より
出力される。
BT15と後段用前段HBT18の間に挿入された前段
用HBT用定電圧バイアス回路28と、後段用HBT用
定電圧ベースバイアス回路29は接続用ワイヤ14を介
してMIC基板上のバイアス印加端子に接続されてい
る。したがって、前段用HBTの入力パッド16と、後
段HBTの出力パッド20との間のアイソレーションを
大きくすることができ、さらに、接続用ワイヤ間のアイ
ソレーションを大きくすることができる。そのため、両
パッド間もしくは両接続ワイヤ間で信号が結合した場合
に、生じる閉ループにおいて起こる発振を抑制すること
ができ、安定なHBT2段増幅器を得ることができる。
s基板上に作製したHBT素子の例を示したが、SiG
eなどの他の半導体基板上に作製したHBT素子に対し
ても適用可能である。また、半導体素子もHBT素子に
限定されることなく、その他の半導体素子でもよい。
ば、半導体基板上に入出力の向きが逆方向である複数の
半導体素子を並べて配置した半導体装置において、上記
複数の半導体素子の間に設けられた少なくとも1本のグ
ランドラインを備えるので、半導体素子の入出力パッド
間のアイソレーションを大きくすることができ、両パッ
ド間で信号が結合した場合に、生じる閉ループにおいて
起こる発振を抑制することができるという効果がある。
インの代わりにグランドライン用の伝送線路を用いるの
で、半導体素子の入出力パッド間のアイソレーションを
大きくすることができ、両パッド間で信号が結合した場
合に、生じる閉ループにおいて起こる発振を抑制するこ
とができるという効果がある。
インの代わりに上記半導体素子のベースへ定電圧を供給
するバイアス回路を用いるので、半導体素子の入出力パ
ッド間のアイソレーションを大きくすることができ、両
パッド間で信号が結合した場合に、生じる閉ループにお
いて起こる発振を抑制することができるという効果があ
る。
がHBT素子であるので、モジュールの低価格化および
小型化を目論む多段増幅器モジュール等に用いて有用で
あるという効果がある。
発明の半導体装置と、該半導体装置に接続され、上記複
数の半導体素子に入出力される信号の整合をとる整合手
段とを備えたので、半導体素子の入出力パッド間のアイ
ソレーションを大きくすることができ、両パッド間で信
号が結合した場合に、生じる閉ループにおいて起こる発
振を抑制することができ、安定な増幅器が得られ、特に
HBT多段増幅器を構成する場合には有用であるという
効果がある。
の複数の半導体素子の間に設けられた少なくとも1本の
グランドライン用の伝送線路と、上記整合手段の基板上
に設けられたグランド端子とを接続したので、接続用ワ
イヤ間のアイソレーションを大きくすることができ、両
接続ワイヤ間で信号が結合した場合に、生じる閉ループ
において起こる発振を抑制することができ、安定なHB
T増幅器を得ることができるという効果がある。
の複数の半導体素子の間に設けられたバイアス回路と、
上記整合手段の基板上に設けられたバイアス印加端子と
を接続したので、接続用ワイヤ間のアイソレーションを
大きくすることができ、両接続ワイヤ間で信号が結合し
た場合に、生じる閉ループにおいて起こる発振を抑制す
ることができ、安定なHBT増幅器を得ることができる
という効果がある。
る。
る。
る。
る。
MIC基板、 9 入力整合回路、 10 段間整合回
路、 11 出力整合回路 、 14,24ワイヤ、、
15 前段用HBT、 16 前段用HBTの入力パ
ッド、 17前段用HBTの出力パッド、 18 後段
用HBT、 19 後段用HBTの入力パッド、 20
後段用HBTの出力パッド、 21 グランドライ
ン、22 スルーホール(バイアホール)、 23 金
属キャリア、 25 グランドライン用伝送線路、 2
6 グランドライン用パッド、 27 MIC基板上の
グランド端子、 28 前段用HBT用定電圧ベースバ
イアス回路、 29後段用HBT用定電圧ベースバイア
ス回路、 30 MIC基板上のバイアス印加端子。
Claims (7)
- 【請求項1】 半導体基板上に入出力の向きが逆方向で
ある複数の半導体素子を並べて配置した半導体装置にお
いて、 上記複数の半導体素子の間に設けられた少なくとも1本
のグランドラインを備えたことを特徴とする半導体装
置。 - 【請求項2】 上記グランドラインの代わりにグランド
ライン用の伝送線路を用いることを特徴とする請求項1
記載の半導体装置。 - 【請求項3】 上記グランドラインの代わりに上記半導
体素子のベースへ定電圧を供給するバイアス回路を用い
ることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項4】 上記半導体素子がHBT素子であること
を特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装
置。 - 【請求項5】 上記請求項1〜4のいずれかに記載の半
導体装置と、 該半導体装置に接続され、上記複数の半導体素子に入出
力される信号の整合をとる整合手段とを備えたことを特
徴とする増幅器。 - 【請求項6】 上記半導体装置の複数の半導体素子の間
に設けられた少なくとも1本のグランドライン用の伝送
線路と、上記整合手段の基板上に設けられたグランド端
子とを接続したことを特徴とする請求項5記載の増幅
器。 - 【請求項7】 上記半導体装置の複数の半導体素子の間
に設けられたバイアス回路と、上記整合手段の基板上に
設けられたバイアス印加端子とを接続したことを特徴と
する請求項5記載の増幅器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15624498A JP3625378B2 (ja) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | 多段増幅器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15624498A JP3625378B2 (ja) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | 多段増幅器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11354709A true JPH11354709A (ja) | 1999-12-24 |
JP3625378B2 JP3625378B2 (ja) | 2005-03-02 |
Family
ID=15623537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15624498A Expired - Fee Related JP3625378B2 (ja) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | 多段増幅器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3625378B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010283834A (ja) * | 2010-06-10 | 2010-12-16 | Renesas Electronics Corp | 半導体集積回路装置 |
US8204471B2 (en) | 2000-02-21 | 2012-06-19 | Renesas Electronics Corporation | Wireless communication system |
-
1998
- 1998-06-04 JP JP15624498A patent/JP3625378B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8204471B2 (en) | 2000-02-21 | 2012-06-19 | Renesas Electronics Corporation | Wireless communication system |
JP2010283834A (ja) * | 2010-06-10 | 2010-12-16 | Renesas Electronics Corp | 半導体集積回路装置 |
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