JPH1131311A - Shield type magneto-resistive effect thin film magnetic head and its manufacture - Google Patents
Shield type magneto-resistive effect thin film magnetic head and its manufactureInfo
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- JPH1131311A JPH1131311A JP19943597A JP19943597A JPH1131311A JP H1131311 A JPH1131311 A JP H1131311A JP 19943597 A JP19943597 A JP 19943597A JP 19943597 A JP19943597 A JP 19943597A JP H1131311 A JPH1131311 A JP H1131311A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、ハードディスク
装置等に用いられるシールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘ
ッド(通常のMR素子を用いたもののほかにGMR素子
等各種磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドを含む。以
下「シールド型MRヘッド」という。)に関し、磁気記
録媒体に対する書込特性および再書込(オーバライト)
特性を改善するとともに、サーボエラーを生じにくくし
たものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shield type magnetoresistive thin-film magnetic head used in a hard disk drive or the like (a magnetic head using various magnetoresistive elements such as a GMR element in addition to an ordinary MR element). (Hereinafter referred to as “shield type MR head”), and write characteristics and rewrite (overwrite) for the magnetic recording medium.
The characteristics are improved and servo errors are less likely to occur.
【0002】[0002]
【従来の技術】ハードディスク装置に用いられているシ
ールド型MRヘッドは、下シールドと上シールドの間の
再生ギャップ内の記録媒体対向面を臨む位置にMR素子
を配置した再生用ヘッドと、上シールドを下コアとして
兼用して下コアと上コアとの間にコイルを配置しかつ上
コアと下コアとの間の記録媒体対向面を臨む位置に書込
ギャップを形成した記録用ヘッドとを積層配置したMR
型・誘導型複合磁気ヘッドとして構成される。2. Description of the Related Art A shield type MR head used in a hard disk drive includes a reproducing head in which an MR element is disposed at a position facing a recording medium facing surface within a reproducing gap between a lower shield and an upper shield, and an upper shield. Is also used as a lower core, a coil is arranged between the lower core and the upper core, and a recording head having a write gap formed at a position facing the recording medium facing surface between the upper core and the lower core is laminated. Placed MR
It is configured as a combined type and induction type magnetic head.
【0003】ハードディスク用の従来のシールド型MR
ヘッドの中心の断面図を図2に示す。スライダを構成す
る基板12の上には非磁性絶縁層14が被覆されてい
る。非磁性絶縁層14の上部の記録媒体対向面16を臨
む位置には、下シールド18が埋め込まれている。下シ
ールド18の上には再生ギャップ20を挟んで一定厚の
上シールド22が対向して配置されている。再生ギャッ
プ20内の記録媒体対向面16を臨む位置にはMR素子
24が埋め込まれている。MR素子24の左右両端部に
は、このMR素子24にセンス電流を流すためのリード
(図示せず)が接続されている。以上で再生用ヘッド2
1(MR型ヘッド)が構成される。Conventional shield type MR for hard disk
FIG. 2 is a sectional view of the center of the head. A nonmagnetic insulating layer 14 is coated on the substrate 12 constituting the slider. A lower shield 18 is embedded at a position facing the recording medium facing surface 16 above the non-magnetic insulating layer 14. On the lower shield 18, an upper shield 22 having a constant thickness is disposed so as to face the reproduction gap 20. An MR element 24 is embedded at a position facing the recording medium facing surface 16 in the reproduction gap 20. Leads (not shown) for flowing a sense current to the MR element 24 are connected to both left and right ends of the MR element 24. With the above, the reproducing head 2
1 (MR type head).
【0004】上シールド22は書込下コアを兼用し、そ
の上にコイル28が絶縁層30内に埋め込まれた状態で
配置されている。絶縁層30の上には上コア32が配置
されている。上シールド兼下コア22の先端の下ポール
22aと上コア32の先端の上ポール32aとは、記録
媒体対向面16に臨む位置で書込ギャップ34を挟んで
対向している。以上で記録用ヘッド36(誘導型ヘッ
ド)が構成される。そして、全体に保護膜38が被せら
れてシールド型MRヘッド10全体が構成されている。The upper shield 22 also serves as a writing lower core, and a coil 28 is disposed on the upper shield 22 so as to be embedded in an insulating layer 30. An upper core 32 is disposed on the insulating layer 30. The lower pole 22a of the tip of the upper shield and lower core 22 and the upper pole 32a of the tip of the upper core 32 face each other across the write gap 34 at a position facing the recording medium facing surface 16. Thus, the recording head 36 (induction type head) is configured. Then, the entirety of the shield type MR head 10 is formed by covering the entire surface with the protective film 38.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】シールド型MRヘッド
においては、トラック位置のサーボをかけるために、書
込んだ信号をその位置が変化しないうちに即座に読み込
むことが必要である。そのためには、書込ギャップ34
と再生ギャップ20の間隔Srwを短くする必要がある。
すなわち、間隔Srwが長くなると、サーボエラーが出や
すくなる。特に、高速のアクセスが可能なヘッド、磁気
記録媒体間の相対速度が大きな場合ほど、サーボエラー
は出やすくなる。この点についてもう少し詳しく説明す
る。In a shield type MR head, it is necessary to immediately read a written signal before the position is changed in order to perform servo of a track position. To do so, the write gap 34
It is necessary to shorten the interval Srw between the read gap 20 and the read gap 20.
That is, as the interval Srw becomes longer, servo errors are more likely to occur. In particular, servo errors are more likely to occur as the relative speed between the head and the magnetic recording medium, which can be accessed at high speed, is higher. This point will be described in more detail.
【0006】いま、シールド型MRヘッド10をロータ
リ型ヘッドポジショナに搭載してディスク径方向に移動
させるハードディスク装置において、記録用ヘッド36
で書込まれた信号を次の周回で再生用ヘッド21で再生
する場合を考える。記録用ヘッド36と再生用ヘッド2
1が同一トラック上をトレースしているとすると、1周
の書込みを終えたあと、直ぐに再生用ヘッド21でこの
信号を拾うことができる。ところが、記録用ヘッド36
と再生用ヘッド21のトレース位置がずれていると、書
込まれたサーボ信号をすぐに読めないことがある。In a hard disk drive in which the shield type MR head 10 is mounted on a rotary type head positioner and is moved in the radial direction of the disk, a recording head 36 is provided.
The case where the signal written in step (1) is reproduced by the reproducing head 21 in the next round is considered. Recording head 36 and reproducing head 2
Assuming that 1 is tracing on the same track, this signal can be picked up by the reproducing head 21 immediately after completing one round of writing. However, the recording head 36
If the trace position of the read head 21 deviates from that of the read head 21, the written servo signal may not be immediately read.
【0007】すなわち、ロータリ型ヘッドボジショナで
シールド型MRヘッド10を位置決めする場合、ディス
ク最内周側または最外周側で大きなスキュー角(トラッ
ク接線方向に対するシールド型MRヘッド10の中心線
方向の角度ずれ)が生じていると、記録用ヘッド36と
再生用ヘッド21のトレース位置がずれてくる。そし
て、同一のスキュー角では、記録用ヘッド36と再生用
ヘッド21の間隔Srwが離れているほど、トレース位置
のずれ量は大きくなる。ずれ量が僅かであれば、サーボ
の補正がすぐに掛かるため、たかだか1トラック分の移
動をした後サーボが掛かる。しかし、1トラック分以上
ずれているときは、サーボ信号を1本ずつ捜す動作に移
行する。その探索動作が、目的とするトラック位置と反
対の方向に捜しに行くとすると、シールド型MRヘッド
10がディスク内周側あるいは外周側の外れまで移動
し、再び戻って来るまで捜し続ける。このような動作
は、書込み、読み出しのアクセス速度を著しく遅くす
る。特に、ディスクの回転速度を速くしてアクセス速度
を上げようとする機種において致命的な応答遅れとな
る。That is, when positioning the shield type MR head 10 with a rotary type head positioner, a large skew angle (an angle in the center line direction of the shield type MR head 10 with respect to the track tangential direction) on the innermost side or the outermost side of the disk. If the shift occurs, the trace positions of the recording head 36 and the reproducing head 21 shift. At the same skew angle, as the distance Srw between the recording head 36 and the reproducing head 21 increases, the shift amount of the trace position increases. If the amount of deviation is small, the servo is immediately applied, so that the servo is applied after moving at most one track. However, if there is a deviation of one track or more, the operation shifts to an operation of searching for servo signals one by one. Assuming that the search operation is to search in the direction opposite to the target track position, the shield type MR head 10 moves to the inner side or outer side of the disk and continues to search until it returns again. Such an operation significantly reduces the access speed of writing and reading. In particular, a fatal response delay occurs in a model in which the access speed is increased by increasing the rotation speed of the disk.
【0008】したがって、1周書込み後直ぐにその信号
を拾えるような位置に再生用ヘッド21があることは、
アクセス速度を速くするために最も大切なことである。
つまり、記録用ヘッド36と再生用ヘッド21の間隔S
rwが短いほど高速アクセスの性能がよくなる。間隔Srw
は上シールド兼下コア22の厚さによって決まるので、
間隔Srwを短くするには、上シールド兼下コア22を薄
く形成する必要がある。Therefore, the fact that the reproducing head 21 is located at a position where the signal can be picked up immediately after one round of writing,
This is the most important thing to increase the access speed.
That is, the interval S between the recording head 36 and the reproducing head 21
The shorter rw, the better the high-speed access performance. Interval Srw
Is determined by the thickness of the upper shield and lower core 22,
In order to shorten the interval Srw, the upper shield and lower core 22 needs to be formed thin.
【0009】一方、シールド型MRヘッドで高密度記録
を行うには、磁気記録媒体の保持力(Hc)を大きくす
る必要がある。しかし、磁気記録媒体の保持力が大きく
なると、磁気記録媒体に信号を書き込むために、書込ギ
ャップ34からの大きな漏れ磁束が必要である(もし、
漏れ磁束の量が十分でないときは、オーバライト特性が
低下し、エラー発生の原因となる。)。シールド型MR
ヘッドの記録用ヘッド36においては、書込時に上下コ
ア32,22間で漏洩磁束が生じる。この漏洩磁束はコ
ア厚が薄くなればなるほどコアの磁気抵抗が増大するた
め多くなり、その分書込ギャップ34からの漏れ磁束が
弱くなる(図3参照)。したがって、オーバライト特性
を良好にするには、コア厚を厚くする必要がある。この
場合、上コア32はコア層を重ねることで容易に厚くす
ることができるが、下コア22は上シールドを兼ねてお
り、これを厚くすると、前述のように書込ギャップ34
と再生ギャップ20の間隔Srwが長くなり、サーボ特性
が悪化する。On the other hand, in order to perform high-density recording with a shield type MR head, it is necessary to increase the coercive force (Hc) of the magnetic recording medium. However, when the coercive force of the magnetic recording medium increases, a large magnetic flux leakage from the write gap 34 is required to write a signal to the magnetic recording medium (
When the amount of the leakage magnetic flux is not sufficient, the overwrite characteristics deteriorate and cause an error. ). Shield type MR
In the recording head 36, a magnetic flux leakage occurs between the upper and lower cores 32, 22 during writing. This leakage flux increases as the core thickness decreases as the magnetic resistance of the core increases, and the leakage flux from the write gap 34 decreases accordingly (see FIG. 3). Therefore, in order to improve the overwrite characteristics, it is necessary to increase the core thickness. In this case, the upper core 32 can be easily made thicker by stacking core layers, but the lower core 22 also serves as an upper shield.
, The interval Srw between the read gap 20 and the read gap 20 becomes longer, and the servo characteristics deteriorate.
【0010】このように、従来のシールド型MRヘッド
においては、オーバライト特性の改善とサーボ特性の改
善を両立させることができなかった。As described above, in the conventional shield type MR head, it has not been possible to achieve both the improvement of the overwrite characteristic and the improvement of the servo characteristic.
【0011】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、オーバライト特性の改善とサーボ特性の
改善を両立させたシールド型MRヘッドおよびその製造
方法を提供しようとするものである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the prior art and to provide a shield type MR head which achieves both improvement of overwrite characteristics and improvement of servo characteristics, and a method of manufacturing the same.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】この発明のシールド型M
Rヘッドは、上シールド兼下コアの厚さを、記録媒体対
向面を臨む位置で薄く形成し、記録媒体対向面から奥ま
った位置で厚く形成したものである。これによれば、上
シールド兼書込下コアの厚さを、記録媒体対向面を臨む
位置で薄く形成したので、書込ギャップと再生ギャップ
との間隔を短くすることができ、これによりサーボエラ
ーが出にくくなってサーボ特性が改善される。また上シ
ールド兼下コアの厚さを、記録媒体対向面から奥まった
位置で厚く形成したので、コアの磁気抵抗の増大を抑え
て上下コア間の漏洩磁束を少なくすることができ、これ
により書込ギャップからの漏れ磁束を強くすることがで
き、オーバライト特性が改善される。SUMMARY OF THE INVENTION A shield type M according to the present invention.
In the R head, the thickness of the upper shield and lower core is formed thinner at a position facing the recording medium facing surface and thicker at a position deeper than the recording medium facing surface. According to this, the thickness of the upper shield / write lower core is formed thinner at the position facing the recording medium facing surface, so that the interval between the write gap and the read gap can be shortened, thereby reducing the servo error. And the servo characteristics are improved. In addition, the thickness of the upper shield and lower core is increased at a position deeper than the recording medium facing surface, so that the increase in the magnetic resistance of the core can be suppressed, and the magnetic flux leakage between the upper and lower cores can be reduced. The leakage magnetic flux from the gap can be increased, and the overwrite characteristics are improved.
【0013】この発明のシールド型MRヘッドの上シー
ルド兼下コアは、例えば記録媒体対向面に露出する部分
に薄い平板状の薄板部を形成し、記録媒体対向面から奥
まった部分に、薄板部に続き厚い平板状の厚板部を形成
して構成することができる。この場合、薄板部と、厚板
部との境界を構成する段差が記録媒体対向面から近い位
置にあると、書込磁界により上シールド兼下コアは形状
異方性による異方性エネルギが減少して磁区分割を生じ
るため、記録モードから再生モードに転じた特に、再生
波形にノイズ(バルクハウゼンノイズ)が生じる。そこ
で、段差を記録媒体対向面から10μm以上離したとこ
ろに形成することにより磁区分割をほぼ防止して、記録
モードから再生モードに転じた時のノイズの発生を防止
することができる。The upper shield / lower core of the shield type MR head according to the present invention has, for example, a thin plate-like thin plate portion formed at a portion exposed to the recording medium facing surface, and a thin plate portion formed at a portion recessed from the recording medium facing surface. Subsequently, a thick flat plate-shaped thick plate portion can be formed. In this case, when the step forming the boundary between the thin plate portion and the thick plate portion is close to the recording medium facing surface, the anisotropy energy due to the shape anisotropy of the upper shield and lower core is reduced by the write magnetic field. As a result, a magnetic domain division occurs, so that noise (Barkhausen noise) is generated particularly in the reproduced waveform when the mode is switched from the recording mode to the reproduction mode. Therefore, by forming the step at a distance of 10 μm or more from the surface facing the recording medium, magnetic domain division can be substantially prevented, and generation of noise when switching from the recording mode to the reproduction mode can be prevented.
【0014】また、薄板部のトラック幅方向を上シール
ド兼下コアの全幅のうち中央部に限定して形成し、薄板
部を取り囲むように厚板部を形成することにより、上シ
ールド兼下コアの全面積のうち厚板部の面積の割合を大
きくすることができ、コアの磁気抵抗の増大をより抑制
して、上下コア間の漏洩磁束をより減少させることがで
き、これにより書込ギャップからの漏れ磁束をより強く
してオーバライト特性をより改善することができる。Further, the track width direction of the thin plate portion is formed so as to be limited to the center portion of the entire width of the upper shield / lower core, and the thick plate portion is formed so as to surround the thin plate portion. The ratio of the area of the thick plate portion to the total area of the core can be increased, the increase in the magnetic resistance of the core can be further suppressed, and the leakage magnetic flux between the upper and lower cores can be further reduced. And the overwrite characteristic can be further improved.
【0015】この発明のシールド型MRヘッドの上シー
ルド兼上コアの薄板部と厚板部は、例えば薄板部の厚さ
で平板状の下層部を形成する第1の工程と、当該下層部
上の厚板部を形成する位置に薄板部と厚板部の厚さの差
に相当する厚さで平板状の上層部を積層して当該厚板部
を形成する第2の工程とで作ることができる。あるい
は、厚板部を形成する位置に薄板部と厚板部の厚さの差
に相当する厚さで平板状の下層部を形成する第1の工程
と、薄板部と厚板部を形成する位置全体にわたり薄板部
の厚さで上層部を積層する第2の工程とで作ることがで
きる。あるいは、板部と厚板部を形成する位置全体にわ
たり厚板部の厚さで平板状の層を形成する第1の工程
と、この層の薄板部を形成する位置を薄板部と厚板部の
厚さの差に相当する厚さ分掘り込んで薄板部を形成する
第2の工程とで作ることができる。The thin plate portion and the thick plate portion of the upper shield / upper core of the shield type MR head of the present invention are formed, for example, in a first step of forming a flat lower layer with the thickness of the thin plate portion, and on the lower layer portion. Forming a thick plate portion by laminating a plate-shaped upper layer portion at a position corresponding to a thickness difference between the thin plate portion and the thick plate portion at a position where the thick plate portion is to be formed. Can be. Alternatively, a first step of forming a flat lower layer portion at a position corresponding to the thickness of the thin plate portion at a position where the thick plate portion is to be formed, and forming the thin plate portion and the thick plate portion. And a second step of laminating the upper portion with the thickness of the thin plate portion over the entire position. Alternatively, a first step of forming a plate-like layer with the thickness of the thick plate portion over the entire position where the plate portion and the thick plate portion are formed, and a position where the thin plate portion of this layer is formed by the thin plate portion and the thick plate portion And a second step of forming a thin plate portion by digging in a thickness corresponding to the difference in thickness.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を以下説明
する。図1はこの発明によるハードディスク用シールド
型MRヘッド40の中心断面図を示すものである。前記
図2の従来のシールド型MRヘッド10と共通する部分
には、同一の符号を用いる。Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 shows a center sectional view of a shield type MR head 40 for a hard disk according to the present invention. The same reference numerals are used for the portions common to the conventional shield type MR head 10 of FIG.
【0017】スライダを構成する基板12の上には非磁
性絶縁層14が被覆されている。非磁性絶縁層14の上
部の記録媒体対向面16を臨む位置には、下シールド1
8が埋め込まれている。下シールド18の上には再生ギ
ャップ20を挟んで一定厚の上シールド22が対向して
配置されている。再生ギャップ20内の記録媒体対向面
16を臨む位置にはMR素子24が埋め込まれている。
MR素子24の左右両端部には、このMR素子24にセ
ンス電流を流すためのリード(図示せず)が接続されて
いる。以上で再生用ヘッド21(MR型ヘッド)が構成
される。A nonmagnetic insulating layer 14 is coated on the substrate 12 constituting the slider. The lower shield 1 is located at a position facing the recording medium facing surface 16 above the nonmagnetic insulating layer 14.
8 is embedded. On the lower shield 18, an upper shield 22 having a constant thickness is disposed so as to face the reproduction gap 20. An MR element 24 is embedded at a position facing the recording medium facing surface 16 in the reproduction gap 20.
Leads (not shown) for flowing a sense current to the MR element 24 are connected to both left and right ends of the MR element 24. Thus, the reproducing head 21 (MR type head) is configured.
【0018】上シールド22は書込下コアを兼用し、そ
の上にコイル28が絶縁層30内に埋め込まれた状態で
配置されている。絶縁層30の上には上コア32が配置
されている。上シールド兼下コア22の先端の下ポール
22aと上コア32の先端の上ポール32aとは、記録
媒体対向面16に臨む位置で書込ギャップ34を挟んで
対向している。以上で記録用ヘッド36(誘導型ヘッ
ド)が構成される。そして、全体に保護膜38が被せら
れてシールド型MRヘッド10全体が構成されている。The upper shield 22 also serves as a writing lower core, and the coil 28 is disposed thereon with the coil 28 embedded in the insulating layer 30. An upper core 32 is disposed on the insulating layer 30. The lower pole 22a of the tip of the upper shield and lower core 22 and the upper pole 32a of the tip of the upper core 32 face each other across the write gap 34 at a position facing the recording medium facing surface 16. Thus, the recording head 36 (induction type head) is configured. Then, the entirety of the shield type MR head 10 is formed by covering the entire surface with the protective film 38.
【0019】上シールド兼下コア22は、記録媒体対向
面16を臨む位置で薄い平板状に形成された薄板部22
bと、この薄板部22bに続き記録媒体対向面16から
奥まった位置で厚い平板状に形成された厚板部22cを
有している。上シールド兼下コア22の上面には薄板部
22bと厚板部22cの境界に段部22dが構成されて
いる。上シールド兼下コア22の下面は平坦である。記
録媒体対向面16から段部22dまでの距離(すなわち
薄板部22bの奥行方向の長さ)は10μm以上に設定
され、これにより書込磁界による上シールド兼下コア2
2の磁区分割設定をほぼ防止することができる。The upper shield / lower core 22 has a thin plate portion 22 formed in a thin plate shape at a position facing the recording medium facing surface 16.
b, and a thick plate portion 22c formed into a thick flat plate at a position recessed from the recording medium facing surface 16 following the thin plate portion 22b. On the upper surface of the upper shield / lower core 22, a step 22d is formed at the boundary between the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c. The lower surface of the upper shield and lower core 22 is flat. The distance from the recording medium facing surface 16 to the step portion 22d (that is, the length of the thin plate portion 22b in the depth direction) is set to 10 μm or more.
2 can be substantially prevented from being set.
【0020】このような上シールド兼下コア22の構造
によれば、記録媒体対向面16を臨む位置に薄板部22
bを構成したので、書込ギャップ34と再生ギャップ2
0の間隔Srwを短くすることができ、サーボエラーを少
くすることができる。また、記録媒体対向面16から奥
まった位置に厚板部22cを構成したので、上シールド
兼下コア22の磁気抵抗を減少させて、上下コア32,
22間の漏洩磁束を少なくすることができ、これにより
書込ギャップ34からの漏れ磁束が強くなってオーバラ
イト特性を良好にすることができる。According to the structure of the upper shield / lower core 22, the thin plate portion 22 is located at a position facing the recording medium facing surface 16.
b, the write gap 34 and the read gap 2
The interval Srw of 0 can be shortened, and the servo error can be reduced. Further, since the thick plate portion 22c is formed at a position deeper than the recording medium facing surface 16, the magnetic resistance of the upper shield and lower core 22 is reduced, and the upper and lower cores 32,
Leakage magnetic flux between the magnetic heads 22 can be reduced, thereby increasing the magnetic flux leakage from the write gap 34 and improving the overwrite characteristics.
【0021】ここで、図2の従来のシールド型MRヘッ
ド10と図1のこの発明によるシールド型MRヘッド4
0のオーバライト特性について比較する。図4は従来の
シールド型MRヘッド10におけるオーバライト特性の
上シールド兼下コア22の厚さ依存性の測定結果を示し
たものである。測定に用いたシールド型MRヘッド10
の各部の寸法を図5に示す。図6はこの発明によるシー
ルド型MRヘッド40におけるオーバライト特性の上シ
ールド兼下コア22の厚さ依存性の測定結果を示したも
のである。測定に用いたシールド型MRヘッド40の各
部の寸法を図7に示す。図7における上シールド兼下コ
ア22の薄板部22bと厚板部22cの厚さの差(段部
22dの高さ)は0.2μm、薄板部22bの奥行方向
の長さ(記録媒体対向面16から段部22dまでの長
さ)は20μm、MR素子24の奥行方向の長さは1〜
2μmである。また、書込ギャップ34と再生ギャップ
20の間隔Srwは、 Srw=薄板部22bの厚さ+(書込ギャップ長+再生ギ
ャップ長)/2 である。Here, the conventional shield type MR head 10 of FIG. 2 and the shield type MR head 4 of the present invention of FIG.
The overwrite characteristics of 0 are compared. FIG. 4 shows the measurement results of the thickness dependence of the upper shield / lower core 22 of the overwrite characteristic in the conventional shield type MR head 10. Shield type MR head 10 used for measurement
The dimensions of each part are shown in FIG. FIG. 6 shows a measurement result of the dependence of the overwrite characteristic on the thickness of the upper shield / lower core 22 in the shield type MR head 40 according to the present invention. FIG. 7 shows dimensions of each part of the shield type MR head 40 used for the measurement. In FIG. 7, the difference between the thickness of the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c of the upper shield / lower core 22 (the height of the step portion 22d) is 0.2 μm, and the length of the thin plate portion 22b in the depth direction (the recording medium facing surface). The length of the MR element 24 in the depth direction is 1 to 20 μm.
2 μm. The interval Srw between the write gap 34 and the reproduction gap 20 is: Srw = thickness of thin plate portion 22b + (write gap length + reproduction gap length) / 2.
【0022】図4、図6によれば、この発明によるシー
ルド型MRヘッド40の上シールド兼下コア22は厚板
部22cが形成されて磁気抵抗が減少しているので、書
込ギャップ34と再生ギャップ20の間隔が従来のシー
ルド型MRヘッド10と同じであるにもかかわらず、上
下コア32,22間の漏洩磁束は少なく、小さな書込電
流で書込ギャップ34に大きな漏れ磁束が有効に発生す
るので、オーバライト特性の改善が著しい。4 and 6, the upper shield / lower core 22 of the shield type MR head 40 according to the present invention is formed with the thick plate portion 22c to reduce the magnetic resistance. In spite of the fact that the interval of the reproducing gap 20 is the same as that of the conventional shield type MR head 10, the leakage magnetic flux between the upper and lower cores 32, 22 is small, and a large leakage magnetic flux is effectively generated in the write gap 34 with a small write current. As a result, the overwrite characteristics are significantly improved.
【0023】図8は、図5の従来のシールド型MRヘッ
ド10におけるオーバライト特性の書込電流依存性の測
定結果を示したものである。また、図9は、図7のこの
発明によるシールド型MRヘッド40におけるオーバラ
イト特性の書込電流依存性の測定結果を示したものであ
る。書込ギャップ34と再生ギャップ20の間隔Srwは
両ヘッド10,40で等しく設定している。これによれ
ば、従来のシールド型MRヘッド10の場合、磁気ディ
スクの保持力Hcが2000Oeでは書込電流が30m
Aでオーバライト特性は飽和しているが、Hc=250
0Oeでは50mAでも飽和していない。また、書込電
流30mAでのオーバライト値は30dB前後と低い。
これに対し、図1のこの発明によるシールド型MRヘッ
ド40では、Hc=2500Oeでも約30mAで飽和
している。また、オーバライト値は39dB前後と高
い。FIG. 8 shows a measurement result of the write current dependency of the overwrite characteristic in the conventional shield type MR head 10 of FIG. FIG. 9 shows a measurement result of the write current dependence of the overwrite characteristic in the shield type MR head 40 according to the present invention of FIG. The interval Srw between the write gap 34 and the reproduction gap 20 is set equal for both heads 10 and 40. According to this, in the case of the conventional shield type MR head 10, when the holding power Hc of the magnetic disk is 2000 Oe, the write current is 30 m.
At A, the overwrite characteristics are saturated, but Hc = 250.
At 0 Oe, it is not saturated even at 50 mA. The overwrite value at a write current of 30 mA is as low as about 30 dB.
On the other hand, in the shield type MR head 40 according to the present invention shown in FIG. 1, even at Hc = 2500 Oe, it is saturated at about 30 mA. The overwrite value is as high as about 39 dB.
【0024】このように、上シールド兼下コア22のポ
ールの先端の厚さ(下ポール長)を変えずに奥行方向後
部の厚さを厚くすることにより、書込ギャップ34と再
生ギャップ20の間隔Srwを大きくすることなくオーバ
ライト特性を大幅に改善することができる。また、下ポ
ール長が少しぐらい短くなってもオーバライト値が大幅
に低下することもないので、下ポール長のばらつきによ
る歩留りの低下も少ない。さらに、高記録密度用の高い
保持力Hcの磁気記録媒体に対しても優れた書込能力を
有するので、高記録密度のハードディスク装置を実現す
ることができる。As described above, by increasing the thickness of the rear end in the depth direction without changing the thickness (lower pole length) of the tip of the pole of the upper shield / lower core 22, the write gap 34 and the reproduction gap 20 are formed. Overwrite characteristics can be greatly improved without increasing the interval Srw. In addition, even if the lower pole length is slightly shortened, the overwrite value does not significantly decrease, so that the yield is less likely to decrease due to variations in the lower pole length. Further, since it has an excellent writing capability even for a magnetic recording medium having a high coercive force Hc for a high recording density, a hard disk device having a high recording density can be realized.
【0025】なお、図1のシールド型MRヘッド40の
薄板部22bは上シールド兼下コア22のトラック幅方
向全体に延在させることもできるが、トラック幅方向の
一部にのみ形成することもできる。トラック幅方向の一
部にのみ形成した場合の上下コア32,22の平面形状
および上下ポール32a,22aの端面形状の一例を図
10(a),(b)にそれぞれ示す。薄板部22bのト
ラック幅方向は上シールド兼下コア22の全幅のうち中
央部に限定して形成され、厚板部22cは薄板部22b
を三方から取り囲むように形成されている(段部22d
も薄板部22bを三方から取り囲むように形成されてい
る。)。したがって、薄板部22bはポール端面から見
ると、図10(b)に示すように、上方に開口した凹所
42を構成している。凹所42内には、そのトラック幅
方向の中央部に上ポール32aが収容配置されている。The thin plate portion 22b of the shield type MR head 40 shown in FIG. 1 can extend over the entire width of the upper shield / lower core 22 in the track width direction, or can be formed only on a part of the track width direction. it can. FIGS. 10A and 10B show examples of the planar shapes of the upper and lower cores 32 and 22 and the end surface shapes of the upper and lower poles 32a and 22a when formed only in a part of the track width direction. The track width direction of the thin plate portion 22b is formed to be limited to the central portion of the entire width of the upper shield and lower core 22, and the thick plate portion 22c is formed by the thin plate portion 22b.
Is formed so as to surround the three sides (step 22d).
Are also formed so as to surround the thin plate portion 22b from three sides. ). Therefore, when viewed from the end face of the pole, the thin plate portion 22b forms a recess 42 that opens upward as shown in FIG. 10B. In the recess 42, the upper pole 32a is accommodated and arranged at the center in the track width direction.
【0026】図10のような上シールド兼下コア22の
構造によれば、厚板部22cの面積を広く確保すること
ができるので、上シールド兼下コア22の磁気抵抗の増
大をより抑えて、上下コア32,22間の漏洩磁束をよ
り減少させることができ、これにより書込ギャップ34
からの漏れ磁束をより強くして、オーバライト特性をよ
り良好にすることができる。なお、薄板部22bのトラ
ック幅方向の長さを上ポール32aのトラック幅方向の
長さの20倍以上に形成することにより、書込磁界によ
る段部22dでの上シールド兼下コア22の磁区分割を
ほぼ防止することができる。According to the structure of the upper shield / lower core 22 as shown in FIG. 10, a large area of the thick plate portion 22c can be secured, so that an increase in the magnetic resistance of the upper shield / lower core 22 can be further suppressed. , The leakage magnetic flux between the upper and lower cores 32 and 22 can be further reduced.
And the overwrite characteristics can be further improved. By forming the length of the thin plate portion 22b in the track width direction to be at least 20 times the length of the upper pole 32a in the track width direction, the magnetic domain of the upper shield / lower core 22 at the step portion 22d due to the write magnetic field is formed. Splitting can be substantially prevented.
【0027】次に、図1のシールド型MRヘッド40の
製造方法について説明する。図11は、上シールド兼下
コア22を作る各種方法を示したものである。図11
(a)は、薄板部22bの厚さで平板状の下層部22−
1を形成し、下層部22−1上の厚板部22cを形成す
る位置に薄板部22bと厚板部22cの厚さの差に相当
する厚さ(2μm等)で平板状の上層部22−2を積層
嵩上げして厚板部22cを形成したものである。Next, a method of manufacturing the shield type MR head 40 shown in FIG. 1 will be described. FIG. 11 shows various methods for making the upper shield / lower core 22. FIG.
(A) shows the thickness of the thin plate portion 22b and the flat lower layer portion 22-.
1 at the position where the thick plate portion 22c is to be formed on the lower layer portion 22-1 at a position corresponding to the difference in thickness between the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c (eg, 2 μm). -2 is formed by forming a thick plate portion 22c by raising the laminate.
【0028】図11(b)は、厚板部22cを形成する
位置に薄板部22bと厚板部22cの厚さの差に相当す
る厚さ(2μm等)で平板状の下層部22−11を形成
し、薄板部22bと厚板部22cを形成する位置全体に
わたり薄板部22bの厚さで上層部22−12を積層し
たものである。FIG. 11B shows a flat lower layer portion 22-11 having a thickness (2 μm or the like) corresponding to the difference in thickness between the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c at the position where the thick plate portion 22c is formed. And the upper portion 22-12 is laminated with the thickness of the thin plate portion 22b over the entire position where the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c are formed.
【0029】図11(c)は、薄板部22bと厚板部2
2cを形成する位置全体にわたり厚板部22cの厚さで
平板状の層22′を形成し、この層22′の薄板部22
bを形成する位置を薄板部22bと厚板部22cの厚さ
の差に相当する厚さ分(2μm等)掘り込んで(掘り込
み44)薄板部22bを形成したものである。FIG. 11C shows the thin plate portion 22 b and the thick plate portion 2.
A plate-like layer 22 'is formed with the thickness of the thick plate portion 22c over the entire position where the 2c is formed, and the thin plate portion 22 of this layer 22' is formed.
The position where b is formed is dug by a thickness (eg, 2 μm) corresponding to the thickness difference between the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c (digging 44) to form the thin plate portion 22b.
【0030】〔図11(a)の構造の製造工程〕図11
(a)の構造を有するシールド型MRヘッド40の製造
工程の一例を図12〜図15に工程(1)〜(14)で
示す。各工程について説明する。 (1) Al2 O3 −TiC(アルチック)等で作られ
た基板12上にAl2O3 (アルミナ)等の非磁性絶縁
層14を形成し、その上にNiFe等の軟磁性体でめっ
き下地膜46を形成する。めっき下地膜46の上に、下
シールド18を形成するためのフレーム48をレジスト
で形成する。 (2) めっき下地膜46の上に下シールド18を形成
するためにNiFe等の軟磁性体を電気めっきして、め
っき膜50を形成する。めっき膜50を形成後フレーム
レジスト48を除去する。フレームレジスト48を除去
した部分に凹部52が形成される。[Manufacturing process of the structure of FIG. 11A] FIG.
An example of a manufacturing process of the shield type MR head 40 having the structure shown in FIG. 12A is shown in FIGS. 12 to 15 by processes (1) to (14). Each step will be described. (1) A nonmagnetic insulating layer 14 such as Al 2 O 3 (alumina) is formed on a substrate 12 made of Al 2 O 3 —TiC (altic) or the like, and a nonmagnetic insulating layer 14 such as NiFe is plated thereon. A base film 46 is formed. A frame 48 for forming the lower shield 18 is formed of a resist on the plating base film 46. (2) A soft magnetic material such as NiFe is electroplated to form the lower shield 18 on the plating base film 46 to form a plating film 50. After forming the plating film 50, the frame resist 48 is removed. A concave portion 52 is formed in a portion where the frame resist 48 is removed.
【0031】(3) 全体をイオンミリングして、凹部
52の底部に露出しているめっき下地膜46を除去す
る。 (4) めっき膜50のうち、下シールド18として残
す部分を保護レジスト56で覆う。 (5) めっき膜50のうち露出している部分をエッチ
ング除去する。エッチング後保護レジスト56を除去す
る。 (6) スパッタ等でAl2 O3 等の保護膜58を全面
に堆積させる。 (7) 表面を研磨して平坦化する。研磨はめっき膜5
0が下シールド18の規定の厚さになるまで行われる。
これで下シールド18が完成する。(3) The whole is subjected to ion milling to remove the plating base film 46 exposed at the bottom of the concave portion 52. (4) A portion of the plating film 50 to be left as the lower shield 18 is covered with a protective resist 56. (5) Exposed portions of the plating film 50 are removed by etching. After the etching, the protective resist 56 is removed. (6) A protective film 58 such as Al 2 O 3 is deposited on the entire surface by sputtering or the like. (7) The surface is polished and flattened. Polishing is plating film 5
0 is performed until the thickness of the lower shield 18 becomes a specified thickness.
Thus, the lower shield 18 is completed.
【0032】(8) 再生ギャップ20を構成するため
にAl2 O3 等を再生ギャップ層60の規定の厚さの半
分堆積し、その上にリード膜を積層して所定のリードの
パターンにカットする。さらにMR素子膜を積層して所
定のMR素子のパターンにカットして、MR素子24を
形成する。その上に再生ギャップ層60の残り半分を堆
積して、MR素子24およびリードを中間に挟み込んだ
再生ギャップ層60が完成する。(8) To form the reproducing gap 20, Al 2 O 3 or the like is deposited to a half of a specified thickness of the reproducing gap layer 60, and a lead film is laminated thereon and cut into a predetermined lead pattern. I do. Further, an MR element film is laminated and cut into a predetermined MR element pattern to form an MR element 24. The other half of the reproducing gap layer 60 is deposited thereon, thereby completing the reproducing gap layer 60 with the MR element 24 and the lead interposed therebetween.
【0033】(9) NiFe等の軟磁性体でめっき下
地層を上シールド兼下コア22の全体のパターンに形成
し、その上にNiFe等の軟磁性体を上シールド兼下コ
ア22の薄板部22bの厚さに電気めっきして下層部2
2−1を形成する。 (10) 薄板部22bを形成する部分をフレームレジス
トで覆い、NiFe等の軟磁性体を薄板部22bと厚板
部22cとの厚さの差に相当する分電気めっきして、上
層部22−2を形成する。これで上シールド兼下コア2
2が完成する。(9) A plating underlayer is formed on the entire pattern of the upper shield / lower core 22 with a soft magnetic material such as NiFe, and a soft magnetic material such as NiFe is formed on the thin plate portion of the upper shield / lower core 22 thereon. Electroplating to a thickness of 22b and lower part 2
2-1 is formed. (10) The portion forming the thin plate portion 22b is covered with a frame resist, and a soft magnetic material such as NiFe is electroplated by an amount corresponding to the difference in thickness between the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c. Form 2 This is the upper shield and lower core 2
2 is completed.
【0034】(11) 書込ギャップ34を構成するため
にAl2 O3 等の書込ギャップ層62を堆積する。 (12) 書込ギャップ層62の後部をカット後、コイル
層と絶縁層を交互に積層してコイル28を絶縁層30中
に形成する。 (13) NiFe等の軟磁性体でめっき下地層を上コア
32のパターンに形成し、その上にNiFe等の軟磁性
体を電気めっきして、上コア32を形成する。(11) A write gap layer 62 such as Al 2 O 3 is deposited to form the write gap 34. (12) After cutting the rear portion of the write gap layer 62, the coil 28 and the insulating layer are alternately laminated to form the coil 28 in the insulating layer 30. (13) An underlayer is formed of a soft magnetic material such as NiFe in a pattern of the upper core 32, and a soft magnetic material such as NiFe is electroplated thereon to form the upper core 32.
【0035】(14) 最後にAl2 O3 等の保護膜38
を被せて完成する。(14) Finally, a protective film 38 of Al 2 O 3 or the like
To complete.
【0036】〔図11(b)の構造の製造工程〕図11
(b)の構造を有するシールド型MRヘッド40の製造
工程の一例を図16〜図17に工程(9)〜(14)で示
す。なお、工程(1)〜(8)は図12〜図13の工程
(1)〜(8)と同じであるので省略する。工程(9)
〜(14)について説明する。[Manufacturing process of the structure of FIG. 11B]
One example of the manufacturing process of the shield type MR head 40 having the structure shown in FIG. 16B is shown in FIGS. 16 to 17 by processes (9) to (14). Steps (1) to (8) are the same as steps (1) to (8) in FIGS. Step (9)
(14) will be described.
【0037】(9) 再生ギャップ層60の上に上シー
ルド兼下コア22の全体のパターンのうち薄板部22b
を除くパターンで、NiFe等の軟磁性体を、薄板部2
2bと厚板部22cの厚さの差に相当する厚さに電気め
っきして、下層部22−11を形成する。(9) On the read gap layer 60, the thin plate portion 22b of the entire pattern of the upper shield and lower core 22
A soft magnetic material such as NiFe is
The lower portion 22-11 is formed by electroplating to a thickness corresponding to the difference between the thickness of 2b and the thickness of the thick plate portion 22c.
【0038】(10) 上シールド兼下コア22の全体の
パターンで、NiFe等の軟磁性体を、薄板部22bの
厚さで電気めっきして、上層部22−12を形成して、
上シールド兼下コア22を完成する。(10) In the entire pattern of the upper shield / lower core 22, a soft magnetic material such as NiFe is electroplated with a thickness of the thin plate portion 22b to form an upper layer portion 22-12.
The upper shield and lower core 22 is completed.
【0039】(11) 書込ギャップ34を構成するため
にAl2 O3 等の書込ギャップ層62を堆積する。 (12) 書込ギャップ層62の後部をカット後、コイル
28を絶縁層30中に形成する。 (13) NiFe等の軟磁性体でめっき下地層を上コア
32のパターンに形成し、その上にNiFe等の軟磁性
体を電気めっきして、上コア32を形成する。(11) A write gap layer 62 such as Al 2 O 3 is deposited to form the write gap 34. (12) After cutting the rear part of the write gap layer 62, the coil 28 is formed in the insulating layer 30. (13) An underlayer is formed of a soft magnetic material such as NiFe in a pattern of the upper core 32, and a soft magnetic material such as NiFe is electroplated thereon to form the upper core 32.
【0040】(14) 最後にAl2 O3 等の保護膜38
を被せて完成する。(14) Finally, a protective film 38 of Al 2 O 3 or the like
To complete.
【0041】〔図11(c)の構造の製造工程〕図11
(c)の構造を有するシールド型MRヘッド40の製造
工程の一例を図18〜図19に工程(9)〜(16)で示
す。なお、工程(1)〜(8)は図12〜図13の工程
(1)〜(8)と同じであるので省略する。工程(9)
〜(16)について説明する。[Manufacturing process of the structure of FIG. 11C] FIG.
An example of the manufacturing process of the shield type MR head 40 having the structure of FIG. 18C is shown in FIGS. 18 to 19 by processes (9) to (16). Steps (1) to (8) are the same as steps (1) to (8) in FIGS. Step (9)
(16) will be described.
【0042】(9) 再生ギャップ層60の上に上シー
ルド兼下コア22の全体のパターンで、NiFe等の軟
磁性体を、厚板部22cの厚さに電気めっきして、層2
2′を形成する。 (10) 薄板部22bを形成する位置を残して、掘り込
みのためのレジストパターンを形成する。(9) A soft magnetic material such as NiFe is electroplated on the reproducing gap layer 60 with the entire pattern of the upper shield / lower core 22 to a thickness of the thick plate portion 22c.
Form 2 '. (10) A resist pattern for digging is formed leaving a position where the thin plate portion 22b is formed.
【0043】(11) 全体をイオンミリングして、層2
2′の露出している部分を、薄板部22bと厚板部22
cの厚さの差に相当する分掘り込む。 (12) 掘り込み44を形成後レジストパターン64を
除去すると、薄板部22bと厚板部22cが構成された
上シールド兼下コア22が完成する。(11) The whole is ion-milled to form a layer 2
The exposed portion 2 ′ is connected to the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22.
Excavate by the amount corresponding to the thickness difference of c. (12) When the resist pattern 64 is removed after the formation of the digging 44, the upper shield / lower core 22 having the thin plate portion 22b and the thick plate portion 22c is completed.
【0044】(13) 書込ギャップ34を構成するAl
2 O3 等の書込ギャップ層62を堆積する。 (14) 書込ギャップ層62の後部をカット後、コイル
28を絶縁層30中に形成する。 (15) NiFe等の軟磁性体でめっき下地層を上コア
32のパターンに形成し、その上にNiFe等の軟磁性
体を電気めっきして、上コア32を形成する。(13) Al constituting the write gap 34
A write gap layer 62 such as 2 O 3 is deposited. (14) After cutting the rear part of the write gap layer 62, the coil 28 is formed in the insulating layer 30. (15) A plating underlayer is formed of a soft magnetic material such as NiFe in a pattern of the upper core 32, and a soft magnetic material such as NiFe is electroplated thereon to form the upper core 32.
【0045】(16) 最後にAl2 O3 等の保護膜38
を被せて完成する。(16) Finally, a protective film 38 of Al 2 O 3 or the like
To complete.
【図1】 この発明の実施の形態を示すシールド型MR
ヘッドの中心線に沿った断面図である。FIG. 1 shows a shield type MR showing an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a sectional view taken along a center line of the head.
【図2】 従来のシールド型MRヘッドの中心線に沿っ
た断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along a center line of a conventional shield type MR head.
【図3】 従来のシールド型MRヘッドにおいて、上シ
ールド兼下コアの厚さが薄い場合と厚い場合の書込電流
による磁束の違いを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a difference in magnetic flux due to a write current when the thickness of an upper shield and lower core is thin and thick in a conventional shield type MR head.
【図4】 従来のシールド型MRヘッドにおけるオーバ
ライト特性の上シールド兼下コアの厚さ依存性を示す特
性図である。FIG. 4 is a characteristic diagram showing the thickness dependence of an upper shield / lower core of overwrite characteristics in a conventional shield type MR head.
【図5】 図4の特性を測定した従来のシールド型MR
ヘッドの各部の寸法を示す図である。FIG. 5 shows a conventional shield type MR measuring the characteristics of FIG.
FIG. 3 is a diagram illustrating dimensions of each part of a head.
【図6】 図1のこの発明によるシールド型MRヘッド
におけるオーバライト特性の上シールド兼下コアの厚さ
依存性を示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing the dependence of the overwrite characteristic on the thickness of the upper shield and lower core in the shield type MR head according to the present invention of FIG. 1;
【図7】 図6の特性を測定した図1のシールド型MR
ヘッドの各部の寸法を示す図である。7 shows the shield type MR of FIG. 1 obtained by measuring the characteristics of FIG.
FIG. 3 is a diagram illustrating dimensions of each part of a head.
【図8】 図5の従来のシールド型MRヘッドにおける
オーバライト特性の書込電流依存性を示す特性図であ
る。8 is a characteristic diagram showing a write current dependency of an overwrite characteristic in the conventional shield type MR head of FIG.
【図9】 図7のこの発明のシールド型MRヘッドにお
けるオーバライト特性の書込電流依存性を示す特性図で
ある。9 is a characteristic diagram showing a write current dependency of an overwrite characteristic in the shielded MR head of the present invention in FIG. 7;
【図10】 図1のシールド型MRヘッドにおける上下
コアの平面形状およびポール正面形状の一例を示す図で
ある。FIG. 10 is a diagram showing an example of a planar shape and a pole front shape of upper and lower cores in the shield type MR head of FIG. 1;
【図11】 図1のシールド型MRヘッドにおける上シ
ールド兼下コアの各種製法による構造の違いを示す図で
ある。FIG. 11 is a view showing a difference in structure of the shield type MR head of FIG. 1 by various manufacturing methods of an upper shield and a lower core.
【図12】 図11(a)の構造の製造工程の一例を示
す中心線に沿った断面図である。FIG. 12 is a sectional view taken along a center line showing an example of a manufacturing process of the structure of FIG. 11A.
【図13】 図12の続きを示す工程図である。FIG. 13 is a process drawing showing a continuation of FIG. 12;
【図14】 図13の続きを示す工程図である。FIG. 14 is a process drawing showing a continuation of FIG. 13;
【図15】 図14の続きを示す工程図である。FIG. 15 is a process drawing showing a continuation of FIG. 14;
【図16】 図11(b)の構造の製造工程の一例を示
す中心線に沿った断面図で、図13からの続きを示す工
程図である。FIG. 16 is a cross-sectional view taken along a center line showing an example of a manufacturing process of the structure of FIG. 11B, and is a process drawing continued from FIG.
【図17】 図16の続きを示す工程図である。FIG. 17 is a process drawing showing a continuation of FIG. 16;
【図18】 図11(c)の構造の製造工程の一例を示
す中心線に沿った断面図で、図13からの続きを示す工
程図である。FIG. 18 is a cross-sectional view taken along a center line showing an example of a manufacturing process of the structure of FIG. 11C, and is a process drawing continued from FIG.
【図19】 図18の続きを示す工程図である。FIG. 19 is a process drawing illustrating a sequel to FIG. 18;
16 記録媒体対向面 18 下シールド 20 再生ギャップ 21 再生用ヘッド 22 上シールド兼下コア 22a 下ポール 22b 薄板部 22c 厚板部 22d 段部 22−1,22−11 下層部 22−2,22−12 上層部 22′ 層 24 MR素子 26 再生用ヘッド 28 コイル 32 上コア 32a 上ポール 34 書込ギャップ 36 記録用ヘッド 40 シールド型MRヘッド(シールド型磁気抵抗効果
薄膜磁気ヘッド) 44 掘り込みDESCRIPTION OF SYMBOLS 16 Recording medium facing surface 18 Lower shield 20 Reproducing gap 21 Reproducing head 22 Upper shield and lower core 22a Lower pole 22b Thin plate portion 22c Thick plate portion 22d Step portion 22-1, 22-11 Lower layer portion 22-2, 22-12 Upper part 22 'layer 24 MR element 26 Reproducing head 28 Coil 32 Upper core 32a Upper pole 34 Write gap 36 Recording head 40 Shield type MR head (shield type magnetoresistive thin film magnetic head) 44 Digging
Claims (8)
プ内の記録媒体対向面を臨む位置にMR素子を配置した
再生用ヘッドと、前記上シールドを下コアとして兼用し
て当該下コアと上コアとの間にコイルを配置しかつ前記
記録媒体対向面を臨む位置で前記上コアの先端の上ポー
ルと前記下コアの先端の下ポールとの間に書込ギャップ
を形成した記録用ヘッドとを積層配置したシールド型磁
気抵抗効果薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記上シールド兼下コアの厚さを、前記記録媒体対向面
を臨む位置で薄く形成し、当該記録媒体対向面から奥ま
った位置で厚く形成してなるシールド型磁気抵抗効果薄
膜磁気ヘッド。A reproducing head in which an MR element is arranged at a position facing a recording medium facing surface in a reproducing gap between a lower shield and an upper shield; and the lower core and the upper core using the upper shield as a lower core. A recording head having a coil disposed between the core and a write gap formed between an upper pole of the tip of the upper core and a lower pole of the tip of the lower core at a position facing the recording medium facing surface; In the shield type magnetoresistive thin-film magnetic head, the thickness of the upper shield / lower core is formed thin at a position facing the recording medium facing surface and thick at a position recessed from the recording medium facing surface. Shielded magnetoresistive thin film magnetic head.
プ内の記録媒体対向面を臨む位置にMR素子を配置した
再生用ヘッドと、前記上シールドを下コアとして兼用し
て当該下コアと上コアとの間にコイルを配置しかつ前記
記録媒体対向面を臨む位置で前記上コアの先端の上ポー
ルと前記下コアの先端の下ポールとの間に書込ギャップ
を形成した記録用ヘッドとを積層配置したシールド型磁
気抵抗効果薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記上シールド兼下コアが、前記記録媒体対向面を臨む
位置で薄い平板状に形成された薄板部と、この薄板部に
続き前記記録媒体対向面から奥まった位置で厚い平板状
に形成された厚板部とを具備してなるシールド型磁気抵
抗効果薄膜磁気ヘッド。2. A reproducing head in which an MR element is arranged at a position facing a recording medium facing surface in a reproducing gap between a lower shield and an upper shield, and the lower core and the upper core using the upper shield as a lower core. A recording head having a coil disposed between the core and a write gap formed between an upper pole of the tip of the upper core and a lower pole of the tip of the lower core at a position facing the recording medium facing surface; Wherein the upper shield and lower core are formed in a thin plate shape at a position facing the recording medium facing surface, and the recording medium follows the thin plate portion. A shield-type magnetoresistive thin-film magnetic head comprising: a thick plate portion formed in a thick flat shape at a position recessed from an opposing surface.
る段部を、前記記録媒体対向面から奥行き方向に10μ
m以上離れた位置に形成してなる請求項2記載のシール
ド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッド。3. A step forming a boundary between the thin plate portion and the thick plate portion, the step portion having a depth of 10 μm in a depth direction from the recording medium facing surface.
3. The shielded magnetoresistive thin-film magnetic head according to claim 2, wherein said shielded magnetoresistive thin-film magnetic head is formed at a position separated by at least m.
ールド兼下コアの全幅のうち中央部に限定して形成し、
当該薄板部を取り囲むように前記厚板部を形成してなる
請求項2または3記載のシールド型磁気抵抗効果薄膜磁
気ヘッド。4. The thin plate portion is formed such that a track width direction is limited to a central portion of the entire width of the upper shield and lower core,
4. A shield type magnetoresistive thin film magnetic head according to claim 2, wherein said thick plate portion is formed so as to surround said thin plate portion.
記記録媒体対向面に露出した位置で、前記上ポールのト
ラック幅方向の長さの20倍以上に形成してなる請求項
4記載のシールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッド。5. A length of the thin plate portion in a track width direction at a position exposed to the recording medium facing surface is formed to be at least 20 times a length of the upper pole in a track width direction. The shield-type magnetoresistive thin-film magnetic head as described in the above.
ールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドを製造する方法で
あって、 前記上シールド兼下コアを作る工程が、前記薄板部の厚
さで平板状の下層部を形成する第1の工程と、当該下層
部上の前記厚板部を形成する位置に前記薄板部と前記厚
板部の厚さの差に相当する厚さで平板状の上層部を積層
して当該厚板部を形成する第2の工程とを含んでなるシ
ールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドの製造方法。6. A method of manufacturing a shielded magnetoresistive thin-film magnetic head according to claim 2, wherein the step of forming the upper shield and lower core comprises the step of: A first step of forming a plate-shaped lower layer portion at a position where the thick plate portion is formed on the lower layer portion, with a thickness corresponding to a difference between the thickness of the thin plate portion and the thickness of the thick plate portion. A second step of forming the thick plate portion by laminating the upper layer portion of the shield type magnetoresistive thin film magnetic head.
ールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドを製造する方法で
あって、 前記上シールド兼下コアを作る工程が、前記厚板部を形
成する位置に前記薄板部と前記厚板部の厚さの差に相当
する厚さで平板状の下層部を形成する第1の工程と、前
記薄板部と前記厚板部を形成する位置全体にわたり前記
薄板部の厚さで上層部を積層する第2の工程とを含んで
なるシールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドの製造方
法。7. A method of manufacturing a shielded magnetoresistive thin-film magnetic head according to claim 2, wherein said step of forming said upper shield and lower core includes forming said thick plate portion. A first step of forming a flat lower layer portion at a position corresponding to the thickness difference between the thin plate portion and the thick plate portion, and over the entire position where the thin plate portion and the thick plate portion are formed. And a second step of laminating an upper layer portion with the thickness of the thin plate portion.
ールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドを製造する方法で
あって、 前記上シールド兼下コアを作る工程が、前記薄板部と前
記厚板部を形成する位置全体にわたり前記厚板部の厚さ
で平板状の層を形成する第1の工程と、この層の前記薄
板部を形成する位置を前記薄板部と前記厚板部の厚さの
差に相当する厚さ分掘り込んで前記薄板部を形成する第
2の工程とを含んでなるシールド型磁気抵抗効果薄膜磁
気ヘッドの製造方法。8. A method of manufacturing a shield type magnetoresistive thin film magnetic head according to claim 2, wherein said step of forming said upper shield and lower core comprises the step of forming said thin plate portion and said thickness. A first step of forming a flat layer with the thickness of the thick plate portion over the entire position where the plate portion is formed, and the position of the layer where the thin plate portion is formed is determined by the thickness of the thin plate portion and the thickness of the thick plate portion. A second step of forming the thin plate portion by digging a thickness corresponding to the difference in height.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19943597A JPH1131311A (en) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | Shield type magneto-resistive effect thin film magnetic head and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19943597A JPH1131311A (en) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | Shield type magneto-resistive effect thin film magnetic head and its manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1131311A true JPH1131311A (en) | 1999-02-02 |
Family
ID=16407781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19943597A Pending JPH1131311A (en) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | Shield type magneto-resistive effect thin film magnetic head and its manufacture |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1131311A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7436633B2 (en) | 2004-10-15 | 2008-10-14 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head, head gimbal assembly and hard disk system |
US7440237B2 (en) | 2004-11-08 | 2008-10-21 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head, head gimbal assembly, and hard disk drive |
-
1997
- 1997-07-09 JP JP19943597A patent/JPH1131311A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7436633B2 (en) | 2004-10-15 | 2008-10-14 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head, head gimbal assembly and hard disk system |
US7440237B2 (en) | 2004-11-08 | 2008-10-21 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head, head gimbal assembly, and hard disk drive |
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